JP2006104087A - 層状化合物、その製造方法及び硬質膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(1)ハフニウム及び/又はジルコニウムとカルボニル基とを含有することを特徴とする層状化合物。(2)水酸化ハフニウム及び/又は水酸化ジルコニウムと水とカルボン酸とを混合し、加熱することを特徴とする前記(1)の層状化合物の製造方法。(3)前記(1)の層状化合物層状化合物を含有する塗布層に紫外線を照射することによって形成されて成ることを特徴とする硬質膜。
【選択図】図1
Description
「Zrを主とする金属のイオンと、Oを主とする陰イオンとから成る層状構造の化合物で、ZrとOの相互位置がZrO2結晶と類似してその粉末X線回折図形の主要ピークのいくつかが正方又は立方型ZrO2とほぼ同じ位置にある結晶で、層面に平行方向に広がり、厚さが200Å以下であることを特徴とする薄板状含水ジルコニア微結晶。」
及び
「可溶性ジルコニウム塩をZrとして0.1〜1.0g・atom/l、SO4 2−イオンを0.2〜2.0g・atom/l含有するpH2以下の酸性水溶液を100〜300℃熱処理して先ず薄板状の含SO4 2−ジルコニア微結晶を生成させ、この微結晶を塩基性水溶液中で熟成してSO4 2−イオンを置換除去することを特徴とする薄板状含水ジルコニア微結晶の製造方法。」
である。
「本発明は・・・昭和60年特許願第147238号(この特許出願は特開昭62−7629号公報として公開された。その公開公報は上記特許文献2である。)の追加の発明であり、発明の目的、用途はほぼ同じで、加熱により一層優れた薄板状ジルコニア微結晶に変化する薄板状含水ジルコニア微結晶及び製造方法に関するものでる。」
との記載がある(特許文献1の第1頁左欄第20行〜第1頁右欄第4行参照)。
「本発明の薄板状含水ジルコニア微結晶は可溶性ジルコニウム塩をZrとして0.1〜1.0g・atom/l、SO4 2−イオンを0.2〜2.0g・atom/l含有するPH2以下の酸性水溶液を100〜300℃熱処理して先ず薄板状の含SO4 2−ジルコニア微結晶を生成させ、この微結晶を塩基性水溶液中で熟成してSO4 2−イオンを置換除去することにより得ることができる。」
との記載がある(特許文献1の第2頁左上欄第9行〜第15行参照)。
「 1)Zrを主とする金属イオンと、その原子数のほぼ2/5のSO4 2−イオンを含有する層状構造の化合物で、層面に垂直に六方もしくは三方対称の結晶軸を持ち、ZrとOの相互位置がZrO2の結晶と類似し、その粉末X線回折図形の主要ピークのいくつかが正方もしくは立方晶ZrO2とほぼ同じ位置になる結晶であり、層面に平行に広がり、厚さが500Å以下であることを特徴とする薄板状ジルコニア系微結晶。
である。
(1)ハフニウム及び/又はジルコニウムとカルボニル基とを含有することを特徴とする層状化合物
である。
(2)水酸化ハフニウム及び/又は水酸化ジルコニウムと水とカルボン酸とを混合し、加熱することを特徴とする前記(1)の層状化合物の製造方法
である。
(3)前記(1)の層状化合物を含有する塗布層に紫外線を照射することによって形成されて成ることを特徴とする硬質膜
である。
前記塗布層が、シランカップリング剤を含有する硬質膜
及び
前記塗布層が、有機物を含有する硬質膜
を挙げることができる。
塩化ハフニウム(HfCl4)16.3gを窒素雰囲気下、水96g中に溶解した。得られた溶液に、pH9.0になるまで29%アンモニア水27mlを添加し、生成した水酸化ハフニウムの沈殿物をろ過して、ろ液がpH7以下になるまで、沈殿物を純水により洗浄した。洗浄を終えた沈殿物(洗浄後沈殿物と称することがある。)に純水41gとギ酸158gとを添加し、80〜90℃の温度範囲内に成るように加熱温度を調節しながら5時間、撹拌した後、室温まで冷却した。生成した白色沈殿物を吸引ろ過し、風乾して、ハフニウム含有の層状化合物(Hf−1)を得た。この層状化合物(Hf−1)の電子顕微鏡写真を図1に、この層状化合物(Hf−1)のX線回折チャート図を図2に示した。
