JP2006032496A - 反射防止膜の形成方法及び塗膜形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の反射防止膜の形成方法は、基板の段差を有する表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、前記基板の表面上に反射防止膜材料を滴下し、前記基板の回転による遠心力と前記基板表面に垂直な力とによって、前記反射防止膜材料を塗布して反射防止膜を形成することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
また、反射防止膜材料に基板の回転による遠心力を与えた後、基板表面に垂直な力を与えるときも、同様に基板上の下地段差の疎密に依存せず、反射防止膜材料を均一な膜厚で塗布することができる。
基板表面に垂直な力として、基板表面を上向きにして基板を加速度をもって上昇したときに発生する力を用いることにより、基板上の反射防止膜材料に対して、基板表面に垂直な力を適切に与えることができる。また、本方法を実施する装置を実用的な大きさにすることができる。
基板駆動手段を、基板表面を上向きにして基板を加速度をもって上昇させる昇降機構で構成することにより、基板表面に垂直な力を適切に与えることができ、本装置を実用的な大きさで構成することができる。
本実施の形態に係る塗膜形成装置は、基板を回転させるいわゆる回転塗布機構と、基板を加速度をもって上昇させることができる昇降機構とを有して成る。すなわち、本実施の形態に係る塗膜形成装置1は、チャンバー2内に、塗膜材料を塗布すべき基板すなわち被塗布基板、本例では、シリコン半導体基板21を保持する基板保持手段3と、塗膜材料(所要の粘度を有する液体)を基板21の面に滴下する滴下手段である塗膜材料用ノズル4が設けられている。基板保持手段3は、半導体基板21を真空吸着で保持するための真空チャック5を有し、回転手段となるモータ6により回転可能に構成される。チャンバー2には、上下移動するためのスライダー8とスライダーを支えるレール9と図示しないが駆動源とからなる昇降機構が設けられる。この昇降機構は、基板21と共にチャンバー2を加速度をもって上昇させることが出来るように構成される。さらにチャンバー2には、塗布時の塗膜材料の残液を排出する排液口7が設けられる。
本発明の反射防止膜の形成方法の他の実施の形態としては、図1の塗膜形成装置1を用い、基板保持手段3の回転動作と、チャンバー2の上昇動作を個別に行うようにして塗布することができる。すなわち、基板21に反射防止膜材料31Aを滴下し、基板21を回転させて通常の塗布を行った後、直ちに基板21をチャンバー2と共に加速度をもって上昇させて反射防止膜材料の膜厚を均すようにして、反射防止膜を形成する。
この実施の形態に係る反射防止膜の形成方法においても、上述の実施の形態と同様に、基板21上の下地段差パターンの疎密に依存せずに均一な膜厚の反射防止膜を形成することができる。よって、その後の選択エッチング工程でのエッチング精度を良好にし、高精度の配線パターンを形成することができ、歩留りの向上を図ることができる。
本実施の形態に係る塗膜形成装置11は、被塗布基板21を保持して自転させるための基板自転機構と、被塗布基板21を公転させるための回転ドラム12を有する基板公転機構と、被塗布基板21の表面上に塗布材料を滴下するためのノズル13とを備えて成る。この基板自転機構と基板公転機構は、同時に駆動させる、あるいは個別に駆動させることができるように構成される。
この塗膜形成装置11では、基板自転機構により被塗布基板21が自転することにより、ノズル13から被塗布基板21の表面に滴下した塗膜材料に回転力と遠心力が与えられる。この回転力と遠心力とによって塗膜材料は基板中心部から周縁部に向けて渦巻き状に拡散して塗布される。また、公転機構により被塗布基板21が回転ドラム12と共に公転すると、公転による遠心力で基板表面に垂直な力が塗膜面に与えられる。この公転による遠心力で塗布むらの塗膜材料は均一な膜厚になる。
Claims (6)
- 基板の段差を有する表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、
前記基板の表面上に反射防止膜材料を滴下し、
前記基板の回転による遠心力と前記基板表面に垂直な力とによって、前記反射防止膜材料を塗布して反射防止膜を形成する
ことを特徴とする反射防止膜の形成方法。 - 滴下した前記反射防止膜材料に、前記基板の回転による遠心力を与えながら前記基板表面に垂直な力を与えて、前記反射防止膜材料を塗布する
ことを特徴とする請求項1記載の反射防止膜の形成方法。 - 前記反射防止膜材料に、前記基板の回転による遠心力を与えた後、前記基板表面に垂直な力を与えて、前記反射防止膜材料を塗布する
ことを特徴とする請求項1記載の反射防止膜の形成方法。 - 前記基板表面に垂直な力は、前記基板表面を上向きにして前記基板を加速度をもって上昇したときに発生する力を用いる
ことを特徴とする請求項1記載の反射防止膜の形成方法。 - 基板の段差を有する表面に塗膜を形成する塗膜形成装置であって、
前記基板の表面に塗膜材料を滴下する手段と、
滴下した前記塗膜材料に遠心力と与える基板回転手段と、
前記基板表面の塗膜材料に前記基板表面に垂直な力を与える基板駆動手段とを備えている
ことを特徴とする塗膜形成装置。 - 前記基板駆動手段は、基板表面を上向きにして前記基板を加速度をもって上昇させる昇降機構で構成されている
ことを特徴とする請求項5記載の塗膜形成装置。
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