JP2006084534A - 露光用マスクとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 デバイス領域Iにおける石英基板(透明基板)10上に第1の間隔W1をおいて形成され、第1凹部10aに張り出す二つの第1デバイス用遮光パターン10cと、第1デバイス用遮光パターン10cから第2の間隔W2で隔てられた第2デバイス用遮光パターン10dと、モニター領域IIにおける石英基板10上に第1の間隔W1よりも広い第3の間隔W3をおいて形成され、第2凹部10bに張り出す二つの第1モニター用遮光パターン11eと、第1モニター用遮光パターン11eから第2の間隔W2よりも広い第4の間隔W4で隔てられた第2モニター用遮光パターン11eとを有し、第1モニター用遮光パターン11eの寸法L2が、第1デバイス用遮光パターン11cの寸法L1以下である露光用マスクによる。
【選択図】 図5
Description
図2〜図6は、本発明の第1実施形態に係る露光用マスクの製造途中の断面図である。
図10〜図13は、本発明の第2実施形態に係る露光用マスクの製造途中の断面図である。これらの図において、第1実施形態で説明した要素には第1実施形態と同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
上記した第1実施形態では、モニター領域IIにある第1モニター用遮光パターン11eの寸法L2として、デバイス用遮光パターン11cの寸法L1以下の寸法を採用することで、デバイス領域Iの非シフター部Bに石英基板10の侵食10dが発生した場合に、モニター領域Iの非シフター部Bにも同じようにして侵食10dが発生するようにした。これにより、モニター領域IIとデバイス領域Iのそれぞれの位相差を一致させることができ、モニター領域IIの位相差でデバイス領域Iの位相差を保証することができた。
第3実施形態では、第1実施形態で説明した露光用マスクに対し更に第3、第4モニター用遮光パターン11g、11hを形成することにより、侵食10dの有無の判断を可能にした。
前記デバイス領域における前記透明基板上に第1の間隔をおいて形成され、前記第1凹部の両側からそれぞれ該第1凹部に張り出す二つの第1デバイス用遮光パターンと、
前記デバイス領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔で隔てられた第2デバイス用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板上に前記第1の間隔よりも広い第3の間隔をおいて形成され、前記第2凹部の両側からそれぞれ該第2凹部に張り出す二つの第1モニター用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔で隔てられた第2モニター用遮光パターンと、
を有し、
前記第1モニター用遮光パターンの寸法が、前記第1デバイス用遮光パターンの寸法以下であることを特徴とする露光用マスク。
前記第2モニター用遮光パターン寄りの前記第1モニター用遮光パターンの端面から前記第1の距離よりも短い第2の距離にある前記第1モニター用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第2凹部に張り出る部分の前記第1モニター用遮光パターンの上面の高さが低くされていることを特徴とする付記1に記載の露光用マスク。
前記デバイス領域における前記透明基板上に第1の間隔をおいて形成され、前記第1凹部の両側からそれぞれ該第1凹部に張り出す二つの第1デバイス用遮光パターンと、
前記デバイス領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔で隔てられた第2デバイス用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板上に前記第1の間隔よりも広い第3の間隔をおいて形成され、前記第2凹部の両側からそれぞれ該第2凹部に張り出す二つの第1モニター用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔で隔てられた第2モニター用遮光パターンと、
を有し、
前記第2デバイス用遮光パターン寄りの前記第1デバイス用遮光パターンの端面から第1の距離にある前記第1デバイス用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第1凹部に張り出る部分の前記第1デバイス用遮光パターンの上面の高さが、該段より前記第1デバイス用遮光パターンの前記端面寄りの部分の高さよりも低くされていると共に、
前記第2モニター用遮光パターン寄りの前記第1モニター用遮光パターンの端面から前記第1の距離よりも短い第2の距離にある前記第1モニター用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第2凹部に張り出る部分の前記第1モニター用遮光パターンの上面の高さが、該段より前記第1モニター用遮光パターンの前記端面寄りの部分の高さよりも低くされていることを特徴とする露光用マスク。
前記第3モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第6の間隔をおいて前記モニター領域における前記透明基板の平坦面上に形成された第4モニター用遮光パターンとを有し、
前記第4モニター用遮光パターン寄りの前記第3モニター用遮光パターンの端面から前記第2の距離よりも長い第3の距離にある前記第3モニター用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第3凹部に張り出る部分の前記第3モニター用遮光パターンの上面の高さが低くされていることを特徴とする付記3又は付記4に記載の露光用マスク。