ギ酸の使用量を104gとした以外は、実施例1と同様して、ハフニウム含有の層状化合物(Hf−2)を得た。
ギ酸の代わりに酢酸168gを用い、80〜90℃の温度範囲内に成るように加熱温度を調節しながら5時間加熱する代わりに3時間加熱したこと以外は、実施例1と同様して、ハフニウム含有の層状化合物(Hf−3)を得た。
層状化合物(Hf−3) 4.0gを純水とエタノールとの混合溶媒(純水:エタノール=1:1容量比)23gに加えて、40℃で30分間、撹拌したこと、5分間、紫外線照射したこと以外は、実施例3と同様にして、ハフニア含有の硬質膜を形成した。
実施例1で得られた水酸化ハフニウムの洗浄後沈殿物に純水300gを加えたこと、ギ酸158gに代えてシュウ酸202.5gを用いたこと、80〜90℃の温度範囲になるように加熱温度を調節しながら4時間加熱撹拌した以外は、実施例1と同様して、ハフニウム含有の層状化合物(Hf−4)を得た。
塩化酸化ジルコニウム(ZrCl2O・8H2O)16.4gを水120g中に溶解した。得られた溶液に、29%アンモニア水25mlを添加して溶液のpHを9.0にし、生成した水酸化ジルコニウムの沈殿物をろ過して、ろ液がpH7以下になるまで、沈殿物を純水により洗浄した。洗浄を終えた沈殿物(洗浄沈殿物と称することがある。)に純水50gとギ酸143gとを添加し、80〜90℃の温度範囲になるように温度調節しながら2時間加熱撹拌した後、室温まで冷却した。生成した白色沈殿物を吸引ろ過し、風乾して、ジルコニウム含有の層状化合物(Zr−1)を得た。
純水の使用量を60gとしたこと、ギ酸143gに代えて酢酸210gを用いたこと以外は、実施例6と同様して、ジルコニウム含有の層状化合物(Zr−2)を得た。
実施例1において調製された層状化合物(Hf−1)の水溶液に、5%アンモニア水を添加して、pH7とし、シランカップリング剤〔(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン〕1.33gとアクリル酸3.3gとを添加し、撹拌して、混合液を調製した。一方、ステンレス基板(SUS 304)を脱脂処理した後、風乾した。このステンレス基板上に、スプレー法により前記混合物を塗布した。この塗布試料を光源の9cm下に置き、1kw高圧水銀灯(H1000L、東芝ライテック社製)により10分間、紫外線照射して、ステンレス基板上に硬質膜を形成した。
実施例6において調製された層状化合物(Zr−1)の水溶液に、5%アンモニア水を添加して、pH7とし、シランカップリング剤〔(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン〕1.6gとアクリル酸4.2gとを添加し、撹拌して、混合液を調製した。この混合液を用い、15分間、紫外線照射した以外は、実施例6と同様にして、硬質膜(ジルコニア膜)を形成した。
Claims (5)
- ハフニウム及び/又はジルコニウムとカルボニル基とを含有することを特徴とする層状化合物。
- 水酸化ハフニウム及び/又は水酸化ジルコニウムと水とカルボン酸とを混合し、加熱することを特徴とする請求項1に記載の層状化合物の製造方法。
- 請求項1に記載の層状化合物を含有する塗布層に紫外線を照射することによって形成されて成ることを特徴とする硬質膜。
- 前記塗布層が、シランカップリング剤を含有する請求項3に記載の硬質膜。
- 前記塗布層が、有機物を含有する請求項3又は4に記載の硬質膜。
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