JP2006128208A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006128208A JP2006128208A JP2004311295A JP2004311295A JP2006128208A JP 2006128208 A JP2006128208 A JP 2006128208A JP 2004311295 A JP2004311295 A JP 2004311295A JP 2004311295 A JP2004311295 A JP 2004311295A JP 2006128208 A JP2006128208 A JP 2006128208A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate processing
- substrate
- frame
- processing apparatus
- substrate treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【課題】組立て作業性および輸送性の向上を図ることのできる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置を組立てる場合は、まず、フレーム10に、搬送路4およびカセット載置台6〜9を取り付け、フレーム10内で各種調整を行う。また、フレーム28に、基板処理室12〜15、流体ボックス20〜23、昇降機構ボックス42および主搬送ロボット11を取り付け、フレーム28内で各種調整を行う。また、フレーム29に基板処理室16〜19および流体ボックス24〜27を取り付け、フレーム29内で各種調整を行う。そして、フレーム10、28および29を連結して、基板処理装置1全体の調整を行い、基板処理装置1を完成させる。また、基板処理装置1を輸送する場合は、各フレームに分割してフレームごとに輸送する。
【選択図】図3
【解決手段】基板処理装置を組立てる場合は、まず、フレーム10に、搬送路4およびカセット載置台6〜9を取り付け、フレーム10内で各種調整を行う。また、フレーム28に、基板処理室12〜15、流体ボックス20〜23、昇降機構ボックス42および主搬送ロボット11を取り付け、フレーム28内で各種調整を行う。また、フレーム29に基板処理室16〜19および流体ボックス24〜27を取り付け、フレーム29内で各種調整を行う。そして、フレーム10、28および29を連結して、基板処理装置1全体の調整を行い、基板処理装置1を完成させる。また、基板処理装置1を輸送する場合は、各フレームに分割してフレームごとに輸送する。
【選択図】図3
Description
この発明は、基板に対して所定の処理を行うための基板処理室を備えた基板処理装置に関する。処理対象の基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板などが含まれる。
従来から、半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、基板(半導体ウエハやガラス基板)に対して、レジスト塗布処理および洗浄処理などの各種の処理を施す基板処理装置が用いられている。
このような基板処理装置には、たとえば、複数の処理室を有する基板処理ユニットと、基板処理ユニットに結合されたインデクサユニットとが備えられている(たとえば、特許文献1参照)。
このような基板処理装置には、たとえば、複数の処理室を有する基板処理ユニットと、基板処理ユニットに結合されたインデクサユニットとが備えられている(たとえば、特許文献1参照)。
基板処理ユニットには、平面視において、放射状に配置された複数の処理室と、複数の処理室の中央に配置され、各処理室に対して基板を搬入/搬出することができる主搬送ロボットとが備えられている。インデクサユニットには、複数の基板を収容するカセットが置かれるカセット載置台と、カセット載置台に載置されたカセットに対して基板を搬入/搬出することができ、かつ、主搬送ロボットとの間で基板の受け渡しを行うことができるインデクサロボットとが備えられている。
そして、インデクサロボットおよび主搬送ロボットを種々に動作させることで、カセット載置台と処理室との間で基板を搬送することができ、たとえば、カセットに収容された未処理の基板を処理室に搬送して所定の処理を施したり、処理室にて処理が施された処理済の基板をカセットに収容したりすることができる。
特開2002−313886号公報
このような基板処理装置は、インデクサユニットと基板処理ユニットとの間を境界として2つのフレームに分割することができる。これにより、たとえば、基板処理ユニットの組立て時には、インデクサユニットと基板処理ユニットとに分けて組立ておよび調整作業を行い、その後、インデクサユニットと基板処理ユニットとを合体して全体調整を行う。また、基板処理装置の輸送時に梱包サイズに制限がある場合などには、インデクサユニットと基板処理ユニットとを分割して輸送することができる。
しかしながら、このように基板処理装置を分割すると、基板処理ユニットの組立て時において、処理室の調整などを行う場合には、主搬送ロボット側から作業を行わなくてはならず、主搬送ロボットの配置によっては作業性を低下させるといった問題がある。また、処理室を2段以上の複数段構造にした場合には、作業を行うための脚立等の足場を確保する必要があり、主搬送ロボットの配置によってはさらに作業性を低下させるといった問題もある。
