JP2006002233A - 成形加工性に優れた被めっき物 - Google Patents
成形加工性に優れた被めっき物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006002233A JP2006002233A JP2004181733A JP2004181733A JP2006002233A JP 2006002233 A JP2006002233 A JP 2006002233A JP 2004181733 A JP2004181733 A JP 2004181733A JP 2004181733 A JP2004181733 A JP 2004181733A JP 2006002233 A JP2006002233 A JP 2006002233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- plating layer
- plated
- alloy
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
【課題】成形加工性に優れる被めっき物を提供する。
【解決手段】表層の加工変質層が除去された金属基材上にめっき層Aが設けられている成形加工性に優れた被めっき物、前記金属基材が銅又は銅合金からなる被めっき物、前記めっき層Aがニッケル、ニッケル合金、銅、銅合金のうちの少なくとも1種からなる被めっき物、前記めっき層A上に、前記めっき層Aと異なる金属又は合金からなるめっき層Bが少なくとも1層設けられている被めっき物、前記めっき層Bがニッケル以外の金属または合金からなる被めっき物である。
【選択図】なし
【解決手段】表層の加工変質層が除去された金属基材上にめっき層Aが設けられている成形加工性に優れた被めっき物、前記金属基材が銅又は銅合金からなる被めっき物、前記めっき層Aがニッケル、ニッケル合金、銅、銅合金のうちの少なくとも1種からなる被めっき物、前記めっき層A上に、前記めっき層Aと異なる金属又は合金からなるめっき層Bが少なくとも1層設けられている被めっき物、前記めっき層Bがニッケル以外の金属または合金からなる被めっき物である。
【選択図】なし
Description
本発明は、自動車部品や電子部品などに適した曲げ加工性に優れた被めっき物に関する。
自動車部品や電子部品などには、黄銅または燐青銅などの高弾性銅合金上に貴金属をめっきした、低接触抵抗、高耐食性、高潤滑性の被めっき物が多用されている。
前記被めっき物は、例えば、銅合金などの金属基材を脱脂、酸洗後、Ni層および貴金属層をこの順に電気めっきして製造されている。前記Niめっき層は金属基材と貴金属めっき層の密着性を向上させ、また金属基材の構成元素が貴金属めっき層に拡散するのを防止する働きがある。
前記被めっき物は、プレス、曲げ、張り出しなどの成形加工が施され、さらに必要に応じ樹脂モールドされて接触端子などの電子部品として用いられている。
ところで、近年、前記電子部品は、小型化、軽量化、高機能化、形状の複雑化が進み、それに伴ない前記被めっき物には成形加工時に多大の負荷が掛かるようになり、そのため硬く延性に乏しいNiめっき層などは成形加工時に割れが発生し、この割れは表面の貴金属めっき層に伝播し、前記割れ部から大気中のSO2やH2Sなどの腐食性ガスが侵入して電子部品を腐食させることで、製品劣化の進行やめっき破片による短絡事故を引き起こすなどの問題が生じている。
前記問題に対して、金属基材とNiめっき層間に延性に富む純銅層或いはNi−Fe合金層を介在させる方法(特許文献1、2)、めっき液或いはめっき条件を改良する方法(特許文献3、4)などが提案されているが、いずれの方法によっても前記問題は解決されていない。
このようなことから、本発明者等は、前記Niめっき層の割れ発生の原因について検討した。その結果、鋳造→圧延→バフ掛け工程→調質圧延という通常工程で製造された金属基材の表層は、酸化物層と吸着物層(両層合わせて厚さ0.01〜0.1μm程度)およびその下の加工変質層からなり、前記加工変質層は、極微細結晶粒組織または非晶質組織のベイルビー層(上層)と、歪みの多い不均一な結晶組織の塑性変形層(下層)からなり、前記ベイルビー層と塑性変形層はともに脆弱で僅かな歪みで結晶粒が破壊して亀裂が進展し、前記加工変質層上にNiめっき層を介して金属めっき層を設けた場合は、前記亀裂はNiめっき層を通って金属めっき層にまで伝播することを知見し、さらに検討を進めて本発明を完成させるに至った。
