JP2006120769A - 多層フレキシブルプリント配線板及びその製造方法 - Google Patents

多層フレキシブルプリント配線板及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006120769A
JP2006120769A JP2004305493A JP2004305493A JP2006120769A JP 2006120769 A JP2006120769 A JP 2006120769A JP 2004305493 A JP2004305493 A JP 2004305493A JP 2004305493 A JP2004305493 A JP 2004305493A JP 2006120769 A JP2006120769 A JP 2006120769A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
layer
solder
wiring
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004305493A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4389750B2 (ja
Inventor
Toyoichi Yoshino
豊一 吉野
Koji Nakajima
晃治 中島
Shinji Morimoto
信司 森本
Katsuya Okamoto
克也 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2004305493A priority Critical patent/JP4389750B2/ja
Priority to US11/252,540 priority patent/US7263769B2/en
Publication of JP2006120769A publication Critical patent/JP2006120769A/ja
Priority to US11/622,950 priority patent/US7543376B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4389750B2 publication Critical patent/JP4389750B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

【課題】接続信頼性の高い、配線層の微細化に最適な、生産性に優れる層間接続を有する多層フレキシブルプリント配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層と、該絶縁層の表裏面に形成された配線層と、前記絶縁層を介して前記配線層間を接続する孔と、を備える配線板を有する多層フレキシブルプリント配線板において、半田部材と該半田部材よりも熱膨張率の小さい金属部材とが積層した積層構造を有し、前記孔内に密着固定され前記配線層を導通させる導電部材を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、各種の表面実装型電子部品を搭載するフレキシブルプリント配線板(以下FPCと称する)及びその製造方法に関し、特に高い接続信頼性を備えた多層FPC及びその製造方法に関する。
近年、電子機器の小型軽量化及び高機能化に伴い、使用されるFPCの配線密度もさらに増加する傾向にある。このFPCの配線密度を増加させる手段としては、配線層の微細化だけでは限界があり十分とは言えない。そこで、絶縁層を介して配線層を積層するとともに該配線層間にある絶縁層に層間接続構造を設けることにより配線層を立体的に接続させることで配線密度をさらに増加させた多層FPCが注目されている。
従来、このような多層FPCにおいては、ポリイミドフィルムなどからなる絶縁層に貫通孔であるスルーホールを設け、このスルーホールの壁面に銅めっき膜を形成し、絶縁層の両表面に設けられた配線層を立体的に層間接続している(例えば特許文献1参照)。この層間接続方法はめっきスルーホール法と呼ばれ、最も一般的な層間接続方法である。スルーホール法は、絶縁性を有するスルーホールの壁面を無電解めっきにより導体化処理する工程と、電解めっきにより銅の厚付けめっきを行う工程と、の二つの大きな工程からなる。このようなスルーホール法の特徴としては、スルーホール内の銅めっき膜とスルーホールが形成されている絶縁層との熱膨張率が略同一であるが故、スルーホール内の銅めっき膜と絶縁膜との熱膨張率の差に起因したこれらの接合界面の剥離がなく、熱に対する接続信頼性に優れていることが挙げられる。
特開平5−175636号公報(第2頁、第2図) 特開平7−176847号公報(第2−4頁、第2図)
しかしながら、銅の厚付けめっきを施した場合には、スルーホール内の銅めっき膜の厚みだけでなく配線層の原材料である銅箔の厚みも増加させてしまうため、その後のエッチング処理による配線層の微細化が難しくなるという問題があった。また、プロセスが長大であり、生産性にも問題が残る方法であった。
そこで、これらの問題を解決する層間接続の方法として、配線層の形成後にスルーホール内に半田ペーストを印刷して溶融固化する方法等が提案されている(例えば特許文献2参照)。この層間接続方法の特徴としては、上記のめっきスルーホール法と比較して簡略なプロセスで層間接続を行えるため生産性が高いこと、また配線層の形成後に層間接続を施すためそのプロセス上、配線層の銅箔の厚みに関して何ら影響を与えず、配線層の微細化を阻害することがないこと、が挙げられる。
しかしながら、この層間接続方法の場合、半田をスルーホール内に配置した後に加熱すると、半田の熱膨張率が絶縁層の熱膨張率と比較して大きいためスルーホール内の半田が絶縁層以上に熱膨張する。このため、この熱膨張の大きさの差に起因して絶縁層表面の配線層と半田との接合界面が剥離する虞が有る。このように、半田を用いた層間接続方法は、熱による接続信頼性が十分でないという問題があった。
以上のように、従来のめっきスルーホール法による多層FPCの層間接続は、接続信頼性に優れるものの、配線層の微細化と生産性において問題があり、また、半田を用いた層
間接続方法は、上記スルーホール法において問題となる配線層の微細化と生産性の向上は図れるものの、接続信頼性に問題があった。
したがって、多層FPCの層間接続においては、高い接続信頼性と配線層の微細化との両立が可能であり高い生産性を有する多層FPC及び製造方法が要求されていた。
上記の問題に鑑み、本発明は、接続信頼性が高く、配線層の微細化に最適な、生産性に優れる配線層間の層間接続を有する多層FPC及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために本発明の多層FPCは、絶縁層と、該絶縁層の表裏面に形成された配線層と、絶縁層を介して配線層間を接続する孔と、を備える配線板を有する多層フレキシブルプリント配線板において、半田部材と該半田部材よりも熱膨張率の小さい金属部材とが積層した積層構造を有し、孔内に密着固定され配線層を導通させる導電部材を備えるものである。
この構成によれば、層間接続の導電体として半田部材よりも熱膨張率の小さい金属部材と、半田材料からなる半田部材との積層構造を有する導電体を備えるため、導電体の熱膨張率が最適化され、高い接続信頼性が得られる。したがってこの構成によれば、接続信頼性に優れた多層FPCを得ることができる。
また、上記課題を解決するために本発明の多層FPCの製造方法は、絶縁層の表裏面に配線層が設けられた配線板を形成する配線板形成工程と、配線層を接続するための貫通孔を配線板にその厚み方向に形成する貫通孔形成工程と、貫通孔に半田材料よりも熱膨張率の小さい金属材料からなる略球状導電体を圧入して金属部材を形成し、さらに貫通孔に半田材料を充填して金属部材と接合される半田部材を形成し、絶縁層の表裏面に設けられた配線層を金属部材と半田部材との接合体により導通させる導通工程と、を含む。
この製造方法においては、層間接続の導電体として半田材料よりも熱膨張率の小さい金属材料からなる一個の略球状導電体により形成された金属部材と、半田材料からなる半田部材と、の積層構造を有する導電体を形成するため、導電体の熱膨張率を最適化することができ、高い接続信頼性が得られる。また、配線層形成後に層間接続を行うため、プロセス上配線層に全く影響が生じず、配線層の微細化に適しており、さらに、略球状導電体及び半田ボールの圧入という非常にシンプルなプロセスで層間接続を行うため、高い生産性も確保することができる多層FPCの製造方法が得られる。
