JP2006076858A - 複合セラミックス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】窒化ケイ素及び炭素と、炭化ホウ素あるいはホウ素を用いて、窒化ケイ素粒子の表面に、5nmを超えない窒化ホウ素の薄膜を形成したことを特徴とする窒化ケイ素基複合セラミックス及びその製造方法。
【効果】窒化ケイ素の高温での分解を抑制することを可能とする、高温特性に優れた新規窒化ケイ素複合セラミックス材料を提供することができる。
【選択図】図2
Description
れる窒化ホウ素は、粒子の形状で窒化ケイ素粒子の周囲に存在している。こうした窒化ホウ素粒子の分布状態では、窒化ケイ素粒子が高温で分解する反応を抑制する作用が小さいという問題があった。
本発明の窒化ケイ素複合セラミックスにおいて、前記BN相の厚みが5nmを超えないこと、窒化ホウ素が、5〜40vol%含まれること、BN相が窒化ケイ素粒子の周囲に層状になって存在していること、が特徴とされる。
本発明では、前記窒化ケイ素複合セラミックスを構成要素として含む耐熱性部材が提供される。また、本発明では、窒化ケイ素、炭素、及びホウ素化合物を含む混合粉末原料を用いて、成形、焼成して窒化ケイ素基複合セラミックスを製造する方法において、焼成過程中で、前記混合粉末のその場反応により合成したBNで、窒化ケイ素粒子の周囲にBN相を形成することを特徴とする窒化ケイ素複合セラミックスの製造方法が提供される。本方法では、ホウ素化合物が、炭化ホウ素、ホウ素元素、又はホウ素の酸化物であること、BN相の厚みを、5nmを超えない範囲で調整すること、BNの量を5〜40vol%の範囲で調整すること、前記焼成が、1400〜2000℃の温度で行われること、が特徴とされる。
本発明は、窒化ケイ素、炭素と、炭化ホウ素あるいはホウ素との化学反応を利用して、窒化ケイ素粒子の表面が、その場反応により合成した窒化ホウ素で覆われた、新規窒化ケイ素−SiC−BN複合材料を提供することを特徴とするものである。更に詳しく説明すると、本発明では、次の化学反応に基づいて、窒化ケイ素−SiC−BN複合材料を製造する:
(1+x)Si3N4+B4C+2C=xSi3N4+3SiC+4BN
(1+x)Si3N4+4B+3C=xSi3N4+3SiC+4BN
比較例として、Si3N4(平均粒径0.5ミクロン)粉末、SiC粉末とBN粉末(平均粒径4ミクロン)を用いて、実施例1の焼成後の複合セラミックスと、同じ組成となるように混合粉末を調製し、同じ過程で成形し、1700℃で焼成した後、アルゴン雰囲気中で1700℃までの失重量分析(TG)を行った。1700℃までの重量減量率は24.9%であった。TG分析後の試料のTEM分析を行った結果、BNは、薄片の形状で窒化ケイ素粒子の周囲に存在することが確認された。X線回折分析によれば、窒化ケイ素粒子は全てSiに分解したことが確認された(図3)。以上の実施例及び比較例から、本発明の複合材料は、高温において分解しにくい特徴を有するものであることが明らかである。
Claims (10)
- 少なくとも窒化ケイ素(Si3N4)、炭化珪素(SiC)、及び窒化ホウ素(BN)を構成相とする窒化ケイ素基複合セラミックスであって、BN相が窒化ケイ素マトリックスの周囲に存在していることを特徴とする窒化ケイ素複合セラミックス。
- 前記BN相の厚みが5nmを超えない請求項1に記載の窒化ケイ素複合セラミックス。
- 窒化ホウ素が、5〜40vol%含まれる請求項1に記載の窒化ケイ素複合セラミックス。
- BN相が窒化ケイ素粒子の周囲に層状になって存在している請求項1に記載の窒化ケイ素複合セラミックス。
- 請求項1から4のいずれかに記載の、BN相が窒化ケイ素の周囲に存在している窒化ケイ素複合セラミックスからなることを特徴とする耐熱性部材。
- 窒化ケイ素、炭素、及びホウ素化合物を含む混合粉末原料を用いて、成形、焼成して窒化ケイ素基複合セラミックスを製造する方法において、焼成過程で、前記混合粉末のその場反応により合成したBNで、窒化ケイ素粒子の周囲にBN相を形成することを特徴とする窒化ケイ素複合セラミックスの製造方法。
- ホウ素化合物が、炭化ホウ素、ホウ素元素、又はホウ素の酸化物である請求項6に記載の窒化ケイ素複合セラミックスの製造方法。
- BN相の厚みを、5nmを超えない範囲で調整する請求項6に記載の窒化ケイ素複合セラミックスの製造方法。
- BNの量を5〜40vol%の範囲で調整する請求項6に記載の窒化ケイ素複合セラミックスの製造方法。
- 前記焼成が、1400〜2000℃の温度で行われる請求項6に記載の窒化ケイ素複合セラミックスの製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011111665A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Tohoku Univ | 稀少金属の製造方法 |
CN104072147A (zh) * | 2013-03-29 | 2014-10-01 | 北京市理化分析测试中心 | 一种氮化硅蜂窝陶瓷的制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62153171A (ja) * | 1985-09-06 | 1987-07-08 | 株式会社トクヤマ | 複合焼結体の製造方法 |
JPH07330421A (ja) * | 1994-06-09 | 1995-12-19 | Hitachi Ltd | 窒化硼素含有セラミックス及びその製法 |
JPH08175874A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-09 | Honda Motor Co Ltd | 炭化珪素と窒化珪素の複合焼結体の製造方法 |
JPH11335169A (ja) * | 1998-05-25 | 1999-12-07 | Osaka Gas Co Ltd | 炭素含有セラミック焼結体 |
JP2002003276A (ja) * | 2000-06-16 | 2002-01-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化ケイ素−窒化ホウ素複合材料の反応合成 |
JP2003020281A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-24 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 非酸化物系窒化ホウ素複合材料の反応合成 |
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2004
- 2004-09-13 JP JP2004264903A patent/JP2006076858A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62153171A (ja) * | 1985-09-06 | 1987-07-08 | 株式会社トクヤマ | 複合焼結体の製造方法 |
JPH07330421A (ja) * | 1994-06-09 | 1995-12-19 | Hitachi Ltd | 窒化硼素含有セラミックス及びその製法 |
JPH08175874A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-09 | Honda Motor Co Ltd | 炭化珪素と窒化珪素の複合焼結体の製造方法 |
JPH11335169A (ja) * | 1998-05-25 | 1999-12-07 | Osaka Gas Co Ltd | 炭素含有セラミック焼結体 |
JP2002003276A (ja) * | 2000-06-16 | 2002-01-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化ケイ素−窒化ホウ素複合材料の反応合成 |
JP2003020281A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-24 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 非酸化物系窒化ホウ素複合材料の反応合成 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011111665A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Tohoku Univ | 稀少金属の製造方法 |
CN104072147A (zh) * | 2013-03-29 | 2014-10-01 | 北京市理化分析测试中心 | 一种氮化硅蜂窝陶瓷的制备方法 |
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