JP2005536474A - 担持酸化ニオブ触媒を使用するエポキシ化方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、酸化ニオブと担体を含む非-ゼオライト型担持酸化ニオブ触媒の存在下に過酸化水素によってオレフィンをエポキシ化するための液相方法である。この方法は、過酸化水素によるオレフィンのエポキシ化に対して良好な生産性と選択性を示す。
Description
この発明は、過酸化水素とオレフィンからエポキシドを製造するための非-ゼオライト型の担持酸化ニオブ触媒を使用する液相エポキシ化方法に関する。
意外にも、この担持酸化ニオブ触媒は液相エポキシ化において活性である。
意外にも、この担持酸化ニオブ触媒は液相エポキシ化において活性である。
エポキシド製造のための多くの様々な方法が開発されている。一般に、エポキシドは触媒の存在下にオレフィンと酸化剤との反応によって生成する。プロピレンと、エチルベンゼンハイドロパーオキサイド又はt-ブチルハイドロパーオキサイドなどの有機ハイドロパーオキサイドとからの酸化プロピレンの製造は、商業的に実施された技術である。この方法は、可溶化したモリブデン触媒(米国特許3,351,635参照)又はシリカ上のチタニア不均一触媒(米国特許4,367,342参照)の存在下で実施される。別の商業的に実施の方法は、銀触媒上で酸素との反応によるエチレンの酸化エチレンへの直接エポキシ化である。
現行研究の多くは酸素と水素によるオレフィンの直接エポキシ化においてなされている。例えば、JP4-352771は、結晶チタノシリケート上のパラジウムなどのVIII族金属を含む触媒を使用して、プロピレン、酸素、及び水素から酸化プロピレンの生成を開示している。VIII族金属は酸素と水素の反応を促進(助触)してその場で酸化剤を生成させると考えられている。米国特許5,859,265は、Ru,Rh,Pd,Os,Ir及びPtから選ばれるプラチニウム金属がチタン又はバナジウムシリカライト上に担持されている触媒を開示している。他の直接エポキシ化触媒の例はチタノシリケート上に担持された金を含む(例えばPCT国際出願WO98/00413参照)。
酸素とアルキルハイドロパーオキサイドの他に、エポキシド製造に有用な別の酸化剤は過酸化水素である。例えば米国特許4,833,260は、過酸化水素とチタンシリケートゼオライトを使用するオレフィンのエポキシ化を開示している。米国特許5,679,749は、構造物の枠組内でニオブがシリカと同形置換されている結晶ケイ酸分子篩ゼオライトの存在下でオレフィンの過酸化水素によるエポキシ化を開示している。これら方法の欠点の1つは、チタン及びニオブゼオライトの費用である。
要するに、過酸化水素を使用するオレフィンのエポキシ化用の新規な方法が必要である。発明者は、エポキシドへの良好な生産性と選択性を与える効果的、便利なエポキシ化方法を発見した。
本発明は、非ゼオライト型の担持酸化ニオブ触媒存在下、溶媒中でオレフィンと過酸化水素を反応させることを含むオレフィンエポキシ化方法である。担持酸化ニオブ触媒は、過酸化水素によるオレフィンのエポキシ化に驚くほど有用である。
本発明方法は、非ゼオライト型の担持酸化ニオブ触媒を用いる。担持酸化ニオブ触媒は酸化ニオブと担体を含む。担持酸化ニオブ触媒中に含まれるニオブの量は変えることができるが、一般に触媒組成物は、全触媒組成物に基づいて少なくとも0.01重量%、好ましくは約0.01〜約50重量%、最も好ましくは約0.1〜約15重量%のニオブを含む。
担体は、無機酸化物、無機塩化物、炭素、又はこれらの混合物とすることができる。好ましい無機酸化物は、2、3、4、5、13、又は14族の元素の酸化物ならびにシリカ-アルミナ、シリカ-マグネシア、シリカ-チタニア、シリカ-ジルコニア、シリカ-アルミナ-ボーリック、マグネシア-アルミナ、シリカ-アルミナ-マグネシアなどの耐火性酸化物を含む。好ましい無機塩化物は2族元素の塩化物を含む。特に好ましい担体は、シリカ、アルミナ、シリカ-アルミナ、ケイ酸アルミニウムナトリウム、マグネシア、チタニア、ジルコニア、シリカ-チタニア、酸化タンタル、モルデナイト、ハイドロタルク石、塩化マグネシウム、及び炭素を含む。最も好ましいのは、本質的に純粋なシリカ、例えば90%以上のシリカを含む物質からなる担体である。