本発明の請求項1に記載の多層FPCによれば、層間接続に用いる導電体として半田部材よりも熱膨張率の小さい金属部材からなる金属部材と、半田材料からなる半田部材との積層構造を有する導電体を備えるため、導電体の熱膨張率の最適化を図って絶縁層表面の配線層と導電体との剥離を防止し、高い接続信頼性をもつ多層FPCが得られるという効果がある。
本発明の請求項2に記載の多層FPCによれば、金属部材として軟質金属が用いられるため、貫通孔の壁面に対して高い密着強度をもつ金属部材が形成されており、さらに高い接続信頼性をもつ多層FPCが得られるという効果がある。
本発明の請求項3に記載の多層FPCによれば、絶縁層との熱膨張率の整合性が良好な銅または銅合金を金属部材に含むため、導電体の熱膨張率の最適化を効果的に図ることが
でき、絶縁層表面の配線層と導電体との剥離を確実に防止して高い接続信頼性を有する多層FPCを得ることができるという効果がある。
本発明の請求項4に記載の多層FPCによれば、金属部材の表面に半田材料が被覆されているので、さらに接続信頼性を有する多層FPCを得ることができるという効果がある。
本発明の請求項5に記載の多層FPCによれば、層間接続を非常にシンプルなプロセス材である両面配線板を用いて構成しているため、微細な配線層を有し生産性の高い多層FPCが得られるという効果がある。
本発明の請求項6に記載の多層FPCによれば、非常に微細な配線層をもつ片面配線板をプロセス材として用いて構成しているため、さらに微細な配線層を有する多層FPCが得られるという効果がある。
本発明の請求項7に記載の多層FPCによれば、ブラインドバイアホールに導電体が圧入固定されるため、高い接続信頼性を有する多層FPCが得られるという効果がある。
本発明の請求項8に記載の多層FPCによれば、配線層の高接続信頼性及び微細な配線層を有する多層FPC同士をさらに積層しているため、高い接続信頼性と微細な配線層を有する多層FPCが得られるという効果がある。
本発明の請求項9に記載の多層FPCの製造方法によれば、層間接続を配線層形成後に半田材料よりも熱膨張率の小さい金属材料からなる略球状導電体の貫通孔への圧入、および半田材料の貫通孔への充填という非常にシンプルなプロセスで行うため、高い接続信頼性及び微細な配線層を有する多層FPCが高い生産性で製造できるという効果がある。
本発明の請求項10に記載の多層FPCの製造方法によれば、ハンドリング性、および製造容易性に優れる半田材料からなる略球状半田部材の貫通孔への圧入という非常にシンプルなプロセスで行うため、高い接続信頼性及び微細な配線層を有する多層FPCが高い生産性で製造できるという効果がある。
本発明の請求項11に記載の多層FPCの製造方法によれば、半田材料からなる粒子を溶融固化させて半田部材を形成するので、さらに高い接続信頼性を有する多層FPCを製造できるという効果がある。
本発明の請求項12に記載の多層FPCの製造方法によれば、略球状導電体の表面に半田材料が被覆されているので、さらに高い接続信頼性を有する多層FPCを製造できるという効果がある。
本発明の請求項13に記載の多層FPCの製造方法によれば、略球状導電体として軟質金属を用いるため、貫通孔の壁面に対して高い密着強度をもつ金属部材を形成することができ、さらに高い接続信頼性を有する多層FPCを製造できるという効果がある。
本発明の請求項14に記載の多層FPCの製造方法によれば、絶縁層との熱膨張率の整合性が良好な銅または銅合金を金属部材に含めるため、導電体の熱膨張率の最適化を効果的に図ることができ、絶縁層表面の配線層と導電体との剥離を確実に防止して高い接続信頼性を有する多層FPCを製造できるという効果がある。
本発明の請求項15に記載の多層FPCの製造方法によれば、非常に微細な配線層をも
つ片面配線板をプロセス材として用いるため、さらに微細な配線層を有する多層FPCが製造できるという効果がある。
本発明の請求項16に記載の多層FPCの製造方法によれば、層間接続用にブラインドバイアホールを用いるため、さらに高い接続信頼性をもつ多層FPCが製造できるという効果がある。
本発明の請求項17に記載の多層FPCの製造方法によれば、略球状導電体として軟質金属を用いるため、貫通孔の壁面に対して高い密着強度をもつ金属部材を形成することができ、さらに高い接続信頼性を有する多層FPCを製造できるという効果がある。
本発明の請求項18に記載の多層FPCの製造方法によれば、絶縁層との熱膨張率の整合性が良好な銅または銅合金を金属部材に含めるため、導電体の熱膨張率の最適化を効果的に図ることができ、絶縁層表面の配線層と導電体との剥離を確実に防止して高い接続信頼性を有する多層FPCを製造できるという効果がある。
本発明の請求項19に記載の多層FPCの製造方法によれば、略球状導電体の表面に半田材料が被覆されているので、さらに高い接続信頼性を有する多層FPCを製造できるという効果がある。
本発明の請求項1に記載の多層FPCは、絶縁層と、該絶縁層の表裏面に形成された配線層と、絶縁層を介して配線層間を接続する孔と、を備える配線板を有する多層フレキシブルプリント配線板において、半田部材と該半田部材よりも熱膨張率の小さい金属部材とが積層した積層構造を有し、孔内に密着固定され配線層を導通させる導電部材を備えるものである。この構成により、層間接続に用いる導電体として半田部材よりも熱膨張率の小さい金属部材と半田材料からなる半田部材との積層構造により、導電体の熱膨張率の最適化を図って導電体の熱膨張率を絶縁層の熱膨張率まで低下させることができるという作用を有する。ここで、本発明において半田部材とは半田材料からなる部材であり、また、半田材料とは半田及び半田合金を含むものである。
本発明の請求項2に記載の多層FPCは、請求項1記載の多層FPCにおいて、金属部材が軟質金属からなるものである。この構成により、略球状導電体を圧入する際、貫通孔を破損する事無くスムーズに圧入され、貫通孔壁面に完全に密着した形状の金属部材が形成され、貫通孔壁面に対して金属部材の高い密着強度が得られるという作用を有する。
本発明の請求項3に記載の多層FPCは、請求項2記載の多層FPCにおいて、金属部材が銅または銅合金を含むものである。この構成により、導電体の熱膨張率の最適化が効果的に図られるという作用を有する。
本発明の請求項4に記載の多層FPCは、請求項1記載の多層FPCにおいて、金属部材の表面に半田材料が被覆されているものである。この構成により、金属部材の表面に半田材料が被覆されているので、金属部材としての略球状導電体を孔に圧入してなる金属部材と半田部材とが強固に接続されるという作用を有する。
本発明の請求項5に記載の多層FPCは、請求項1記載の多層FPCにおいて、配線板として、絶縁層の表裏面に配線層が直接形成されてなる両面配線板を備えるものである。この構成により、層間接続が非常にシンプルなプロセス材である両面配線板を用いて構成されるため、微細な配線層を有し生産性の高い多層FPCが簡略な構造で構成されるという作用を有する。
本発明の請求項6に記載の多層FPCは、請求項1記載の多層FPCにおいて、配線板が、絶縁層の一面に配線層が設けられた2枚の片面配線板を該配線層が外側となるように接着層を介して貼り合わせてなるものである。この構成により、さらに微細な配線層を有する多層FPCが構成されるという作用を有する。
本発明の請求項7に記載の多層FPCは、請求項1記載の多層FPCにおいて、配線板が、第1の絶縁層の一面に第1の配線層が形成されるとともに孔を備える第1の片面配線板と、第2の絶縁層の一面に第2の配線層が形成された第2の片面配線板と、が第1の絶縁層と第2の配線層とが対向した状態で接着層を介して張り合わされてブラインドバイアホールを形成してなるものである。この構成により、ブラインドバイアホールに導電体が固定されるため、導電部材と配線層との接合面積が増加し、両者の密着強度も増加するという作用を有する。
本発明の請求項8に記載の多層FPCは、請求項1に記載の多層フレキシブルプリント配線板が複数積層されてなるものである。この構成により、配線層の高接続信頼性及び微細な配線層を有する多層FPC同士をさらに積層しているため、微細な配線層をもつ多層FPCの配線層数を増やした、より多層配線構造を有する多層FPCが高い接続信頼性と微細な配線層を有して構成されるという作用を有する。