また、処理室を2段以上の複数段構造にした場合には、基板処理ユニットの重量および梱包サイズの増大により、基板処理ユニットの輸送が困難になるといった問題もある。
そこで、本発明は、組立て作業性および輸送性の向上を図ることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
そこで、本発明は、組立て作業性および輸送性の向上を図ることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するための請求項1記載の発明は、鉛直方向に延びる軸線を中心として旋回可能に設けられ、基板を搬送するための基板搬送装置(11)と、この基板搬送装置の周囲に配置され、上記基板搬送装置によって搬入される基板に対して所定の処理を行うための複数の基板処理室(12〜19)と、上記基板搬送装置および複数の基板処理室を支持するフレーム(28,29)とを含み、上記フレームは、上記基板搬送装置の旋回領域を通る線を境界として、少なくとも2つのフレーム分割体に分割可能に構成されていることを特徴とする基板処理装置(1)である。
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素などを表す。以下、この項において同じ。
この構成によれば、フレームを少なくとも2つのフレーム分割体に分割することができる。よって、基板処理装置を輸送する際には、フレーム分割体ごとに輸送することができるので、基板処理装置の輸送性を向上することができる。また、基板処理装置の輸送の際に梱包サイズに制限があっても、フレームをフレーム分割体に分割して、フレーム分割体ごとに梱包サイズに収めて輸送することができる。
この構成によれば、フレームを少なくとも2つのフレーム分割体に分割することができる。よって、基板処理装置を輸送する際には、フレーム分割体ごとに輸送することができるので、基板処理装置の輸送性を向上することができる。また、基板処理装置の輸送の際に梱包サイズに制限があっても、フレームをフレーム分割体に分割して、フレーム分割体ごとに梱包サイズに収めて輸送することができる。
また、フレームは、基板搬送装置の旋回領域を通る線を境界として少なくとも2つのフレーム分割体に分割されるので、基板処理装置の組立て時において、フレーム分割体に対する基板処理室の組付けや調整などの作業をフレーム分割体ごとに行うことができる。そして、各フレーム分割体での作業時には、基板搬送装置が配置される側に十分なスペースを確保することができる。よって、基板処理装置の組立て作業性を向上することができる。
また、請求項2記載の発明のように、上記フレーム(28,29)は、上記基板搬送装置の旋回中心を通る線を境界として、少なくとも2つのフレーム分割体に分割可能に構成されていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置(1)であってもよい。
請求項3記載の発明は、いずれか1つの上記フレーム分割体から延び、上記基板搬送装置(11)を支持するための支持アーム(41)をさらに含むことを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置(1)である。
請求項3記載の発明は、いずれか1つの上記フレーム分割体から延び、上記基板搬送装置(11)を支持するための支持アーム(41)をさらに含むことを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置(1)である。
この構成によれば、基板搬送装置は、いずれか1つのフレーム分割体から延びる支持アームに支持されている。そのため、支持アームを支持していないフレーム分割体においては、基板搬送装置が配置される側により広いスペースを確保することができ、そのフレーム分割体に対して行う基板処理室の組付けや調整などの作業性を一層向上することができる。
請求項4記載の発明は、複数の上記基板処理室(12〜19)は、少なくとも上下2段に積み重ねた状態で上記フレーム(28,29)に支持され、上記支持アーム(41)は、上記基板搬送装置が上段の上記基板処理室に対向する位置と、上記基板搬送装置が下段の上記基板処理室に対向する位置とに昇降可能に設けられていることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置(1)である。
この構成によれば、作業員が下段の基板処理室に対して組立てや調整などの作業を行う際には、基板搬送装置を上段の基板処理室に対向する位置に上昇させ、作業員が上段の基板処理室に対して組立てや調整などの作業を行う際には、基板搬送装置を下段の基板処理室に対向する位置に下降させることができる。よって、基板搬送装置が作業の邪魔になるのを防ぐことができる。そのため、支持アームを支持するフレーム分割体において、基板処理室の組付けや調整などの作業性をより一層向上することができる。
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、この発明の一実施形態にかかる基板処理装置の構成を説明するための図解的な平面図であり、図2は、図1の矢印A方向からみた側面図である。
基板処理装置1は、平面視において、略長方形状とされており、インデクサユニット2と、インデクサユニット2に連結された基板処理ユニット3とが備えられている。
図1は、この発明の一実施形態にかかる基板処理装置の構成を説明するための図解的な平面図であり、図2は、図1の矢印A方向からみた側面図である。
基板処理装置1は、平面視において、略長方形状とされており、インデクサユニット2と、インデクサユニット2に連結された基板処理ユニット3とが備えられている。
インデクサユニット2には、基板処理装置1の幅方向に延びる搬送路4と、搬送路4上に設けられ、かつ、搬送路4上を移動可能なインデクサロボット5と、搬送路4を挟んで基板処理ユニット3の反対側において、搬送路4に沿って所定間隔ごとに配置されたカセット載置台6〜9とが備えられている。
インデクサロボット5は、水平方向に進退可能な2本のアームを有しており、鉛直方向に延びる軸線を中心として旋回可能である。
インデクサロボット5は、水平方向に進退可能な2本のアームを有しており、鉛直方向に延びる軸線を中心として旋回可能である。
カセット載置台6〜9にはカセットCが載置される。カセットCは、いずれもその内部に複数の基板(図示せず)を収容するためのものであり、未処理の基板または処理済みの基板が収容され、その基板は、インデクサロボット5により搬出/搬入される。
なお、この実施形態では、カセットCとして、基板を密閉した状態で収容するFOUP(Front Opening Unified Pod)を用いているが、これに限定されるものではなく、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、OC(Open Cassette)等を用いてもよい。
なお、この実施形態では、カセットCとして、基板を密閉した状態で収容するFOUP(Front Opening Unified Pod)を用いているが、これに限定されるものではなく、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、OC(Open Cassette)等を用いてもよい。
また、インデクサユニット2は、その骨組みがフレーム10により構成されており、搬送路4およびカセット載置台6〜9は、フレーム10に取り付けられている。
基板処理ユニット3には、基板処理ユニット3の中央に配置された基板搬送装置としての主搬送ロボット11と、主搬送ロボット11の周囲を取り囲むように配置され、主搬送ロボット11により基板の搬出/搬入が行われる基板処理室12〜19と、基板処理室12〜19近傍に配置された流体ボックス20〜27、排気ダクト30とが備えられている。そして、これらは、基板処理ユニット3の骨組みを構成する2つのフレーム28およびフレーム29に取り付けられている。
基板処理ユニット3には、基板処理ユニット3の中央に配置された基板搬送装置としての主搬送ロボット11と、主搬送ロボット11の周囲を取り囲むように配置され、主搬送ロボット11により基板の搬出/搬入が行われる基板処理室12〜19と、基板処理室12〜19近傍に配置された流体ボックス20〜27、排気ダクト30とが備えられている。そして、これらは、基板処理ユニット3の骨組みを構成する2つのフレーム28およびフレーム29に取り付けられている。
主搬送ロボット11には、主搬送ロボット11の基盤となる旋回台113と、旋回台113上に設けられた基板保持ハンド114,115とが備えられている。また、旋回台113は、基板処理ユニット3の支持アーム41に支持されている。具体的には、フレーム28の主搬送ロボット11側であって、かつ、主搬送ロボット11を挟んでインデクサユニット2の反対側には、昇降機構ボックス42が排気ダクト30を避けるようにして取り付けられている。昇降機構ボックス42内には、鉛直方向に延びるレール43と、そのレール43に沿って移動する移動台44とが内蔵されている。移動台44はモータ(図示せず)によって駆動されるベルト(図示せず)に連結されており、これによって移動台44は昇降可能に構成されている。支持アーム41は、その移動台44に取り付けられている。よって、移動台44がレール43に沿って昇降移動することによって、支持アーム41に支持されている主搬送ロボット11が昇降移動できる。
旋回台113は、支持アーム41の先端部において、鉛直方向に延びる軸線を中心として旋回可能とされている。この旋回台113には、基板処理ユニット3内に設けられた旋回駆動機構32が接続されている。
基板保持ハンド114および115は、旋回台113に対して進退可能とされており、基板処理ユニット3内に設けられた進退駆動機構33が接続されている。
基板保持ハンド114および115は、旋回台113に対して進退可能とされており、基板処理ユニット3内に設けられた進退駆動機構33が接続されている。
基板処理室12〜19は、図1では、便宜上、水平方向に並置されているかのように表されているが、実際には、これらは、2段構造を形成するように配置されている。
すなわち、基板処理室12および13は、基板処理ユニット3の一角近傍であって、搬送路4と反対側の一角近傍に配置されており、主搬送ロボット11に近接している。そして、基板処理室12を下段部、基板処理室13を上段部として積層配置されている。
すなわち、基板処理室12および13は、基板処理ユニット3の一角近傍であって、搬送路4と反対側の一角近傍に配置されており、主搬送ロボット11に近接している。そして、基板処理室12を下段部、基板処理室13を上段部として積層配置されている。
また、基板処理室14および15は、基板処理ユニット3の一角近傍であって、基板処理ユニット3の長さ方向において、基板処理室12および13と対向する一角近傍に配置されており、主搬送ロボット11に近接している。そして、基板処理室14を下段部、基板処理室15を上段部として積層配置されている。
また、基板処理室16および17は、基板処理ユニット3の一角近傍であって、基板処理ユニット3の幅方向において、基板処理室14および15と対向する一角近傍に配置されており、主搬送ロボット11に近接している。そして、基板処理室16を下段部、基板処理室17を上段部として積層配置されている。
また、基板処理室16および17は、基板処理ユニット3の一角近傍であって、基板処理ユニット3の幅方向において、基板処理室14および15と対向する一角近傍に配置されており、主搬送ロボット11に近接している。そして、基板処理室16を下段部、基板処理室17を上段部として積層配置されている。
また、基板処理室18および19は、基板処理ユニット3の一角近傍であって、基板処理ユニット3の長さ方向において、基板処理室16および17と対向する一角近傍に配置されており、主搬送ロボット11に近接している。そして、基板処理室18を下段部、基板処理室19を上段部として積層配置されている。
各基板処理室12〜19は、たとえば、基板の洗浄を行う基板洗浄室であってもよい。より具体的には、基板処理室12〜19は、基板を保持して回転するスピンチャックと、このスピンチャックに保持された基板に洗浄のための処理液を供給する処理液ノズルとを有するものであってもよい。処理液ノズルには、薬液(洗浄液、エッチング液など)を供給する薬液ノズルおよび純水(脱イオン水)を供給する純水ノズルが含まれていてもよい。このような基板処理室12〜19は、主搬送ロボット11から受け渡された未処理の基板をスピンチャックに保持して回転させるとともに、その基板の表面に薬液ノズルからの薬液を供給し、そのエッチング作用によって表面の異物を除去する薬液処理を行い、その後に、薬液の供給を停止し、代わって基板表面に純水ノズルから純水を供給して、基板の薬液を純水に置換するリンス処理を行う。その後、純水の供給を停止するとともに、スピンチャックを高速回転させ、遠心力によって基板の表面から水分を排除する乾燥処理が行われる。これにより、一連の処理を終了し、処理済みの基板が、主搬送ロボット11によって搬出されることになる。
各基板処理室12〜19は、たとえば、基板の洗浄を行う基板洗浄室であってもよい。より具体的には、基板処理室12〜19は、基板を保持して回転するスピンチャックと、このスピンチャックに保持された基板に洗浄のための処理液を供給する処理液ノズルとを有するものであってもよい。処理液ノズルには、薬液(洗浄液、エッチング液など)を供給する薬液ノズルおよび純水(脱イオン水)を供給する純水ノズルが含まれていてもよい。このような基板処理室12〜19は、主搬送ロボット11から受け渡された未処理の基板をスピンチャックに保持して回転させるとともに、その基板の表面に薬液ノズルからの薬液を供給し、そのエッチング作用によって表面の異物を除去する薬液処理を行い、その後に、薬液の供給を停止し、代わって基板表面に純水ノズルから純水を供給して、基板の薬液を純水に置換するリンス処理を行う。その後、純水の供給を停止するとともに、スピンチャックを高速回転させ、遠心力によって基板の表面から水分を排除する乾燥処理が行われる。これにより、一連の処理を終了し、処理済みの基板が、主搬送ロボット11によって搬出されることになる。
流体ボックス20〜27には、それぞれ基板処理室12〜19における基板の処理工程に使用する処理液を供給するための供給機構や、使用済みの処理液を回収するための回収機構など(図示せず)が備えられている。また、図1では、流体ボックス20〜27は、便宜上、水平方向に並置されているかのように表されているが、実際には、これらは、2段構造を形成するように配置されている。
すなわち、流体ボックス20および21は、基板処理ユニット3の一角であって、搬送路4と反対側の一角に配置されており、基板処理室12および13に近接している。そして、流体ボックス20を下段部、流体ボックス21を上段部として積層配置されている。
また、流体ボックス22および23は、基板処理ユニット3の一角であって、基板処理ユニット3の長さ方向において、流体ボックス20および21と対向する一角に配置されており、基板処理室14および15に近接している。そして、流体ボックス22を下段部、流体ボックス23を上段部として積層配置されている。
また、流体ボックス22および23は、基板処理ユニット3の一角であって、基板処理ユニット3の長さ方向において、流体ボックス20および21と対向する一角に配置されており、基板処理室14および15に近接している。そして、流体ボックス22を下段部、流体ボックス23を上段部として積層配置されている。
また、流体ボックス24および25は、基板処理ユニット3の一角であって、基板処理ユニット3の幅方向において、流体ボックス22および23と対向する一角に配置されており、基板処理室16および17に近接している。そして、流体ボックス24を下段部、流体ボックス25を上段部として積層配置されている。
また、流体ボックス26および27は、基板処理ユニット3の一角であって、基板処理ユニット3の長さ方向において、流体ボックス24および25と対向する一角に配置されており、基板処理室18および19に近接している。そして、流体ボックス26を下段部、流体ボックス27を上段部として積層配置されている。
また、流体ボックス26および27は、基板処理ユニット3の一角であって、基板処理ユニット3の長さ方向において、流体ボックス24および25と対向する一角に配置されており、基板処理室18および19に近接している。そして、流体ボックス26を下段部、流体ボックス27を上段部として積層配置されている。
そして、たとえば、カセット載置台6に載置されたカセットCに未処理の基板が収容されており、その基板に処理を施す場合には、まず、インデクサロボット5がカセットCに対向する位置まで搬送路4を移動し、さらに、旋回してカセットCに正対する。その後、アームを延ばして、基板をカセットCから搬出する。そして、アームを縮めて搬送路4の中央まで移動し、さらに、旋回して、主搬送ロボット11に正対する。また、縮めていたアームを主搬送ロボット11に対して延ばし、所定の基板受け渡し位置まで基板を到達させる。
また、主搬送ロボット11は、たとえば、進退駆動機構33の動作により基板保持ハンド114を基板受け渡し位置まで延ばし、基板保持ハンド114によって、インデクサロボット5から基板を受け取る。そして、基板を受け取った基板保持ハンド114は、元の位置まで退避する。
また、旋回駆動機構32の動作により、旋回台113が、たとえば、基板保持ハンド114および115が基板処理室12と対向する角度位置まで旋回する。また、昇降機構ボックス42の動作により、基板保持ハンド114および115が基板処理室12に対向する高さに移動する。
また、旋回駆動機構32の動作により、旋回台113が、たとえば、基板保持ハンド114および115が基板処理室12と対向する角度位置まで旋回する。また、昇降機構ボックス42の動作により、基板保持ハンド114および115が基板処理室12に対向する高さに移動する。
基板処理室12に、処理済みの基板が収容されていれば、進退駆動機構33の動作により、基板保持ハンド115が基板処理室12に対して進出することで、処理済みの基板が、基板保持ハンド115によって基板処理室12から搬出される。
そして、引き続いて、進退駆動機構33の動作により、基板保持ハンド114が基板処理室12に対して進出することで、基板が基板処理室12に搬入されて、所定の処理が行われる。
そして、引き続いて、進退駆動機構33の動作により、基板保持ハンド114が基板処理室12に対して進出することで、基板が基板処理室12に搬入されて、所定の処理が行われる。
ところで、基板処理ユニット3の骨組みは、上記したように、2つのフレーム28およびフレーム29により構成されている。フレーム28およびフレーム29は、基板処理装置1の骨組みを、主搬送ロボット11の旋回中心を通り、かつ、基板処理装置1の長さ方向に平行な鉛直面で2分割した構成とされている。
また、インデクサユニット2は、その骨組みがフレーム10により構成されているため、基板処理装置1全体の骨組みは、フレーム10、28および29の3つのフレームにより構成されている。
また、インデクサユニット2は、その骨組みがフレーム10により構成されているため、基板処理装置1全体の骨組みは、フレーム10、28および29の3つのフレームにより構成されている。
図3は、基板処理装置1をフレームごとに分割した状態を示す図である。
たとえば、基板処理装置1を組立てる場合は、まず、フレームごとに組立てが行われ、調整が行われる。具体的には、フレーム10に、搬送路4およびカセット載置台6〜9を取り付け、フレーム10内で各種調整を行う。また、フレーム28に、基板処理室12〜15、流体ボックス20〜23、昇降機構ボックス42および主搬送ロボット11を取り付け、フレーム28内で各種調整を行う。また、フレーム29に基板処理室16〜19および流体ボックス24〜27を取り付け、フレーム29内で各種調整を行う。
たとえば、基板処理装置1を組立てる場合は、まず、フレームごとに組立てが行われ、調整が行われる。具体的には、フレーム10に、搬送路4およびカセット載置台6〜9を取り付け、フレーム10内で各種調整を行う。また、フレーム28に、基板処理室12〜15、流体ボックス20〜23、昇降機構ボックス42および主搬送ロボット11を取り付け、フレーム28内で各種調整を行う。また、フレーム29に基板処理室16〜19および流体ボックス24〜27を取り付け、フレーム29内で各種調整を行う。
そして、フレーム10、28および29を連結して、基板処理装置1全体の調整を行い、基板処理装置1を完成させる(図1参照)。また、たとえば、基板処理装置1を納入先に輸送する場合などは、一度完成させた基板処理装置1を、図3に示すように、各フレームに分割してフレームごとに輸送する。そして、納入先にて分割していたフレームを連結して、基板処理装置1を完成させる。
以上のように、基板処理装置1は、フレーム10とフレーム28とフレーム29とに分割することができる。よって、たとえば、基板処理装置1を輸送する際に、各フレームに分割し、フレームごとに輸送することができるので、基板処理装置1の輸送性を向上することができる。また、基板処理装置1の輸送の際に梱包サイズに制限があっても、基板処理装置1をフレーム10とフレーム28とフレーム29とに分割して、フレームごとに梱包サイズに収めて輸送することができる。
また、フレーム28とフレーム29とは、主搬送ロボット11の旋回中心を通る線を境界として2つに分割されるので、基板処理装置1の組立て時において、フレーム28,29に対する基板処理室12〜19の組付けや調整などの作業をフレームごとに行うことができる。そして、各フレーム28,29での作業時には、主搬送ロボット11が配置される側に十分なスペースを確保することができる。よって、基板処理装置1の組立て作業性を向上することができる。
また、主搬送ロボット11は、フレーム28から延びる支持アーム41に支持されている。そのため、基板処理ユニット3をフレーム28とフレーム29とで分割すると、主搬送ロボット11はフレーム28に支持される。よって、主搬送ロボット11を支持していないフレーム29においては、主搬送ロボット11が配置される側により広いスペースを確保することができ、フレーム29に対して行う基板処理室16〜19の組付けや調整などの作業性を一層向上することができる。
また、フレーム28においては、主搬送ロボット11は、昇降可能とされているので、作業員が下段の基板処理室12および14に対して組立てや調整などの作業を行う際には、主搬送ロボット11を上段の基板処理室13および15に対向する位置に上昇させ、作業員が上段の基板処理室13および15に対して組立てや調整などの作業を行う際には、主搬送ロボット11を下段の基板処理室12および14に対向する位置に下降させることができる。よって、主搬送ロボット11が作業の邪魔になるのを防ぐことができる。そのため、基板処理室12〜15の組付けや調整などの作業性をより一層向上することができる。
なお、基板処理装置1のフレームは、以下のように分割されてもよい。
たとえば、図4に示すように、基板処理装置1を、基板処理装置1の幅方向に平行に延びる鉛直面Bでインデクサユニット2と基板処理ユニット3とに分割し、さらに、基板処理ユニット3を、主搬送ロボット11の旋回中心を通り、かつ、基板処理ユニット3の幅方向に平行に延びる鉛直面Dで分割してもよい。
たとえば、図4に示すように、基板処理装置1を、基板処理装置1の幅方向に平行に延びる鉛直面Bでインデクサユニット2と基板処理ユニット3とに分割し、さらに、基板処理ユニット3を、主搬送ロボット11の旋回中心を通り、かつ、基板処理ユニット3の幅方向に平行に延びる鉛直面Dで分割してもよい。
また、基板処理室12〜19は、同種類の処理を行うものであってもよいし、異種類の処理を行うものを含んでいてもよい。異種類の処理を行う基板処理室が含まれている場合には、たとえば、フレーム28および29の一方に洗浄装置を設け、他方に異なるものを設けてもよい。
より、具体的には、フレーム28および29の一方に、CMP(chemical mechanical polishing)装置またはメッキ装置、あるいはアッシング装置等を設けてもよい。これにより、基板処理装置1をCMP、またはメッキ、あるいはアッシング等の処理を行い、その後、洗浄処理を行うといった一連の処理を行うことのできるインライン化された装置とすることができる。
より、具体的には、フレーム28および29の一方に、CMP(chemical mechanical polishing)装置またはメッキ装置、あるいはアッシング装置等を設けてもよい。これにより、基板処理装置1をCMP、またはメッキ、あるいはアッシング等の処理を行い、その後、洗浄処理を行うといった一連の処理を行うことのできるインライン化された装置とすることができる。
この発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
1 基板処理装置
12〜19 基板処理室
20〜27 流体ボックス
28,29 フレーム
41 支持アーム
12〜19 基板処理室
20〜27 流体ボックス
28,29 フレーム
41 支持アーム
Claims (4)
- 鉛直方向に延びる軸線を中心として旋回可能に設けられ、基板を搬送するための基板搬送装置と、
この基板搬送装置の周囲に配置され、上記基板搬送装置によって搬入される基板に対して所定の処理を行うための複数の基板処理室と、
上記基板搬送装置および複数の基板処理室を支持するフレームとを含み、
上記フレームは、上記基板搬送装置の旋回領域を通る線を境界として、少なくとも2つのフレーム分割体に分割可能に構成されていることを特徴とする基板処理装置。 - 上記フレームは、上記基板搬送装置の旋回中心を通る線を境界として、少なくとも2つのフレーム分割体に分割可能に構成されていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- いずれか1つの上記フレーム分割体から延び、上記基板搬送装置を支持するための支持アームをさらに含むことを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。
- 複数の上記基板処理室は、少なくとも上下2段に積み重ねた状態で上記フレームに支持され、
上記支持アームは、上記基板搬送装置が上段の上記基板処理室に対向する位置と、上記基板搬送装置が下段の上記基板処理室に対向する位置とに昇降可能に設けられていることを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004311295A JP2006128208A (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004311295A JP2006128208A (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006128208A true JP2006128208A (ja) | 2006-05-18 |
Family
ID=36722628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004311295A Pending JP2006128208A (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006128208A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021034686A (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-01 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
US11443972B2 (en) * | 2016-03-09 | 2022-09-13 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
-
2004
- 2004-10-26 JP JP2004311295A patent/JP2006128208A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11443972B2 (en) * | 2016-03-09 | 2022-09-13 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
JP2021034686A (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-01 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP7376285B2 (ja) | 2019-08-29 | 2023-11-08 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4744427B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5455987B2 (ja) | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP4999487B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5478586B2 (ja) | 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2008172160A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2008166369A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP4969138B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007095831A (ja) | 基板処理装置および基板搬送方法 | |
US8851769B2 (en) | Substrate processing method | |
TWI613749B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
KR101805964B1 (ko) | 박리 시스템, 박리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 | |
WO2013058129A1 (ja) | 剥離装置、剥離システム及び剥離方法 | |
JP2006128208A (ja) | 基板処理装置 | |
JP6025759B2 (ja) | 剥離システム | |
JP5238331B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理システム | |
JP7454714B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4597810B2 (ja) | 基板処理装置および基板搬送方法 | |
JP4455291B2 (ja) | 処理システム | |
JP2012069992A (ja) | 基板処理装置 | |
JP6404303B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2006100368A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
US20160300734A1 (en) | Substrate processing system | |
JP2006147693A (ja) | 処理システム | |
JP2008141024A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |