JP2006004928A - スタッドバンプソケット - Google Patents

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Abstract

【課題】スタッドバンプ付のICデバイスをホストシステムに電気的に接続するための、可撓性のある再利用可能なコネクションソケットを提供する。
【解決手段】スタッドバンプ150は、ベース部151と、これから先端157にかけて延びる細長いボディ152とを含む。ソケット100は、中央室125を取り巻く少なくとも一つの側壁112とこれの上端114に位置した接点構造115とを含む金属フレーム110を含む。接点構造115は、中央室125に連通する開口117を画定する。スタッドバンプ150の先端157が中央室125に挿入されると、スタッドバンプ150のベース部151および細長いボディ152の少なくとも一方が二つ以上の接触点において接点構造115に当接する。
【選択図】図1


Description

本発明は、スタッドバンプを電気的に接続するソケットに関する。
電子パッケージとは集積回路(IC)デバイスのための相互配線可能なハウジングのことである。パッケージ操作は、半導体ウェハが公知の半導体プロセス技術によって作製された後、個々のIC「チップ」にダイシング(すなわち切断)された後に行われる。一般に、パッケージ操作には、パッケージハウジング内への一つ以上のICチップの配置、ハウジングに形成された接点パッドへのICチップの電気的接続であって、例えばワイヤボンディングによるICチップに形成された対応する入出力(I/O)ダイボンディングパッドへのこれら接点パッドの電気的接続、およびICチップおよびワイヤボンディング部上への保護用被覆形成が含まれる。一般にハウジングは、導電トレースによって接点パッドに接続される、複数のリード、ピン、またはバンプを含み、所定パターンに配置されて、検査設備を用いてリード、ピン、またはバンプに検査信号を印加することによりパッケージ後のICチップを検査できるようになっている。これにより欠陥ICチップが識別および廃棄される一方で、この検査工程を通過したICチップは、次に別のホストシステムのプリント回路基板(PCB)の対応する接点部位に搭載される(例えばハンダ付けされる)。この後、パッケージICに欠陥があった場合は、ハンダを加熱してその欠陥ICを除去することによりホストシステムから欠陥ICを除去し、PCBの接点部位を洗浄した後、新たなパッケージICがその接点部位に再ハンダ付けされる。
検査前にICチップをパッケージする従来法に伴う問題として、損傷もしくは非機能ICチップをパッケージする工程が全体としての製造コストを著しく上昇させることがある。現在は、パッケージ前のICチップを検査することができるチップスケールソケットのソリューションはほとんどない。該ソケットの代りに、大半のIC検査用ソケット技術はジフ(ZIF)ソケットであって、特別なツールを用いずにデュアルインラインパッケージやピングリッドアレイパッケージを挿入および取外しできるように構成されたジフソケットを用いて構成されている。このように、上記従来のZIFソケットによるソリューションは各ICチップをパッケージした後に初めて適用できるものであり、このことが全体としての製造コストを高めて収益性を低下させている。
このため、可撓性のある、再利用可能なICチップのコネクションがパッケージ操作前のICチップの検査およびバーンインにおいて強く望まれている技術としてある。アセンブリおよび再利用がより簡単かつ高速になることに加えて、このコネクションによって輸入コンピュータ部品に対する関税を回避することができる(例えば、ラップトップコンピュータをそのプロセッサと別に出荷し、それによって完成したコンピュータシステムとしてではなく、部品として課税されるようにすることができる)。
フリップチップ技術は、その高い入出力密度能力、高いチップパッケージ密度、および優れた電気的性質のために人気を博している。IBMがC4プロセスを開発して以来、ハンダバンプ方式のフリップチップ技術が確立されている。このプロセスにおいては、ハンダバンプがチップのアンダバンプメタル(UBM)パッド上に形成されリフロープロセスによって基板上のマッチングメタルパッドに接合されていた。この確立技術の実施には難しくて高価なプロセスを伴うため、新たな低コストフリップチップコネクション技術が求められていた。
近年、ワイヤボンディング技術に基づくスタッドバンプボンディング(SBB)技術が、低コストフリップチップ技術のきわめて魅力的なソリューションとして開発されている。SBB技術においては、従来のワイヤボンディングで使用される「ボールボンディング」プロセスの変形として、金のスタッドバンプがICのダイボンディングパッドに配置される。ボールボンディングにおいては、金のボンディングワイヤの先端を溶融して球状にする。ワイヤボンディングツールによってアルミニウムボンディングパッドにこの球を押圧し、機械的力、熱および超音波エネルギを印加して金属のコネクションを形成する。ワイヤボンディングツールは次に、金ワイヤをプリント回路基板、基板またはリードフレーム上のコネクションパッドまで延ばして、当該パッドに「ステッチ」ボンディングを行い、ボンディングワイヤを断ち切って別のサイクルを開始する。金のスタッドバンプ付けの場合は、最初のボールボンディングは前述のように行われるが、その後ワイヤはボール上のごく近接位置で切断される。生じた切頭ワイヤ付き金ボール、すなわち「スタッドバンプ」がボンディングパッド上に残ることで、酸化アルミニウムを貫通して下地金属に至る永久的で信頼性の高いコネクションが与えられる。この技術には、UBMプロセスが不要、バンプ付けコストが低い、および微細ピッチかつチップレベルでのバンプ付けが可能といったいくつかの効果がある。
金スタッドバンプフリップチップ技術によって従来のICパッケージ操作にないいくつかの効果がもたらされる。ワイヤボンダや専用のスタッドバンプ付け装置などのバンプ付け装置が広範に利用されて適切に特徴付けされる。スタッドバンプはワイヤボンダによって形成されるため、ワイヤボンディングが可能であればどこでもスタッドバンプを配置することができる。スタッドバンプは簡単に100μmより小さいピッチにすることができ、また75μmより小さいパッド上に配置することができる。スタッドバンプ付けはワイヤボンダで行うことができるため、ウェハやアンダバンプメタライゼーション(UBM)を必要としない。個片の既製のダイを前処理なしにバンプ付けおよび反転させることができる。これによりスタッドバンプ式フリップチップ方式が高速、高効率になると共に、製品開発、プロトタイプ作製および小乃至中規模の生産にフレキシブルに対応するようになり、また一方で自動装置を用いた大規模ウェハベース生産に向けて容易にスケールアップすることができる。
スタッドバンプ付けはきわめてよい具合に開発されたものであるが、未確立の事項として、スタッドバンプを高信頼性かつ再利用可能に収容可能なコネクションソケットがある。
ジョーダン(Jordan)著,"Gold Stud Bump In Flip-Chip Applications",パロマーテクノロジーズインク(Palomar Technologies, Inc.),2002年,4頁 ユーンら(Yoon et al.)著,"RF Mems Based On Epoxy-Core Conductors",Solid-State Sensor,Actuator and Microsystems Wrkshop Hilton Head Island,South Carolina,2002年6月2−6日,pp.374-375 ゲリン(Guerin)著,"3-D Multichip Modules And Microclip; A Simple And Low-Cost Vertical Interconnection Technique",SOTEC Microsystems,1997年7月14日,1頁
したがって、強く必要とされているのは、スタッドバンプ付のICデバイスをホストシステム(例えば、検査装置や電子デバイスのPCB)に電気的に接続するための、可撓性のある再利用可能なコネクションソケットである。
本発明は、ソケットであって、該ソケットに搭載されるスタッドバンプを電気的に接続するソケットであり、前記スタッドバンプは、ベース部および前記ベース部から先端にかけて延びた細長いボディを含み、前記ソケットは、中央室を取り巻く少なくとも一つの側壁と該側壁の上端に位置した接点構造とを含む金属フレームを含んで構成され、前記接点構造は前記中央室に連通する開口を画定し、前記スタッドバンプの前記先端が前記中央室に挿入されると、前記スタッドバンプの前記ベース部および前記細長いボディの少なくとも一方が二つ以上の接触点において前記接点構造に当接することを特徴とする。
図1は本発明の一実施形態による、スタッドバンプ150に摺動接触するソケット100を示す分解斜視図である。図1の上部を参照する。スタッドバンプ150は相対的に広めのベース部151、ベース部151から延びた細長い(テーパ付の)ボディ152、および細長いボディ152の自由(先)端に位置した先端部157を含む。スタッドバンプ150は変形ワイヤボンディング法により形成される。ソケット構造は、中央室125を取り巻く少なくとも一つの側壁112を含む金属フレーム110、および側壁112の上端114に位置した接点構造115を含む。接点構造115は、中心軸Xに沿ったスタッドバンプ150の挿入を可能にするための、中心室125と連通した開口117を画定している。
以下でさらに詳しく述べる本発明の一態様によれば、接点構造115は、スタッドバンプ150の先端部157が中心室125に挿入されると、スタッドバンプ150のベース部151および/または細長いボディ152が複数の接触点で接点構造115に当接するように形成される。この複数接触の目的は、側壁112から開口117に向かって延びた複数の接点突起116を設けることにより達成される。特に、接点構造115は、開口117がクローバ状の形を画定して、接点突起116が中心軸Xの比較的近傍まで延びるクローバ状の凸部を形成し、接点構造115の凹部118が中心軸Xから比較的遠くに位置するように形成される。このようにして開口117の周囲に配列した複数の接点突起116を設けることにより、一つの接触点に間欠的な接触不良や抵抗増加が生じた場合でも、ソケット100によって、スタッドバンプ150およびソケット100間に信頼性の高い電気的接触が確保される。
図2は、検査、バーンイン、およびパッケージのため、ホストシステム(例えばプリント回路基板(PCB))230とICチップ(電子デバイス)210との間の可撓性のある、直接の再利用可能な接続を容易にする態様を示したアセンブリ200を示す断面側面図である。
図2の上部を参照する。スタッドバンプ150のベース部151が、該ベース部151がダイボンディングパッド214に電気的に接触するように、ICチップ210の表面212に搭載されている。当業者に明らかなように、ダイボンディングパッド214は、公知の方法によってICチップ210に設けられた、関連するI/O回路(図示せず)に電気的に接続されている。留意すべき点として、図2ではスタッドバンプ150は例解のために拡大して(つまり、電子デバイス210に対して拡大して)描かれている。一実施形態において、スタッドバンプ150の全長(すなわち表面212から先端部157までの長さ)は約25μmになっている。各図における他の寸法も同様に例解のために歪んで示されている。
ソケット100は、ホストシステム230の上面231に形成されたパターン化されたテンプレート構造120を含み、金属フレーム110は、パターン化されたテンプレート構造120の外面上に形成された(例えばメッキされた)金属層で構成される。下記により詳しく述べるように、パターン化されたテンプレート構造120はネガ形フォトレジスト材料で形成され、本実施形態では中央室125を取り巻く連続壁構造(すなわち、ほぼ環状の壁または隣接し合った壁片のセット)で構成されている。留意すべき点として、中央室125は中心軸Xの周囲で実質的に対称であって該中心軸Xを画定しており、ホストシステム230の表面231に実質的に垂直に延びている。金属フレーム110は、表面231に形成された外側ベース部111、テンプレート構造120の外面に形成されて下端部111および上端114間に延びた外側側壁112−1、パターン化されたテンプレート構造120の上端上に延在する上壁(接点構造)115、テンプレート構造120の内面に形成されて上壁115の内縁から下方に延びた内側側壁112−2、および内側側壁112−2の下縁に接続されかつ表面231上に形成された内側ベース部119を含む。図1に示すように、上壁115は、中央室125と連通したクローバ状の開口117を画定し、中央室125は、金属フレーム110の内側側壁112−2および内側ベース部119によって実効的に画定される。内側側壁112−2はクローバ状の開口117と基本的に同一の水平方向断面を有していて、凹形および凸形の壁部分を含んでいる。凸形壁部の上端によって上壁115の凹部118が画定され、凹形壁部の上端によって上壁115の凸部(接点突起)116が画定される。よって、接点構造115および内側側壁112−2は、スタッドバンプ150の先端部157が開口117を通じて中心室125に挿入されると、ベース部151および細長いボディ152の少なくとも一方が複数の接触点(例えば、図2に示すように接触点C1およびC2)であって、内側側壁112−2の上方凸部および接点突起116の最も内側の部分に相当する接触点で接点構造115に当接し、それによりスタッドバンプ150およびソケット100間に信頼性の高いコネクションがもたらされるように形成される。
留意すべき点として、ホストシステム230には、上面231上に露出して、金属フレーム110の外側ベース部111および内側ベース部119の少なくとも一方に接触する、一つ以上の接点パッド(例えば、外側接点パッド232および内側接点パッド233)が含まれている。ホストシステム230は、公知のプリント回路基板(PCB)技術によって構成され、絶縁体235(例えばCR4)に埋め込まれた一連の導体234を含んで、ソケット100と選択されたシステムエレクトロニクス(図示せず)との間で電気信号が送信されるようにされている。一実施形態において、上記システムエレクトロニクスは、公知の方法によって電子デバイス210が用いる検査信号を送信および/または受信するように構成された検査装置を含む。
本発明の一実施形態によれば、パターン化テンプレート構造120は、以下に詳しく述べるように、ネガ形フォトレジスト材料(例えばSU−8)で形成される。このようなネガ形材料を用いた場合、生じた壁構造は、その下端に隣接した(すなわち、ホストシステム230の上面231に隣接した)相対的に小さい厚さW1、およびその上端に隣接した(すなわち上壁115に隣接した)相対的に大きい厚さW2を呈している。この凹角の壁形状(リエントラント壁形状)によって、ソケット100の全体寸法はベース部111の近傍よりも上端近傍の方が広くなっており、このこととスタッドバンプ150のテーパ付形状とが合わさって、スタッドバンプ150が中央室125に挿入される際にスタッドバンプ150がソケット100の中心に位置合せされ、さらにそれによってスタッドバンプ150への接触圧が生じるようになっている。
別の実施形態(図示せず)では、パターン化テンプレート構造はシリコーン(ポリジメチルシロキサン(PDMS))などの弾性材料を用いて形成される、ただしこのパターン化構造では、前述の凹角の壁形状(リエントラント壁形状)による効果は得られない。
一実施形態において、スタッドバンプ150は長さが約25μmであり、所定パターンの隣接し合ったスタッドバンプは約100乃至500μm間隔で分離されている。一実施形態において、各ソケット100の中央室125の深さ(すなわち、中心軸Xに沿って測定した深さ、図1参照)はスタッドバンプ150の長さを越えていて、接触点が金属フレーム110の上壁115と各スタッドバンプ150のベース部151との間に確実に存在するようになっている。一実施形態において、各ソケット100の高さは約200μm(またはパターニングされたテンプレート構造120の形成に用いた材料によって決定される他の適当な距離)になっており、金属フレーム110は厚さ10μmの金属メッキにより形成されている。生じた構造体は挿入時に約5μmのたわみを示す。一実施形態において、金属フレーム110はメッキニッケル(Ni)からなっており、各接触点において約0.2gの接触力を保証している。このようにして複数の接点を設けかつ金のパッシベーションを用いることにより、生じたソケットアセンブリは、一部の用途に対して信頼性の高い電気的接触を保証するものとなる。必要により、異なる形状のものを用いてソケットのバネ定数を高めることができる。
図3は、電子デバイス210(例えば「フリップチップ」式ICデバイス)を収容して電気的に接続する、ホストシステム230上に形成されたソケットアレイ300を示す分解斜視図である。電子デバイス210は、所定パターンに配列されて前述のように搭載されたスタッドバンプ150のアレイを含む。前述のように、各スタッドバンプ150(例えばスタッドバンプ150−1)は、ベース部151と先端部157との間に延びた細長いボディ152を含む。ソケットアレイ300は、スタッドバンプ150と同様のパターンでホストシステム(基板)230の上面に配列された複数のソケット100を含む。前述のように、各ソケット100(例えばソケット100−3)は、少なくとも一つの側壁112を有する金属フレーム110を含み、側壁112は、基板表面に接続された固定端111、および基板表面から離れて位置した自由端114を含む。細長い中央室125を取り巻く側壁112、および側壁112の自由端114に位置した接点構造115によって、中央室125と連通した開口117が画定される。ソケットアレイ300の各ソケット100は、対応するスタッドバンプ150の先端部157が中央室125に挿入されると、ベース部151および対応するスタッドバンプの細長いボディ152の少なくとも一方が複数の接触点で前記接点構造に当接するように構成されている。
典型的な一実施形態において、アレイ300中の各ソケット100の面積は約150×150μmである。このようなアレイの実現可能なピッチは約数百μmである。エリアアレイ配線(area array interconnect)の場合、これにより1cm×1cmのダイの上に約1千のソケット100を収容することが可能になる。ただし本発明者らは、本発明を1cm2よりかなり小さいダイに適用することを想定している。例えば、ハンドヘルドデバイス(例えば携帯型情報端末)中の多くの部品は約数平方ミリメータの小部品からなっている。
予備計算の示すところでは、スタッドバンプ(ピン)およびソケット間のアセンブリコネクションは高い信頼性および優れた耐衝撃性を備えている。摩擦係数を0.5とし、一つのピン/ソケットコネクションに四つの接触点があるとすると、30ピン/ソケットアレイにおける挿入力は約12gである。このような部品におけるシリコンダイの質量は約数mgでしかない。基本的なデバイスのモデルを下記表1にまとめて示す。計算による特性では、ICチップをホストシステムから取り除くには数百または数千の重力加速度の衝撃が必要になり、ソケットアレイ300によって信頼性の高い接続構造が得られることが示されている。留意すべき点として、必要により欠陥部品を簡単に交換できるようにしたまま、ソケットに入った部品の耐衝撃性をさらに高めるために、簡単な保持用クリップまたは何らかのコーナー接合品が該部品(IC)またはホストに含まれていてもよい。
Figure 2006004928
信頼性および耐衝撃性の高い無ハンダ接続構造をもたらすことに加えて、ソケットアレイ300は、熱膨張率の不一致や関連するスタッドバンプパターンの機械的不完全さに順応して、種々の条件下で電子デバイス210とホストシステム230とを繰り返し接続することを可能にしている。その幾つかを図4Aおよび図4Bを参照して以下に説明する。
図4Aおよび図4Bは、ソケット100−1乃至100−3およびスタッドバンプ150−1乃至150−3を含む、アレイ300(図3)中の一列を示す断面側面図である。図4Aの左側を参照する。ソケット100−1およびスタッドバンプ150−1は公称配置にあり、この配置において、スタッドバンプ150は中央室125−1の軸Xと実質的に整列しており、接続プロセスはほぼ前述の通りに進行して、詳細に前述した、図4Bに示す複数の接点コネクションが形成される。これに対して、図4Aの真中に示したスタッドバンプ150−2の位置は、例えば熱膨張率の不一致および/または機械的不完全さ(例えば、ワイヤボンディングツールによる配置誤り)によって(破線の輪郭115−2Aで示した)理想位置から若干変位している。ソケットアレイは、ソケット100−2に付随した弾性変形および複数接触点構成によってこのような位置整合エラーに順応する。特に、図4Bに示すように、側壁112−2Aは、その凹角(リエントラント)形状および可撓性構造により、スタッドバンプ150−2が中央キャビティ125−2に進入する際に変形して該スタッドバンプの位置不整合に順応し、それによってベース部151―2および接点構造115−2間に少なくとも一つの信頼性の高いコネクションをもたらす。図4Aの右側を参照する。スタッドバンプ150−3は、変形ワイヤボンディング製造プロセスの間または後に機械的不完全さによって(破線の輪郭115−3Aで示した)理想形状から屈曲した先端部157−3を含む。本発明のソケット構造は、屈曲先端部157−3が中央キャビティ125−3に進入する際に該先端部に順応するように変形することによってこの不完全さに順応し、それによって先端部157−3および内側側壁112−3B間、および/またはベース部151−3および上部壁115−3間の少なくとも一方に信頼性の高いコネクションをもたらす。留意すべき点として、ソケット100−1乃至100−3の弾性的性質によってスタッドバンプ150−1乃至150−3の取り外しおよび挿入を繰り返し行うことができ、それによってコネクションの加熱、洗浄および再ハンダ付けを要することなくアセンブリを再利用することができる。
(前述の)ソケット100を製造する典型的な製造プロセスを図5A乃至図8Cを参照して説明する。
図5A、図5Bおよび図5Cは、それぞれホストシステム230の上面231および接点パッド232および233上へのネガ形フォトレジスト材料層510の堆積、および続いての層510の上面515上のマスクパターン520の形成(図5C)を示す断面側面図である。一実施形態において、層510の形成に使用されるネガ形フォトレジストは、約200μmの厚さTSU-8を有するSU−8などのエポキシ系フォトレジスト材料からなる。SU−8は一般に液状で塗布されるため、最初の段階から平滑度が高い。SU−8は、塗布工程時の回転速度と粘度とに基づいて広い範囲の厚さにわたって塗布することができる。
図5Cおよび(上面平面図である)図6に示したように、マスク520をパターニングして、ウィンドウ525を画定する主マスク部520A、およびウィンドウ525の内側の中心に位置するクローバ状のマスク部520Bが含まれるようにする。留意すべき点として、ネガ形フォトレジスト材料層510のパターン化表面領域512がウィンドウ525を通して露出している。
図7Aおよび図7Bは、前記材料層の現像および続いての材料層の除去によるパターン化テンプレート構造120の作製の完了を示す断面側面図である。図7Aに示したように、材料層510中の部分515が露出したパターン化表面領域512の下に位置しており、この部分が光ビーム530による照射を受ける。留意すべき点として、露光を次第に減衰させることにより、部分515は、上部領域(つまり表面領域512の隣接領域)の方が下部領域より広がった、テーパ付きの(凹角の)形状を有するようになっている。この後、マスク520およびその下の材料層510中の非露光領域が公知の方法により除去されて、ホストシステム230上にパターン化テンプレート構造120が残される(図7B)。留意すべき点として、パターン化テンプレート構造120は接点パッド232の上またはそれに隣接して形成され、および/または中央室125を画定して、中央の接点パッド233を露出させている。
図8A乃至図8Cは、本発明の別の態様によるパターン化テンプレート構造120上の金属フレームの形成を示す断面側面図である。最初に、図8Aに示すように、任意のシード層540が、パターン化テンプレート構造120、接点パッド232および233、およびその他の露出したホストシステム230の構造および表面上に形成される。スパッタによるシードを用いてSU−8上に電気メッキすることができる。パターン化された反応開始剤を用いて無電解メッキを行うこともできる。図8Bを参照する。シード層形成後、メッキ用マスク550をパターン化テンプレート構造120の周囲に形成し、次いで金属フレーム110を電気メッキまたは無電解メッキによってパターン化テンプレート構造110および周辺の露出した構造上に形成する。金でパッシベーションされたニッケルリンがこのメッキコネクタ金属に適した候補材料であるが、その他の材料も使用可能であることは当業者に明らかである。電気メッキ等の一部のメッキ方式においては、金属がシャープな形状で高速に堆積されやすい。このことは凹角の側壁を備えた構造の作製に効果的に活用できる。その理由は、これによってパターン化テンプレート構造120およびその他の水平面上に厚い金属膜が形成され、ほぼ垂直の側壁面沿いに薄い金属膜が形成されるためである。図8Cに示したように、ソケット100の製造プロセスの終了段階で、例えばエッチングによってメッキ用マスクおよび下地のシード材料が金属フレーム110およびパターン化テンプレート構造120の周囲から除去される。
ここで提案した各種ソケット構造などの、高アスペクトの凹角構造体上へのレジストの配置は困難と考えられる。スプレーコーティングされたレジストが一つのオプションとして考えられる。しかしながら最近の検討により、電着レジストを用いて高信頼性かつ安価に部品コーティングを行う装置が開発されていることが明らかにされている。このプロセスにおいては、レジスト堆積システム中の陰極に電気的に接続された、任意の金属表面にフォトレジストがコーティングされる。
図9A乃至図9Cは、本発明の他の実施形態による、変形例の自立式金属フレーム110Aを有するソケット100A(図9C)の形成を示す断面側面図である。この実施形態から、完成したソケット構造から完全にもしくは部分的に内部のポリマフレームワークを除去したソケット構造を作製する方法があること、およびその作製には潜在的利点があることが明らかである。図9Aに示したように、図8Aを参照して前述したようにしてメッキ用マスク550が形成されると、マスク部分555がパターン化テンプレート構造120の上面121に形成される。続いての金属フレーム110Aの形成により、上面121にメッキ金属が存在しない状態の開端構造が形成される。次のマスキング材料(およびシード材料)の除去によって図9Bに示す構造、すなわちパターン化テンプレート構造120が金属フレーム110Aの中を通って上面121で露出した構造が残る。図9Cに示したように、この後エッチング液または溶剤を用いてパターン化テンプレート構造120を除去する。このエッチング液または溶剤は、金属フレーム110Aの開口した上端から浸入して、外側側壁112−1と内側側壁112−2との間からマスキング材料を取り払って、溝113を形成する働きをする。留意すべき点として、本実施形態では、接点構造115−A1および115−A2はそれぞれ外側側壁112−1および内側側壁112−2の上縁によって形成され、接点構造115−A2によってソケット100Aの基本的な接点構造が与えられている。さらに留意すべき点として、パターン化テンプレート構造120の一部を露出させるマスク部分555をより小さく形成して、内側側壁112−2の上端から外向きに延びる水平方向のフランジ構造を形成することにより、接点構造115−A2が強化される。また、マスク部分550および555間にマスキング材料を延在させて、外側側壁112−1を形成させないようにすることにより、単壁のソケット構造を形成することができる(すなわち、メッキ材料はパターン化テンプレート構造120の内面上のみに保持され、生じたソケットは内壁112−2、内側ベース部119、および水平方向フランジが設けられる場合は内壁112−2の上端から延びた水平方向フランジ構造のみを含むようにすることができる)。ソケット100Aの潜在的利点として、熱サイクルの間の内部応力が小さいことおよびフレキシビリティが高いことがある。これらの特徴は、ソケットに入った部品自身または同一回路基板上の他の部品のいずれかのためのハンダリフローを受ける構造において特に効果的である。
本発明のソケットを用いてICチップを検定するための検査やバーンインを行った後、ハンダ付けによって十分な金属接点を形成する上で2つの方法がある。一方法においては、スタッドバンプまたはソケットのいずれか、またはスタッドバンプおよびソケットの両方にメッキハンダを用いてハンダメッキし、ICチップの性能を検定した後、該ハンダのリフローが行われる。
本発明により作製されたソケットは、前述の典型的実施形態よりも小さい寸法や高い密度に対応してサイズ変更することが十分に可能である。例えば、スタッドバンプをメッキコラムに置換えることができ、またソケットの幅方向の寸法を小さくすることもできる。サイズ変更の限界は、部品の公差、および部品を集め並べるツールの配置精度に基づいている。
さらに、前述の典型的実施形態はクローバ状の開口を有するソケットについてのものであるが、その他の本発明の精神と範囲を包含するソケット構造を作製することも可能である。数種の、そのような変形例によるソケット構造を図10乃至図15を参照して以下に紹介する。
図10は、本発明の別の実施形態によるソケット100Cおよびスタッドバンプ150を示す斜視図である。ソケット100Cは金属フレーム110Cを含み、フレーム110Cは、中央キャビティ(室)125Cを取り巻く、比較的厚い(例えば10乃至50μm)、実質的に筒状の壁112C、および主壁112Cから中央キャビティ125C内に延びた、数枚の比較的薄い(例えば1乃至5μm)フレキシブルなメンブレン116Cを有している。筒状壁112Cは、中央キャビティ125Cと連通した上端114Cで開口117Cを画定している。上縁115Cおよび/またはフレキシブルメンブレン116Cによって、ソケット100の接点構造が形成される。一実施形態において、筒状壁112Cおよびメンブレン116Cは、これらの構造により、上端114C近傍で大きく下端111C近傍で小さい、凹角の断面が画定されるように、ネガ形フォトレジスト材料(例えばSU−8)を用いて形成されている。適切な幅を注意深く選択することにより、メンブレン116Cを、該メンブレンがネガ形フォトレジストの凹角形状のために下地基板に固定されることなく、さらなるフレキシビリティがこのメンブレンに付与されるように形成することができる。次いで、生じた構造に、前述のようにしてニッケルおよび/または金などの金属で重ねメッキ(または部分重ねメッキ)が施される。
図11Aおよび図11Bは使用時のソケット100Cを示す上面平面図である。図11Aは、スタッドバンプ150の相対的に狭い部分が中央キャビティ125Cに進入した場合の、挿入プロセスにおける1ポイントを示している。図11Bに示したように、スタッドバンプ150が中央キャビティ125C中にさらに挿入されるにしたがって、広めのスタッドバンプ150の外壁がフレキシブルメンブレン116Cに接触してこれを押圧し、メンブレン116Cを筒状壁112Cに向けて外向きに(すなわち、矢印で示した方向に)押し込む。留意すべき点として、主壁112Cによって画定された大きめの開口117Cおよびメンブレン116Cのフレキシビリティによって、スタッドバンプ150の水平方向の位置決め精度を緩和することができる。
図12A乃至図12Cは本発明のさらに別の実施形態による別のソケットの製造法を示す斜視図である。このプロセスにおいて、最初に、前述の方法のいずれかによるホストシステム表面231D上に犠牲材料のコラム120Dが形成される(図12A)。次に、図12Bに示したように、メッキ用マスクであって、コラム120Dを取り巻く周辺部550D、およびコラム120Dの上面でパターニングされたX字状部分555Dを含むメッキ用マスクが設けられる。この後、コラム120Dの露出部上に金属層をメッキして、メッキ用マスクを取り除くことにより金属フレーム110Dが形成される。図12Cに示したように、生じた金属フレーム110Dは、ベース部111D、筒状のテンプレート構造を取り巻く実質的に筒状の側壁112D、および上壁(接点構造)115Dであって、上縁114Dから内向きに延びて、径方向の溝117Dにより形成されたX字状の開口によって分離された、複数のくさび形接点構造116Dを含む上壁115Dを含む。金属フレーム110Dを形成した後、コラム120Dの形成に用いた犠牲材料(例えば図12Aに示した材料)を溶解もしくは径方向の開口117Dから除去することで、金属フレーム110Dの内側に中空のキャビティを形成する。
図13Aおよび図13Bは使用時のソケット100Dを示す断面側面図である。特に、これらの図は、先端部157が上壁115Dに押圧されて、それにより筒状側壁112Dおよび上壁115Dによって画定された中央室125D内に下向きに変位する、カンチレバー形の接点構造116Dが生じる際のスタッドバンプ150を示している。
図14は、本発明のさらに別の実施形態によるソケット100Eを示す上面平面図である。ソケット100Eは、金属フレームの上壁115Eであって、径方向の溝117Eによって分離された図13Bを参照して前述した働きと実質的に同様の働きをする、8つのくさび形接点構造116Eに分離された上壁115Eを含む。任意の数の径方向の溝を形成することによって、任意の数のくさび形接点構造を有するソケットを作製することができることは当業者に明らかである。
図15は、本発明のさらに別の実施形態によるソケット100Fを示す上面平面図である。ソケット100Fは、図14を参照して前述したものと同様の金属フレーム110Fを含むと共に、並列に形成されて平行な溝117Fによって分離された、実質的に方形のカンチレバー形接点構造116Fを含む。カンチレバー形接点構造116Fの端部を図15に示したように偏移させる(オフセットさせる)ことによって、スタッドバンプが二つ以上の位置で接触する可能性が高まるためにきわめて信頼性の高い接点構造が得られる。
数種のソケットについて筒状側壁を特に参照して前述したが、これらの側壁は、長円形壁や、例えば四角形、五角形または六角形構造を形成するように配置された、隣接し合った一連の直線壁などの、他の隣接壁構成と置換えることができることは当業者に明らかである。さらに、図14および図15に示した特定の接点構造の形状は例示のためのものであり、例えば湾曲したらせん形構造やジグザグ構造を含むように変形することが可能である。さらに、垂直の側壁の代りに、これらの構造を、内向きに傾斜した(正勾配の)側壁を備えて形成して、該構造の垂直方向の長さに関して若干の応従し得るたわみが許容されるように形成してもよい。このことは、該構造の傾斜した側壁を下方に(すなわち、接点構造のベースが側壁上に位置するように)伸ばすスロットを形成することによりさらに促進される。また、ここで用いた「スタッドバンプ」という用語は、変形ワイヤボンディング法によって形成された構造に限定されるものでなく、電気メッキによって形成された金属ポストなどの類似の金属構造にも拡張されるものである。最後に、前述の凹角の壁構造は、像反転、角度露光、および種々の焦点深さの露光による方法などの、ネガ形レジスト材料以外の方法を用いて形成することができる。
本発明の一実施形態によるソケットおよびスタッドバンプを示す分解斜視図である。 図1のソケットおよびスタッドバンプを含むアセンブリを示す図である。 本発明の別の実施形態によるソケットアレイを示す分解斜視図である。 図3のアレイの一列を示す断面側面図である。 図3のアレイの一列を示す断面側面図である。 本発明の実施形態による、パターン化テンプレート構造の製造における、ネガ形材料の堆積および続いてのマスクパターンの形成を示す断面側面図である。 本発明の実施形態による、パターン化テンプレート構造の製造における、ネガ形材料の堆積および続いてのマスクパターンの形成を示す断面側面図である。 本発明の実施形態による、パターン化テンプレート構造の製造における、ネガ形材料の堆積および続いてのマスクパターンの形成を示す断面側面図である。 図5Cの工程で用いられるマスクパターンを示す上面平面図である。 現像および続いてのネガ形材料の除去によるパターン化テンプレート構造の形成を示す断面側面図である。 現像および続いてのネガ形材料の除去によるパターン化テンプレート構造の形成を示す断面側面図である。 本発明の実施形態による図7Bのパターン化テンプレート構造上の金属フレームの形成を示す断面側面図である。 本発明の実施形態による図7Bのパターン化テンプレート構造上の金属フレームの形成を示す断面側面図である。 本発明の実施形態による図7Bのパターン化テンプレート構造上の金属フレームの形成を示す断面側面図である。 本発明の他の実施形態による金属フレームの形成を示す断面側面図である。 本発明の他の実施形態による金属フレームの形成を示す断面側面図である。 本発明の他の実施形態による金属フレームの形成を示す断面側面図である。 本発明の別の実施形態によるソケットおよびスタッドバンプを示す斜視図である。 使用時の図10のソケットを示す上面平面図である。 使用時の図10のソケットを示す上面平面図である。 本発明の実施形態によるソケットの製造を示す斜視図である。 本発明の実施形態によるソケットの製造を示す斜視図である。 本発明の実施形態によるソケットの製造を示す斜視図である。 使用時の図12Cのソケットを示す断面側面図である。 使用時の図12Cのソケットを示す断面側面図である。 本発明の別の実施形態によるソケットを示す上面平面図である。 本発明のさらに別の実施形態によるソケットを示す上面平面図である。
符号の説明
100 ソケット、110 金属フレーム、112 側壁、114 上端、115 接点構造、117 開口、125 中央室、150 スタッドバンプ、151 ベース部、152 細長いボディ、157 先端部、200 アセンブリ、210 電子デバイス、230 ホストシステム、300 ソケットアレイ。

Claims (3)

  1. ソケットであって、該ソケットに搭載されるスタッドバンプを電気的に接続するソケットであり、前記スタッドバンプは、ベース部および前記ベース部から先端にかけて延びた細長いボディを含み、前記ソケットは、中央室を取り巻く少なくとも一つの側壁と該側壁の上端に位置した接点構造とを含む金属フレームを含んで構成され、前記接点構造は前記中央室に連通する開口を画定し、前記スタッドバンプの前記先端が前記中央室に挿入されると、前記スタッドバンプの前記ベース部および前記細長いボディの少なくとも一方が二つ以上の接触点において前記接点構造に当接することを特徴とするソケット。
  2. 電子デバイスとホストシステムとを含むアセンブリであって、
    前記電子デバイスは、スタッドバンプを含み、
    前記スタッドバンプは、前記電子デバイスの表面に取り付けられたベース部、前記表面から離れて位置した先端、および前記ベース部から前記先端にかけて延びた細長いボディを含み、
    前記ホストシステムは、基板と、当該基板の表面に設けられたソケットとを含み、
    前記ソケットは、金属フレームを含み、
    前記金属フレームは、前記基板表面に接続された固定端および前記基板表面から離れて位置した自由端を有する少なくとも一つの側壁であって、細長い中央室を取り巻く少なくとも一つの側壁、および、前記少なくとも一つの側壁の前記自由端に位置した接点構造であって、前記中央室に連通する開口を画定する接点構造を含み、
    前記電子デバイスは、前記スタッドバンプの前記先端が前記開口を通って前記ソケットの前記中央室内に挿入されるように、かつ前記ソケットの前記接点構造が二つ以上の接触点において前記スタッドバンプの前記ベース部および前記細長いボディの少なくとも一方に当接するように、前記ホストシステムに接続されることを特徴とするアセンブリ。
  3. 電子デバイスであって該電子デバイスから延びた複数のスタッドバンプを含む電子デバイスを電気的に接続するソケットアレイであって、前記複数のスタッドバンプは所定のパターンに配列され、前記スタッドバンプの各々はベース部および前記ベース部から先端にかけて延びた細長いボディを含むソケットアレイであって、
    基板、および、前記基板の表面に前記所定のパターンで配列された複数のソケットを含んで構成され、
    各ソケットは、金属フレームを含んで構成され、
    前記金属フレームは、前記基板表面に接続された固定端および前記基板表面から離れて位置した自由端を有する少なくとも一つの側壁であって、細長い中央室を取り巻く少なくとも一つの側壁、および、前記少なくとも一つの側壁の前記自由端に位置した接点構造であって、前記中央室に連通する開口を画定する接点構造を含み、
    前記ソケットアレイの各ソケットは、対応するスタッドバンプの前記先端が該ソケットの中央室に挿入されると、前記対応するスタッドバンプの前記ベース部および前記細長いボディの少なくとも一方が二つ以上の接触点で前記接点構造に当接するように、構成されることを特徴とするソケットアレイ。
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