本発明の請求項9に記載の多層FPCの製造方法は、絶縁層の表裏面に配線層が設けられた配線板を形成する配線板形成工程と、配線層を接続するための貫通孔を配線板にその厚み方向に形成する貫通孔形成工程と、貫通孔に半田材料よりも熱膨張率の小さい金属材料からなる略球状導電体を圧入して金属部材を形成し、さらに貫通孔に半田材料を充填して金属部材と接合される半田部材を形成し、絶縁層の表裏面に設けられた配線層を金属部材と半田部材との接合体により導通させる導通工程と、を含む。この方法によれば、配線層形成後に層間接続を行うため、プロセス上配線層に関し何ら影響を与えずに層間接続が行われる。また、略球状導電体の貫通孔への圧入、及び半田材料の貫通孔への充填という非常にシンプルなプロセスで層間接続が行われるため工程が削減されるという作用を有する。
本発明の請求項10に記載の多層FPCの製造方法は、請求項9記載の多層FPCの製造方法において、貫通孔に半田材料からなる略球状半田部材を圧入することにより半田部材を形成するものである。この方法によれば、ハンドリング性、および製造容易性に優れる半田材料からなる略球状半田部材の貫通孔への圧入という非常にシンプルなプロセスで半田部材が形成されるため、高い接続信頼性及び微細な配線層を有する多層FPCが生産性よく製造されるという作用を有する。
本発明の請求項11に記載の多層FPCの製造方法は、請求項9記載の多層FPCの製造方法において、貫通孔に半田材料からなる粒子を充填し、該粒子を溶融固化させることにより半田部材を形成するものである。この方法によれば、半田材料からなる粒子を溶融固化させて半田部材が形成され、金属部材との電気的接合を得るため、半田部材と金属部材との界面に強固な合金層が形成されるという作用を有する。
本発明の請求項12に記載の多層FPCの製造方法は、請求項9記載の多層FPCの製造方法において、略球状導電体の表面に半田材料が被覆されるものである。この方法によれば、略球状導電体の表面に半田材料が被覆されているので、半田部材と金属部材とが強固に接合されるという作用を有する。
本発明の請求項13に記載の多層FPCの製造方法は、請求項9記載の多層FPCの製
造方法において、金属材料として軟質金属を用いるものである。この方法によれば、略球状導電体を圧入する際、貫通孔を破損する事無くスムーズに圧入され、貫通孔壁面に完全に密着した形状の金属部材が形成され、金属部材が貫通孔壁面に対して高い密着強度で密着するという作用を有する。
本発明の請求項14に記載の多層FPCの製造方法は、請求項13記載の多層FPCの製造方法において、金属部材に銅または銅合金を含ませるものである。この方法によれば、導電体の熱膨張率の最適化が効果的に図られるという作用を有する。
本発明の請求項15に記載の多層FPCの製造方法は、請求項9記載の多層FPCの製造方法において、絶縁層の一面に配線層が設けられた2枚の片面配線板を形成する片面配線板形成工程と、配線層が外側となるように2枚の片面配線板を接着層を介して貼り合わせる貼り合わせ工程と、を含むものである。この方法によれば、非常に微細な配線層を有する片面配線板をプロセス材として用いるため、両面配線板よりさらに微細な配線層を有する多層FPCが容易に構成されるという作用を有する。
本発明の請求項16に記載の多層FPCの製造方法は、第1の絶縁層の一面に第1の配線層を形成して第1の片面配線板を形成し、第2の絶縁層の一面に第2の配線層を形成して第2の片面配線板を形成する片面配線板形成工程と、第1の配線層と第2の配線層とを接続するための貫通孔を第1の片面配線板にその厚み方向に形成する貫通孔形成工程と、第1の絶縁層と第2の配線層とを対向させた状態で接着層を介して第1の片面配線板と第2の片面配線板とを貼り合わせて貫通孔と第2の配線層とによりブラインドバイアホールを形成する貼り合わせ工程と、ブラインドバイアホールに半田材料からなる略球状半田部材または半田粒子を充填した後に、半田材料よりも熱膨張率の小さい金属材料からなる略球状導電体を前記ブラインドバイアホールに圧入して略球状半田部材または半田粒子と接合される金属部材を形成し、絶縁層の表裏面に設けられた配線層を略球状半田部材または半田粒子と金属部材との接合体により導通させる導通工程と、を含むものである。この方法によれば、非貫通であり、底面に配線層を備えるブラインドバイアホールに導電体を形成して層間導通をとるため、貫通孔に導電体を形成した場合と比較して導電体と配線層との接合面積が増加し両者の密着強度が増加するという作用を有する。
本発明の請求項17に記載の多層FPCの製造方法は、請求項16記載の多層FPCの製造方法において、金属材料として軟質金属を用いるものである。この方法によれば、略球状導電体を圧入する際、ブラインドバイアホールを破損する事無くスムーズに圧入され、ブラインドバイアホールの壁面に完全に密着した形状の金属部材が形成され、金属部材が該ブラインドバイアホールの壁面に対して高い密着強度で密着するという作用を有する。
本発明の請求項18に記載の多層FPCの製造方法は、請求項17記載の多層FPCの製造方法において、金属部材に銅または銅合金を含ませるものである。この方法によれば、導電体の熱膨張率の最適化が効果的に図られるという作用を有する。
本発明の請求項19に記載の多層FPCの製造方法は、請求項16記載の多層FPCの製造方法において、略球状導電体の表面に半田材料が被覆されるものである。この方法によれば、略球状導電体の表面に半田材料を被覆するので、半田部材と金属部材とが強固に接合されるという作用を有する。
以下本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、以下の図面においては同一の部材には同一の符号を付しており、重複した説明は省略している。また、以下の実施の形態において示されている数値等は種々選択し得る中の一例であり、これに限定され
るものではない。
(実施の形態1)
以下に本発明の一実施の形態にかかる多層FPCについて説明する。まず、本発明の多層FPCについて図1を用いて説明する。図1は本発明の実施の形態1にかかる多層FPCの要部断面図である。
図1において、100は、ポリイミドフィルムからなる絶縁層2の両面に配線上層3及び配線下層4を形成した本実施の形態にかかる多層FPCであり、貫通孔5の内部に圧入された導電体6にて配線上層3と配線下層4との導通、すなわち配線上層3と配線下層4との間の電気的な層間接続がなされている。ここで導電体6は、図1に示すように一個の略球状導電体7を圧入して形成した金属プラグ8と半田材料からなる半田接続体9との積層構造を有する。なお、半田接続体9の半田組成は、共晶はんだ、高温半田、鉛フリー半田等、他の諸条件等により適宜選択可能であり、特に限定されるものではない。
このように多層FPC100の層間接続を行う導電体6は、略球状導電体7を圧入して形成した金属プラグ8と、半田材料からなる半田接続体9と、の積層構造になっている。このような構成とすることにより、半田材料の熱膨張率よりも大幅に熱膨張率の小さな該金属プラグ8と半田接続体9とを組み合わせて、導電体6全体としての熱膨張率を絶縁層2の熱膨張率まで低下させることができる。
これにより、半田を用いて層間接続を行う場合における最大の問題を解決することができる。すなわち、半田だけで構成されている導電体を加熱した際に貫通孔内の半田が絶縁層以上に膨張し、絶縁層表面の配線層と半田との接合界面が剥離し、熱による接続信頼性が確保できないという問題を解決することができる。したがって、本実施の形態にかかる多層FPC100の接続構造によれば、配線上層3と配線下層4との層間接続において高い接続信頼性が得られる。
また、略球状導電体7としては、生産性は劣るものの均一金属液滴噴霧法などにて得られる粒径の均一性と真球度に優れた真球状の金属粒子や、粒径の均一性と真球度は劣るものの大量生産に適したアトマイズ法などにて得られる略球状の金属粒子などが利用可能である。生産性の違いから前者は高価な部材であり、後者は安価な部材となっている。本発明においては、略球状導電体7の粒径が不均一であっても、半田接続体9を介在させることで略球状導電体7の粒径のバラツキ分を吸収して層間接続を得ることが可能である。したがって、本発明での略球状導電体7としては、粒径の均一性と真球度は劣るものの安価なアトマイズ法による略球状の金属粒子を利用することができる。これにより、配線間の層間接続信頼性の高い多層FPCを安価に実現することができる。また、このように金属プラグを形成する際の素材として略球状体とされた導電体を用いることにより、該導電体のハンドリング性、導電体部材の製造容易性に優れるという利点を有する。
