JP2006032937A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007242895A (ja) * 2006-03-08 2007-09-20 Mitsubishi Electric Corp 薄膜トランジスタ装置及びその製造方法
US20100061220A1 (en) * 2006-11-10 2010-03-11 Gore Makarand P Optical data recording and imaging on media using apochromatic lenses
EP2097897A4 (en) * 2006-11-10 2009-11-18 Hewlett Packard Development Co OPTICAL DATA RECORDING AND IMAGING ON MEDIA BY APOCHROMATES AND LENS SEPARATION DEVICE
KR100778316B1 (ko) * 2006-12-19 2007-11-22 (주)티원프리시젼 레이저를 이용한 액정패널의 흑화장치 및 방법
US20080206897A1 (en) * 2007-02-27 2008-08-28 Woo Sik Yoo Selective Depth Optical Processing
KR101657185B1 (ko) * 2009-12-18 2016-09-19 동우 화인켐 주식회사 노광장치
JP2013055111A (ja) * 2011-09-01 2013-03-21 Phoeton Corp レーザ光合成装置、レーザアニール装置およびレーザアニール方法
CN103165422A (zh) * 2013-03-08 2013-06-19 上海和辉光电有限公司 以高能辐射源形成多晶硅的方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3017277B2 (ja) * 1989-12-07 2000-03-06 株式会社リコー 光アニール装置
JP3221724B2 (ja) * 1992-05-13 2001-10-22 株式会社リコー 光アニール方法及び装置
JP2000058478A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Toshiba Corp エキシマレーザアニール装置および半導体膜の製造方法
JP2001345284A (ja) * 2000-06-01 2001-12-14 Hitachi Ltd レーザアニールin−situ膜質評価装置
JP5201614B2 (ja) * 2001-07-23 2013-06-05 株式会社日本製鋼所 レーザ光の照射方法及びその装置
JP4009114B2 (ja) * 2002-02-06 2007-11-14 株式会社リコー レーザ光学装置

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