本発明は、曲げ加工などでめっき層に割れが生じない、成形加工性に優れた被めっき物の提供を目的とする。
請求項1記載発明は、表層の加工変質層が除去された金属基材上にめっき層Aが設けられていることを特徴とする成形加工性に優れた被めっき物である。
請求項2記載発明は、前記金属基材が銅又は銅合金からなることを特徴とする請求項1記載の成形加工性に優れた被めっき物である。
請求項3記載発明は、前記めっき層Aがニッケル、ニッケル合金、銅、銅合金のうちの少なくとも1種からなることを特徴とする請求項1又は2記載の成形加工性に優れた被めっき物である。
請求項4記載発明は、前記めっき層A上に、前記めっき層Aと異なる金属又は合金からなるめっき層Bが少なくとも1層設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の成形加工性に優れた被めっき物である。
請求項5記載発明は、前記めっき層Bがニッケル以外の金属または合金からなることを特徴とする請求項4記載の成形加工性に優れた被めっき物である。
本発明の被めっき物は、金属基材の表層に存在する脆弱な加工変質層を除去し、その上にめっき層を設けたものなので、前記金属基材表層は曲げ加工などで亀裂が生じず、従って前記亀裂が伝播して発生するめっき層の割れは防止される。
本発明は、金属基材表層の脆弱な加工変質層を除去してめっき層の割れを防止したものなので、様々な種類の被めっき物に対してその効果が発現される。特に硬く延性に乏しいNi、Ni合金、Cu、Cu合金を下地めっきした被めっき物、前記下地めっき層上にNi以外の金属または合金、とりわけ貴金属をめっきした被めっき物においてその効果が顕著に発現される。
本発明では、金属基材表層の脆弱な加工変質層を除去し、その上にめっき層を設けるので、金属基材とめっき層の密着性が向上し、曲げ加工時にめっき層が剥離するといったこともなくなる。
本発明は、金属基材表層の脆弱な加工変質層を除去してめっき層の割れを防止したものなので、様々な種類の被めっき物に対してその効果が発現される。特に硬く延性に乏しいNi、Ni合金、Cu、Cu合金を下地めっきした被めっき物、前記下地めっき層上にNi以外の金属または合金、とりわけ貴金属をめっきした被めっき物においてその効果が顕著に発現される。
本発明では、金属基材表層の脆弱な加工変質層を除去し、その上にめっき層を設けるので、金属基材とめっき層の密着性が向上し、曲げ加工時にめっき層が剥離するといったこともなくなる。
本発明において、金属基材には、Cu−30mass%Zn合金、Cu−35mass%Zn合金、Cu-4mass%Sn−0.1mass%P合金、Cu−6mass%Sn−0.1mass%P合金、Cu−8mass%Sn−0.1mass%P合金などが製造加工性および弾性に優れ、好適に使用される。
本発明において、前記金属基材上に設けるめっき層Aは、例えば、Ni、Ni合金などの下地めっき層であり、前記めっき層A上に設けるめっき層Bは、Ni以外の金属または合金のめっき層、例えばAu、Ag、Ptなどの貴金属めっき層である。
本発明において、前記金属基材の加工変質層の除去には、硫酸、硝酸、塩酸、過酸化水素水、フッ酸などの酸による溶解法、電解液中での通電溶解法、スパッタリング法、エッチング法などの常法が適用できる。
本発明において、前記加工変質層の除去は、露出面の組織を適時観察しながら、加工変質層の下に存在する金属基材の内部結晶組織が露出するまで行う。前記組織観察は、組織を明確に識別するために、顕微鏡を用いて450倍程度に拡大して行うことが望ましい。前記内部組織を金属基材全面に渡って露出させてめっき層を設けると、加工変質層の影響が完全に除かれ、被めっき物は成形加工性が一段と向上する。
本発明において、加工変質層はバフ掛け工程や調質圧延(機械加工)の際に発生する熱、作用力、周囲の雰囲気、金属新生面の性質などの影響を受けて形成される層で、金属基材内部の結晶組織よりも微細な組織を呈する。前記加工変質層はベイルビー層(上層)と塑性変形層(下層)とからなり、前記ベイルビー層は極微細な結晶集合組織或いは非晶質組織からなり、前記塑性変形層は歪みの多い不均一な結晶集合組織からなり、その結晶粒の大きさはベイルビー層の結晶粒と金属基材内部の結晶粒のほぼ中間の大きさである。このように加工変質層は金属基材内部と結晶組織が明瞭に異なり、両者は容易に識別することができる。
前記加工変質層の厚さは、材質、鋳造圧延条件およびバフ掛け条件により決まるので、前記加工変質層の厚さを、予め、材質別、製法別に調べておけば、前記加工変質層は、金属基材の露出面を観察することなく除去することができる。
例えば、鋳造圧延しバフ掛けした黄銅板の表層の酸化物層および吸着物層の厚さは0.01〜0.1μm程度、加工変質層の厚さは0.3〜0.4μm程度であり、従って金属基材の表層を、めっき前に0.4μm程度、望ましくは0.5μm程度除去することにより加工変質層は除去される。
例えば、鋳造圧延しバフ掛けした黄銅板の表層の酸化物層および吸着物層の厚さは0.01〜0.1μm程度、加工変質層の厚さは0.3〜0.4μm程度であり、従って金属基材の表層を、めっき前に0.4μm程度、望ましくは0.5μm程度除去することにより加工変質層は除去される。
因みに、従来の酸洗処理は、密着性向上のための金属基材表面酸化膜の除去を目的とし、濃度数%の希硫酸に数秒間浸漬して行っており、そのため溶解除去される表層厚さはせいぜい数十ナノメートルにすぎず、加工変質層は殆ど除去されない。
以下に本発明を実施例に基づき詳細に説明する。
鋳造→圧延→バフ掛け→調質圧延の工程により製造した厚さ0.15mmの黄銅板(金属基材:JIS C2680R−1/4H)に脱脂処理および酸洗処理をこの順に施し、次いでNiを0.5μm厚さに電気めっきしてNiめっき黄銅板(被めっき物)を製造した。
前記脱脂処理は、クリーナー160S(メルテックス社製)を60g/リットル含む脱脂液中で、液温60℃、電流密度2.5A/dm2の条件で30秒間通電して行った。
前記酸洗処理は、水1リットルあたりH2O2を35ミリリットル、H2SO4を61ミリリットル、1−プロパノールを10ミリリットル含む水溶液(室温)に浸漬して行った。表層の除去厚さは、0.3、0.4、0.5、0.6mmの4通りにした。
前記Niの電気めっきは、水1リットルあたり、スルファミン酸Niを500g、ホウ酸を30g、塩化Niを30g含む電解液中で、液温50℃、電流密度10A/dm2の条件で行った。
次に、前記被めっき物から、長さ30mm、幅10mmのサンプルを切り出し、このサンプルを1トンプレス機でW曲げ(曲げ半径R=0.3mm)して曲げ加工性を調べた。前記サンプルは、その長さ方向が黄銅板の圧延方向に対して直角(TD)になるものと、圧延方向と平行(RD)になるものの2通りに切り出した。
前記曲げ加工性は、最大曲げ部の表面をマイクロスコープ(キーエンス社製)を用いて450倍に拡大して観察し、割れも皺も存在しないものは曲げ加工性が極めて良好(◎)、皺は存在するが割れは存在しないものは良好(○)、割れが存在するものを不良(×)と評価した。
金属基材に、鋳造→圧延→バフ掛け→調質圧延の工程により製造した厚さ0.15mmのリン青銅板(JIS C5102R−1/2H)を用いた他は、実施例1と同じ方法により被めっき物を製造して曲げ加工性を評価した。
金属基材に実施例2で用いたのと同じリン青銅板を用い、酸洗処理を室温で水1リットルにクロム酸を200g含む電解溶液を用い、電流密度10A/dm2通電して行った他は、実施例1と同じ方法により被めっき物を製造して曲げ加工性を評価した。
比較例1、2、3として、酸洗処理を濃度10%の希硫酸に4秒間浸漬して行った他はそれぞれ実施例1、2、3と同じ方法により被めっき物を製造して曲げ加工性を評価した。
実施例1〜3および比較例1〜3の評価結果を表1に示す。
表1には露出面(めっき面)における加工変質層と金属基材内部層の割合を併記した。
表1には露出面(めっき面)における加工変質層と金属基材内部層の割合を併記した。
表1から明らかなように、本発明例品(実施例1〜3)は、いずれも曲げ加工でNiめっき層に割れが発生することがなかった。これは金属基材表層の脆弱な加工変質層を除去したことによる。中でも表層を金属基材内部層が完全に露出するまで除去したもの(No.3、4、7、8、11、12)は曲げ加工性が特に優れた。
実施例1と2は金属基材が異なり、実施例2と3は酸洗処理方法が異なっているにもかかわらず、いずれも加工変質層の除去により優れた曲げ加工性が得られた。
これに対し比較例1〜3では、金属基材表層の脆弱な加工変質層が除去されていなかったため、前記加工変質層に生じた亀裂が伝播してNiめっき層に割れが発生した。