そして、略球状導電体7の材料としては金属材料を用いることができるが、軟質金属のうちの少なくとも一種を含むことが好ましい。略球状導電体7の材料として軟質金属を含むことで、略球状導電体7を貫通孔5に圧入する際に貫通孔5を破損する事無くスムーズに圧入する事ができ、貫通孔5の壁面に完全に密着した形状の金属プラグ8を形成することができる。この金属プラグ8は強固な密着強度を有して貫通孔5内に埋設されているため、更に高い接続信頼性が得られる。ここで本発明において軟質金属とは、熱膨張率が基材すなわち絶縁層2と整合し、且つ良導電性を有し、塑性変形可能な高延展性を有する金属のうち配線用途に利用可能な金属である。具体的には、銅、アルミニウム、ニッケル、金、銀、パラジウムやこられの合金等を挙げることができる。そして、これらの中でも銅及び銅合金が好適である。これは、銅及び銅合金が最も基材(絶縁層)との熱膨張率の整
合性がよいからである。
なお、このような積層構造を有する導電体6を圧入する貫通孔5の開口形状は特に限定されないが、円形が好適である。
次に、この様な積層構造を有する導電体6を用いることにより配線上層3と配線下層4との電気的接続において高い接続信頼性を実現する本実施の形態にかかる多層FPC100の製造方法について図2〜図9を用いて詳細に説明する。なお、以下の図面においては、図1と同一の構成要素については図1と同じ符号を付すこととし、ここでは詳細な説明を省略する。
図2〜図9は実施の形態1にかかる多層FPC100の製造工程を説明する図であり、図2は本発明の一実施の形態における多層FPCの構成要素である両面銅張積層板の要部断面図、図3は本発明の一実施の形態における配線層が形成された両面配線板の要部断面図、図4は本発明の一実施の形態における貫通孔が形成された両面配線板の要部断面図、図5は本発明の一実施の形態における略球状導電体が配置された両面配線板の要部断面図、図6は本発明の一実施の形態における略球状導電体を圧入した両面配線板の要部断面図、図7は本発明の一実施の形態における半田ボールが配置された両面配線板の要部断面図、図8は本発明の一実施の形態における半田ボールを圧入した両面配線板の要部断面図、図9は本発明の一実施の形態における層間接続後の多層FPCの要部断面図、図10は本発明の一実施の形態における多層FPCの要部断面図である。
上記の図において、10は絶縁層2の両面に銅箔11が直接形成されて構成された両面銅張積層板である。12は両面銅張積層板10をエッチング処理し、配線上層3及び配線下層4を形成した両面配線板である。また、13は貫通孔加工用のパンチング金型、14は略球状導電体7を配置するための吸着ボード、15は上下動する圧入用のプレス用天板、16はプレス用底板であり、17は圧入されて半田接続体9となる半田ボールである。
以下、図面に沿って多層FPC100の製造方法について説明する。まず、図2に示すように、絶縁層2の両面に銅箔11が直接形成された両面銅張積層板10を準備する。なお、本実施の形態においては、絶縁層2と銅箔11との間に接着層が介在しない二層タイプの両面銅張積層板10を例に挙げて説明しているが、本発明はこの例に限定されるものではなく、絶縁層2と銅箔11との間に接着層が介在する三層タイプの両面銅張積層板、またはそれ以上の複数層を有する両面銅張積層板を用いることも可能であり、適宜変更可能である。
次に、配線パターンに従ってマスク材を銅箔11の表面に形成し、塩化鉄、塩化銅等の銅のエッチング液を用いてエッチング処理を行ない、図3に示すように絶縁層2の両面に配線上層3及び配線下層4(以下、配線上層3及び配線下層4を配線層と総称する場合がある。)が形成された両面配線板12を得る。これにより得られた配線層は、この後の工程において、何ら影響を受けることがない。したがって、本発明の一実施の形態における多層FPCの製造方法においては、銅箔11の厚さを薄くすることによる配線層の微細化が図れる。
そして、配線層が形成された両面配線板12にパンチング金型13を用いてパンチング加工を施し、図4に示すように貫通孔5を形成する。そして、図5に示すように吸着ボード14を用いて貫通孔5側から真空吸着を行い、貫通孔5の一方(ここでは配線上層3側)の開口部上に一個の略球状導電体7を配置する。そして、図6に示すように両面配線板12をプレス用底板16に載せ、プレス用天板15を下方向に移動加圧させて略球状導電体7を貫通孔5内に圧入することにより、貫通孔5の内部に金属プラグ8を形成する。
次に、図7に示すように金属プラグ8を形成した両面配線板12を裏返し、貫通孔5の他方、すなわち金属プラグ8を形成した側と反対側(配線下層4側)の開口部上に半田ボール17を配置する。ここでの半田ボール17の配置方法としては、BGA(Ball Grid Array)と呼ばれる半導体パッケージに半田ボール17を搭載する従来から知られている方法を転用することもできる。具体的には、貫通孔5と対応する位置に半田ボール17より小径の吸引孔を設けた吸着プレートを準備し、吸引孔内の圧力調整用に真空ポンプと接続しておく。この吸着プレートを用いて半田ボール17を吸着口に吸着し、貫通孔5の他方の開口部上に位置合せして半田ボール17を落下させ、半田ボール17を貫通孔5の他方の開口部上に設置する。以上の様な操作を行うボールマウンターと呼ばれる設備を使用することも可能である。ここでは真空吸着による半田ボール17の搭載例を示したが、他に静電吸着やメタルマスクなどの方法を用いることも可能であり、適宜好適な方法を選択可能である。
続いて、半田ボール17を配置した両面配線板12を図8に示すようにプレス用底板16に載せ、プレス用天板15を下方向に移動させて加圧を行って半田ボール17を貫通孔5内に圧入し、金属プラグ8と接合する半田接続体9を形成する。これにより金属プラグ8と半田接続体9との積層構造を有する導電体6を形成することができ、該導電体6により配線上層3と配線下層4との層間接続がなされる。この後、図9に示すようにプレスから取り出し、金属プラグ8と半田接続体9とが積層されて構成された導電体6により配線上層3と配線下層4とが層間接続された多層FPC100が非常にシンプルなプロセスで得られる。
以上の様な本実施の形態にかかる多層FPCの製造方法は、以下の特徴を有する。まず、層間接続の導電体として金属プラグ8と半田接続体9との積層構造を有する導電体6を形成するため、高い接続信頼性を有する多層FPCを作製することができる。すなわち、半田材料の熱膨張率よりも大幅に小さな熱膨張率を有する金属プラグ8と、半田接続体9と、を組み合わせて導電体6を構成するため、導電体6全体としての熱膨張率を絶縁層2の熱膨張率まで低下させることができる。これにより、半田を用いて層間接続を行う場合における、半田の熱膨張に起因した絶縁層表面の配線層と半田との接合界面の剥離を防止することができる。したがって、配線上層3と配線下層4との間の層間接続において高い接続信頼性が得られる。
そして、配線層の形成後に配線上層3と配線下層4との層間接続を行うため、プロセス上、配線層に関し何ら影響を与えることがない。したがって、銅箔11の厚さを薄くすることによる配線層の微細化を図ることが可能であり、配線層の微細化に適している。さらに、配線間の層間接続方法として略球状導電体7及び半田ボール17の圧入という非常にシンプルなプロセスで配線上層3と配線下層4との層間接続が行えるため、他の層間接続方法と比較して工程数が少なく、生産性及び生産コストに優れる。
したがって、本実施の形態にかかる多層FPCの製造方法によれば、配線層間の接続信頼性が高く、配線層の微細化に最適な多層FPCを生産性良く作製することができる。
なお、ここでは半田接続体9の形成方法として半田ボール17の圧入を挙げているが、貫通孔5内に半田材料粒子を充填、溶融させて半田接続体を形成し、金属プラグと接合しても良い。この製法においては、半田材料粒子を一度溶融固化することから、半田接続体と金属プラグとの界面に強固な合金層が形成され、さらに高い接続信頼性を有する多層FPCを得ることができる。また、このような半田接続体9の形成方法は諸条件等により適宜選択可能であり、特に限定されるものではない。
また、実施の形態1における両面配線板の形成方法としては、絶縁層2の両面に銅箔11を直接形成しているが、両面配線板の形成方法としては、以下のような方法も用いることができる。すなわち、まず絶縁層2の片面に銅箔11を直接形成し、さらにエッチングを施して配線層を形成し、2枚の片面配線板を形成する。そして、配線層を外側にした状態で接着層を介してこの2枚の片面配線板を貼り合わせる。このような方法により、図10に示すように、2枚の片面配線板を貼り合わせて構成される両面配線板を形成することができる。図10において、26は絶縁層2の片面に配線上層3が形成された片面配線板、27は絶縁層2の片面に配線下層4が形成された他の片面配線層、29は片面配線板26と他の片面配線板27とを配線層を外側にした状態で接着層28にて貼り合わせて形成された両面配線板で、導電体6にて配線上層3と配線下層4とが層間接続されている。両面配線板より片面配線板の方が配線層の微細化が可能であり、この片面配線板を貼り合わせて両面配線板を得るため、配線層がさらに微細である両面配線板が得られる。この片面配線板の配線層の微細化については、以下の実施の形態2において詳細に説明する。
