JP2006111702A - 塗布液の生成方法、レンズの製造方法および塗布液 - Google Patents
塗布液の生成方法、レンズの製造方法および塗布液 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006111702A JP2006111702A JP2004299635A JP2004299635A JP2006111702A JP 2006111702 A JP2006111702 A JP 2006111702A JP 2004299635 A JP2004299635 A JP 2004299635A JP 2004299635 A JP2004299635 A JP 2004299635A JP 2006111702 A JP2006111702 A JP 2006111702A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- hard coat
- coat layer
- coating liquid
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 レンズ基材の上にハードコート層を塗布した後に、有機系の反射防止膜を湿式で成膜したレンズを製造する際に、ハードコート層を塗布するために用いられる塗布液を金属酸化物微粒子およびシラン化合物を含む第1の成分に、シラン化合物の加水分解基数の1.5から4.5倍の分子数の水を含む第2の成分を加えて調合する。この範囲の水を過剰に加えて調合された塗布液によるハードコート層に、湿式法により有機系の反射防止膜を重ねて成膜することができ、十分な耐擦傷性を備えたレンズを製造できる。
【選択図】 図1
Description
(式中、nは0または1である。)
ここで、R1は、重合可能な反応基または加水分解可能な官能基をもつ有機基であり、重合可能な反応基の具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基等が挙げられ、加水分解可能な官能基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
(ハードコート層用の塗布液の調合)
塗布液HC1を調合した。先ず、プロピレングリコールメチルエーテル68部、ルチル型酸化チタン複合ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z)625部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン141部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)25部を第1の成分として混合した。
この塗布液HC1をディッピング方式(引き上げ速度35cm毎分)でレンズ基材に塗布した。レンズ基材としては、セイコーエプソン(株)製、セイコースーパーソブリン用レンズ生地(以下SSVと略す。)を用いた。以下の実施例および比較例においても同様である。塗布後、80℃で30分間風乾した後、120℃で90分焼成を行い2.3μm厚のハードコート層が形成されたレンズを得た。
次に、反射防止層用の塗布液(低屈液)AR1を調製した。先ず、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン14部、テトラメトキシシラン15部を混合したものに0.1N塩酸水溶液13部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌後一昼夜熟成させた。この混合液にプロピレングリコールメチルエーテル878部、中空シリカゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オスカル特殊品)80部、過塩素酸マグネシウム0.04部、シリコーン系界面活性剤(日本ユニカー(株)製、商品名L−7001)0.3部を添加して、反射防止層用の塗布液AR1を得た。
この塗布液AR1により反射防止層を形成する前に、レンズ表面(ハードコート層の表面)をプラズマ処理し親水化した。プラズマ処理は、レンズの凸凹面が横になるようカゴにセットし、60秒間行なった。条件は以下の通りである。
真空度:90〜110×10−3Torr
電流:70±10mA
電圧:0.6±0.1KV
この後、塗布液AR1を湿式(ディッピング方式)で、引き上げ速度15cm毎分で、ハードコート層付きのレンズに塗布した。塗布後80℃で30分間風乾した後、120℃で60分焼成を行い、約100nm厚の反射防止層(低屈膜)がハードコート層に重ねて成膜されたレンズを得た。
さらに、この反射防止層付のレンズの表面をフッ素系シラン化合物で撥水処理し、撥水層付きレンズを得た。
さらに塗布液HC1を調合後、5℃で1ヶ月保管し、その状態の塗布液HC1を用い、上記と同じ工程でハードコート層および有機系の反射防止膜を備えたレンズを製造した。
(ハードコート層用の塗布液の調合)
塗布液HC2を調合した。先ず、プロピレングリコールメチルエーテル78部、ルチル型酸化チタン複合ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z)688部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン124部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)25部を混合した。この第1の成分を含む混合液に0.1N塩酸水溶液34部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌後、蒸留水を50部添加した。
この塗布液HC2をディッピング方式(引き上げ速度35cm毎分)でレンズ基材に塗布した。塗布後80℃で30分間風乾した後、120℃で90分焼成を行い2.3μm厚のハードコート層を備えたレンズを得た。
次に、このハードコート層付のレンズを、実施例1と同様にプラズマ処理し、実施例1と同様の湿式法により有機系の塗布液AR1を塗布し、反射防止層付のレンズを得た。
さらに、この反射防止層付のレンズの表面をフッ素系シラン化合物で撥水処理し、撥水層付のレンズを得た。
さらに塗布液HC2を調合後、5℃で1ヶ月保管し、その状態の塗布液HC2を用い、上記と同じ工程でハードコート層および有機系の反射防止膜を備えたレンズを製造した。
(ハードコート層用の塗布液の調合)
塗布液HC3を調合した。先ず、プロピレングリコールメチルエーテル137部、ルチル型酸化チタン複合ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z)625部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン106部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)50部を混合した。
この塗布液HC3をディッピング方式(引き上げ速度35cm毎分)でレンズ基材に塗布した。塗布後は、80℃で30分間風乾した後、120℃で90分焼成を行い2.3μm厚のハードコート層付きのレンズを得た。
このハードコート層付のレンズを、実施例1と同様にプラズマ処理し、実施例1と同様の湿式法に有機系の塗布液AR1を塗布し、反射防止層付きのレンズを得た。
さらに、この反射防止層付のレンズの表面をフッ素系シラン化合物で撥水処理し、撥水層付のレンズを得た。
さらに塗布液HC3を調合後、5℃で1ヶ月保管し、その状態の塗布液HC3を用い、上記と同じ工程でハードコート層および有機系の反射防止膜を備えたレンズを製造した。
(ハードコート層用の塗布液の調合)
