JP2006084442A - 薄膜及び微小領域熱物性測定方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】熱物性顕微鏡を用いて試料の熱反射信号を測定し、試料表面の微小領域及び薄膜の単位体積あたり熱容量、熱浸透率、熱拡散率を高い空間分解能により測定すること。
【解決手段】 モリブデンを成膜した参照試料表面を加熱用レーザビームにより加熱し、この加熱位置に加熱用レーザ径より小さな測温用レーザを照射し、検出したサーモリフレクタンス信号光に基づいて参照試料表面の温度変化の振幅を測定する。振幅を測定し表面のレーザに対する吸収量とサーモリフレクタンス信号の温度係数を求める。モリブデンを成膜した測定試料表面の温度変化の振幅の測定値を代入した式1と測定試料の位相の測定値を代入した式2とから薄膜の熱拡散率α及び熱浸透率bを求める。熱伝導率λ及び単位体積あたり熱容量Cを求める。
【選択図】図1
【解決手段】 モリブデンを成膜した参照試料表面を加熱用レーザビームにより加熱し、この加熱位置に加熱用レーザ径より小さな測温用レーザを照射し、検出したサーモリフレクタンス信号光に基づいて参照試料表面の温度変化の振幅を測定する。振幅を測定し表面のレーザに対する吸収量とサーモリフレクタンス信号の温度係数を求める。モリブデンを成膜した測定試料表面の温度変化の振幅の測定値を代入した式1と測定試料の位相の測定値を代入した式2とから薄膜の熱拡散率α及び熱浸透率bを求める。熱伝導率λ及び単位体積あたり熱容量Cを求める。
【選択図】図1
Description
本発明は熱反射法を用いて薄膜の単位体積あたり熱容量、熱浸透率分布、熱拡散率分布を測定する方法に関し、特に、熱物性顕微鏡を用いて標準試料、測定試料表面の微小領域に加熱用レーザと測定用レーザを集光させ、その測定用レーザの反射光を検出して測定用試料の熱物性値を算出する微小領域熱物性測定方法に関する。
従来の熱物性測定装置ではバルクの熱物性を測定している。代表的装置にはレーザフラッシュ法(熱拡散率測定)、3オメガ法(熱拡散率測定)、ACスキャニング法(熱拡散率測定)、熱物性顕微鏡(熱浸透率測定)などが挙げられる。
熱伝導測定方法にはレーザフラッシュ法が知られている。この方法は直径10mm、厚さ1mm以上の試料サイズが必要であり、測定した熱伝導率はその平均値を示す熱物性値であった。
薄膜は工業的に広く使用されており、特に半導体電子デバイスや記録媒体は集積及び性能向上のために微細構造化、複雑化が進んでいる。これらを構成する微小または薄膜の各素材の熱物性値はデバイスの熱設計において必要とされるが、一般的にその測定はバルク材料の測定に比べて難しい。
薄膜は工業的に広く使用されており、特に半導体電子デバイスや記録媒体は集積及び性能向上のために微細構造化、複雑化が進んでいる。これらを構成する微小または薄膜の各素材の熱物性値はデバイスの熱設計において必要とされるが、一般的にその測定はバルク材料の測定に比べて難しい。
1マイクロメートル以下の薄膜の熱拡散率を計測するためにピコ秒パルスレーザを用いた「ピコ秒サーモリフレクタンス法薄膜熱拡散率測定システム」が開発されている。ところが本システムでは1点の熱拡散率を計測するのに約30分かかり、試料表面の熱物性値分布の測定は時間的な制約のため、ほとんどが不可能である。
これらの問題を解消した、試料表面の微小領域及び薄膜の熱浸透率を高い空間分解能により測定することができる微小領域熱物性測定装置も開発されている。
本発明の目的は熱物性顕微鏡を用いて試料の熱反射信号を測定し、試料表面の微小領域及び薄膜の単位体積あたり熱容量、熱浸透率、熱拡散率を高い空間分解能により測定することができる薄膜及び微小領域熱物性測定方法を提供することにある。