好ましくは、担体は、約10〜約700m2/g、より好ましくは約50〜約500m2/g、最も好ましくは約100〜約400m2/g範囲の表面積を有する。担体の細孔容積は、好ましくは約0.1〜約4.0mL/g、より好ましくは約0.5〜約3.5mL/g、最も好ましくは約0.8〜約3.0mL/g範囲にある。担体の平均粒子径は、好ましくは約10〜約500μm、より好ましくは約20〜約200μm、最も好ましくは約10〜約100μmの範囲にある。平均細孔直径は、通常約10〜約1000Å、好ましくは約20〜約500Å、最も好ましくは約50〜約350Åの範囲にある。
非-ゼオライト型という用語は、ゼオライト及びゼオライト状構造を含めないことを意味する。ゼオライト及びゼオライト状構造は、米国特許5,679,749に記載のように、枠組み内でニオブがシリカと同形置換されている結晶ケイ酸分子篩ゼオライトを含む。
担持酸化ニオブ触媒の製造は、従来公知の様々の方法によって達成できる。そのような方法の1つは、担体をニオブ化合物(例えばNb(OEt)5)で含浸し、続いて場合により乾燥させることを含む。ニオブ化合物は、すべての適当なニオブハライド(NbCl5及びNbBr5など)、ニオブアルコキシド(Nb(OEt)5など)、又はニオブハライドアルコキシド(NbCl3(OEt)2など)を含む。他の方法では、触媒組成物は担体と酸化ニオブの混合物を高温、例えば500℃〜1000℃で焼成することによって好適に製造される。代りの方法として、触媒組成物はニオブ塩とシリカゾルの混合物を金属担持触媒組成物を製造する慣用の方法によってコゲル化させることによって製造される。さらに他の方法では、触媒組成物は米国特許3,166,542に開示の方法によって無機ケイ素系固体のシラノール基とニオブ塩との表面反応によって製造される。さらに他の方法では、煙霧状の熱分解で生じるニオビア-シリカを含む触媒組成物が、微細な煙霧状の金属酸化物及びシリカを製造する慣用方法にしたがって、水素と酸素をシリコンテトラハライド及びニオブハライドの混合物と共に燃焼することによって製造される。ドライ-混合、共沈、含浸及びイオン交換など、担体上にニオブの酸化物又は水酸化物を組み入れる他の方法も好適に用いられる。
オレフィンのエポキシ化に特に好適な触媒の種類の1つは、シリカ(二酸化シリコン)上に担持されたニオビア(酸化ニオブ(V))を含むシリカ上のニオビア(時に“Nb2O5/SiO2”とも表される)である。シリカ上のニオビア触媒は熱処理後使用前にシリル化してもよい。触媒は高温で有機シリル化剤による処理によってシリル化される。シリル化は好ましくは焼成後に実施され、最も好ましくは焼成ならびに水による反応の後に実施される。本発明に使用するのに適する好適なシリル化方法は、米国特許3,829,392及び3,923,843に記載されている。好適なシリル化剤としてはオルガノシラン、オルガノハロシラン、及びオルガノジシラザンが含まれる。
触媒の形成後、担持酸化ニオブ触媒は、窒素、ヘリウム、真空、水素、酸素、空気、又は類似の物などのガス中で随意に熱処理できる。この熱処理温度は通常約100〜約1000℃、好ましくは約200〜約800℃である。
担持酸化ニオブ触媒は粉末又はペレットとしてエポキシ化方法に使用できる。ペレット化又は押し出しの場合は、触媒はさらにバインダー又は類似の物を含んでいてもよく、エポキシ化に使用前にモールド、噴霧乾燥、所望の形態に成形又は押し出しすることができる。
本発明のエポキシ化方法は、溶媒中で担持酸化ニオブ触媒の存在下にオレフィンと過酸化水素を接触させることを含む。好適なオレフィンは1つ以上の炭素-炭素二重結合と一般に2〜60の炭素原子数を有するすべてのオレフィンを含む。好ましくはオレフィンは2〜30の炭素原子数の非環式アルケンである;本発明の方法は特にC2〜C6オレフィンをエポキシ化するのに適当である。例えばジエン又はトリエンでのように、1つを超える二重結合が存在してもよい。オレフィンは炭化水素(すなわち炭素と水素原子のみを含む)であってもよいし又はハライド、カルボキシル、ヒドロキシル、エーテル、カルボニル、シアノ、又はニトロ基、その他のような官能基を含んでいてもよい。本発明の方法は、プロピレンを酸化プロピレンに転化させるのに特に有用である。
過酸化水素はエポキシ化反応に使用する前に発生させる。過酸化水素は、イソプロパノールなどの第2級アルコールの酸化(アントラキノン法)を含むすべての適当なソースから、及び水素と酸素の直接反応から誘導できる。エポキシ化反応に加えられる過酸化水素反応物水溶液の濃度は決定的要因ではない。標準的な過酸化水素濃度は水中で0.1〜90重量%、好ましくは1〜5重量%範囲である。
オレフィンの量に対する過酸化水素の量は決定的要因ではないが、過酸化水素:オレフィンの好適なモル比は100:1〜1:100、より好ましくは10:1〜1:10の範囲内にある。1当量のモノ不飽和オレフィン基体を酸化するには理論的に過酸化水素の1当量が必要であるが、エポキシドへの選択率を最適化するため一方の反応物を過剰に使用するのが望ましいであろう。
本発明の方法は溶媒の使用も必要とする。好適な溶媒は反応条件下で液体であるすべての化合物を含み、アルコールなどの酸素含有炭化水素、トルエンやヘキサンなどの芳香族や脂肪族の溶媒、塩化メチレンやクロロベンゼンなどの塩素化した芳香族や脂肪族の溶媒及び水を含むが、上記のものに限定されない。好ましい溶媒は、その化学構造中に1つ以上の酸素原子を含む酸素化溶媒である。好適な酸素化溶媒には水及び、アルコール、エーテル、エステル、ケトンなどの酸素含有炭化水素が含まれる。好ましい酸素化溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、t-ブタノール、又はこれらの混合物のような低級脂肪族C1〜C4アルコール、及び水を含む。フッ素化アルコールが使用できる。引用したアルコールと水の混合物も使用可能である。特に好ましい溶媒は、メタノール又はメタノールと水の混合物である。
本発明の方法は、固定床、輸送床、流動化床、攪拌スラリー、又はCSTR反応器などの適当なすべてのタイプの反応容器又は装置を使用してバッチ、連続、又はセミ連続方式で実施できる。触媒はサスペンジョン又は固定床の形態にあるのが好ましい。酸素化剤を使用してオレフィンの金属で触媒されたエポキシ化を実施する既知の方法も一般にこの方法で使用するのに適するであろう。したがって反応物は全部を一度に又は逐次的に化合させてもよい。
本発明にしたがうエポキシ化は、望ましいオレフィンエポキシ化を達成するのに効果的な温度、好ましくは0〜150℃、より好ましくは20〜120℃の範囲の温度で行われる。約1分〜48時間、より好ましくは1分〜8時間の反応時間又は滞留時間が通常適当である。反応は1〜100気圧で操作するのが有利であるが、大気圧でも実施できる。
使用する担持酸化ニオブ触媒の量は、単位時間当たり供給するオレフィンに対する触媒中に含まれるニオブのモル比を基準として決定できる。通常、ニオブ/オレフィンの単位時間当たりモル供給比が0.0001〜0.1となるのに十分な量の触媒が存在する。
以下の実施例は単に本発明を説明するものである。当業者なら本発明の意図ならびに特許請求の範囲内にある多くの変形を認めるに違いない。
実施例1:シリカ上の酸化ニオブ触媒の製造
触媒1A,1B,及び1C: 1.4重量%ニオブ
触媒1A: シリカ(20g、Davidson 952)を60gのメタノールに懸濁させる。ニオビウム(V)エトキシド(10gのメタノール中に溶解した1.2g)をシリカスラリーに攪拌しながら10分間で加える。混合物を室温で18時間攪拌し、濾過し、次いで固形物を50mLのメタノールで洗浄する。この固形物を110℃で2時間乾燥させると20.9gが得られる。固形物は1.37重量%ニオブと分析された。
触媒1B: 触媒1A(5g)を窒素中4容量%酸素の下で450℃で4時間焼成する。
触媒1C: 触媒1Bを次いで窒素中4容量%酸素の下で550℃で4時間焼成する。
触媒1D及び1E: 11重量%ニオブ
触媒1Dは50gメタノール中10gのニオブ(V)エトキシドを使用する以外は触媒1Aの方法にしたがって製造する。元素分析は11重量%ニオブを示す。
触媒1Eは触媒1D(5g)を窒素中4容積%酸素の下で450℃で4時間焼成することによって製造する。
触媒1A,1B,及び1C: 1.4重量%ニオブ
触媒1A: シリカ(20g、Davidson 952)を60gのメタノールに懸濁させる。ニオビウム(V)エトキシド(10gのメタノール中に溶解した1.2g)をシリカスラリーに攪拌しながら10分間で加える。混合物を室温で18時間攪拌し、濾過し、次いで固形物を50mLのメタノールで洗浄する。この固形物を110℃で2時間乾燥させると20.9gが得られる。固形物は1.37重量%ニオブと分析された。
触媒1B: 触媒1A(5g)を窒素中4容量%酸素の下で450℃で4時間焼成する。
触媒1C: 触媒1Bを次いで窒素中4容量%酸素の下で550℃で4時間焼成する。
触媒1D及び1E: 11重量%ニオブ
触媒1Dは50gメタノール中10gのニオブ(V)エトキシドを使用する以外は触媒1Aの方法にしたがって製造する。元素分析は11重量%ニオブを示す。
触媒1Eは触媒1D(5g)を窒素中4容積%酸素の下で450℃で4時間焼成することによって製造する。
実施例2: シリカ上のニオビア-チタニア触媒の製造
触媒2は60gのメタノール中にDavidson952シリカ(20g)を懸濁させることによって製造する。 ニオブ(V)エトキシド(5g)とチタン(IV)イソプロポキシド(1g)を10gのメタノール中に溶解して攪拌しながら10分間でシリカスラリーに加える。このスラリーを23℃で18時間攪拌し、濾過して固形物を50mLのメタノールで洗浄する。この固形物を110℃で2時間乾燥させて20.4gが得られる。元素分析は5.4重量%ニオブと0.74重量%チタンを示す。
乾燥した固形物(5g)を窒素中4容量%酸素の下で450℃で4時間焼成する。
触媒2は60gのメタノール中にDavidson952シリカ(20g)を懸濁させることによって製造する。 ニオブ(V)エトキシド(5g)とチタン(IV)イソプロポキシド(1g)を10gのメタノール中に溶解して攪拌しながら10分間でシリカスラリーに加える。このスラリーを23℃で18時間攪拌し、濾過して固形物を50mLのメタノールで洗浄する。この固形物を110℃で2時間乾燥させて20.4gが得られる。元素分析は5.4重量%ニオブと0.74重量%チタンを示す。
乾燥した固形物(5g)を窒素中4容量%酸素の下で450℃で4時間焼成する。
比較例3: ニオブ酸の製造
ニオブ(V)エトキシド(50g)を50gメタノール中に溶解して200gの脱イオン水に加える。この反応混合物を氷浴中で20分間冷却し、次いで23℃で2時間攪拌する。固形物を濾過し、水(40g)とメタノール(10mL)の混合物で1回、さらに50mLのメタノールで1回洗浄する。固形物を真空オーブン中(0.5トール)50℃で2時間、最後に110℃で5時間乾燥させると24gの比較触媒3を得る。固形物は69.8重量%ニオブと分析された。
ニオブ(V)エトキシド(50g)を50gメタノール中に溶解して200gの脱イオン水に加える。この反応混合物を氷浴中で20分間冷却し、次いで23℃で2時間攪拌する。固形物を濾過し、水(40g)とメタノール(10mL)の混合物で1回、さらに50mLのメタノールで1回洗浄する。固形物を真空オーブン中(0.5トール)50℃で2時間、最後に110℃で5時間乾燥させると24gの比較触媒3を得る。固形物は69.8重量%ニオブと分析された。
比較例4: 酸化ニオブ
酸化ニオブはReference Metalsの製品である。元素分析はニオブ=67重量%を示す。
酸化ニオブはReference Metalsの製品である。元素分析はニオブ=67重量%を示す。
比較例5: シリカ上の酸化タンタル触媒の製造
比較触媒5はDavidson 952 シリカ(20g)を60gのメタノール中に懸濁させることによって製造する。タンタル(V)エトキシド(10gメタノール中に溶解した2g)をシリカスラリーに攪拌しながら10分間で加える。スラリーを23℃で18時間攪拌し、濾過して固形物を50mLのメタノールで洗浄する。固形物を110℃で2時間乾燥して20.9gを得る。元素分析は4.3重量%タンタルを示す。
乾燥した固体(5g)を窒素中4容量%酸素の下で450℃で4時間焼成する。
比較触媒5はDavidson 952 シリカ(20g)を60gのメタノール中に懸濁させることによって製造する。タンタル(V)エトキシド(10gメタノール中に溶解した2g)をシリカスラリーに攪拌しながら10分間で加える。スラリーを23℃で18時間攪拌し、濾過して固形物を50mLのメタノールで洗浄する。固形物を110℃で2時間乾燥して20.9gを得る。元素分析は4.3重量%タンタルを示す。
乾燥した固体(5g)を窒素中4容量%酸素の下で450℃で4時間焼成する。
実施例6:プロピレンエポキシ化反応
触媒1A,1B,1C,1D,1E,及び2と比較触媒3,4,及び5を以下の方法によるプロピレンエポキシ化においてテストする。
磁石攪拌棒を備えた100mLのParr反応器に40gのメタノール/水/過酸化水素溶液(重量で70%メタノール、25%水、5%過酸化水素)と150mgの触媒を装入する。反応器を密閉し、プロピレン(17g)を装入して磁石攪拌棒で攪拌しながら50℃で30分間(2時間であった触媒1B及び2による実験を除いて)加熱する。次いで反応器を10℃に冷却してプロピレンをガス袋中に排出した。液相とガス相をGCで分析した。
結果と反応温度を表1に示す。
触媒1A,1B,1C,1D,1E,及び2と比較触媒3,4,及び5を以下の方法によるプロピレンエポキシ化においてテストする。
磁石攪拌棒を備えた100mLのParr反応器に40gのメタノール/水/過酸化水素溶液(重量で70%メタノール、25%水、5%過酸化水素)と150mgの触媒を装入する。反応器を密閉し、プロピレン(17g)を装入して磁石攪拌棒で攪拌しながら50℃で30分間(2時間であった触媒1B及び2による実験を除いて)加熱する。次いで反応器を10℃に冷却してプロピレンをガス袋中に排出した。液相とガス相をGCで分析した。
結果と反応温度を表1に示す。
エポキシ化結果は、担持酸化ニオブ触媒の使用が意外にも高選択率で酸化プロピレン(PO)の製造をもたらすことを示している。酸化プロピレンの収量は、非担持のニオブ酸、非担持の酸化ニオブ、及び担持酸化タンタル各触媒に比較して担持酸化ニオブ触媒の方が著しく高い。
Claims (18)
- 酸化ニオブと担体を含む非-ゼオライト型の担持酸化ニオブ触媒の存在下に溶媒中でオレフィンと過酸化水素を反応させることを含むエポキシドの製造方法。
- 担持酸化ニオブ触媒が0.01〜50重量%ニオブを含む請求項1記載の方法。
- 担体が、無機酸化物、無機塩化物、及び炭素からなる群から選ばれる請求項1記載の方法。
- 担体が、シリカ、アルミナ、シリカ-アルミナ、珪酸アルミニウムナトリウム、マグネシア、チタニア、ジルコニア、シリカ-チタニア、酸化タンタル、モルデナイト、塩化マグネシウム、及び炭素からなる群から選ばれる請求項3記載の方法。
- 担体がシリカである請求項3記載の方法。
- オレフィンがC2〜C6オレフィンである請求項1記載の方法。
- オレフィンがプロピレンである請求項6記載の方法。
- 溶媒が、アルコール、エーテル、エステル、ケトン、水、及びこれらの混合物からなる群から選ばれる酸素化溶媒を含む請求項1記載の方法。
- 溶媒が、水、C1〜C4アルコール、及びこれらの混合物からなる群から選ばれる請求項7記載の方法。
- 溶媒がメタノールを含む請求項1記載の方法。
- 過酸化水素のオレフィンに対するモル比が約10:1〜約1:10の範囲にある請求項1記載の方法。
- 本方法が約20℃〜約120℃の温度で実施される請求項1記載の方法。
- 非-ゼオライト型の担持酸化ニオブ触媒が次の(a)、(b)によって製造される請求項1記載の方法:
(a) 担体をニオブ化合物で含浸し;次いで
(b) ステップ(a)の含浸生成物を酸素を含むガス流の存在下に100℃以上の温度で焼成して担持酸化ニオブ触媒を生成させる。 - ニオブ化合物が、ニオブアルコキシドとニオブハライドからなる群から選ばれる請求項13記載の方法。
- 酸化ニオブとシリカを含む非-ゼオライト型の担持酸化ニオブ触媒の存在下に酸素化溶媒中でプロピレンと過酸化水素を反応させることを特徴とする酸化プロピレンの製造方法。
- 担持酸化ニオビウム触媒が0.01〜50重量%ニオブを含む請求項15記載の方法。
- 酸素化溶媒が、水、C1〜C4アルコール、及びこれらの混合物から選ばれる酸素化溶媒である請求項15記載の方法。
- 溶媒がメタノールである請求項17記載の方法。
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