JP2006096602A - エピタキシャル成長用基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 より簡便な方法により窒化物半導体単結晶の結晶度を向上させること。
【解決手段】酸化アルミニウム1に酸化ガリウム2を混合する工程と、該混合物を焼成して酸化アルミニウムと酸化ガリウムとの固溶体3を形成する工程と、該固溶体3を加熱溶融して融液4とする工程と、該融液4を徐冷してAlxGa2−xO3(0<x<2)単結晶5を形成する工程とを含むことを特徴とする、窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板6の製造方法である。
【選択図】 図2
Description
本発明は、窒化ガリウムをはじめとした、窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長に用いる基板、及びその製造方法に関する。
今日、窒化ガリウムをはじめとした窒化物半導体単結晶は、青色発光ダイオード(Blue LED)等として広く用いられている。窒化物半導体単結晶の成長方法としては、MOCVD法・HVPE法などの気相成長法が挙げられる。気相成長を行うための基板としてはSiC基板、GaN基板等の他、Al2O3基板(以下、サファイヤ基板という)が用いられている。
このうち、サファイヤ基板を用いた窒化物半導体単結晶の気相成長が最も容易であり、広く量産化されている。しかしながら、サファイヤ基板と窒化物半導体単結晶との格子定数の差が約13%と大きいため、成長した窒化物半導体単結晶が格子欠陥を生じやすい。
そのため、例えば図1に示すように、ステップ状にオフアングルしたサファイヤ基板11の主面上に、素子構造となる窒化物半導体単結晶12の層を設けることにより、窒化物半導体単結晶12の結晶性を向上させる発明が、従来知られている(特許文献1)。
また、例えば図2に示すように、サファイヤ基板の主面上にリソグラフィ技術によって複数の溝を周期的なストライプ状に形成し、該サファイヤ基板の主面上に窒化物半導体単結晶の層を設けることにより、窒化物半導体単結晶の結晶性を向上させる発明が、従来知られている(特許文献2)。
しかしながら、前記特許文献1に示すサファイヤ基板上にステップを形成する方法では、基板主面の面方位、具体的にはc面からのオフアングルは、厳密に正確である必要があった。また、熱処理によって結晶成長の核となる均一なステップ構造を得るためには、基板の平坦度もRa=0.1nm以下と、原子レベルにおいて平坦であることが求められた。このことは、サファイヤ基板の面方位の調整、およびサファイヤ基板の研磨の各工程において、多大な労力を要するという問題点となった。
また、特許文献2に示す、単結晶基板の主面上にリソグラフィ技術によって溝を形成する方法では、リソグラフィー処理に先立ってサファイヤ基板上へのSiO2等からなるレジスト層の形成・除去を行わなくてはならず、サファイヤ基板への溝形成の工程が煩雑になるという問題点があった。
その一方で、特許文献2に示す方法は、レジスト層の除去時にレジストが残留してサファイヤ基板を汚染し、そのレジストが窒化物半導体単結晶の成長に悪影響を及ぼすことで、青色発光ダイオード素子の歩留りを低下させるという問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、サファイヤ単結晶と窒化物半導体単結晶の格子定数の差を緩和させ、より簡便な方法により窒化物半導体単結晶の結晶度を向上させることである。
請求項1記載の発明は、酸化アルミニウム(Al2O3)に酸化ガリウム(Ga2O3)を混合する工程と、該混合物を焼成して酸化アルミニウムと酸化ガリウムとの固溶体を形成する工程と、該固溶体を加熱溶融して融液とする工程と、該融液を徐冷してAlxGa2−xO3(0<x<2)単結晶を形成する工程とを含むことを特徴とする、窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板の製造方法である。
請求項2記載の発明は、請求項1に記載の発明の構成に加えて、該混合物における酸化ガリウムの含有率が、モル分率で0.1〜10%であることを特徴とする、窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板の製造方法である。
請求項3記載の発明は、請求項1及び2に記載の発明の構成に加えて、該AlxGa2−xO3単結晶を形成する工程がEFG(Edge−defined Film−fed Growth)法であることを特徴とする、窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板の製造方法である。
請求項4記載の発明は、サファイヤ単結晶基板に含まれるアルミニウム原子の一部がガリウム原子に置換し、かつ該ガリウム原子が該サファイヤ単結晶基板中に均一に存在していることを特徴とする、窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板である。
請求項5記載の発明は、請求項4に記載の発明の構成に加えて、該アルミニウム原子のうち0.1〜10%が該ガリウム原子に置換していることを特徴とする、窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板である。
本発明のエピタキシャル成長用基板の製造方法によれば、結晶成長の段階においてサファイヤ単結晶に一定割合のガリウム原子を導入することにより、結晶性の高い窒化物半導体単結晶を成長させることが出来るという効果を奏する。
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
本実施形態は、例えば図2に示すように、酸化アルミニウム(Al2O3)及び酸化ガリウム(Ga2O3)を用いた、エピタキシャル成長用基板の製造方法である。
本実施形態は、例えば図2に示すように、酸化アルミニウム(Al2O3)及び酸化ガリウム(Ga2O3)を用いた、エピタキシャル成長用基板の製造方法である。
第1の工程は、サファイヤの原料である酸化アルミニウム1と、酸化ガリウム2とを混合する工程である(図2(a))。酸化アルミニウム1は融点が2015℃あり、溶融後にこれらを混合することは困難であるため、溶融前にこれらを混合する必要がある。酸化アルミニウム1には何種類かの変態が知られているが、本実施形態ではα−アルミナの使用が最も好ましい。また、本工程で用いる酸化アルミニウム1および酸化ガリウム2は、これらを効率的に均等に混合する観点から、ともに粉末であることが好ましい。混合物全体における酸化ガリウム2の混合比は、モル分率で0.1〜10%であることが好ましい。なぜならば、0.1%以下だと窒化物半導体単結晶の成長に対する改善効果が殆ど見られなくなり、一方で10%を越えると均一な単結晶を形成することが困難となるからである。
第2の工程は、酸化アルミニウム1と酸化ガリウム2の混合物を焼成し、固溶体3を形成する工程である(図2(b))。第1の工程で混合した酸化物は、溶融を行う前に予め固溶体を形成しておくことで、第3の工程で溶融し結晶化を行う際、より均質なAlxGa2−xO3単結晶5を作ることが出来る。本工程における焼成は不活性雰囲気下で行い、焼成温度1600℃〜1700℃で5時間〜6時間程度焼成を行うことで、固溶体3を形成することが出来る。
第3の工程は、焼成によって形成した固溶体3を溶融し(図2(c))、その融液4を徐冷して結晶化させ、AlxGa2−xO3単結晶5を形成する工程である(図2(d))。固溶体3の加熱温度は、固溶体3の融点以上の温度が必要であるが、酸化ガリウム2が混合することで融液4の融点が低下するため、通常のサファイヤの融点より低い温度で固溶体4は溶融する。そして融液4からAlxGa2−xO3単結晶5を形成する方法としては、公知のサファイヤ結晶の成長方法を用いることが可能であるが、例えばEFG(Edge−defined Film−fed Growth)法を用いれば、板状のAlxGa2−xO3単結晶5を容易に得ることが出来るため好ましい。
図3にEFG法による結晶成長の概略図を示す。ルツボ10には融液4が入っており、そこに、スリット(キャピラリ)7を設けたダイ(型)8が入っている。融液4は、スリット7を毛細管現象により上昇する。その上昇した融液4に種結晶9を接触させ、その種結晶9を引上げていくことで、種結晶9の下に板状のAlxGa2−xO3単結晶5を形成させることが出来る。
こうして得られたAlxGa2−xO3単結晶5は、切断等により形状を整え、主面に研磨を行って平坦にすることで、エピタキシャル成長用基板6となる(図2(e))。このエピタキシャル成長用基板6は、公知のエピタキシャル成長方法を用いて窒化物半導体単結晶を成長させることができる。エピタキシャル成長方法としては、例えばMOCVD法、HVPE法などを用いることが好ましい。
1 酸化アルミニウム
2 酸化ガリウム
3 固溶体
4 融液
5 AlxGa2−xO3単結晶
6 エピタキシャル成長用基板
7 スリット
8 ダイ
9 種結晶
10 ルツボ
11 ステップ状にオフアングルしたサファイヤ基板
12 窒化物半導体単結晶
2 酸化ガリウム
3 固溶体
4 融液
5 AlxGa2−xO3単結晶
6 エピタキシャル成長用基板
7 スリット
8 ダイ
9 種結晶
10 ルツボ
11 ステップ状にオフアングルしたサファイヤ基板
12 窒化物半導体単結晶
Claims (5)
- 酸化アルミニウム(Al2O3)に酸化ガリウム(Ga2O3)を混合する工程と、
該混合物を焼成して酸化アルミニウムと酸化ガリウムとの固溶体を形成する工程と、
該固溶体を加熱溶融して融液とする工程と、
該融液を徐冷してAlxGa2−xO3(0<x<2)単結晶を形成する工程とを含むことを特徴とする、
窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板の製造方法。 - 該混合物における酸化ガリウムの含有率が、モル分率で0.1〜10%であることを特徴とする、請求項1に記載の窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板の製造方法。
- 該AlxGa2−xO3単結晶を形成する工程がEFG(Edge−defined Film−fed Growth)法であることを特徴とする、請求項1及び2に記載の窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板の製造方法。
- サファイヤ単結晶基板に含まれるアルミニウム原子の一部がガリウム原子に置換し、
かつ該ガリウム原子が該サファイヤ単結晶基板中に均一に存在していることを特徴とする、
窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板。 - 該アルミニウム原子のうち0.1〜10%が該ガリウム原子に置換していることを特徴とする、請求項4に記載の窒化物半導体単結晶のエピタキシャル成長用基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004283982A JP2006096602A (ja) | 2004-09-29 | 2004-09-29 | エピタキシャル成長用基板の製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015166996A1 (ja) * | 2014-05-02 | 2015-11-05 | 株式会社タムラ製作所 | 単結晶育成方法及び単結晶育成装置 |
-
2004
- 2004-09-29 JP JP2004283982A patent/JP2006096602A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
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WO2015166996A1 (ja) * | 2014-05-02 | 2015-11-05 | 株式会社タムラ製作所 | 単結晶育成方法及び単結晶育成装置 |
JP2015212212A (ja) * | 2014-05-02 | 2015-11-26 | 株式会社タムラ製作所 | 単結晶育成方法及び単結晶育成装置 |
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