上記の目的を達成する為、請求項1の発明に係る薄膜及び微小領域熱物性測定方法は、サーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより加熱するステップと、前記加熱用レーザビームによりサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面の加熱位置に加熱用レーザ径より小さな交流変調していない測温用レーザを照射するステップと、前記測温用レーザビームのサーモリフレクタンス信号光を検出するステップと、検出されたサーモリフレクタンス信号光に基づいて測定試料表面の温度変化を検出するステップと、サーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより加熱するステップと、前記加熱用レーザビームによるサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面の加熱位置に加熱用レーザ径より小さな交流変調していない測温用レーザを照射するステップと、標準試料表面の加熱位置に照射した測温用レーザのサーモリフレクタンス信号光を検出するステップと、前記検出されたサーモリフレクタンス信号光に基づいて標準試料表面の温度変化を検出するステップと、を備えていることを特徴とする。
請求項2の発明に係る薄膜及び微小領域熱物性測定方法は、特定の割合で分割したサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面とサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより交互に加熱するステップと、前記加熱用レーザビームによるサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面とサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面の加熱位置に加熱用レーザ径より小さな交流変調していない測温用レーザを同期して交互に照射するステップと、標準試料表面と測定試料表面の加熱位置に交互に照射した測温用レーザのサーモリフレクタンス信号光を検出するステップと、検出されたサーモリフレクタンス信号光に基づいて測定試料表面の温度変化を検出するステップと、を備えていることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1または2において、標準試料及び測定試料の測温用レーザビームの反射光強度変化の加熱用レーザビーム強度変化に対する位相遅れ及び強度変化から熱物性値を算出するステップを有することを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項1から3のいずれかの項において、標準試料及び測定試料表面に金属薄膜を形成するステップを有することを特徴とする。
請求項1の発明によれば、熱浸透率に加え単位体積あたり熱容量が測定され、この2つの熱物性値から熱伝導率が求められる。標準試料と測定試料をそれぞれ付け替えて測定するため前記試料を別々に用意できる。
請求項2の発明によれば、熱浸透率に加え単位体積あたり熱容量が測定され、この2つの熱物性値から熱伝導率が求められる。標準試料と測定試料は同一のホルダ上にあるため、自動的に測定ができる。
本発明はサーモリフレクタンス法及び高速周期加熱により薄膜微小領域の測定を可能とするとともに標準試料を用いることで単位体積あたり熱容量の測定を可能にした。
図7は本発明の薄膜及び微小領域熱物性測定方法を実施するための装置構成を示す概念図である。
XYステージ1は、XY方向の二次元に移動可能な機構になっており、X軸およびY軸の各方向へXYステージ1を移動させるドライバとそのドライバを動作させるコントローラを備えている。XYステージ1には、Z軸方向へ移動可能なZステージ1aが組み込まれており、そのZステージ1aのドライバとコントローラを備えている。各コントローラは、コンピュータ17によりCCDカメラ16で撮影した試料の座標位置およびレーザスポットに関する画像情報に基づいて制御される。Z軸方向の高さは、上記の自動焦点調整の他に、マニュアルにてモータの動作時間を決め、高さの微調整が行われる。コンピュータを通してマニュアル操作し、モータを動作させてZステージを動かす。試料3の表面には顕微鏡光学系4を通過した後に同一光軸上に重なった加熱用レーザビーム6と測温用レーザビーム5が照射される。
XYステージ1は、XY方向の二次元に移動可能な機構になっており、X軸およびY軸の各方向へXYステージ1を移動させるドライバとそのドライバを動作させるコントローラを備えている。XYステージ1には、Z軸方向へ移動可能なZステージ1aが組み込まれており、そのZステージ1aのドライバとコントローラを備えている。各コントローラは、コンピュータ17によりCCDカメラ16で撮影した試料の座標位置およびレーザスポットに関する画像情報に基づいて制御される。Z軸方向の高さは、上記の自動焦点調整の他に、マニュアルにてモータの動作時間を決め、高さの微調整が行われる。コンピュータを通してマニュアル操作し、モータを動作させてZステージを動かす。試料3の表面には顕微鏡光学系4を通過した後に同一光軸上に重なった加熱用レーザビーム6と測温用レーザビーム5が照射される。
加熱用レーザビーム6は、正弦波に振幅変調された赤外光であって、半導体レーザより構成される加熱用レーザ9から発せられる。測温用レーザビーム5は、例えばCWヘリウムネオンレーザ等の可視光によって構成され、測温用レーザ8から発せられる。ドライバ10は関数発生器11から出力される所定周波数の交流を加熱用レーザビーム6の変調に必要なパワーに処理し、加熱用レーザ9に出力する。
顕微鏡光学系4の光軸上には第1ビームスプリッター7と第2ビームスプリッター12が配置されている。第1ビームスプリッター7は、加熱用レーザビーム6を顕微鏡光学系4の光軸に一致して反射させ、また測温用レーザ9から発せられる測温用レーザビーム6を顕微鏡光学系4の光軸に一致して通過させるよう作用する。
第2ビームスプリッター12は、第1ビームスプリッター7を通過した加熱用レーザビーム5と第1ビームスプリッター7にて反射した測温用レーザビーム6を顕微鏡光学系4の光軸に一致して通過させると共に、試料表面で反射した加熱用レーザビーム6と測温用レーザビーム5を光ディテクタ13の入射光軸に一致して反射するよう作用する。
第2ビームスプリッター12で反射したレーザ光は、バンドパスフィルタ14により加熱用レーザビーム6の反射光を遮断し、測温用レーザビーム5の反射光のみを通過させて光ディテクタ13で検出する。第2ビームスプリッター12とバンドパスフィルタ14との間には、回転可能なミラー15が配置されており、このミラー15をレーザ光に対し平行に位置させてレーザ光を光ディテクタ13へ入射させ、又はミラー15を所定の角度回転させてレーザ光をCCDカメラ16へ導くようになっている。CCDカメラ16に入射した両反射光によりモニタ19上に像を映出し、この像を見ながら加熱用レーザビーム6と測温用レーザビーム5の試料表面上のスポットサイズ、位置合わせを行う。
ロックインアンプ18は、光ディテクタ13で検出した測温用レーザビーム5の強度変化に応じた検出信号のうち、加熱用レーザビーム5の強度変化に比例する参照信号に同期した成分を増幅し、参照信号に対する熱反射信号の位相遅れを得る。
ロックインアンプ18は、光ディテクタ13で検出した測温用レーザビーム5の強度変化に応じた検出信号のうち、加熱用レーザビーム5の強度変化に比例する参照信号に同期した成分を増幅し、参照信号に対する熱反射信号の位相遅れを得る。
熱物性値として代表的なものは熱伝導率λ、熱拡散率α、熱浸透率b、単位体積あたりの熱容量Cが知られている。
これらの熱物性値には式1、式2の関係がある。
これらの熱物性値には式1、式2の関係がある。
本実施例では、図7に示す微小領域熱物性測定装置(熱物性顕微鏡)を用いて、単位体積当たりの熱容量を測定する。式1より熱伝導率λ、式2より熱拡散率αが得られる。
示差法による熱物性測定の手順を説明する。図1は熱物性値の測定フローを示す。
測定試料及び標準試料表面のそれぞれにモリブデンを成膜するか、或いは測定試料及び標準試料を同一基材上に作製し、この測定試料及び標準試料表面にモリブデンを成膜する(ステップS1)。先ず金属薄膜を形成した標準試料を装置にセットし、標準試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより加熱し、この加熱位置に加熱用レーザ径より小さな測温用レーザを照射し、検出したサーモリフレクタンス信号光に基づいて標準試料表面の温度変化を検出し、この温度変化の振幅を測定する(ステップS2)。振幅を測定し表面のレーザに対する吸収量とサーモリフレクタンス信号の温度係数を求める(ステップS3)。
測定試料及び標準試料表面のそれぞれにモリブデンを成膜するか、或いは測定試料及び標準試料を同一基材上に作製し、この測定試料及び標準試料表面にモリブデンを成膜する(ステップS1)。先ず金属薄膜を形成した標準試料を装置にセットし、標準試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより加熱し、この加熱位置に加熱用レーザ径より小さな測温用レーザを照射し、検出したサーモリフレクタンス信号光に基づいて標準試料表面の温度変化を検出し、この温度変化の振幅を測定する(ステップS2)。振幅を測定し表面のレーザに対する吸収量とサーモリフレクタンス信号の温度係数を求める(ステップS3)。
同様に測定試料の位相遅れと振幅を測定する(ステップS4)。次に測定試料の振幅の測定値を式1に入力し、薄膜の熱拡散率と薄膜の熱浸透率が未知数の式を得る(ステップS5)。そして測定試料の位相の測定値を式2に入力し、薄膜の熱浸透率と薄膜の熱浸透率が未知数の式を得る(ステップS6)。前記の式1および式2から、薄膜の熱拡散率α及び熱浸透率bを求める(ステップS7)。単位体積あたり熱容量Cを求める(ステップS8)。
2層系の式から単位体積あたり熱容量を求める方法について説明する。本実施例はモリブデン以外の材料を測定する場合である。
図2は本発明の第1実施例に用いた2層系の試料の模式図を示す。図7に示す微小領域熱物性測定装置により、2層系の試料の加熱光に対する温度応答の位相遅れと振幅を測定する。薄膜と基板の2層系の試料を測定したときの周期加熱に対する温度応答の式(振幅)を式3に示す。この式3は2層系であるため抜熱が考慮された式である。
本発明の他の単位体積あたり熱容量測定を説明する。
図3に示すパイレックス(登録商標)上にプラスチック(薄膜)が成膜された試料(測定試料)と図4に示すチタンのバルク試料(参照試料)を用意する。測定試料は表面には測定用のMoコーティングが施されており、このMoコーティングはプラスチック(薄膜)よりも十分薄く、熱容量が無視できる。参照試料はチタンの基板の上にチタンの薄膜を成膜した試料とみなす。図4において、チタン基板とチタン薄膜の間は一体であり、図示の境界線は便宜上設けたものである。
図3に示すパイレックス(登録商標)上にプラスチック(薄膜)が成膜された試料(測定試料)と図4に示すチタンのバルク試料(参照試料)を用意する。測定試料は表面には測定用のMoコーティングが施されており、このMoコーティングはプラスチック(薄膜)よりも十分薄く、熱容量が無視できる。参照試料はチタンの基板の上にチタンの薄膜を成膜した試料とみなす。図4において、チタン基板とチタン薄膜の間は一体であり、図示の境界線は便宜上設けたものである。
パイレックス(登録商標)上にプラスチック(薄膜)が成膜された試料の測定を行う。ここで、Am:振幅(測定量)、ω:角周波数、bsm:基板の熱浸透率、dfm:薄膜の厚みが既知でkfm:薄膜の熱拡散率とbfm:薄膜の熱浸透率とq:表面のレーザに対する吸収量とr:サーモリフレクタンス信号の温度係数が未知数となる。qとrは掛け合わせたものを一括して係数として扱う。測定量1つに対して未知数は3つとなる。
チタンのバルク試料(参照試料)の測定を行う。ここで、Ar:振幅(測定量)、ω:角周波数、bsr:基板の熱浸透率、dfr:薄膜の厚み、kfr:薄膜の熱拡散率、bfr:薄膜の熱浸透率が既知である。q:表面のレーザに対する吸収係数とr:サーモリフレクタンス信号の温度係数が未知数となる。qとr以外は測定量と既知の数である。qとrを掛け合わせた数値が求められ。
参照試料は表面のレーザに対する吸収係数qとサーモリフレクタンス信号の温度係数rを求めるために用いられる。抜熱が考慮された2層系の式を用いているため、試料の熱物性値が既知であればqとrが求められる。よって熱物性値が既知であれば参照試料として使用できる。
図3の測定試料と図4の参照試料を用いたMo,Al薄膜の比熱容量測定について説明する。
熱物性顕微鏡を用いて測定試料及び参照試料の熱反射信号を測定する。測定試料の熱反射信号振幅をA1,位相差をθ1とする。参照試料の熱反射信号振幅をA2とする。式3に熱反射信号振幅A1及び各既知数を代入する。
熱物性顕微鏡を用いて測定試料及び参照試料の熱反射信号を測定する。測定試料の熱反射信号振幅をA1,位相差をθ1とする。参照試料の熱反射信号振幅をA2とする。式3に熱反射信号振幅A1及び各既知数を代入する。
測定量1つに対して未知数は3つとなる。式3に熱反射信号振幅A2及び各既知数を代入する。Lを除き全て既知数となる。L=q×rを求め、式3に代入し、式3.2を得る。
2層系の式から求めた、周期加熱に対する温度応答の式(位相)を以下に示す。
ここで、パイレックス(登録商標)上にプラスチック(薄膜)が成膜された測定試料(図3参照。)で位相を測定した場合を考える。ここで、δm:位相遅れ(測定量)、ω:角周波数、bsm:基板の熱浸透率、dfm:薄膜の厚みが既知である。kfm:薄膜の熱拡散率とbfm:薄膜の熱浸透率が未知数である。なお、表面のレーザに対する吸収量qとサーモリフレクタンス信号の温度係数rは位相に影響を与えない。
振幅の測定量Arと薄膜の熱拡散率kfmおよび薄膜の熱浸透率bfmが未知数の組み合わせと、位相遅れの測定量δmと薄膜の熱拡散率kfmおよび薄膜の熱浸透率bfmが未知数の組み合わせを得た。薄膜の熱拡散率kfmと薄膜の熱浸透率bfmは振幅と位相で共通の値であるので、測定量2つに対して未知数が2つとなる。薄膜の熱拡散率kfmと薄膜の熱浸透率bfmが求められる。また、密度を既知とすると熱伝導率及び比熱容量が求められる。
次に2層系を用いて、基板の熱物性値と薄膜の厚みが既知とした場合の比熱容量測定について説明する。試料は図5に示す。測定対象の薄膜の表面にMoを熱的な厚さや熱容量が無視できるように十分に薄くスパッタする。Mo薄膜は2層系の式で無視する。
熱物性顕微鏡を用いて試料の熱反射信号を周波数を変えて2回測定する。試料の1回目の測定位相差をθ1,2回目の測定位相差をθ2とする。
式4に位相差θ1及び各既知数を代入する。式4は未知数2つの式(式4.1)となる。
式3.2は薄膜の熱拡散率kf、薄膜の熱浸透率bfの未知数2つである。式4.1は薄膜の熱拡散率kf、薄膜の熱浸透率bfの未知数2つである。連立方程式によりkf、bfを求める。
式4に位相差θ1及び各既知数を代入する。式4は未知数2つの式(式4.1)となる。
式3.2は薄膜の熱拡散率kf、薄膜の熱浸透率bfの未知数2つである。式4.1は薄膜の熱拡散率kf、薄膜の熱浸透率bfの未知数2つである。連立方程式によりkf、bfを求める。
本実施例ではMo薄膜の熱拡散率、熱浸透率が求められる。下式の計算により熱伝導率λ、単位体積あたり熱容量Cが求まる。
Mo以外の薄膜もでも同様な方法により薄膜の熱物性値が得られる。しかしながら、熱反射信号を大きく取るためにはMo,Alが最適で他の物質では小さいので精度が落ちる。
Mo,Al以外の薄膜における単位体積あたり熱容量測定について説明する。
試料は図5の測定試料、図6の参照試料を用いる。測定試料は基板上に測定対象の薄膜及びMo薄膜が成膜されている。参照試料は基板上にMo薄膜または単位体積あたり熱容量の分かっている標準薄膜及びMoが成膜されている。
試料は図5の測定試料、図6の参照試料を用いる。測定試料は基板上に測定対象の薄膜及びMo薄膜が成膜されている。参照試料は基板上にMo薄膜または単位体積あたり熱容量の分かっている標準薄膜及びMoが成膜されている。
熱物性顕微鏡を用いて測定試料及び参照試料の熱反射信号を測定する。測定試料の熱反射信号振幅をA3とする。参照試料の熱反射信号振幅をArefとする。測定対象の単位体積あたり熱容量Cは、下式から求められる。
C=(Aref/A3)Cref
測定対象の薄膜熱浸透率は従来法で求めることができる。計算により熱伝導率λ、単位体積あたり熱容量Cが求められる。
C=(Aref/A3)Cref
測定対象の薄膜熱浸透率は従来法で求めることができる。計算により熱伝導率λ、単位体積あたり熱容量Cが求められる。
本実施例は連立方程式から単位体積あたり熱容量を求めるものである。
式5,式6の連立方程式より薄膜熱拡散率、薄膜熱浸透率が求まる。密熱伝導率も求まる。
式5,式6の連立方程式より薄膜熱拡散率、薄膜熱浸透率が求まる。密熱伝導率も求まる。
式5をβについて解く。