塗布液HC4を調合した。先ず、プロピレングリコールメチルエーテル168部、ルチル型酸化チタン複合ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z)625部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン141部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)25部を混合して第1の成分を備えた混合液とした。この混合液に0.1N塩酸水溶液39部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌した。
この塗布液HC4を用い、ディッピング方式(引き上げ速度35cm毎分)でレンズ基材に塗布した。塗布後80℃で30分間風乾した後、120℃で90分焼成を行い2.3μm厚のハードコート層付きレンズを得た。
ハードコート層付のレンズを、実施例1と同様にプラズマ処理し、実施例1と同じ方法により有機系の塗布液AR1を塗布し、反射防止膜付きのレンズを得た。
さらに、この反射防止層付のレンズをフッ素系シラン化合物で撥水処理し、撥水層付のレンズを得た。
さらに塗布液HC4を調合後、5℃で1ヶ月保管し、その状態の塗布液HC4を用い、上記と同じ工程でハードコート層および有機系の反射防止膜を備えたレンズを製造した。
(ハードコート層用の塗布液の調合)
塗布液HC5を調合した。先ず、プロピレングリコールメチルエーテル38部、ルチル型酸化チタン複合ゾル(触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z)625部を混合した後、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン141部、グリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセ化成工業(株)製、商品名デナコールEX313)25部を混合した。この第1の成分を含む混合液に、0.1N塩酸水溶液39部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌後、蒸留水を130部添加した。
この塗布液HC5をディッピング方式(引き上げ速度35cm毎分)でレンズ基材に塗布した。しかしながら、塗布直後にはじきが発生し、均一な塗布が出来なかった。したがって、均一なハードコート層を備えたレンズを得ることができず、このハードコート層に重ねて湿式法により有機系の反射防止膜を成膜することができなかった。
さらに塗布液HC5を調合後、5℃で1ヶ月保管し、その状態の塗布液HC5を用い、上記と同じ工程でハードコート層の成膜を試みた。しかしながら、同様に塗布直後にはじきが発生し、均一な塗布が出来なかった。
実施例1〜3において製造されたそれぞれのレンズと、比較例1において製造されたレンズについて、耐擦傷性の評価をした。それらの結果を図2に示してある。
Claims (8)
- レンズ基材の上に、直に、またはプライマー層を介してハードコート層を塗布した後に、有機系の反射防止膜が湿式で成膜されたレンズを製造する際に、前記ハードコート層を塗布するために用いられる塗布液を、金属酸化物微粒子およびシラン化合物を含む第1の成分に、前記シラン化合物の加水分解基数の1.5から4.5倍の分子数の水を含む第2の成分を加えて調合する調合工程を有する、塗布液の生成方法。
- 請求項1において、前記調合工程では、前記第2の成分を、多段階で加える、塗布液の生成方法。
- 請求項1または2のいずれかに記載の塗布液の生成方法において、前記第2の成分は、蒸留水または酸性水溶液を含む、塗布液の生成方法。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布液の生成方法において、前記第1の成分は、多官能エポキシ化合物を含む、塗布液の生成方法。
- 請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布液の生成方法において、前記金属酸化物微粒子は、ルチル型の結晶構造を備えた酸化チタンである、塗布液の生成方法。
- 請求項4において、前記第1の成分は、40重量%から70重量%の前記金属酸化物微粒子と、10重量%から50重量%の前記シラン化合物と、5重量%から40重量%の前記多官能エポキシ化合物とを含む、塗布液の生成方法。
- 請求項1ないし6のいずれかに記載の塗布液の生成方法により生成された塗布液を用いて、レンズ基材の上に、直に、またはプライマー層を介してハードコート層を生成する工程と、
前記ハードコート層に重ねて、有機系の反射防止膜を湿式で成膜する工程とを有する、レンズの製造方法。 - レンズ基材の上に、直に、またはプライマー層を介してハードコート層を塗布した後に、有機系の反射防止膜が湿式で成膜されたレンズを製造する際に、前記ハードコート層を塗布するために用いられる塗布液であって、
金属酸化物微粒子およびシラン化合物を含む第1の成分と、前記シラン化合物の加水分解基数の1.5から4.5倍の分子数の水を含む第2の成分とを含む、塗布液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004299635A JP2006111702A (ja) | 2004-10-14 | 2004-10-14 | 塗布液の生成方法、レンズの製造方法および塗布液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004299635A JP2006111702A (ja) | 2004-10-14 | 2004-10-14 | 塗布液の生成方法、レンズの製造方法および塗布液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006111702A true JP2006111702A (ja) | 2006-04-27 |
Family
ID=36380494
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004299635A Pending JP2006111702A (ja) | 2004-10-14 | 2004-10-14 | 塗布液の生成方法、レンズの製造方法および塗布液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006111702A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010082566A1 (ja) | 2009-01-13 | 2010-07-22 | 株式会社トクヤマ | コーティング組成物、該組成物の製造方法、およびハードコート層を有する積層体 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5737301A (en) * | 1980-08-15 | 1982-03-01 | Seiko Epson Corp | Lens made of synthetic resin |
JPS61236501A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Seiko Epson Corp | 透明複合体 |
JPH07149520A (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-13 | Hoya Corp | コーティング組成物 |
JPH11130982A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-05-18 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物及びその製造方法並びに積層体 |
JPH11310755A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-09 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物及び積層体 |
WO2000078879A1 (fr) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Nippon Arc Co., Ltd. | Article enrobe |
JP2002129102A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-05-09 | Nikon-Essilor Co Ltd | コーティング用組成物及びプラスチック成形物 |
JP2003126770A (ja) * | 2001-04-02 | 2003-05-07 | Seiko Epson Corp | ハードコート被膜の形成方法及びハードコーティング用組成物 |
JP2003292896A (ja) * | 2002-04-04 | 2003-10-15 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物および積層体 |
JP2003292882A (ja) * | 2002-04-05 | 2003-10-15 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物および積層体 |
-
2004
- 2004-10-14 JP JP2004299635A patent/JP2006111702A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5737301A (en) * | 1980-08-15 | 1982-03-01 | Seiko Epson Corp | Lens made of synthetic resin |
JPS61236501A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Seiko Epson Corp | 透明複合体 |
JPH07149520A (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-13 | Hoya Corp | コーティング組成物 |
JPH11130982A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-05-18 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物及びその製造方法並びに積層体 |
JPH11310755A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-09 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物及び積層体 |
WO2000078879A1 (fr) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Nippon Arc Co., Ltd. | Article enrobe |
JP2002129102A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-05-09 | Nikon-Essilor Co Ltd | コーティング用組成物及びプラスチック成形物 |
JP2003126770A (ja) * | 2001-04-02 | 2003-05-07 | Seiko Epson Corp | ハードコート被膜の形成方法及びハードコーティング用組成物 |
JP2003292896A (ja) * | 2002-04-04 | 2003-10-15 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物および積層体 |
JP2003292882A (ja) * | 2002-04-05 | 2003-10-15 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物および積層体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010082566A1 (ja) | 2009-01-13 | 2010-07-22 | 株式会社トクヤマ | コーティング組成物、該組成物の製造方法、およびハードコート層を有する積層体 |
KR20110104947A (ko) | 2009-01-13 | 2011-09-23 | 가부시끼가이샤 도꾸야마 | 코팅 조성물, 이 조성물의 제조 방법 및 하드 코팅층을 갖는 적층체 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100953230B1 (ko) | 플라스틱 렌즈 및 플라스틱 렌즈의 제조 방법 | |
KR100792301B1 (ko) | 플라스틱 렌즈 및 플라스틱 렌즈의 제조 방법 | |
JP4918101B2 (ja) | 二層構造の耐スクラッチおよび耐摩耗被膜を含む光学物品、およびこれを生産する方法 | |
JP5566306B2 (ja) | コーティング組成物、該組成物の製造方法、およびハードコート層を有する積層体 | |
JP4063292B2 (ja) | プラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法 | |
JP3840664B2 (ja) | コーティング用組成物 | |
WO2010134464A1 (ja) | コーティング組成物および光学物品 | |
JP2012234218A (ja) | ハードコート組成物及びプラスチック光学製品 | |
JP3938636B2 (ja) | 高屈折率プラスチックレンズ及びその製造方法 | |
WO2016088901A1 (ja) | コーティング組成物、及び該コーティング組成物よりなるコート層を有する光学物品 | |
JP2008081710A (ja) | ハードコート組成物及びプラスチック光学製品 | |
JP3837865B2 (ja) | コーティング用組成物及び光学物品 | |
JPH08311408A (ja) | コーティング用組成物およびその製造方法および積層体 | |
JP3812685B2 (ja) | コーティング用組成物および積層体 | |
JP2008139733A (ja) | 製品とその製造方法 | |
JP2012173411A (ja) | 光学物品 | |
JP2006171163A (ja) | レンズの製造方法 | |
TW201940603A (zh) | 塗布組成物及具有硬塗布膜的光學物品 | |
JP4765674B2 (ja) | プライマー組成物、およびプラスチックレンズ | |
JP2005274938A (ja) | プラスチックレンズ | |
JPH08311240A (ja) | コーティング用組成物および積層体 | |
JP2006111702A (ja) | 塗布液の生成方法、レンズの製造方法および塗布液 | |
JP2011081263A (ja) | プラスチック光学レンズ及び眼鏡プラスチックレンズ | |
JP4586391B2 (ja) | コーティング用組成物およびプラスチックレンズ | |
JP2008310005A (ja) | 光学物品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070404 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070608 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100727 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100917 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101102 |