JP2006086985A - Semiconductor device, image reading unit, and image forming apparatus - Google Patents

Semiconductor device, image reading unit, and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent deformation of a semiconductor device due to heat generation and to obtain higher optical performance in a semiconductor device where an optical function element formed of a semiconductor such as line CCD and LED array is packaged with a plastic mode or the like. <P>SOLUTION: The optical function element 1 of line CCD is bonded to a heat sink 2 and is then packaged with a structure body 3 formed of an insulator such as plastic mold or the like. A projection 2b extending in the longitudinal direction of the heat sink 2 is formed and thereby a secondary cross-sectional moment of the heat sink 2 is enlarged to intensify the strength for warpage in the longitudinal direction. Shape of projection 2b of the heat sink 2 is set to become higher at the center thereof than the end part in view of balancing the warp between the center and end part in the longitudinal direction. The heat sink of the waving shape (including projection and recess) is formed by forming holes to the heat sink and bending the metal plate in order to obtain a large heating radiating area. A flat plane for fixing is formed with the heat sink 2 itself by extending both ends of the heat sink 2 to the external side of the structure body 3 and thereby the relevant semiconductor device can be mounted to the other device. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、CCDやLEDアレイ等の光学機能素子を備えた半導体装置、並びに、該半導体装置を用いた画像読取ユニット、及び、複写機、ファクシミリ等の画像形成装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device provided with optical functional elements such as a CCD and an LED array, an image reading unit using the semiconductor device, and an image forming apparatus such as a copying machine and a facsimile.

従来、前記のような半導体装置として、例えば特開2000−223603号公報に開示されたものがある。この従来の半導体装置は半導体素子チップを搭載したものであり、この半導体装置を実装する際の位置決めを高精度に行うこと、また、実装基板に実装した状態でも高い放熱効果を得ることを目的としている。   Conventionally, as such a semiconductor device, for example, there is one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-223603. This conventional semiconductor device is equipped with a semiconductor element chip. For the purpose of performing positioning with high accuracy when mounting this semiconductor device and obtaining a high heat dissipation effect even when mounted on a mounting board. Yes.

そして、半導体素子チップを搭載しているリードフレームの搭載ランドの複数箇所をウインドフレームから露出しておき、実装時にその露出されている複数箇所を認識することで、セラミックよりも加工精度の高い金属等からなる搭載ランドを利用しての位置決めを可能としている。また、搭載ランドの裏面がベースフレームに設けた窓を通して露出されているので、その露出されている搭載ランドの裏面を認識することで、半導体装置の高さ方向の位置決めを高精度に行うようにしている。さらに、露出されている搭載ランドの裏面から、半導体素子チップで発生した熱を放熱し、放熱効果を高めるようにしている。
特開2000−223603号公報
Metals with higher processing accuracy than ceramics are identified by exposing multiple locations on the mounting lands of the lead frame on which the semiconductor element chip is mounted from the window frame, and recognizing the exposed multiple locations during mounting. Positioning is possible using a mounting land made up of and the like. In addition, since the back surface of the mounting land is exposed through a window provided in the base frame, the semiconductor device is positioned with high accuracy by recognizing the exposed back surface of the mounting land. ing. Further, the heat generated in the semiconductor element chip is radiated from the exposed back surface of the mounting land to enhance the heat radiation effect.
JP 2000-223603 A

前記特許文献1のものは半導体の放熱効果を上げるため、絶縁性のパッケージの裏面に穴をあけ、ランド面を剥き出しにして放熱効果を上げている。また、他の実用化されている方式としてはパッケージに放熱板を取付け、放熱効果を上げている物もある。しかし、この様なパッケージの表面の大部分は絶縁体であるが、ランド面は金属である。この2つの部材は線膨張係数が異なるため、半導体素子の発熱により反りが生じてしまう。   In Patent Document 1, in order to increase the heat dissipation effect of the semiconductor, a hole is formed in the back surface of the insulating package, and the land surface is exposed to increase the heat dissipation effect. As another practical method, a heat sink is attached to the package to increase the heat dissipation effect. However, most of the surface of such a package is an insulator, but the land surface is a metal. Since these two members have different linear expansion coefficients, warpage occurs due to heat generation of the semiconductor element.

ここで、半導体素子が光学的な機能を載せていない演算回路のみの回路であれば、反りが生じても、回路が壊されたりパッケージが破損しない限りは、すぐに大きな問題が生じることはない。ところが半導体素子が光学機能素子の場合には、パッケージに反りが発生した場合、素子にも反りが生じ、例え反り量が微細であっても光学的な特性に影響することがある。   Here, if the semiconductor element is a circuit of only an arithmetic circuit that does not have an optical function, even if warping occurs, no major problem will occur immediately unless the circuit is broken or the package is damaged. . However, when the semiconductor element is an optical functional element, if the package is warped, the element is also warped, and even if the amount of warping is fine, the optical characteristics may be affected.

例えば素子が600dpi用のカラーラインCCDであった場合、10μm程度の反りが生じただけでも、光学的な結像状態が崩れ、読み取り画像のMTF特性(ピントの合い具合)は悪くなり、狙いの光学特性を得られない場合がある。そのため、光学機能素子の場合、反りはできるだけ抑える必要がある。また、光学機能素子ではない場合も反りの繰り返しは、やがてはパッケージの破壊や接点の破壊を引き起こすため、できるだけ反りは少ないほうがよい。   For example, if the element is a color line CCD for 600 dpi, even if a warp of about 10 μm occurs, the optical image formation state is destroyed, and the MTF characteristic (focus condition) of the read image is deteriorated. Optical characteristics may not be obtained. Therefore, in the case of an optical functional element, it is necessary to suppress warping as much as possible. Further, even if it is not an optical functional element, repeated warping eventually causes destruction of the package and contact, so it is preferable that the warping is as small as possible.

しかし、前記従来技術に記載の方式ではランドが平面であるため、パッケージの大部分を占める絶縁体と、ランドの金属とが、半導体素子の発熱の影響を受け、線膨張係数の違いにより、たやすく反りを生じてしまい、このとき上記の問題が生じる。   However, in the method described in the prior art, since the land is flat, the insulator occupying most of the package and the metal of the land are affected by the heat generation of the semiconductor element, and due to the difference in the coefficient of linear expansion, Warp is easily generated, and the above problem occurs at this time.

また、反りを防ぐため、パッケージの大部分を占める絶縁体と、ランド(放熱板)の金属との線膨張係数を合わせる方法があるが、完全に一致させるのは困難である。また、その二つが一致しても半導体チップとランド(放熱板)の線膨張係数は一致させるのは困難である。また、昨今のコストダウンの要求から、半導体パッケージのプラスチックモールド化が進んでいるが、パッケージの大部分を占める絶縁体と、ランド(放熱板)と、半導体チップの線膨張係数を合わせ、反りを低減させるのは非常に困難である。   Further, in order to prevent warping, there is a method of matching the linear expansion coefficients of the insulator that occupies most of the package and the metal of the land (heat sink), but it is difficult to make them completely coincide. Even if the two match, it is difficult to match the linear expansion coefficients of the semiconductor chip and the land (heat sink). Also, plastic molding of semiconductor packages has been progressing due to the recent demand for cost reduction. However, the insulation, land (heat sink), and the linear expansion coefficient of the semiconductor chip, which occupy most of the package, are combined to warp. It is very difficult to reduce.

そこで、本発明は上記の問題を解決すべく、熱によるひずみで生じる応力の緩和をはかり、半導体の光学機能素子の反りを少なくして素子と放熱板との剥離を防止するとともに、光学特性を安定させることを課題とする。   Therefore, in order to solve the above problems, the present invention measures the stress generated by strain due to heat, reduces the warpage of the optical function element of the semiconductor, prevents the element and the heat sink from peeling, and improves the optical characteristics. The issue is to stabilize.

請求項1の発明は、光学機能素子が放熱板に固定されるとともに、該光学機能素子が絶縁体の構造体にパッケージされた半導体装置において、前記放熱板は、該放熱板の前記光学機能素子を固定した素子固定面に対し垂直で、長手方向に伸びる突起が形成されていることを特徴とする。   According to a first aspect of the present invention, in the semiconductor device in which the optical function element is fixed to the heat sink and the optical function element is packaged in an insulator structure, the heat sink is the optical function element of the heat sink. A protrusion extending in the longitudinal direction is formed perpendicular to the element fixing surface on which is fixed.

請求項2の発明は、請求項1に記載の半導体装置であって、前記突起の一部は大気に露出していることを特徴とする。   A second aspect of the present invention is the semiconductor device according to the first aspect, wherein a part of the protrusion is exposed to the atmosphere.

請求項3の発明は、請求項1または2に記載の半導体装置であって、前記放熱板の突起は、該突起の長手方向の中央部に行くにつれ、前記素子固定面からの高さが高くなることを特徴とする。   A third aspect of the present invention is the semiconductor device according to the first or second aspect, wherein the protrusion of the heat radiating plate increases in height from the element fixing surface as it goes to a central portion in the longitudinal direction of the protrusion. It is characterized by becoming.

請求項4の発明は、請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置であって、前記放熱板の素子固定面以外の面に、凹凸の突起または穴が設けられていることを特徴とする。   Invention of Claim 4 is a semiconductor device as described in any one of Claims 1-3, Comprising: The processus | protrusion or hole of an unevenness | corrugation is provided in surfaces other than the element fixing surface of the said heat sink. Features.

請求項5の発明は、請求項4に記載の半導体装置であって、前記放熱板は板金であり、曲げにより凹凸の突起を設けたことを特徴とする。   A fifth aspect of the present invention is the semiconductor device according to the fourth aspect, wherein the heat radiating plate is a sheet metal and is provided with uneven projections by bending.

請求項6の発明は、請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置であって、前記放熱板は押し出し材で構成されていることを特徴とする。   A sixth aspect of the present invention is the semiconductor device according to any one of the first to third aspects, wherein the heat radiating plate is made of an extruded material.

請求項7の発明は、請求項2〜6のいずれか一項にに記載の半導体装置であって、前記放熱板には当該半導体装置を固定するための固定部位があることを特徴とする。   A seventh aspect of the present invention is the semiconductor device according to any one of the second to sixth aspects, wherein the heat radiating plate includes a fixing portion for fixing the semiconductor device.

請求項8の発明は、請求項7に記載の半導体装置であって、前記固定部位は放熱板の素子固定面と同一平面であり、かつ、接着用平面を構成していることを特徴とする。   The invention according to claim 8 is the semiconductor device according to claim 7, wherein the fixing portion is flush with an element fixing surface of the heat radiating plate and constitutes a bonding plane. .

請求項9の発明は、請求項7に記載の半導体装置であって、前記固定部位は放熱板の素子固定面と同一平面であり、かつ、固定用平面と穴とを有することを特徴とする。   A ninth aspect of the present invention is the semiconductor device according to the seventh aspect, wherein the fixing portion is flush with an element fixing surface of the heat sink and has a fixing plane and a hole. .

請求項10の発明は、請求項1〜9のいずれか一項に記載の半導体装置であって、前記放熱板は導電性であり、電気的に接地されていることを特徴とする。   A tenth aspect of the invention is the semiconductor device according to any one of the first to ninth aspects, wherein the heat radiating plate is conductive and electrically grounded.

請求項11の発明は、請求項1〜10のいずれか一項に記載の半導体装置であって、前記放熱板は導電性であり、当該放熱板の大気に露出された面は電気的に絶縁されていることを特徴とする。   Invention of Claim 11 is a semiconductor device as described in any one of Claims 1-10, Comprising: The said heat sink is electroconductive, The surface exposed to the atmosphere of the said heat sink is electrically insulated. It is characterized by being.

請求項12の発明は、請求項1〜11のいずれか一項に記載の半導体装置であって、前記放熱板と当該半導体装置を固定する構造体は良伝熱体によって接続されていることを特徴とする。   Invention of Claim 12 is a semiconductor device as described in any one of Claims 1-11, Comprising: The structure which fixes the said heat sink and the said semiconductor device is connected by the good heat exchanger. Features.

請求項13の発明は、請求項1〜12のいずれか一項に記載の半導体装置であって、前記放熱板と光学機能素子とが接着剤により固定され、該接着剤はシリコン系接着剤であることを特徴とする。   Invention of Claim 13 is a semiconductor device as described in any one of Claims 1-12, Comprising: The said heat sink and an optical function element are fixed with an adhesive agent, This adhesive agent is a silicon system adhesive agent It is characterized by being.

請求項14の発明は、請求項1〜13のいずれか一項に記載の半導体装置であって、前記光学機能素子が固体撮像素子であることを特徴とする。   A fourteenth aspect of the invention is the semiconductor device according to any one of the first to thirteenth aspects, wherein the optical functional element is a solid-state imaging element.

請求項15の発明は、請求項14に記載の半導体装置を備えていることを特徴とする画像読取ユニットである。   A fifteenth aspect of the invention is an image reading unit comprising the semiconductor device according to the fourteenth aspect.

請求項16の発明は、請求項15に記載の画像読取ユニットを備えていることを特徴とする画像形成装置である。   A sixteenth aspect of the present invention is an image forming apparatus comprising the image reading unit according to the fifteenth aspect.

請求項1の発明によれば、光学機能素子の発生する熱により半導体装置内の各部品で収縮が起きても、放熱板の素子固定面に対し垂直で、長手方向に伸びる突起があるため、放熱板の曲げ方向の強度が強くなり、変形が起こりにくくなる。すなわち、光学機能素子と放熱板との線膨張係数の違いによる曲げの力は特に長手方向が反るように生じるが、放熱板の長手方向の反りに対する強度が強い。これにより、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。   According to the invention of claim 1, even if contraction occurs in each component in the semiconductor device due to heat generated by the optical functional element, there is a protrusion extending in the longitudinal direction perpendicular to the element fixing surface of the heat sink, The strength of the heat sink in the bending direction is increased, and deformation is less likely to occur. That is, the bending force due to the difference in linear expansion coefficient between the optical functional element and the heat radiating plate is generated particularly in the longitudinal direction, but the strength against the warping in the longitudinal direction of the heat radiating plate is strong. Thereby, the fluctuation | variation of the position and attitude | position of an optical function element decreases, and an optical function can be ensured stably.

請求項2の発明によれば、突起の一部は大気に露出しているため、光学機能素子から発生した熱を放熱板を介して効果的に大気に放出できるため、半導体装置の温度上昇が抑えられ、変形が起こりにくくなる。これにより、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。なお、放熱効果を向上させることができるため、半導体がCCDチップの場合、チップの温度低化を図り、暗時のレベル低減によっても読取画像品質の向上を図ることができる。   According to the second aspect of the present invention, since a part of the protrusion is exposed to the atmosphere, the heat generated from the optical functional element can be effectively released to the atmosphere through the heat sink, so that the temperature of the semiconductor device is increased. It is suppressed and deformation is less likely to occur. Thereby, the fluctuation | variation of the position and attitude | position of an optical function element decreases, and an optical function can be ensured stably. Since the heat dissipation effect can be improved, when the semiconductor is a CCD chip, the temperature of the chip can be lowered, and the read image quality can be improved by reducing the level in the dark.

請求項3の発明によれば、放熱板の突起は中央部に行くにつれ突起が高くなるため、長手方向の強度が中心部に行くほど高くなり、中央部と端部での反りのバランスが取れ、必要最小限の材料で反り量の低減を図ることができ、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。なお、使用材料が少なくなってコストを低減することもできる。   According to the invention of claim 3, since the protrusion of the heat sink becomes higher as it goes to the center, the strength in the longitudinal direction becomes higher as it goes to the center, and the balance between the warp at the center and the end can be balanced. Therefore, the amount of warpage can be reduced with the minimum necessary material, the fluctuation of the position and posture of the optical functional element is reduced, and the optical function can be secured stably. Note that the cost can be reduced by using less material.

請求項4の発明によれば、放熱板の素子固定面以外の面に、凹凸の突起または穴が設けられているため、放熱板の表面積が広くなり、光学機能素子から発生した熱を放熱板を介して効果的に大気に放出できるため、半導体装置の温度上昇が抑えられ、変形が起こりにくくなる。これにより、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。   According to invention of Claim 4, since the uneven | corrugated protrusion or hole is provided in surfaces other than the element fixing surface of a heat sink, the surface area of a heat sink becomes large and the heat generated from the optical functional element is dissipated. Therefore, the temperature rise of the semiconductor device can be suppressed and the deformation is less likely to occur. Thereby, the fluctuation | variation of the position and attitude | position of an optical function element decreases, and an optical function can be ensured stably.

請求項5の発明によれば、放熱板は板金であり、曲げにより凹凸の突起を設けたため、部品コストを大幅に上げることなく放熱構造を作ることができるとともに、放熱板の表面積が広くなり、光学機能素子から発生した熱を放熱板を介して効果的に大気に放出できるため、半導体装置の温度上昇が抑えられ、変形が起こりにくくなる。これにより、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。   According to the invention of claim 5, since the heat sink is a sheet metal and provided with uneven projections by bending, it is possible to make a heat dissipation structure without significantly increasing the component cost, and the surface area of the heat sink increases. Since the heat generated from the optical functional element can be effectively released to the atmosphere via the heat dissipation plate, the temperature rise of the semiconductor device is suppressed and deformation is less likely to occur. Thereby, the fluctuation | variation of the position and attitude | position of an optical function element decreases, and an optical function can be ensured stably.

請求項6の発明によれば、放熱板は押し出し材で構成されているため、請求項1〜3の効果に加え、光学機能素子に対する素子固定面の面精度を高くすることができ、光学機能素子を固定する際、変形を少なくすることができるため、光学機能素子の位置や姿勢の固定初期時の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。   According to invention of Claim 6, since the heat sink is comprised by the extrusion material, in addition to the effect of Claims 1-3, the surface precision of the element fixing surface with respect to an optical function element can be made high, and an optical function Since the deformation can be reduced when the element is fixed, the position and posture of the optical function element are less changed at the initial fixing stage, and the optical function can be stably secured.

請求項7の発明によれば、請求項2〜6の効果に加えて、放熱板には、本発明の半導体装置を例えば画像読取ユニットの固定部材等に固定するためのの固定部位があるため、安定して当該半導体装置を固定することができ、光学的な機能を安定して確保できる。   According to the invention of claim 7, in addition to the effects of claims 2 to 6, the heat sink has a fixing portion for fixing the semiconductor device of the invention to, for example, a fixing member of the image reading unit. The semiconductor device can be stably fixed, and an optical function can be stably secured.

請求項8の発明によれば、請求項7の効果に加えて、固定部位は放熱板の素子固定面と同一平面であり、かつ、接着用平面を構成しているため、光学機能素子の表面から接着用平面までの位置ずれの積み上げ量が減り、精度の高い位置決めを行うことができ、これにより、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。   According to the invention of claim 8, in addition to the effect of claim 7, the fixing part is flush with the element fixing surface of the heat radiating plate and constitutes a bonding plane. The accumulated amount of misalignment from the bonding plane to the bonding plane can be reduced, and highly accurate positioning can be performed, thereby reducing fluctuations in the position and orientation of the optical functional element and ensuring stable optical functions. .

請求項9の発明によれば、請求項7の効果に加えて、固定部位は放熱板の素子固定面と同一平面であり、かつ、固定平面と穴を有するため、光学機能素子の表面から固定用平面までの位置ずれの積み上げ量がへり、精度の高い位置決めを行うことができるとともに、穴があるため、ねじ締め固定時に強固な固定ができ、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保することができる。   According to the ninth aspect of the present invention, in addition to the effect of the seventh aspect, since the fixing portion is flush with the element fixing surface of the heat sink and has the fixing plane and the hole, the fixing portion is fixed from the surface of the optical functional element. The amount of misalignment up to the plane for use is reduced, high-accuracy positioning is possible, and the holes make it possible to fix firmly when tightening with screws, reducing fluctuations in the position and orientation of optical functional elements. The optical function can be secured stably.

請求項10の発明によれば、請求項1〜9の効果に加えて、放熱板は導電性であり、電気的に接地されているため、本発明の半導体装置内で電気的に浮いているものが無くなり、電磁波ノイズなどに対して安定度が増し、光学的な機能を安定して確保することができる。   According to the invention of claim 10, in addition to the effects of claims 1 to 9, since the heat sink is electrically conductive and electrically grounded, it is electrically floating in the semiconductor device of the present invention. Things are lost, the stability against electromagnetic noise is increased, and the optical function can be secured stably.

請求項11の発明によれば、請求項1〜10の効果に加えて、放熱板は導電性であり、大気に露出された面は電気的に絶縁されているため、本発明の半導体装置を他の装置に組み込んだ時など、周りの部品とショートする対策を打つ必要がない。また、人に対して感電等の危険を無くすことができる。また、放熱板を通じて外部から入ってくる電気的衝撃がなくなり、光学機能素子へのダメージを無くすことができる。   According to the eleventh aspect of the invention, in addition to the effects of the first to tenth aspects, the heat sink is electrically conductive, and the surface exposed to the atmosphere is electrically insulated. There is no need to take measures to short-circuit with surrounding parts, such as when installed in other devices. Further, it is possible to eliminate danger such as electric shock to a person. Further, the electric shock that enters from the outside through the heat radiating plate is eliminated, and damage to the optical functional element can be eliminated.

請求項12の発明によれば、請求項1〜11の効果に加えて、放熱板と、本発明の半導体装置を固定する構造体は良伝熱体によって接続されているため、光学機能素子から発生した熱を放熱板を介して効果的に大気に放出できるため、半導体装置本体の温度上昇が抑えられ、変形が起こりにくくなる。これにより、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。なお、放熱効果を向上させることができるため、半導体がCCDチップの場合、チップの温度低化を図り、暗時のレベル低減によっても読取画像品質の向上を図ることができる。   According to the invention of claim 12, in addition to the effects of claims 1 to 11, since the heat sink and the structure for fixing the semiconductor device of the present invention are connected by a good heat transfer body, Since the generated heat can be effectively released to the atmosphere via the heat dissipation plate, the temperature rise of the semiconductor device body is suppressed and deformation is less likely to occur. Thereby, the fluctuation | variation of the position and attitude | position of an optical function element decreases, and an optical function can be ensured stably. Since the heat dissipation effect can be improved, when the semiconductor is a CCD chip, the temperature of the chip can be lowered, and the read image quality can be improved by reducing the level in the dark.

請求項13の発明によれば、請求項1〜12の効果に加えて、放熱板と光学機能素子とを固定する接着剤は、シリコン系接着剤であるため、硬化後の接着剤の硬度を低くすることができ、放熱板と光学機能素子との線膨張係数の違いによるひずみを効果的に緩和することができ、本発明の半導体装置の全体的な反りを低減できる。これにより、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。   According to the invention of claim 13, in addition to the effects of claims 1 to 12, the adhesive that fixes the heat sink and the optical functional element is a silicon-based adhesive, so the hardness of the adhesive after curing is reduced. The distortion due to the difference in coefficient of linear expansion between the heat sink and the optical functional element can be effectively reduced, and the overall warpage of the semiconductor device of the present invention can be reduced. Thereby, the fluctuation | variation of the position and attitude | position of an optical function element decreases, and an optical function can be ensured stably.

請求項14の発明によれば、請求項1〜13の効果に加えて、光学機能素子が固体撮像素子であり、この固体撮像素子において光学的な機能を安定して確保でき、高い撮像性能を得ることができる。   According to the invention of claim 14, in addition to the effects of claims 1 to 13, the optical functional element is a solid-state image sensor, and an optical function can be stably secured in the solid-state image sensor, and high imaging performance is achieved. Obtainable.

請求項15の発明によれば、請求項14の半導体装置により、撮像性能の高い高信頼性の画像読取ユニットを得ることができる。   According to the fifteenth aspect of the present invention, a highly reliable image reading unit with high imaging performance can be obtained by the semiconductor device of the fourteenth aspect.

請求項16の発明によれば、請求項14の画像読取ユニットにより、撮像性能の高い高信頼性の画像形成装置を得ることができる。   According to the sixteenth aspect, the image reading unit according to the fourteenth aspect can provide a highly reliable image forming apparatus with high imaging performance.

以下、本発明の実施形態について説明する。図1は第1実施形態の半導体装置の斜視図、図2は図1におけるA−A断面図である。この第1実施形態は請求項請求項1、2、6、10、11、13に対応する実施形態である。なお、図の断面図等において、見易くするために、高さ方向の縮尺を部品ごとに変えて図示し、断面を示す斜線(ハッチング)は適宜省略してある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view of the semiconductor device of the first embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. This first embodiment is an embodiment corresponding to claims 1, 2, 6, 10, 11, and 13. In the cross-sectional view of the figure, for the sake of easy understanding, the scale in the height direction is changed for each part, and the hatched lines indicating the cross section are omitted as appropriate.

光学機能素子1は600dpi用のカラーラインCCD(固体撮像素子)であり、この光学機能素子1は接着剤12(図2)によって放熱板2に接着されている。光学機能素子1は、光を受光する光学的機能部1aと電極部1bを備えており、光学機能素子1はその外部との電気信号のやり取りをするためのリード5に対して、電極部1bにおいてワイヤーボンディング6によって電気的に接続されている。光学機能素子1と、放熱板2の一部、ワイヤーボンディング6及びリード5の一部は、プラスチックモールドの絶縁体である構造体3によってパッケージされている。構造体3の光学機能素子1を配置している部分は凹形状の凹部3aとなっており、その凹部3aの開口部分は透光性部材4で封止されている。そして、光学機能素子1の光学機能部1aは透光性部材4に対向しており、この透光性部材4から入光する光を受光する。なお、透光性部材4はガラス板、孔リード5は42アロイ、ワイヤーボンディング6は金線である。また、接着剤12はシリコン系の接着剤(例えばGE東芝シリコーン社のTSE322SX)である。   The optical functional element 1 is a 600 dpi color line CCD (solid-state imaging device), and the optical functional element 1 is bonded to the heat sink 2 with an adhesive 12 (FIG. 2). The optical functional element 1 includes an optical functional part 1a for receiving light and an electrode part 1b, and the optical functional element 1 has an electrode part 1b with respect to a lead 5 for exchanging electrical signals with the outside. Are electrically connected by wire bonding 6. The optical functional element 1, part of the heat sink 2, part of the wire bonding 6, and part of the lead 5 are packaged by a structure 3 that is an insulator of a plastic mold. The portion of the structure 3 where the optical functional element 1 is disposed is a concave recess 3 a, and the opening of the recess 3 a is sealed with a translucent member 4. The optical function unit 1 a of the optical function element 1 faces the translucent member 4 and receives light incident from the translucent member 4. The translucent member 4 is a glass plate, the hole lead 5 is a 42 alloy, and the wire bonding 6 is a gold wire. The adhesive 12 is a silicon-based adhesive (for example, TSE322SX manufactured by GE Toshiba Silicone).

図2に示すように、絶縁体の構造体3にパッケージされた放熱板2は、アルミの押し出し材を所定の長さに切断して形成されたものである(請求項6)。この放熱板2は光学機能素子1を固定する素子固定面2aを有するとともに、この素子固定面2aに対し垂直で、当該放熱板2の長手方向(図1の矢印Pの方向)に伸びる突起2bを有している(請求項1)。このように突起2bは素子固定面2aに対して垂直で長手方向に延びているので、放熱板2の2次断面モーメントが大きくなり、長手方向の反りに対する強度が強くなてっている。また、この放熱板2は構造体3によってその一部のみがパッケージされており、その突起2bは大気に露出している(請求項2)。したがって、光学機能素子1から発生した熱を放熱板2を介して効果的に大気に放出できる、半導体装置全体の温度上昇を抑えることができる。したがって、熱による変形が起こりにくくなる。   As shown in FIG. 2, the heat radiating plate 2 packaged in the insulator structure 3 is formed by cutting an extruded aluminum material into a predetermined length (Claim 6). The heat radiating plate 2 has an element fixing surface 2a for fixing the optical functional element 1, and a protrusion 2b extending perpendicularly to the element fixing surface 2a and extending in the longitudinal direction of the heat radiating plate 2 (the direction of arrow P in FIG. 1). (Claim 1). Thus, since the protrusion 2b is perpendicular to the element fixing surface 2a and extends in the longitudinal direction, the secondary sectional moment of the heat radiating plate 2 is increased, and the strength against warping in the longitudinal direction is increased. Further, only a part of the heat radiating plate 2 is packaged by the structure 3, and the protrusion 2b is exposed to the atmosphere (Claim 2). Accordingly, it is possible to suppress an increase in the temperature of the entire semiconductor device that can effectively release the heat generated from the optical functional element 1 to the atmosphere via the heat dissipation plate 2. Therefore, deformation due to heat is less likely to occur.

さらに、光学機能素子1は接着剤12で放熱板2に固定されているが、この接着剤12は前記のようにシリコン系接着剤である(請求項13)。このため、硬化後の接着剤12の硬度を低くすることができ、放熱板2と光学機能素子1との線膨張係数の違いによるひずみを効果的に緩和することができる。したがって、半導体装置の全体的な反りを低減できる。
保できる。
Furthermore, the optical functional element 1 is fixed to the heat radiating plate 2 with an adhesive 12, and the adhesive 12 is a silicon-based adhesive as described above (claim 13). For this reason, the hardness of the adhesive agent 12 after hardening can be made low, and the distortion by the difference in the linear expansion coefficient of the heat sink 2 and the optical function element 1 can be relieve | moderated effectively. Therefore, the overall warpage of the semiconductor device can be reduced.
I can keep it.

放熱板2は導電性であるが、導電性である場合、電気的に浮いているのはノイズの観点から好ましくないため、光学機能素子1の裏面を電気的な接地面とするとともに接着剤12を導電性のものとして、この放熱板2を、接着剤12、光学機能素子1(その接地面)及びリード5を介して外部と接地するのが好ましい(請求項10)。ただし、この放熱板2の接地の方法はこの限りではなく、半導体装置の外部からワイヤーや、ばね等で直接放熱板2を接地してもよく、この場合には接着剤12は前記のようにシリコン系接着剤でよいことはいうまでもない。   The heat radiating plate 2 is conductive, but if it is conductive, it is not preferable that it is electrically floating from the viewpoint of noise. Therefore, the back surface of the optical functional element 1 is used as an electrical grounding surface and the adhesive 12 is used. It is preferable that the heat radiating plate 2 is grounded to the outside through the adhesive 12, the optical function element 1 (its ground surface) and the lead 5. However, the method of grounding the heat sink 2 is not limited to this, and the heat sink 2 may be grounded directly from the outside of the semiconductor device with a wire, a spring, or the like. In this case, the adhesive 12 is used as described above. Needless to say, a silicon adhesive may be used.

また、図2に示したように、放熱板2の少なくとも構造体3から露出している部分は絶縁皮膜2cで覆われている。これにより、放熱板2の大気に露出された表面は電気的に絶縁されている(請求項11)。したがって、当該半導体装置を他の装置に組み込んでも周りの部品とショートすることがなく、また、人に対して感電等の危険もない。さらに、放熱板2を通じて外部から入ってくる電気的衝撃がなくなり、光学機能素子1へのダメージを無くすことができる。絶縁皮膜2cは必要に応じて設けたものであり、なくてもよい。   As shown in FIG. 2, at least a portion of the heat radiating plate 2 exposed from the structure 3 is covered with an insulating film 2c. Thereby, the surface exposed to the atmosphere of the heat sink 2 is electrically insulated. Therefore, even if the semiconductor device is incorporated in another device, it does not short-circuit with surrounding components, and there is no danger of electric shock to people. Furthermore, the electric shock that enters from the outside through the heat radiating plate 2 is eliminated, and damage to the optical functional element 1 can be eliminated. The insulating film 2c is provided as necessary and may not be provided.

なお、外部に露出している放熱板2の突起2bの伸び方向(素子固定面2aと直交する方向)の長さは、リード5の足の長さより短いほうが実装する際に、該突起2bが基盤等にあたらずに実装しやすいが、基板上で放熱板2とあたる部分を逃げてやる工夫をすれば突起2bの伸び方向の長さはリード5の足の長さより長くてもよい。   The length of the projection 2b of the heat radiating plate 2 exposed to the outside in the direction of extension (the direction orthogonal to the element fixing surface 2a) is shorter than the length of the legs of the lead 5 when the projection 2b is mounted. Although it is easy to mount without hitting the base or the like, the length in the extending direction of the protrusion 2b may be longer than the length of the leg of the lead 5 if a measure is taken to escape the portion corresponding to the heat sink 2 on the substrate.

図3は第2実施形態の半導体装置の斜視図であり、請求項3に対応する実施形態である。なお、以下の各実施形態において第1実施形態と対応する要素には図1及び図2同符号を付記してその詳細な説明は省略する。この第2実施形態では、第1実施形態における放熱板2の形状を変更し、放熱板2の中央部の高さ(素子固定面2aからの高さ)を高くしたものである(請求項3)。この放熱板2の縁2Pは直線状であるが、中央部2Qが端部2Rより高くなっていれば、この縁2Pは曲線でもよい。このように、この第2実施形態では、放熱板2の突起2bは端部2Rから中央部2Qに行くにつれ突起が高くなるため、長手方向(図の矢印P方向)の強度が中心部に行くほど高くなり、中央部2Qと端部2Rでの反りのバランスが取れ、放熱板2として必要最小限の材料で反り量の低減を図ることができる。そして、光学機能素子の位置や姿勢の変動が少なくなり、光学的な機能を安定して確保できる。なお、使用材料が少なくなってコストを低減することもできる。   FIG. 3 is a perspective view of the semiconductor device according to the second embodiment, and corresponds to the third embodiment. In the following embodiments, elements corresponding to those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 2, and detailed description thereof is omitted. In the second embodiment, the shape of the heat sink 2 in the first embodiment is changed, and the height of the central portion of the heat sink 2 (height from the element fixing surface 2a) is increased. ). The edge 2P of the heat radiating plate 2 is linear, but the edge 2P may be curved as long as the central portion 2Q is higher than the end 2R. Thus, in this 2nd Embodiment, since the protrusion 2b of the heat sink 2 becomes high as it goes to the center part 2Q from the edge part 2R, the intensity | strength of a longitudinal direction (arrow P direction of a figure) goes to a center part. The warpage at the center portion 2Q and the end portion 2R can be balanced, and the amount of warpage can be reduced with the minimum necessary material for the heat radiating plate 2. And the fluctuation | variation of the position and attitude | position of an optical function element decreases, and an optical function can be ensured stably. Note that the cost can be reduced by using less material.

図4は第3実施形態の半導体装置の斜視図であり、請求項4に対応する実施形態である。この第3実施形態では、第1実施形態における放熱板2の形状を変更し、放熱板2の突起2bの部分に複数の穴7を形成したものである(請求項4)。この穴7は放熱板2の表面積を増やすために設けたものであり、構造的に強度が確保できていれば、図の位置や大きさに限らず、自由に位置や大きさを設定できる。これにより、光学機能素子1から発生した熱を放熱板2を介して効果的に大気に放出できる。   FIG. 4 is a perspective view of the semiconductor device according to the third embodiment, which corresponds to claim 4. In this 3rd Embodiment, the shape of the heat sink 2 in 1st Embodiment is changed, and the several hole 7 is formed in the part of the processus | protrusion 2b of the heat sink 2 (Claim 4). This hole 7 is provided in order to increase the surface area of the heat radiating plate 2, and the position and size can be freely set without being limited to the position and size in the drawing as long as the strength is structurally secured. Thereby, the heat generated from the optical functional element 1 can be effectively released to the atmosphere via the heat radiating plate 2.

図5は第4実施形態の半導体装置の斜視図であり、請求項7,8に対応する実施形態である。この第4実施形態では、第1実施形態における放熱板2の形状を長手方向に延長し、放熱板2の端部に当該半導体装置の固定部位Aを配置したものである(請求項7)。固定部位Aは、光学機能素子1に対する素子固定面2aと同一平面である平行面8と、素子固定面2aと垂直な面である垂直面8′とがあり、この平行面8と垂直面8′はどちらも当該半導体装置の固定用平面として使える。なお、平行面8は、放熱板2の素子固定面2aと同一平面であり、接着用平面としても構成されている(請求項8)。接着用平面の大きさは1cm×1cm程度あると接着しやすいが、当該半導体装置の大きさに応じて大きさを設定してよい。このように、固定部位Aのうちの平行面8は放熱板2の素子固定面2aと同一平面であり、かつ、接着用平面を構成しているため、光学機能素子1の表面から接着用平面までの位置ずれの積み上げ量が減り、精度の高い位置決めを行うことができる。   FIG. 5 is a perspective view of a semiconductor device according to a fourth embodiment, which corresponds to claims 7 and 8. In the fourth embodiment, the shape of the heat sink 2 in the first embodiment is extended in the longitudinal direction, and the fixed portion A of the semiconductor device is arranged at the end of the heat sink 2 (Claim 7). The fixing part A has a parallel surface 8 that is the same plane as the element fixing surface 2a for the optical function element 1, and a vertical surface 8 'that is a surface perpendicular to the element fixing surface 2a. Both can be used as a fixing plane of the semiconductor device. In addition, the parallel surface 8 is the same plane as the element fixing surface 2a of the heat sink 2, and is also configured as a bonding plane. If the size of the bonding plane is about 1 cm × 1 cm, it is easy to bond, but the size may be set according to the size of the semiconductor device. As described above, the parallel surface 8 of the fixed portion A is the same plane as the element fixing surface 2a of the heat radiating plate 2 and constitutes a bonding plane. The accumulated amount of misalignment up to is reduced, and highly accurate positioning can be performed.

図6は第5実施形態の半導体装置の斜視図であり、請求項7,9に対応する実施形態である。この第5実施形態では、第1実施形態における放熱板2の形状を長手方向に延長し、放熱板2の端部2Rに当該半導体装置の固定部位Bを配置したものである(請求項7)。固定部位Bは、光学機能素子1に対する素子固定面2aと同一平面である平行面9と穴10とを有し、また、素子固定面2aと垂直な面である垂直面9′と穴10′とを有している。この平行面9と垂直面9′は、どちらも当該半導体装置の固定用平面として使える。なお、平行面9は、放熱板2の素子固定面2aと同一平面であり、固定用平面としても構成されている(請求項9)。固定用平面の大きさは1cm×1cm程度あると固定しやすいが、当該半導体装置の大きさに応じて大きさを設定してよい。このように、固定部位Bのうちの平行面9は放熱板2の素子固定面2aと同一平面であり、かつ、固定用平面を構成しているため、光学機能素子1の表面から固定用平面までの位置ずれの積み上げ量が減り、精度の高い位置決めを行うことができる。また、穴10、10′は丸穴になっているが、必要に応じて長穴やねじ穴にしてもよい。   FIG. 6 is a perspective view of a semiconductor device according to a fifth embodiment, which corresponds to claims 7 and 9. In the fifth embodiment, the shape of the heat sink 2 in the first embodiment is extended in the longitudinal direction, and the fixing portion B of the semiconductor device is arranged at the end 2R of the heat sink 2 (Claim 7). . The fixing part B has a parallel surface 9 and a hole 10 which are the same plane as the element fixing surface 2a for the optical functional element 1, and a vertical surface 9 'and a hole 10' which are surfaces perpendicular to the element fixing surface 2a. And have. Both the parallel surface 9 and the vertical surface 9 'can be used as a fixing plane of the semiconductor device. In addition, the parallel surface 9 is the same plane as the element fixing surface 2a of the heat sink 2, and is also configured as a fixing plane. Although it is easy to fix if the size of the fixing plane is about 1 cm × 1 cm, the size may be set according to the size of the semiconductor device. Thus, since the parallel surface 9 in the fixing part B is the same plane as the element fixing surface 2a of the heat radiating plate 2 and constitutes a fixing plane, the fixing plane extends from the surface of the optical functional element 1. The accumulated amount of misalignment up to is reduced, and highly accurate positioning can be performed. Moreover, although the holes 10 and 10 'are round holes, they may be long holes or screw holes if necessary.

以上の各実施形態は、放熱板2が例えばアルミの押し出し材で形成したような部材の例であるが、例えば図7に示したように、放熱板2′として板金の曲げ加工によって形成したものを用いてもよい。この場合も構造体3から露出している部分を絶縁皮膜2c′で覆うとよいが、絶縁皮膜2c′はなくてもよい。このように板金で構成すると、部品コストを低減することができる。また、このように放熱板を板金で構成する場合、請求項5に対応して例えば図8のように、板金の曲げにより突起2b′に凹凸部11を設けるようにするとよい(請求項5)。このように凹凸部11により波形状となっているので、部品コストを大幅に上げることなく放熱構造を作ることができるとともに、放熱板2′の表面積が広くなり、光学機能素子1から発生した熱を放熱板を介して効果的に大気に放出できる。   Each of the above embodiments is an example of a member in which the heat radiating plate 2 is formed of, for example, an aluminum extrusion material. For example, as shown in FIG. 7, the heat radiating plate 2 'is formed by bending a sheet metal. May be used. In this case as well, the portion exposed from the structure 3 may be covered with the insulating film 2c ′, but the insulating film 2c ′ may be omitted. Thus, if it comprises with sheet metal, component cost can be reduced. Further, when the heat radiating plate is formed of sheet metal in this way, it is preferable that the projections 2b 'be provided with the concavo-convex portions 11 by bending the sheet metal, as shown in FIG. 8, for example. . Since the corrugated portion 11 has a wave shape in this way, a heat dissipation structure can be made without significantly increasing the component cost, and the surface area of the heat dissipation plate 2 'is increased, so that the heat generated from the optical functional element 1 can be increased. Can be effectively released to the atmosphere through the heat sink.

前述のように、各実施形態において高さ方向の縮尺を部品ごとに変えて描いてあるが、、光学機能素子1の厚さは約1mm、透光性部材4は数mm、放熱板2は数mm、接着剤12の膜厚は約0.1mm程度の厚さであり、接着層は非常に薄い構造である。   As described above, in each embodiment, the scale in the height direction is changed for each part. However, the thickness of the optical functional element 1 is about 1 mm, the translucent member 4 is several mm, and the heat sink 2 is The thickness of the adhesive 12 is several mm, and the thickness of the adhesive 12 is about 0.1 mm. The adhesive layer has a very thin structure.

また、光学機能素子1は幅が細いため、構造体3の光学機能素子1を配置している凹形状の部分において、両側のリード5,5の間隔が狭くなっている。このため、このリード5,5と放熱板2とが干渉し易い構造となっている。そこで、このリード5,5に対向する部分で放熱板2を絞ったり、リード5,5の間隔を広げてワイヤーボンディング6を長く伸ばす等絞るなどして電気的なショートを防ぐようにしてもよい。また、この放熱板2において、少なくともこのリード5,5に対向する部分に(大気に露出された部分ではないが)、電気的が絶縁を施すようにしてもよい。   Further, since the optical functional element 1 is thin, the interval between the leads 5 and 5 on both sides is narrow in the concave portion of the structure 3 where the optical functional element 1 is disposed. For this reason, the structure is such that the leads 5 and 5 and the heat radiating plate 2 easily interfere with each other. Therefore, electrical shorting may be prevented by squeezing the heat radiating plate 2 at the part facing the leads 5 and 5 or by squeezing the gap between the leads 5 and 5 and extending the wire bonding 6 longer. . Further, in the heat radiating plate 2, at least a portion facing the leads 5 and 5 (not a portion exposed to the atmosphere) may be electrically insulated.

以上の各実施形態の半導体装置は光学機能素子1が固体撮像素子(ラインCCD)である。図9はこのような固体撮像素子を用いた半導体装置50を備えた画像読取ユニット100の実施形態を示す斜視図であり、請求項15,12に対応する実施形態である。半導体装置50は例えば第4実施形態の半導体装置であり、この半導体装置50は前記固定部位Aと固定部材22を介して受台23(半導体装置を固定する構造体)に接着固定されている。また、受台23には固定部材24を介して結像素子(レンズ)21も固定されており、図示しない読み取り原稿と、結像素子(レンズ)21と、光学機能素子(固体撮像素子)1との光学的位置関係を形成している。そして、結像素子21により原稿からの反射光を受光して半導体装置50の前記光学機能素子1上に画像を写しだし、その画像が光学機能素子1により読み取られて画像信号に変換される。なお、半導体装置50の固定方法はこれに限らず、位置精度が確保できればねじ止めなどでもよい。また、半導体装置50の放熱板2は良伝熱体13によって、受台23に接続されており、半導体装置で発生した熱を鉄製の受台23に逃がす構造にもなっている(請求項12)。   In the semiconductor devices of the above embodiments, the optical function element 1 is a solid-state image sensor (line CCD). FIG. 9 is a perspective view showing an embodiment of an image reading unit 100 including a semiconductor device 50 using such a solid-state imaging device, and corresponds to claims 15 and 12. The semiconductor device 50 is, for example, the semiconductor device according to the fourth embodiment, and the semiconductor device 50 is bonded and fixed to the cradle 23 (structure for fixing the semiconductor device) via the fixing portion A and the fixing member 22. Further, an imaging element (lens) 21 is also fixed to the cradle 23 via a fixing member 24, and a reading document (not shown), an imaging element (lens) 21, and an optical function element (solid-state imaging element) 1. The optical positional relationship is formed. Then, reflected light from the original is received by the imaging element 21 and an image is projected onto the optical functional element 1 of the semiconductor device 50, and the image is read by the optical functional element 1 and converted into an image signal. The fixing method of the semiconductor device 50 is not limited to this, and may be screwed or the like as long as the positional accuracy can be secured. Further, the heat radiating plate 2 of the semiconductor device 50 is connected to the pedestal 23 by the good heat transfer body 13, and has a structure in which the heat generated in the semiconductor device is released to the iron pedestal 23 (claim 12). ).

図10は実施形態の画像読取ユニット100を備えた画像形成装置200の実施形態を示す図であり、請求項16に対応する実施形態である。この画像形成装置200は多機能型デジタル画像形成装置であり、図10に示すように、画像読取ユニット100を備えた画像形成装置は、自動原稿送り装置101、読み取りユニット150、書込ユニット157、給紙ユニット130及び後処理ユニット140とを備えて構成されている。自動原稿送り装置101は、原稿を読み取りユニット150のコンタクトガラス106上に自動的に給送し、読み取りが終了した原稿を自動的に排出する。読み取りユニット150は、原稿を載置するコンタクトガラス106と光学走査系で構成され、光学走査系は露光ランプ151、第1ミラー152、画像読取ユニット100、第2ミラー155および第3ミラー156などからなっている。そして、読み取りユニット150はコンタクトガラス106上にセットされた原稿を照明して画像読取ユニット100によって読み取り、書込ユニット157は読み取られた原稿の画像信号に応じて感光体115上に画像を形成し、給紙ユニット130から給紙された転写紙上に画像を転写して定着する。定着が完了した転写紙は後処理ユニット140に排紙され、ソートやステープルなどの所望の後処理が行われる。   FIG. 10 is a diagram illustrating an embodiment of an image forming apparatus 200 including the image reading unit 100 according to the embodiment. The embodiment corresponds to claim 16. The image forming apparatus 200 is a multifunction digital image forming apparatus. As shown in FIG. 10, the image forming apparatus including the image reading unit 100 includes an automatic document feeder 101, a reading unit 150, a writing unit 157, A sheet feeding unit 130 and a post-processing unit 140 are provided. The automatic document feeder 101 automatically feeds a document onto the contact glass 106 of the reading unit 150, and automatically discharges the document that has been read. The reading unit 150 includes a contact glass 106 on which an original is placed and an optical scanning system. The optical scanning system includes an exposure lamp 151, a first mirror 152, an image reading unit 100, a second mirror 155, a third mirror 156, and the like. It has become. The reading unit 150 illuminates the original set on the contact glass 106 and reads it by the image reading unit 100, and the writing unit 157 forms an image on the photoconductor 115 according to the image signal of the read original. Then, the image is transferred and fixed on the transfer sheet fed from the sheet feeding unit 130. After the fixing is completed, the transfer paper is discharged to the post-processing unit 140, and desired post-processing such as sorting and stapling is performed.

以上の実施形態では、導電性の放熱板2,2′としてアルミを使っているが、銀や銅などの放熱板であれば、より高熱伝導性の物質となるため、より高い放熱性が期待できる。また、各実施形態における光学機能素子1は主に固体撮像素子としてのラインCCDを例に説明したが、光学機能素子1はLEDアレイのような発光素子であってもよく、この場合も光学的な機能を安定して確保でき、高い性能を得ることができる。   In the above embodiment, aluminum is used as the conductive heat sinks 2 and 2 '. However, a heat sink made of silver, copper, or the like becomes a material having higher thermal conductivity, and thus higher heat dissipation is expected. it can. In addition, the optical functional element 1 in each embodiment has been described mainly using a line CCD as a solid-state imaging element. However, the optical functional element 1 may be a light emitting element such as an LED array. Stable functions can be secured and high performance can be obtained.

以上の各実施形態の他に、次のような構成とすることもできる。第2実施形態(図3)における放熱板2のように中央部に行くにつれ高さが高くなる構成、第3実施形態(図4)における穴7を設けた構成は、図7あるいは図8のように板金で構成した放熱板にも適用できる。また、第4実施形態(図5)あるいは第5実施形態(図6)における平行面8,9と垂直面8′,9′を設けた構成は、図7のように板金で構成した放熱板にも適用できる。また、図2あるいは図7に示したように放熱板の大気に露出された面に設けた絶縁皮膜は、各実施形態においてあってもなくてもよい。   In addition to the above embodiments, the following configuration may be adopted. The configuration in which the height increases as it goes to the center as in the heat radiation plate 2 in the second embodiment (FIG. 3), and the configuration in which the hole 7 is provided in the third embodiment (FIG. 4) are shown in FIG. 7 or FIG. Thus, the present invention can also be applied to a heat sink made of sheet metal. Further, in the fourth embodiment (FIG. 5) or the fifth embodiment (FIG. 6), the configuration in which the parallel surfaces 8, 9 and the vertical surfaces 8 ', 9' are provided is a heat radiating plate made of sheet metal as shown in FIG. It can also be applied to. Moreover, as shown in FIG. 2 or FIG. 7, the insulating film provided on the surface exposed to the atmosphere of the heat sink may or may not be present in each embodiment.

本発明の第1実施形態の半導体装置の斜視図である。1 is a perspective view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の図1におけるA−A断面図である。It is AA sectional drawing in FIG. 1 of this invention. 本発明の第2実施形態の半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor device of 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態の半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor device of 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態の半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor device of 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5実施形態の半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor device of 5th Embodiment of this invention. 本発明の板金の放熱板を用いた半導体装置の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows embodiment of the semiconductor device using the heat sink of the sheet metal of this invention. 本発明における板金の曲げにより突起に凹凸部を設けた実施形態の半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor device of embodiment which provided the uneven | corrugated | grooved part in protrusion by bending of the sheet metal in this invention. 本発明の実施形態における画像読取ユニットの斜視図である。It is a perspective view of the image reading unit in the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態にける画像形成装置を示す図である。1 is a diagram illustrating an image forming apparatus according to an embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 光学機能素子
2,2′ 放熱板
2a 素子固定面
2b,2b′ 突起
2c,2c′ 絶縁皮膜
3 構造体
4 透光性部材
5 リード
6 ワイヤーボンディング
7 穴
A,B 固定部位
8,9 平行面
8′,9′ 垂直面
11 凹凸部
12 接着剤
13 良伝熱体
50 半導体装置
100 画像読取ユニット
22 固定部材
23 受台
21 結像素子(レンズ)
200 画像形成装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical function element 2, 2 'Heat sink 2a Element fixed surface 2b, 2b' Protrusion 2c, 2c 'Insulating film 3 Structure 4 Translucent member 5 Lead 6 Wire bonding 7 Hole A, B Fixed part 8, 9 Parallel surface 8 ', 9' Vertical surface 11 Concavity and convexity 12 Adhesive 13 Heat transfer body 50 Semiconductor device 100 Image reading unit 22 Fixing member 23 Receiving base 21 Imaging element (lens)
200 Image forming apparatus

Claims (16)

光学機能素子が放熱板に固定されるとともに、該光学機能素子が絶縁体の構造体にパッケージされた半導体装置において、
前記放熱板は、該放熱板の前記光学機能素子を固定した素子固定面に対し垂直で、長手方向に伸びる突起が形成されていることを特徴とする半導体装置。
In the semiconductor device in which the optical functional element is fixed to the heat sink and the optical functional element is packaged in an insulator structure,
2. A semiconductor device according to claim 1, wherein the heat radiating plate is formed with a protrusion extending in a longitudinal direction perpendicular to an element fixing surface to which the optical function element of the heat radiating plate is fixed.
前記突起の一部は大気に露出していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein a part of the protrusion is exposed to the atmosphere. 前記放熱板の突起は、該突起の長手方向の中央部に行くにつれ、前記素子固定面からの高さが高くなることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。   3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the protrusion of the heat radiating plate increases in height from the element fixing surface as it goes to a central portion in the longitudinal direction of the protrusion. 前記放熱板の素子固定面以外の面に、凹凸の突起または穴が設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3, wherein an uneven protrusion or hole is provided on a surface other than the element fixing surface of the heat radiating plate. 前記放熱板は板金であり、曲げにより凹凸の突起を設けたことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 4, wherein the heat radiating plate is a sheet metal, and uneven protrusions are provided by bending. 前記放熱板は押し出し材で構成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat radiating plate is made of an extruded material. 前記放熱板には当該半導体装置を固定するための固定部位があることを特徴とする請求項2〜6のいずれか一項にに記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 2, wherein the heat sink has a fixing portion for fixing the semiconductor device. 前記固定部位は放熱板の素子固定面と同一平面であり、かつ、接着用平面を構成していることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 7, wherein the fixing portion is flush with an element fixing surface of the heat radiating plate and constitutes a bonding plane. 前記固定部位は放熱板の素子固定面と同一平面であり、かつ、固定用平面と穴とを有することを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 7, wherein the fixing portion is flush with an element fixing surface of the heat sink and has a fixing plane and a hole. 前記放熱板は導電性であり、電気的に接地されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat radiating plate is electrically conductive and is electrically grounded. 前記放熱板は導電性であり、当該放熱板の大気に露出された面は電気的に絶縁されていることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat radiating plate is conductive, and a surface of the heat radiating plate exposed to the atmosphere is electrically insulated. 前記放熱板と当該半導体装置を固定する構造体は良伝熱体によって接続されていることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat sink and the structure that fixes the semiconductor device are connected by a good heat transfer body. 前記放熱板と光学機能素子とが接着剤により固定され、該接着剤はシリコン系接着剤であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat dissipation plate and the optical functional element are fixed by an adhesive, and the adhesive is a silicon-based adhesive. 前記光学機能素子が固体撮像素子であることを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the optical function element is a solid-state imaging element. 前記請求項14に記載の半導体装置を備えていることを特徴とする画像読取ユニット。   An image reading unit comprising the semiconductor device according to claim 14. 前記請求項15に記載の画像読取ユニットを備えていることを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising the image reading unit according to claim 15.
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