JP2006032937A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005178560A JP5078239B2 (ja) | 2004-06-18 | 2005-06-17 | レーザ照射方法及びレーザ照射装置、並びに非単結晶を結晶化する方法及び半導体装置を作製する方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004180574 | 2004-06-18 | ||
| JP2004180574 | 2004-06-18 | ||
| JP2005178560A JP5078239B2 (ja) | 2004-06-18 | 2005-06-17 | レーザ照射方法及びレーザ照射装置、並びに非単結晶を結晶化する方法及び半導体装置を作製する方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012001823A Division JP5459912B2 (ja) | 2004-06-18 | 2012-01-10 | 半導体装置の作製方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006032937A JP2006032937A (ja) | 2006-02-02 |
| JP2006032937A5 true JP2006032937A5 (enExample) | 2008-07-17 |
| JP5078239B2 JP5078239B2 (ja) | 2012-11-21 |
Family
ID=35898853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005178560A Expired - Fee Related JP5078239B2 (ja) | 2004-06-18 | 2005-06-17 | レーザ照射方法及びレーザ照射装置、並びに非単結晶を結晶化する方法及び半導体装置を作製する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5078239B2 (enExample) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007242895A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜トランジスタ装置及びその製造方法 |
| US20100061220A1 (en) * | 2006-11-10 | 2010-03-11 | Gore Makarand P | Optical data recording and imaging on media using apochromatic lenses |
| EP2097897A4 (en) * | 2006-11-10 | 2009-11-18 | Hewlett Packard Development Co | OPTICAL DATA RECORDING AND IMAGING ON MEDIA BY APOCHROMATES AND LENS SEPARATION DEVICE |
| KR100778316B1 (ko) * | 2006-12-19 | 2007-11-22 | (주)티원프리시젼 | 레이저를 이용한 액정패널의 흑화장치 및 방법 |
| US20080206897A1 (en) * | 2007-02-27 | 2008-08-28 | Woo Sik Yoo | Selective Depth Optical Processing |
| KR101657185B1 (ko) * | 2009-12-18 | 2016-09-19 | 동우 화인켐 주식회사 | 노광장치 |
| JP2013055111A (ja) * | 2011-09-01 | 2013-03-21 | Phoeton Corp | レーザ光合成装置、レーザアニール装置およびレーザアニール方法 |
| CN103165422A (zh) * | 2013-03-08 | 2013-06-19 | 上海和辉光电有限公司 | 以高能辐射源形成多晶硅的方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3017277B2 (ja) * | 1989-12-07 | 2000-03-06 | 株式会社リコー | 光アニール装置 |
| JP3221724B2 (ja) * | 1992-05-13 | 2001-10-22 | 株式会社リコー | 光アニール方法及び装置 |
| JP2000058478A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-25 | Toshiba Corp | エキシマレーザアニール装置および半導体膜の製造方法 |
| JP2001345284A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-14 | Hitachi Ltd | レーザアニールin−situ膜質評価装置 |
| JP5201614B2 (ja) * | 2001-07-23 | 2013-06-05 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ光の照射方法及びその装置 |
| JP4009114B2 (ja) * | 2002-02-06 | 2007-11-14 | 株式会社リコー | レーザ光学装置 |
-
2005
- 2005-06-17 JP JP2005178560A patent/JP5078239B2/ja not_active Expired - Fee Related
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