実施例1と2は金属基材が異なり、実施例2と3は酸洗処理方法が異なっているにもかかわらず、いずれも加工変質層の除去により優れた曲げ加工性が得られた。
これに対し比較例1〜3では、金属基材表層の脆弱な加工変質層が除去されていなかったため、前記加工変質層に生じた亀裂が伝播してNiめっき層に割れが発生した。
実施例1で製造した被めっき物のNiめっき層上にAuを常法により0.1μm厚さ電気めっきして被めっき物を製造し、前記被めっき物の曲げ加工性を実施例1と同じ方法により評価した。
実施例2で製造した被めっき物のNiめっき層上にAuを常法により0.1μm厚さ電気めっきして被めっき物を製造し、前記被めっき物の曲げ加工性を実施例2と同じ方法により評価した。
実施例3で製造した被めっき物のNiめっき層上にAuを常法により0.1μm厚さ電気めっきして被めっき物を製造し、前記被めっき物の曲げ加工性を実施例3と同じ方法により評価した。
比較例4、5、6として、比較例1、2、3で製造した被めっき物のNiめっき層上にそれぞれAuを常法により0.1μm厚さ電気めっきして被めっき物を製造し、前記被めっき物の曲げ加工性を実施例1と同じ方法により評価した。
実施例4〜6および比較例4〜6の評価結果を表2に示す。
表2には露出面(めっき面)における加工変質層と金属基材内部層の割合を併記した。
実施例4〜6および比較例4〜6の評価結果を表2に示す。
表2には露出面(めっき面)における加工変質層と金属基材内部層の割合を併記した。
表2から明らかなように、本発明例品(実施例4〜6)は、金属基板の脆弱な加工変質層を除去したので、曲げ加工でAuめっき層に割れも皺も発生することがなかった。
これに対し比較例4〜6では、Auめっき層に割れが発生した。これは、金属基材表層に脆弱な加工変質層が存在していたので、前記加工変質層に生じた亀裂がNiめっき層を通ってAuめっき層に伝播したためである。
これに対し比較例4〜6では、Auめっき層に割れが発生した。これは、金属基材表層に脆弱な加工変質層が存在していたので、前記加工変質層に生じた亀裂がNiめっき層を通ってAuめっき層に伝播したためである。
Claims (5)
- 表層の加工変質層が除去された金属基材上にめっき層Aが設けられていることを特徴とする成形加工性に優れた被めっき物。
- 前記金属基材が銅又は銅合金からなることを特徴とする請求項1記載の成形加工性に優れた被めっき物。
- 前記めっき層Aがニッケル、ニッケル合金、銅、銅合金のうちの少なくとも1種からなることを特徴とする請求項1又は2記載の成形加工性に優れた被めっき物。
- 前記めっき層A上に、前記めっき層Aと異なる金属又は合金からなるめっき層Bが少なくとも1層設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の成形加工性に優れた被めっき物。
- 前記めっき層Bがニッケル以外の金属または合金からなることを特徴とする請求項4記載の成形加工性に優れた被めっき物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004181733A JP2006002233A (ja) | 2004-06-18 | 2004-06-18 | 成形加工性に優れた被めっき物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004181733A JP2006002233A (ja) | 2004-06-18 | 2004-06-18 | 成形加工性に優れた被めっき物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006002233A true JP2006002233A (ja) | 2006-01-05 |
Family
ID=35770877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004181733A Pending JP2006002233A (ja) | 2004-06-18 | 2004-06-18 | 成形加工性に優れた被めっき物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006002233A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011118650A1 (ja) | 2010-03-23 | 2011-09-29 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子材料用銅合金及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-06-18 JP JP2004181733A patent/JP2006002233A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011118650A1 (ja) | 2010-03-23 | 2011-09-29 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子材料用銅合金及びその製造方法 |
EP2551384A4 (en) * | 2010-03-23 | 2017-07-19 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Copper alloy for electronic material and method of manufacture for same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5170895B2 (ja) | 電子機器用析出型銅合金材料及びその製造方法 | |
JP4850178B2 (ja) | 疲労特性に優れる銅合金Snめっき条 | |
KR102196605B1 (ko) | 내열성이 우수한 표면 피복층 부착 구리 합금 판조 | |
JP4413992B2 (ja) | 電気・電子部品用銅合金板材 | |
JP4629154B1 (ja) | 電子材料用銅合金及びその製造方法 | |
KR102052879B1 (ko) | 내미세접동마모성이 우수한 접속 부품용 도전 재료 | |
JPWO2015146981A1 (ja) | 銅合金板材、コネクタ、および銅合金板材の製造方法 | |
JP5011586B2 (ja) | 曲げ加工性と疲労特性を改善した銅合金板材及びその製法 | |
JP5144814B2 (ja) | 電気電子部品用銅合金材料 | |
JP2015155560A (ja) | 耐熱性に優れる表面被覆層付き銅合金板条 | |
JP2007039804A (ja) | 電子機器用銅合金及びその製造方法 | |
JP2007039804A5 (ja) | ||
KR101058763B1 (ko) | 휘스커가 억제된 Cu-Zn 합금 내열 Sn도금 스트립 | |
JP2014527578A (ja) | 銅合金 | |
KR20190077011A (ko) | 구리 합금 판재 및 그 제조 방법 | |
TW202041687A (zh) | 銅合金板、附鍍敷被膜銅合金板及此等之製造方法 | |
JP4699252B2 (ja) | チタン銅 | |
JP2019157175A (ja) | 銅合金板材およびその製造方法 | |
JP2018076588A (ja) | 銅合金板材およびその製造方法 | |
TW201802259A (zh) | 銅合金輥軋材料及其製造方法以及電氣電子零件 | |
JP2006002233A (ja) | 成形加工性に優れた被めっき物 | |
JP5226032B2 (ja) | ウィスカーが抑制されたCu−Zn合金耐熱Snめっき条 | |
JP2004232049A (ja) | Cuめっきチタン銅 | |
JP5334648B2 (ja) | 錫めっきの耐熱剥離性に優れた銅合金板 | |
JP4570948B2 (ja) | ウィスカー発生を抑制したCu−Zn系合金のSnめっき条及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20061027 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070122 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20080926 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |