JP2006066897A - 容量素子及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 コンタクト領域とチャネル形成領域とのオフセット長を変えることにより、作製工程を増やすことなくMOSキャパシタの容量を変化させることが可能となる、さらにオフセット長を変えるだけでn型MOSキャパシタとp型MOSキャパシタを同一基板上に作製することが可能になる。また、オフセット長は固定し、チャネル形成領域への不純物のドーズ量を変えることでもn型MOSキャパシタとp型MOSキャパシタを同一基板上に作製することが可能になる。
【選択図】 図7
Description
ゲート絶縁膜(酸化珪素膜)の膜厚:50nm
島状半導体膜(珪素膜)の膜厚:50nm
ゲートコンタクトエリア:10×1μm2(図7(B)参照)
コンタクト領域の不純物及び不純物濃度:リン、1×1019cm-3
チャネル形成領域の不純物及び不純物濃度:ボロン、1×1015cm-3
101 チャネル形成領域
102 ゲート絶縁膜
103 ゲート電極
200 コンタクト領域
201 チャネル形成領域
202 ゲート絶縁膜
203 ゲート電極
300 コンタクト領域
301 チャネル形成領域
302 ゲート絶縁膜
303 ゲート電極
400 p型半導体基板
401 n型ウェル
402 ゲート絶縁膜
403 ゲート電極
600 コンタクト領域
601 チャネル形成領域
602 ゲート絶縁膜
603 ゲート電極
604 コンタクト電極
Claims (8)
- 半導体層中のチャネル形成領域及びコンタクト領域と、
前記チャネル形成領域上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、
前記コンタクト領域上のコンタクト電極と、
を有し、
前記コンタクト領域の不純物濃度は、前記チャネル形成領域の不純物濃度より高く、
前記ゲート電極の端部、並びに前記コンタクト領域及び前記チャネル形成領域との境界との間には距離があることを特徴とする容量素子。 - 請求項1において、
前記コンタクト領域は、前記チャネル形成領域と逆の導電型を有することを特徴とする容量素子。 - 請求項1において、
前記コンタクト領域は、前記チャネル形成領域と同じ導電型を有することを特徴とする容量素子。 - 複数の容量素子を有し、
前記複数の容量素子のそれぞれは、
半導体層中のチャネル形成領域及びコンタクト領域と、
前記チャネル形成領域上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、
前記コンタクト領域上のコンタクト電極と、
を有し、
前記コンタクト領域の不純物濃度は、前記チャネル形成領域の不純物濃度より高く、
前記複数の容量素子は、前記ゲート電極の端部、並びに前記コンタクト領域及び前記チャネル形成領域との境界との間の距離が異なることを特徴とする半導体装置。 - 複数の容量素子を有し、
前記複数の容量素子のそれぞれは、
半導体層中のチャネル形成領域及びコンタクト領域と、
前記チャネル形成領域上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、
前記コンタクト領域上のコンタクト電極と、
を有し、
前記コンタクト領域の不純物濃度は、前記チャネル形成領域の不純物濃度より高く、
前記複数の容量素子において、前記ゲート電極の端部、並びに前記コンタクト領域及び前記チャネル形成領域との境界との間の距離が異なり、
前記複数の容量素子は、極性が異なることを特徴とする半導体装置。 - 複数の容量素子を有し、
前記複数の容量素子のそれぞれは、
半導体層中のチャネル形成領域及びコンタクト領域と、
前記チャネル形成領域上のゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上のゲート電極と、
前記コンタクト領域上のコンタクト電極と、
を有し、
前記コンタクト領域の不純物濃度は、前記チャネル形成領域の不純物濃度より高く、
前記複数の容量素子は、前記チャネル形成領域の不純物濃度が異なることを特徴とする半導体装置。 - 請求項4乃至請求項6のいずれか1項において、
前記コンタクト領域は、前記チャネル形成領域と逆の導電型を有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項4乃至請求項6のいずれか1項において、
前記コンタクト領域は、前記チャネル形成領域と同じ導電型を有することを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005213720A JP2006066897A (ja) | 2004-07-30 | 2005-07-25 | 容量素子及び半導体装置 |
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JP2004224731 | 2004-07-30 | ||
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04144273A (ja) * | 1990-10-05 | 1992-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JPH088401A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-12 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2000138346A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-16 | Fujitsu Ltd | Mos型容量素子、液晶表示装置、半導体集積回路装置、およびその製造方法 |
JP2001516955A (ja) * | 1997-09-11 | 2001-10-02 | テレフオンアクチーボラゲツト エル エム エリクソン | 電気デバイスおよびその製造方法 |
JP2002026254A (ja) * | 2000-07-03 | 2002-01-25 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路および不揮発性メモリ |
JP2003347419A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-07-25 JP JP2005213720A patent/JP2006066897A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04144273A (ja) * | 1990-10-05 | 1992-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JPH088401A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-12 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2001516955A (ja) * | 1997-09-11 | 2001-10-02 | テレフオンアクチーボラゲツト エル エム エリクソン | 電気デバイスおよびその製造方法 |
JP2000138346A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-16 | Fujitsu Ltd | Mos型容量素子、液晶表示装置、半導体集積回路装置、およびその製造方法 |
JP2002026254A (ja) * | 2000-07-03 | 2002-01-25 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路および不揮発性メモリ |
JP2003347419A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
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