さらにこの製造方法において、表面に半田材料が被覆された略球状導電体7を用いることもできる。この場合には貫通孔5に金属プラグ8を形成し、さらに半田ボール17を貫通孔5内に圧入して半田接続体9を形成した状態で加熱冷却を行うことにより、金属プラグ8の表面の半田材料と半田接続体9とが溶融固化して金属プラグ8と半田接続体9とのより強固な接合が可能となり、より層間接続の接続信頼性を向上させることができる。
(実施の形態2)
実施の形態2では、配線層間の接続信頼性及び配線層のさらなる微細化に優れた本発明の他の実施の形態にかかる多層FPCの製造方法について図11〜図15を用いて詳細に説明する。図11は本発明の一実施の形態における層間接続後の多層FPCの要部断面図、図12は本発明の一実施の形態における多層FPCの構成要素である接着層付き片面銅張積層板の要部断面図、図13は本発明の一実施の形態における配線層が形成された接着層付き片面配線板の要部断面図、図14は本発明の一実施の形態における貫通孔が形成された接着層付き片面配線板の要部断面図、図15は本発明の一実施の形態におけるブラインドバイアホールが形成された積層配線板の要部断面図である。
上記の図において、200は導電体6にて配線上層3と配線下層4との間の電気的な層間接続がなされた多層FPCである。18は、絶縁層2の片面に銅箔11、他方の面に接着層19が形成された接着層付き片面銅張積層板である。20は、接着層付き片面銅張積層板18をエッチング処理して配線上層3を形成した接着層付き片面配線板である。また、21は、接着層付き片面配線板20と積層する配線下層4の形成された他の片面配線板である。22は、接着層付き片面配線板20及び他の片面配線板21を積層し、層間接続用にブラインドバイアホール23を形成した積層配線板である。また、パンチング金型13は貫通孔5の加工用に用いられる。
本実施の形態にかかる多層FPC200は、図11に示すようにブラインドバイアホール23の内部に圧入された導電体6によって配線上層3と配線下層4との間の電気的な層間接続がなされている。ここで導電体6は、実施の形態1の場合と同様に略球状導電体7を圧入して形成され、半田材料の熱膨張率よりも大幅に小さな熱膨張率を有する金属プラグ8と、半田材料からなる半田接続体9と、の積層構造を有するものである。導電体6をこのように構成することにより、導電体6全体としての熱膨張率を絶縁層2の熱膨張率まで低下させることができる。これにより、半田を用いて層間接続を行う場合における半田の熱膨張に起因した絶縁層表面の配線層と半田との接合界面の剥離を防止することができる。したがって、本実施の形態にかかる多層FPC200においても、導電体6を介して配線上層3と配線下層4とが確実に電気的に接続され、配線上層3と配線下層4との層間接続において高い接続信頼性が得られる。
また、本実施の形態においては層間接続用の導電体6は、底面に配線下層4を有するブラインドバイアホール23に圧入されている。このため、層間接続用の導電体6が貫通孔に圧入された場合と比較して導電体6と配線層との接合面積が増加し、両者の密着強度も増加する。したがって、この多層FPC200においては、様々な外部ストレスが加わった場合においても、配線層と導電体6との接合界面が剥離することがなく、さらに高い接続信頼性を有するこの品質の多層FPC200が実現されている。
また、金属プラグ8(略球状導電体7)として、実施の形態1の場合と同様に軟質金属、特に銅または銅合金のうちの少なくとも一種を用いることで、配線上層3と配線下層4との層間接続においてより高い接続信頼性を得ることができる。これは、銅及び銅合金が最も基材(絶縁層)との熱膨張率の整合性がよいからである。
次に、この様な高い接続信頼性を実現する実施の形態2にかかる多層FPC200の製造方法について図面に沿って詳細に説明する。
まず、図12に示すように、絶縁層2の片面に銅箔11が直接形成され、他方の面に接着層19が形成された接着層付き片面銅張積層板18を準備する。なお、本実施の形態においても、絶縁層2と銅箔11との間に接着層が介在しないタイプの接着層付き片面銅張積層板18を例に挙げて説明しているが、本発明はこの例に限定されるものではなく絶縁層2と銅箔11との間に接着層が介在するタイプの片面銅張積層板、またはそれ以上の複数層を有する片面銅張積層板を用いることも可能であり、適宜変更可能である。
次に、配線パターンに従ってマスク材を銅箔11の表面に形成し、塩化鉄、塩化銅等の銅のエッチング液を用いてエッチング処理を行ない、図13に示すように配線上層3を形成し、接着層付き片面配線板20を得る。ここで、本実施の形態においては、上記の両面配線板の配線層を形成する場合と異なり、微細化に適した片面エッチングが可能であり、配線上層3の更なる微細化が可能である。したがって、本実施の形態において得られる接着層付き片面配線板20の配線上層3は、上記の両面配線板の配線層と比較し、更なる微細化が可能とされている。
その理由を以下に述べる。通常、両面配線板の配線層形成においては、両面銅張積層板の両面にある銅箔を同時にエッチング処理するため、エッチング液を両面銅張積層板の上下方向からムラなく均一にあてる必要がある。しかしながら、両面銅張積層板の上下方向からエッチング液を加圧噴霧した場合には、上面に噴霧された後のエッチング液が上面に液だまりを形成し、エッチング均一性が保てないという問題がある。したがって、両面配線板においてはエッチング条件が不均一、不安定となり、非常に微細な配線層を形成することが難しい。
一方、片面配線板の配線層形成においては、片面銅張積層板の下側(銅箔形成側を下面とする)からのエッチング液の噴霧のみで良いため、エッチング液の液だまりが形成されることが無く、エッチング条件の最適範囲を広くとることができる。したがって、この片面配線板の配線層形成方法は、配線層の微細化に好適である。
次に、配線上層3が形成された接着層付き片面配線板20にパンチング金型13を用いてパンチング加工を施し、図14に示すように貫通孔5を形成する。そして、図15に示すように、貫通孔5が形成された接着層付き片面配線板20と配線下層4の形成された他の片面配線板21とを、配線下層4と接着層19とが対向した状態で該接着層19を介して貼り合わせることにより、層間接続用のブラインドバイアホール23が形成された積層配線板22を得る。
なお、配線下層4の形成された他の片面配線板21においても、配線上層3が形成された接着層付き片面配線板20と同様に片面銅張積層板の下側(銅箔形成側を下面とする)からのエッチング液の噴霧により配線下層4を形成することができる。すなわち、配線下層4も配線上層3と同様に微細化されている。したがって、ここで得られた積層配線板22は、配線層が微細化された片面配線板を積層しているため、上記両面配線板の配線層と比較して配線層がさらに微細となる。
最後に、ブラインドバイアホール23内部に予め半田材料からなる半田ボールまたは半田材料からなる半田粒子を充填し、さらにブラインドバイアホール23内部における半田ボールまたは半田粒子の上に一個の略球状導電体を圧入して、半田ボールまたは半田粒子から形成された半田接続体9と略球状導電体から形成された金属プラグ8との積層構造からなる導電体6を形成する。これにより、図11に示すように導電体6により配線上層3と配線下層4とが導通した、配線層の微細化に優れる多層FPC200が得られる。
本実施の形態にかかる多層FPCの製造方法において層間接続用の導電体6は、底面に配線下層4を有するブラインドバイアホール23に圧入される。このため、層間接続用の導電体6が貫通孔に圧入された場合と比較して導電体6と配線層との接合面積が増加し、両者の密着強度も増加する。したがって、様々な外部ストレスが加わった場合においても、配線層と導電体6との接合界面が剥離することがなく、さらに高い接続信頼性が得られる。
また、以上のような本実施の形態にかかる多層FPCの製造方法においては、片面配線板を積層するため、両面配線板を用いた場合と比較して配線層がより微細となる。さらに、上述したように半田ボール及び略球状導電体を圧入してブラインドバイアホール23内に導電体6を圧入形成するため、貫通孔5内に半田ボール及び略球状導電体を圧入して導電体6を圧入形成した場合と比較して、配線層間のより高い接続信頼性が得られる。したがって、本実施の形態においても、配線層間の接続信頼性が高く、配線層の微細化に最適な多層FPCを生産性良く得ることができる。