前記遮光膜をパターニングすることにより、前記透明基板のデバイス領域に、第1の間隔で隔てられた二つの第1デバイス用遮光パターンと、該第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成すると共に、前記透明基板のモニター領域に、前記第1の間隔よりも広い第3の間隔で隔てられ、且つ前記第1デバイス用遮光パターンの寸法以下の寸法の二つの第1モニター用遮光パターンと、該第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成する工程と、
前記第2デバイス用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンを覆うと共に、前記二つの第1デバイス用遮光パターンの上面の一部が露出する第1窓と、前記二つの第1モニター用遮光パターンの上面の一部が露出する第2窓とを有するレジストパターンを形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をエッチングすることにより、前記二つの第1デバイス用遮光パターンの間の前記石英基板に第1凹部を形成すると共に、前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記石英基板に第2凹部を形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をウエットエッチングして前記第1、第2凹部の幅を拡張することにより、前記第1デバイス用遮光パターンを前記第1凹部に張り出させると共に、前記第1モニター用遮光パターンを前記第2凹部に張り出させる工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記第2凹部と、前記第1モニター用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンの間の部分の透明基板のそれぞれに光を通すことにより、前記第2凹部と前記基板とでの透過光の位相差を第1の位相差として測定して、該第1の位相差が180°になっているか否かを確認する工程と、
を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法。
前記遮光膜をパターニングすることにより、前記透明基板のデバイス領域に、第1の間隔で隔てられた二つの第1デバイス用遮光パターンと、該第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成すると共に、前記透明基板のモニター領域に、前記第1の間隔よりも広い第3の間隔で隔てられた二つの第1モニター用遮光パターンと、該第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成する工程と、
前記第2デバイス用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンとを覆うと共に、前記二つの第1デバイス用遮光パターンが露出する第1窓と、前記二つの第1モニター用遮光パターンが露出する第2窓とを有して、前記第1デバイス用遮光パターンと第1のオーバーラップ量で重なり、且つ前記第1モニター用遮光パターンと前記第1のオーバーラップ量よりも小さい第2のオーバーラップ量で重なるレジストパターンを形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をエッチングすることにより、前記二つの第1デバイス用遮光パターンの間の前記石英基板に第1凹部を形成すると共に、前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記石英基板に第2凹部を形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をウエットエッチングして前記第1、第2凹部の幅を拡張することにより、前記第1デバイス用遮光パターンを前記第1凹部に張り出させると共に、前記第1モニター用遮光パターンを前記第2凹部に張り出させる工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記第2凹部と、前記第1モニター用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンの間の部分の透明基板のそれぞれに光を通すことにより、前記第2凹部と前記基板とでの透過光の位相差を第1の位相差として測定して、該第1の位相差が180°になっているか否かを確認する工程と、
を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法。
前記レジストパターンを形成する工程において、前記レジストパターンで前記第4モニター用遮光パターンを覆い、且つ前記二つの第3モニター用遮光パターンの上面の一部が露出する第3窓を前記レジストパターンに形成して、前記第3モニター用遮光パターンと前記レジストパターンとのオーバーラップ量を、前記第1デバイス用遮光パターンとのオーバーラップ量よりも大きくし、
前記第1、第2凹部を形成する工程において、前記第3窓を通じて前記透明基板をエッチングすることにより、前記二つの第3モニター用遮光パターンの間の前記透明基板に第3凹部を形成し、
前記第1、第2凹部の幅を拡張する工程において、前記第3凹部の幅も拡張して、前記第3モニター用遮光パターンを前記第3凹部に張り出させ、
前記二つの第3モニター用遮光パターンの間の前記第3凹部と、前記第3モニター用遮光パターンと前記第4モニター用遮光パターンの間の部分の透明基板のそれぞれに光を通すことにより、前記第3凹部と前記基板とでの透過光の位相差を第2の位相差として測定して、前記第1の位相差と前記第2の位相差が同じか否かにより、前記第1〜第3凹部を拡張する工程で前記透明基板に侵食が発生したかどうかを判断する工程を更に有することを特徴とする付記6又は付記8に記載の露光用マスクの製造方法。
Claims (10)
- デバイス領域に第1凹部を有し、モニター領域に第2凹部を有する透明基板と、
前記デバイス領域における前記透明基板上に第1の間隔をおいて形成され、前記第1凹部の両側からそれぞれ該第1凹部に張り出す二つの第1デバイス用遮光パターンと、
前記デバイス領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔で隔てられた第2デバイス用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板上に前記第1の間隔よりも広い第3の間隔をおいて形成され、前記第2凹部の両側からそれぞれ該第2凹部に張り出す二つの第1モニター用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔で隔てられた第2モニター用遮光パターンと、
を有し、
前記第1モニター用遮光パターンの寸法が、前記第1デバイス用遮光パターンの寸法以下であることを特徴とする露光用マスク。 - 前記第1モニター用遮光パターンの寸法と前記第1デバイス用遮光パターンの寸法とは、同一の断面における寸法であることを特徴とする請求項1に記載の露光用マスク。
- 前記第2デバイス用遮光パターン寄りの前記第1デバイス用遮光パターンの端面から第1の距離にある前記第1デバイス用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第1凹部に張り出る部分の前記第1デバイス用遮光パターンの上面の高さが低くされていると共に、
前記第2モニター用遮光パターン寄りの前記第1モニター用遮光パターンの端面から前記第1の距離よりも短い第2の距離にある前記第1モニター用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第2凹部に張り出る部分の前記第1モニター用遮光パターンの上面の高さが低くされていることを特徴とする請求項1に記載の露光用マスク。 - デバイス領域に第1凹部を有し、モニター領域に第2凹部を有する透明基板と、
前記デバイス領域における前記透明基板上に第1の間隔をおいて形成され、前記第1凹部の両側からそれぞれ該第1凹部に張り出す二つの第1デバイス用遮光パターンと、
前記デバイス領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔で隔てられた第2デバイス用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板上に前記第1の間隔よりも広い第3の間隔をおいて形成され、前記第2凹部の両側からそれぞれ該第2凹部に張り出す二つの第1モニター用遮光パターンと、
前記モニター領域における前記透明基板の平坦面上に形成され、前記第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔で隔てられた第2モニター用遮光パターンと、
を有し、
前記第2デバイス用遮光パターン寄りの前記第1デバイス用遮光パターンの端面から第1の距離にある前記第1デバイス用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第1凹部に張り出る部分の前記第1デバイス用遮光パターンの上面の高さが、該段より前記第1デバイス用遮光パターンの前記端面寄りの部分の高さよりも低くされていると共に、
前記第2モニター用遮光パターン寄りの前記第1モニター用遮光パターンの端面から前記第1の距離よりも短い第2の距離にある前記第1モニター用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第2凹部に張り出る部分の前記第1モニター用遮光パターンの上面の高さが、該段より前記第1モニター用遮光パターンの前記端面寄りの部分の高さよりも低くされていることを特徴とする露光用マスク。 - 前記モニター領域の前記透明基板に形成された第3凹部の両側から張り出すようにして形成され、前記第1の間隔よりも広い第5の間隔をおいて形成された二つの第3モニター用遮光パターンと、
前記第3モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第6の間隔をおいて前記モニター領域における前記透明基板の平坦面上に形成された第4モニター用遮光パターンとを有し、
前記第4モニター用遮光パターン寄りの前記第3モニター用遮光パターンの端面から前記第2の距離よりも長い第3の距離にある前記第3モニター用遮光パターンの上面に段が形成され、該段から前記第3凹部に張り出る部分の前記第3モニター用遮光パターンの上面の高さが低くされていることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の露光用マスク。 - 透明基板の上に遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜をパターニングすることにより、前記透明基板のデバイス領域に、第1の間隔で隔てられた二つの第1デバイス用遮光パターンと、該第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成すると共に、前記透明基板のモニター領域に、前記第1の間隔よりも広い第3の間隔で隔てられ、且つ前記第1デバイス用遮光パターンの寸法以下の寸法の二つの第1モニター用遮光パターンと、該第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成する工程と、
前記第2デバイス用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンを覆うと共に、前記二つの第1デバイス用遮光パターンの上面の一部が露出する第1窓と、前記二つの第1モニター用遮光パターンの上面の一部が露出する第2窓とを有するレジストパターンを形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をエッチングすることにより、前記二つの第1デバイス用遮光パターンの間の前記石英基板に第1凹部を形成すると共に、前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記石英基板に第2凹部を形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をウエットエッチングして前記第1、第2凹部の幅を拡張することにより、前記第1デバイス用遮光パターンを前記第1凹部に張り出させると共に、前記第1モニター用遮光パターンを前記第2凹部に張り出させる工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記第2凹部と、前記第1モニター用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンの間の部分の透明基板のそれぞれに光を通すことにより、前記第2凹部と前記基板とでの透過光の位相差を第1の位相差として測定して、該第1の位相差が180°になっているか否かを確認する工程と、
を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法。 - 前記第1デバイス用遮光パターンの寸法と前記第1モニター用遮光パターンの寸法として、同一の断面で測定された寸法を採用することを特徴とする請求項6に記載の露光用マスクの製造方法。
- 透明基板の上に遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜をパターニングすることにより、前記透明基板のデバイス領域に、第1の間隔で隔てられた二つの第1デバイス用遮光パターンと、該第1デバイス用遮光パターンから第2の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成すると共に、前記透明基板のモニター領域に、前記第1の間隔よりも広い第3の間隔で隔てられた二つの第1モニター用遮光パターンと、該第1モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第4の間隔がおかれた第2デバイス用遮光パターンを形成する工程と、
前記第2デバイス用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンとを覆うと共に、前記二つの第1デバイス用遮光パターンが露出する第1窓と、前記二つの第1モニター用遮光パターンが露出する第2窓とを有して、前記第1デバイス用遮光パターンと第1のオーバーラップ量で重なり、且つ前記第1モニター用遮光パターンと前記第1のオーバーラップ量よりも小さい第2のオーバーラップ量で重なるレジストパターンを形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をエッチングすることにより、前記二つの第1デバイス用遮光パターンの間の前記石英基板に第1凹部を形成すると共に、前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記石英基板に第2凹部を形成する工程と、
前記第1、第2窓を通じて前記透明基板をウエットエッチングして前記第1、第2凹部の幅を拡張することにより、前記第1デバイス用遮光パターンを前記第1凹部に張り出させると共に、前記第1モニター用遮光パターンを前記第2凹部に張り出させる工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
前記二つの第1モニター用遮光パターンの間の前記第2凹部と、前記第1モニター用遮光パターンと前記第2モニター用遮光パターンの間の部分の透明基板のそれぞれに光を通すことにより、前記第2凹部と前記基板とでの透過光の位相差を第1の位相差として測定して、該第1の位相差が180°になっているか否かを確認する工程と、
を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法。 - 前記遮光膜をパターニングする工程において、前記透明基板のモニター領域に、前記第1の間隔よりも広い第5の間隔で隔てられた二つの第3モニター用遮光パターンと、該第3モニター用遮光パターンから前記第2の間隔よりも広い第6の間隔がおかれた第4モニター用遮光パターンとを形成し、
前記レジストパターンを形成する工程において、前記レジストパターンで前記第4モニター用遮光パターンを覆い、且つ前記二つの第3モニター用遮光パターンの上面の一部が露出する第3窓を前記レジストパターンに形成して、前記第3モニター用遮光パターンと前記レジストパターンとのオーバーラップ量を、前記第1デバイス用遮光パターンとのオーバーラップ量よりも大きくし、
前記第1、第2凹部を形成する工程において、前記第3窓を通じて前記透明基板をエッチングすることにより、前記二つの第3モニター用遮光パターンの間の前記透明基板に第3凹部を形成し、
前記第1、第2凹部の幅を拡張する工程において、前記第3凹部の幅も拡張して、前記第3モニター用遮光パターンを前記第3凹部に張り出させ、
前記二つの第3モニター用遮光パターンの間の前記第3凹部と、前記第3モニター用遮光パターンと前記第4モニター用遮光パターンの間の部分の透明基板のそれぞれに光を通すことにより、前記第3凹部と前記基板とでの透過光の位相差を第2の位相差として測定して、前記第1の位相差と前記第2の位相差が同じか否かにより、前記第1〜第3凹部を拡張する工程で前記透明基板に侵食が発生したかどうかを判断する工程を更に有することを特徴とする請求項6又は請求項8に記載の露光用マスクの製造方法。 - 前記第3モニター用遮光パターンと前記レジストパターンとのオーバーラップ量として200nm以上の値を採用することを特徴とする請求項7に記載の露光用マスクの製造方法。
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