式7に式8を代入しψについて数値解を求める。数値解を求める際にはニュートン法等を用いる。
求められたψを式7に代入し、βを求める。
ψとβ及び、定数のω,df,bsを用い式8から熱拡散率kf、熱浸透率bfを求める。
求められたψを式7に代入し、βを求める。
ψとβ及び、定数のω,df,bsを用い式8から熱拡散率kf、熱浸透率bfを求める。
密度ρを既知とすると式9から比熱容量cが求められる。
本発明を実施する際、好ましい条件として、モリブデンをスパッタして表面状態を同一にする。これにより表面のレーザに対する吸収係数及びサーモリフレクタンス信号の温度係数を揃える。モリブデンの熱的な厚さや熱容量が無視できるように十分に薄くスパッタする。
本発明によれば、2層系の式を用いていることから、振幅及び位相から単位体積あたり熱容量、熱浸透率、熱拡散率がもとめられる。また、熱伝導率が求められる。
本発明によれば、2層系の式を用いていることから、振幅及び位相から単位体積あたり熱容量、熱浸透率、熱拡散率がもとめられる。また、熱伝導率が求められる。
3 試料
4 顕微鏡光学系
5 測温用レーザビーム
6 加熱用レーザビーム
16 CCDカメラ
17 コンピュータ
4 顕微鏡光学系
5 測温用レーザビーム
6 加熱用レーザビーム
16 CCDカメラ
17 コンピュータ
Claims (4)
- サーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより加熱するステップと、
前記加熱用レーザビームによりサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面の加熱位置に加熱用レーザ径より小さな交流変調していない測温用レーザを照射するステップと、
前記測温用レーザビームのサーモリフレクタンス信号光を検出するステップと、
検出されたサーモリフレクタンス信号光に基づいて測定試料表面の温度変化を検出するステップと、
サーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより加熱するステップと、
前記加熱用レーザビームによるサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面の加熱位置に加熱用レーザ径より小さな交流変調していない測温用レーザを照射するステップと、
標準試料表面の加熱位置に照射した測温用レーザのサーモリフレクタンス信号光を検出するステップと、
前記検出されたサーモリフレクタンス信号光に基づいて標準試料表面の温度変化を検出するステップと、
を備えていることを特徴とする薄膜及び微小領域熱物性測定方法。 - 特定の割合で分割したサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面とサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面を交流変調した加熱用レーザビームにより交互に加熱するステップと、
前記加熱用レーザビームによるサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた標準試料表面とサーモリフレクタンス信号用薄膜がスパッタされた測定試料表面の加熱位置に加熱用レーザ径より小さな交流変調していない測温用レーザを同期して交互に照射するステップと、
標準試料表面と測定試料表面の加熱位置に交互に照射した測温用レーザのサーモリフレクタンス信号光を検出するステップと、
検出されたサーモリフレクタンス信号光に基づいて測定試料表面の温度変化を検出するステップと、
を備えていることを特徴とする薄膜及び微小領域熱物性測定方法。 - 請求項1または2において、標準試料及び測定試料の測温用レーザビームの反射光強度変化の加熱用レーザビーム強度変化に対する位相遅れ及び強度変化から熱物性値を算出するステップを有することを特徴とする薄膜及び微小領域熱物性測定方法。
- 請求項1から3のいずれかの項において、標準試料及び測定試料表面に金属薄膜を形成するステップを有することを特徴とする薄膜及び微小領域熱物性測定方法。
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