さらにこの製造方法において、表面に半田材料が被覆された略球状導電体を用いることもできる。この場合には、上記と同様に半田ボールまたは半田粒子から形成された半田接続体9と略球状導電体から形成された金属プラグ8との積層構造からなる導電体6を形成した後に加熱冷却を行うことにより、金属プラグ8の表面の半田材料と半田接続体9とが溶融固化して金属プラグ8と半田接続体9とのより強固な接合が可能となり、より層間接続の接続信頼性を向上させることができる。
(実施の形態3)
実施の形態3では、前述した多層FPCをさらに積層化した本発明の実施の形態にかかる多層FPCについて説明する。図16は本発明の一実施の形態における積層後の多層FPCの要部断面図、図17は本発明の一実施の形態における積層後の他の多層FPCの要部断面図である。
まず図16において、300は前述した実施の形態1において製造された2つの多層FPC100a、100bと、前述した実施の形態2において製造された多層FPC200aと、を接着層24及び接着層25を介して積層した多層FPCである。ここで多層FPC300は、構成材料である多層FPC100a、100bと多層FPC200aとが配線層間の高接続信頼性及び微細な配線層を有する。したがって、実施の形態1及び実施の形態2の場合よりもさらに多層配線化された多層FPC300においても、配線層間の接続信頼性が高く、配線層の微細化に優れた多層FPCが実現されている。
このような多層FPC300を作製するには、前述した実施の形態1において製造された2つの多層FPC100a、100bを接着層24を介して積層し、貼り合わせる。そして、導電体6の表面に半田接続体9があるため、導電体6を互いに接触させた状態で加熱冷却を行うと、半田が溶融固化し、導電体6と配線層とが互いに簡単に接合される。
さらに、2つの多層FPC100a、100bを積層した多層FPCと、前述した実施の形態2において製造された多層FPC200aと、を接着層25を介してさらに積層し、貼り合わせる。そして、導電体6の表面に半田接続体9があるため、導電体6を互いに接触させた状態で加熱冷却を行うと、半田が溶融固化し、導電体6と配線層とが互いに簡単に接合される。これにより、配線層数を増加させた多層FPC300を得ることができる。なお、多層FPC100a、100b及び多層FPC200aの製造方法は、上記と同様であるため、ここでは詳細な説明は省略する。また、多層FPC100bと多層FPC200aとを貼り合わせた後に多層FPC100aを貼り合わせても構わない。
また、図17において、400は前述した実施の形態1において製造された2つの多層FPC100c、100dと、前述した実施の形態2において製造された多層FPC200bと、を接着層24及び接着層25を介してそれぞれの導電体6が接触する様に積層した多層FPCである。ここで多層FPC400は、構成材料である多層FPC100c、100dと多層FPC200bとが配線層間の高接続信頼性及び微細な配線層を有する。したがって、実施の形態1及び実施の形態2の場合よりもさらに多層配線化された多層FPC400においても、配線層間の接続信頼性が高く、配線層の微細化に優れた多層FPCが実現されている。また、導電体6の表面は金属プラグ8または半田接続体9であるため、多層FPC100c、100d及び多層FPC200bにおいて、隣接する各配線層の電気的接続が可能とされている。
このような多層FPC400を作製するには、前述した実施の形態1において製造された2つの多層FPC100c、100dを接着層24を介してそれぞれの導電体6(100c)、6(100d)が接触する様に積層し、貼り合わせる。そして、導電体6の表面に半田接続体9があるため、導電体6を互いに接触させた状態で加熱冷却を行うと、半田が溶融固化し、導電体6が互いに簡単に接合される。
さらに、2つの多層FPC100c、100dを積層した多層FPCと、前述した実施の形態2において製造された多層FPC200bと、を接着層25を介して多層FPC100dの導電体6(100d)と多層FPC200bの導電体6(200b)とが接触するようにさらに積層し、貼り合わせる。そして、導電体6の表面に半田接続体9があるため、導電体6を互いに接触させた状態で加熱冷却を行うと、半田が溶融固化し、導電体6が互いに簡単に接合される。これにより、配線層数を増加させた多層FPC400を得ることができる。ここで、導電体6の表面は金属プラグ8または半田接続体9であるため、多層FPC100c、100d及び多層FPC200bにおいて、隣接する各配線層を容易に接続することが可能となる。
なお、多層FPC100c、100d及び多層FPC200bの製造方法は、上記と同様であるため、ここでは詳細な説明は省略する。また、多層FPC100dと多層FPC200bとを貼り合わせた後に多層FPC100cを貼り合わせても構わない。
以上の様にして得られた本実施の形態にかかる多層FPC300、400は、高接続信頼性及び微細な配線層を有する多層FPC同士をさらに積層して形成を行うため、配線層間の接続信頼性が高く、配線層の微細化に優れる。さらに、多層FPCの層間接続にも上記導電体を流用するため、新たに層間接続材料を用いることも無く、より高い生産性が得
られる。したがって、本実施の形態によっても、配線層間の接続信頼性が高く、配線層の微細化に最適な、生産性に優れる多層FPCを得ることができる。
本発明により、接続信頼性の高い、配線層の微細化に最適な、生産性に優れる層間接続を有する多層FPC及びその製造方法が提供できる。
本発明の一実施の形態における多層FPCの要部断面図 本発明の一実施の形態における多層FPCの構成要素である両面銅張積層板の要部断面図 本発明の一実施の形態における配線層が形成された両面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における貫通孔が形成された両面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における略球状導電体が配置された両面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における略球状導電体を圧入した両面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における半田ボールが配置された両面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における半田ボールを圧入した両面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における層間接続後の多層FPCの要部断面図 本発明の一実施の形態における多層FPCの要部断面図 本発明の一実施の形態における層間接続後の多層FPCの要部断面図 本発明の一実施の形態における多層FPCの構成要素である接着層付き片面銅張積層板の要部断面図 本発明の一実施の形態における配線層が形成された接着層付き片面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における貫通孔が形成された接着層付き片面配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態におけるブラインドバイアホールが形成された積層配線板の要部断面図 本発明の一実施の形態における積層後の多層FPCの要部断面図 本発明の一実施の形態における積層後の他の多層FPCの要部断面図
符号の説明
2 絶縁層
3 配線上層
4 配線下層
5 貫通孔
6 導電体
7 略球状導電体
8 金属プラグ
9 半田接続体
10 両面銅張積層板
11 銅箔
12 両面配線板
13 パンチング金型
14 吸着ボード
15 プレス用天板
16 プレス用底板
17 半田ボール
18 接着層付き片面銅張積層板
19 接着層
20 接着層付き片面配線板
21 片面配線板
22 積層配線板
23 ブラインドバイアホール
24 接着層
25 接着層
26 片面配線板
27 片面配線板
28 接着層
29 両面配線板
100 多層FPC
100a 多層FPC
100b 多層FPC
100c 多層FPC
100d 多層FPC
200 多層FPC
200a 多層FPC
200b 多層FPC
300 多層FPC
400 多層FPC

Claims (19)

  1. 絶縁層と、該絶縁層の表裏面に形成された配線層と、前記絶縁層を介して前記配線層間を接続する孔と、を備える配線板を有する多層フレキシブルプリント配線板において、
    半田部材と該半田部材よりも熱膨張率の小さい金属部材とが積層した積層構造を有し、前記孔内に密着固定され前記配線層を導通させる導電部材を備えることを特徴とする多層フレキシブルプリント配線板。
  2. 前記金属部材が軟質金属からなることを特徴とする請求項1に記載の多層フレキシブルプリント配線板。
  3. 前記金属部材が銅または銅合金を含むことを特徴とする請求項2に記載の多層フレキシブルプリント配線板。
  4. 前記金属部材の表面に半田材料が被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の多層フレキシブルプリント配線板。
  5. 前記配線板が、前記絶縁層の表裏面に前記配線層が直接形成されてなる両面配線板であることを特徴とする請求項1に記載の多層フレキシブルプリント配線板。
  6. 前記配線板が、絶縁層の一面に配線層が設けられた2枚の片面配線板を該配線層が外側となるように接着層を介して貼り合わせてなることを特徴とする請求項1に記載の多層フレキシブルプリント配線板。
  7. 前記配線板は、第1の絶縁層の一面に第1の配線層が形成されるとともに前記孔を備える第1の片面配線板と、第2の絶縁層の一面に第2の配線層が形成された第2の片面配線板とが前記第1の絶縁層と前記第2の配線層とが対向した状態で接着層を介して張り合わされてブラインドバイアホールを形成してなることを特徴とする請求項1に記載の多層フレキシブルプリント配線板。
  8. 請求項1に記載の多層フレキシブルプリント配線板が複数積層されてなることを特徴とする多層フレキシブルプリント配線板。
  9. 絶縁層の表裏面に配線層が設けられた配線板を形成する配線板形成工程と、
    前記配線層を接続するための貫通孔を前記配線板にその厚み方向に形成する貫通孔形成工程と、
    前記貫通孔に半田材料よりも熱膨張率の小さい金属材料からなる略球状導電体を圧入して金属部材を形成し、さらに前記貫通孔に半田材料を充填して前記金属部材と接合される半田部材を形成し、前記絶縁層の表裏面に設けられた配線層を前記金属部材と半田部材との接合体により導通させる導通工程と、
    を含むことを特徴とする多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  10. 前記貫通孔に半田材料からなる略球状半田部材を圧入することにより前記半田部材を形成することを特徴とする請求項9に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  11. 前記貫通孔に半田材料からなる粒子を充填し、該粒子を溶融固化させることにより前記半田部材を形成することを特徴とする請求項9に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  12. 前記略球状導電体の表面に半田材料が被覆されていることを特徴とする請求項9に記載の
    多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  13. 前記金属材料が軟質金属であることを特徴とする請求項9に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  14. 前記金属部材が銅または銅合金を含むことを特徴とする請求項13に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  15. 前記配線板形成工程が、
    絶縁層の一面に配線層が設けられた2枚の片面配線板を形成する片面配線板形成工程と、
    前記配線層が外側となるように前記2枚の片面配線板を接着層を介して貼り合わせる貼り合わせ工程と、
    を含むことを特徴とする請求項9に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  16. 第1の絶縁層の一面に第1の配線層を形成して第1の片面配線板を形成し、第2の絶縁層の一面に第2の配線層を形成して第2の片面配線板を形成する片面配線板形成工程と、
    前記第1の配線層と第2の配線層とを接続するための貫通孔を前記第1の片面配線板にその厚み方向に形成する貫通孔形成工程と、
    前記第1の絶縁層と前記第2の配線層とを対向させた状態で接着層を介して前記第1の片面配線板と第2の片面配線板とを貼り合わせて前記貫通孔と前記第2の配線層とによりブラインドバイアホールを形成する貼り合わせ工程と、
    前記ブラインドバイアホールに半田材料からなる略球状半田部材または半田粒子を充填した後に、半田材料よりも熱膨張率の小さい金属材料からなる略球状導電体を前記ブラインドバイアホールに圧入して前記略球状半田部材または半田粒子と接合される金属部材を形成し、前記絶縁層の表裏面に設けられた配線層を前記略球状半田部材または半田粒子と前記金属部材との接合体により導通させる導通工程と、
    を含むことを特徴とする多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  17. 前記金属材料が軟質金属であることを特徴とする請求項16に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  18. 前記金属部材が銅または銅合金を含むことを特徴とする請求項17に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
  19. 前記略球状導電体の表面に半田材料が被覆されていることを特徴とする請求項16に記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
JP2004305493A 2004-10-20 2004-10-20 フレキシブルプリント配線板の製造方法 Expired - Fee Related JP4389750B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004305493A JP4389750B2 (ja) 2004-10-20 2004-10-20 フレキシブルプリント配線板の製造方法
US11/252,540 US7263769B2 (en) 2004-10-20 2005-10-19 Multi-layered flexible print circuit board and manufacturing method thereof
US11/622,950 US7543376B2 (en) 2004-10-20 2007-01-12 Manufacturing method of flexible printed wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004305493A JP4389750B2 (ja) 2004-10-20 2004-10-20 フレキシブルプリント配線板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006120769A true JP2006120769A (ja) 2006-05-11
JP4389750B2 JP4389750B2 (ja) 2009-12-24

Family

ID=36538383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004305493A Expired - Fee Related JP4389750B2 (ja) 2004-10-20 2004-10-20 フレキシブルプリント配線板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4389750B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008034442A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Fujikura Ltd プリント回路基板における導電性ボールの挿入方法及びその装置
JP2014069431A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Brother Ind Ltd 液体吐出装置、基板の接続構造、及び、液体吐出装置の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008034442A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Fujikura Ltd プリント回路基板における導電性ボールの挿入方法及びその装置
JP2014069431A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Brother Ind Ltd 液体吐出装置、基板の接続構造、及び、液体吐出装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4389750B2 (ja) 2009-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7263769B2 (en) Multi-layered flexible print circuit board and manufacturing method thereof
US7543376B2 (en) Manufacturing method of flexible printed wiring board
US6812412B2 (en) Multi-layer wiring board and method of producing same
TW201101955A (en) Multilayer printed wiring board
US7968803B2 (en) Wiring substrate, wiring material, copper-clad laminate, and method of manufacturing the wiring substrate
JP4201436B2 (ja) 多層配線基板の製造方法
US7367116B2 (en) Multi-layer printed circuit board, and method for fabricating the same
JP5194505B2 (ja) キャビティ付きプリント配線基板とその製造方法
JP2002217510A (ja) 基板の接続構造とその製造方法
JP2009111331A (ja) 印刷回路基板及びその製造方法
JP2013073989A (ja) 表面実装型受動素子部品、部品キャリアテープ、部品内蔵配線板
JP4389756B2 (ja) 多層フレキシブルプリント配線板の製造方法
JP4396493B2 (ja) 配線基板の製造方法
JP2005038918A (ja) 多層フレキシブルプリント配線板及びその製造方法
JP4389750B2 (ja) フレキシブルプリント配線板の製造方法
CN201336772Y (zh) 多层布线板
JP4389751B2 (ja) フレキシブルプリント配線板の製造方法
JP2007242872A (ja) 多層プリント配線板およびその製造方法
JP2004327482A (ja) 多層配線板、多層基板用基材およびその製造方法
JP4389769B2 (ja) フレキシブルプリント配線板の製造方法
JP2007189125A (ja) 両面フレキシブルプリント配線板、多層フレキシブルプリント配線板及びそれらの製造方法
JP2005136034A (ja) 多層フレキシブルプリント配線板及びその製造方法
JP2008160150A (ja) 基板の製造方法
JP5516069B2 (ja) 部品内蔵配線板、部品内蔵配線板の製造方法
JP2010123799A (ja) 回路基板および多層回路基板

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20071018

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

RD01 Notification of change of attorney

Effective date: 20071113

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20090630

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090820

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20090915

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20090928

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees