JP2005531150A - 基板の位置/存在を検出するための共有センサ - Google Patents

基板の位置/存在を検出するための共有センサ Download PDF

Info

Publication number
JP2005531150A
JP2005531150A JP2004516134A JP2004516134A JP2005531150A JP 2005531150 A JP2005531150 A JP 2005531150A JP 2004516134 A JP2004516134 A JP 2004516134A JP 2004516134 A JP2004516134 A JP 2004516134A JP 2005531150 A JP2005531150 A JP 2005531150A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
chamber
substrate
transfer chamber
sensors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004516134A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4490263B2 (ja
Inventor
シンイチ クリタ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Publication of JP2005531150A publication Critical patent/JP2005531150A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4490263B2 publication Critical patent/JP4490263B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67201Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67236Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations the substrates being processed being not semiconductor wafers, e.g. leadframes or chips
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/136Associated with semiconductor wafer handling including wafer orienting means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

半導体処理ツールの搬送チャンバは、複数の処理及び/又はロードロックチャンバに連結して用いられる。小数の基板センサが搬送チャンバ内に設けられ、これによって処理及び/又はロードロックチャンバに対する基板の存在及び/又は位置が確認される。一の実施例において、各々の処理及び/又はロードロックチャンバは隣接しているチャンバ及び隣接していないチャンバとセンサを共有することができる。

Description

関連出願
本出願は2002年6月21日に出願された米国特許仮出願第60/390,764号に基づく優先権を主張するものであり、この出願は引用により本出願に全体的に一体化される。
発明の分野
本発明は半導体基板処理に係り、特に基板処理チャンバが連結される搬送チャンバ内において基板の位置/存在を検出するためのセンサに関する。
発明の背景
図1は、シリコンウエハ又はガラス基板のような基板に対する半導体製造プロセスに用いられるタイプの従来の基板処理ツール11の概略図である。当業者に広く知られているように、シリコンウエハはプロセッサ、メモリデバイスのような半導体デバイスの製造に用いられている。ガラス基板は、コンピュータモニタ、テレビディスプレイのようなフラットパネルディスプレイの製造のために処理されることができる。
処理ツール11は中央に位置している搬送チャンバ13を含み、これに処理チャンバ15が連結されている。各々のチャンバ15において、薄膜堆積、酸化又は窒化、エッチング又は熱処理又はリソグラフ処理のような半導体製造プロセスが実行されることができる。処理ツール11で処理される基板は、搬送チャンバ13に連結されている少なくとも一のロードロックチャンバ17を介して処理ツール11に導入される。基板ハンドリングロボット19が搬送チャンバ13内に配設されており、これによって、ロードロックチャンバ17及び処理チャンバ15内で基板が搬送される。
搬送チャンバに連結されている処理、ロードロック又は他のチャンバの一に対する基板のローディングのため基板が存在し及び適切に位置合せされているかどうかを検出するため、処理ツールの搬送チャンバにはセンサを装着することは知られている。四角形のガラス基板を処理するための従来の処理ツールであって、7個のチャンバが連結されているもの(例えば、図1に示されているように6個の処理チャンバと1個のロードロックチャンバ)には、全部で28個のセンサが用いられている。即ち、4個のセンサのグループは搬送チャンバの各々の開口部近傍で搬送チャンバ内に配置されており、この開口部は搬送チャンバに連結されている7個のチャンバの各々に連結されている。センサグループにおける4個のセンサの各々は、四角形ガラス板の各々の角部の存在及び正しい位置を検出するために設けられている。特定の処理チャンバ又はロードロックチャンバに隣接した4個のセンサのグループは、基板ハンドリングロボットがガラス基板を処理チャンバ又はロードロックチャンバにロードするために起動される前に、ガラス基板が処理チャンバ又はロードロックチャンバに隣接するよう正しく位置決めされているかどうかを確認することができる。
従来のセンサ配列は当初の目的を満足させる性能を有しているものの、センサを備える及び搬送チャンバにセンサを配設するコストを低減することが望まれている。
発明の要約
本発明の第1の態様において、基板検出装置は、少なくとも一の処理チャンバと少なくとも一のロードロックチャンバを含む他の複数のチャンバと連結されて用いられる搬送チャンバを備えている。更に、本発明は、基板を他のチャンバのうちの第1チャンバにロードするように配置されていることを示すため搬送チャンバ内に配置されている第1センサグループと、基板を他のチャンバのうちの第2チャンバにロードするように配置されていることを示すため搬送チャンバ内に配置されている第2センサグループとを備えている。 他のチャンバのうちの第2チャンバは他のチャンバのうちの第1チャンバと隣接しておらず、第1センサグループの少なくとも一のセンサは第2センサグループに含まれている。
本発明の第2の態様において、基板検出装置は、少なくとも一の処理チャンバと少なくとも一のロードロックチャンバに連結されて用いられる搬送チャンバを備えている。また、本発明の第2の態様に係る装置は、搬送チャンバの中心から第1半径で搬送チャンバ内に配置されている第1センサリングと、搬送チャンバの中心から第2半径で搬送チャンバ内に配置されている第2センサリングとを備えている。搬送チャンバに連結された処理チャンバ及びロードロックチャンバの各々のために4個の独立したセンサを必要とすることなく、4個の側部を有する基板を搬送チャンバに連結された各々の処理チャンバ及びロードロックチャンバの開口部の正面で検知することができるように、センサが配置され、第1半径及び第2半径が選択される。本発明のこれらの及び他の態様に係る方法及びシステムによれば、他の多くの態様が提供される。
本発明の装置及び方法によれば、搬送チャンバ内における基板の存在及び/又は適切な位置を検出するために必要とされるセンサの数を大幅に低減することができる。例えば、7個の他のチャンバに連結して用いられる四角形基板を搬送するための搬送チャンバにおいて、必要な線さの数を、28個から14個のように半分に低減することができる。
本発明の他の構成及び態様は、以下の実施例の詳細な説明、特許請求の範囲及び添付図面からより明らかになる。
詳細な説明
当発明の一の形態において、基板検知センサは処理ツールの搬送チャンバに配置され、これによって、各々のセンサは搬送チャンバに連結される1以上の処理、ロードロック又は他のチャンバとの関連で基板の存在を検知する。この態様において、センサは、搬送チャンバに連結された1以上のチャンバにより「共有」される。本発明の少なくとも一の態様において、センサを共有する2個のチャンバは互いに隣接している必要はない(例えば、2つのチャンバ又はそれ以上の他のチャンバにより分離されていてもよい。)。
図2A−Cは、本発明に係る搬送チャンバの概略図である。図面を簡単にするため、搬送チャンバ21に連結される又は連結されることのできるチャンバは仮想のものであり、参照番号21−1から22−7で示される。図2A−Cに示される具体的な実施例において、搬送チャンバ21は7個の側面を有し、これらは各々の処理又はロードロックチャンバに連結して用いられる。搬送チャンバ21は、例えば、AKTインコーポレイテッドからAKT10k又は15k搬送チャンバとして販売されているタイプのものであってもよい。
図2Aにおいて、搬送チャンバ21の7個の側面は第1側面23−1、第2側面23−2、第3側面23−3、第4側面23−4、第5側面23−5、第6側面23−6、第7側面23−7を含む。図示されている特定の実施例において、側面23−1、23−2、23−3、23−5、23−6及び23−7は処理チャンバ(各々チャンバ22−1、22−2、22−3、22−5、22−6及び22−7)に連結して用いられる。この目的のため、スリットバルブのような従来の処理チャンバインターフェイス25は、搬送チャンバ21の6個の側面に設けられている。本実施例において、搬送チャンバ21の第4側面23−4はロードロックチャンバ(チャンバ22−4)に連結して用いられ、これは例えば従来のダブルデュアルスロットロードロック(DDSL)又は他の従来のロードロックチャンバであってもよい。搬送チャンバ21に連結されている処理チャンバは、薄膜堆積、酸化、窒化、エッチング又はフォトリソグラフィーのような従来の処理を実行することができる。1又はそれ以上の処理チャンバはいわゆる「補助」処理チャンバであってもよく、これは熱処理、冷却、アッシング又は基板配向のような作用を実行する。
搬送チャンバ21に連結されたチャンバに基板を搬送するため、従来の基板ハンドリングロボット(図1に示されるようなもの)を搬送チャンバ21に配設してもよい。
図2A−Cに示される具体的な実施例において、14個の基板検知センサが搬送チャンバ21に設けられている。14個のセンサは、第1センサ27−1、第2センサ27−2、第3センサ27−3、第4センサ27−4、第5センサ27−5、第6センサ27−6、第7センサ27−7、第8センサ27−8、第9センサ27−9、第10センサ27−10、第11センサ27−11、第12センサ27−12、第13センサ27−13及び第14センサ27−14を含む。図2A−Bに示されているように、第1から第7センサ(参照番号27−1から27−7)は、搬送チャンバ21の中心Cから第1半径R1に配置された第1(外側)センサリング28−1を構成している。第8から第14センサ(参照番号27−8から27−14)は、搬送チャンバ21の中心Cから第2半径Rに配設された第2(内側)センサリング28−2を構成している。センサ27−1から27−14の配置及び第1半径R1及び第2半径R2の選択は、搬送チャンバ21に連結された処理チャンバ及びロードロックチャンバ22−1から22−7の各々のために4つの独立したセンサを要求することなく、4個の側部を有する基板の存在及び/又は位置を、搬送チャンバ21に連結された処理及びロードロックチャンバ22−1から22−7の開口部の正面で検知することができるように行われる。2つの半径R1、R2は互いに異なっていることが判る。
図2A及び2Cにおいて、14個のセンサ27−1から27−14は、4個のセンサからなる7つの重なりグループに分割されている(図2Cにおいて、センサグループ29−1から29−7と表されている。)。4個のセンサからなる各々のグループ29−1から29−7は、4個の側部を有する基板(例えばガラス板)が、搬送チャンバ21に連結されている又はされる可能性のある7個のチャンバ22−1〜22−7にロードされるために存在し及び/又は適切に位置決めされているかどうかを示すように作用する。以下に説明するように、7個のチャンバ22−1から22−7の各々は、搬送チャンバ21に連結された隣接したチャンバで外側センサリング28−1(図2B)の2つのセンサを共有している。また、各々のチャンバ22−1から22−7は、搬送チャンバ21に連結された隣接していない2つのチャンバで、内側センサリング28−2(図2B)の2つのセンサを共有している。本説明において、第1及び第2チャンバの間に搬送チャンバに連結されている他のチャンバが存在しない場合、搬送チャンバに連結されている第1チャンバは搬送チャンバに連結されている第2チャンバに隣接している。例えば、図2Aにおいて、チャンバ21−1はチャンバ22−2に隣接しているが、チャンバ22−3には隣接していない(チャンバ22−2は、チャンバ22−1及び22−3の間で搬送チャンバ21に連結されているからである。)。
図2Aにおいて、参照番号30−1は、第4チャンバ22−4にロードされるために適切に位置決めされた基板(ガラス板)を示す。基板30−1の角部を形質するため位置決めされた4個のセンサ(図2Cにおいて29−4)のグループは、第4センサ27−4、第5センサ27−5、第9センサ27−9及び第13センサ27−13を含むことが判る。
参照番号30−2(図2A)は、第3チャンバ22−3にロードされるために適切に位置決めされた基板を仮想線で示したものである。基板30−2を検出するため位置決めされた4個のセンサのグループ(図2Cにおいて29−3)は、第3センサ27−3、第4センサ27−4、第8センサ27−8及び第12センサ27−12を含む。
参照番号30−3(図2A)は、第2チャンバ22−2にロードされるために適切に位置決めされた基板を仮想線で示したものである。基板30−3を検出するため位置決めされた4個のセンサのグループ(図2Cにおいて29−2)は、第2センサ27−2、第3センサ27−3、第11センサ27−11及び第14センサ27−14を含む。
参照番号30−4(図2A)は、第1チャンバ22−1にロードするために適切に位置決めされた基板を仮想線で示したものである。基板30−4の角部を検出するため位置決めされた4個のセンサのグループ(図2Cにおいて29−1)は、第1センサ27−1、第2センサ27−2、第10センサ27−10及び第13センサ27−13を含む。図3は7個のチャンバ22−1から22−7の各々に作用する4個のセンサのグループを特定した表である。
再度、4個の基板30−1を検出するため位置決めされた4個のセンサのグループ(図2Cにおいて29−4)を説明すると、第4センサ27−4は互いに隣接している第4チャンバ22−4と第3チャンバ22−3により共有されており、第5センサ27−5は互いに隣接している第4チャンバ22−4及び第5チャンバ22−5により共有されている。さらに、第13センサ27−13は第4チャンバ22−4及び第1チャンバ22−1(これらは互いに隣接していない)により共有されており、第9センサ27−9は互いに隣接していない第4チャンバ22−4と第7チャンバ22−7により共有されている。特に、第1及び第4チャンバ22−1、22−4は、これらの間に介在している2個のチャンバ(第2及び第3チャンバ22−2、22−3)を有しており、また、第4及び第7チャンバ22−4、22−7もまたこれらの間に介在している2つのチャンバ(第5及び第6チャンバ22−5、22−6)を有している。
図4は搬送チャンバ21の一部の概略側面図であり、典型的なセンサ27を説明するものである。センサ27は、例えば、搬送チャンバ21の底壁35に配設された送信部31及び受信部33と、搬送チャンバ21の上壁39に配設された反射部37とを備えることができる。送信部31及び受信部33としては、例えば、E3X−DA6増幅器/送信機/受信機を有するオムロンモデルNo.E32−R16センサヘッドを用いることができ、このセンサは660nmで作用する。反射部37は、例えば、オムロンモデルNo.E39−R1反射部であってもよい。他のセンサ、反射部、増幅器、送信部、受信部、波長なども用いることもできる。本発明の少なくとも一の実施例において、フィルタ−又は同様の構成を用いることができ、これによって加熱された基板が搬送チャンバ21内に搬送されると、このような熱は反射部37の反射特性に影響を与える可能性があるので、加熱された反射部からの熱エネルギー(例えば、赤外波長)からリフレクタ−37を保護することができる。例えば、送信部31から発せられる波長を通過させ、赤外波長を反射するフィルタ−を用いることができる(例えば、反射部37の近傍に配置される)。
操作において、送信部31から出射されたビームは経路41に沿って反射部37に進行し、反射部37で反射され、経路43に沿って受信部33に戻る。(説明のため、経路41、43の横方法の分離が強調されている。)。ガラス基板が経路41、43を横切ると、受信部33に受信されるビーム強度は、(例えば、経路41、43に位置するガラス−空気界面における反射により)低下し、これによって基板の存在が示される。センサグループ29−1から29−7の一つにおける4個全てのセンサが基板の存在を検知すると、基板が適切に位置決めされていることが検出される(例えば、基板がチャンバ21−1から22−7の一にロードされるために適切に位置決めされている場合にのみ、そのグループの全てのセンサが基板の存在を検知するように、各々のグループの4個のセンサが配置されている。)
送信部31及び受信部33を搬送チャンバ21の底壁35に配置し、反射部37を搬送チャンバ21の上壁39に配設する代わりに、送信部31及び受信部33を搬送チャンバ21の上壁39に配設し、反射部37を搬送チャンバ21の底壁35に配設してもよい。他のセンサの配置もまた可能である。
本発明のセンサの配置により、かなり少ない数のセンサ(50%減少)により同一の基板検知作用が発揮され、これによって、センサそれ自体のコストと共に搬送チャンバ21にセンサを配設する時間、労力及び費用を節約することが可能になる。
上述した説明は本発明の一例を表すのみであり、本発明の範囲内における上述した装置及び方法の改造は、本技術分野における当業者にとって容易に明らかなものである。例えば、本発明は四角形のガラス板の検出/位置決めとの関連で説明されているが、本発明を他の種類の基板(例えば、円形基板、半導体基板など)の検出/位置決めに適用することも想定されている。
また、ここで説明されている具体的実施例においては、7個のチャンバに連結されている搬送チャンバが示されている。本発明の原理は、7個より多い又は少ない数のチャンバに連結されている搬送チャンバに適用することも想定されている。また、本発明の原理は、搬送チャンバが収容することのできる全てのチャンバが存在するか否か及び/又はマルチプルロードロックチャンバが採用されているか否かに関わらず適用することが可能である。
本発明の搬送チャンバで用いられている基板ハンドリングロボットはいかなるタイプの基板ハンドリング装置であってもよく、図1に示されているタイプのものに限定されない。本発明の少なくとも一の実施例において、各々のセンサ21−1から27−14は、「基板検出用角度付きセンサ」の名称の2002年6月21日に出願された米国特許仮出願第60/390,607号に開示されているような一般的でない入射角で基板を照射する光ビームを用いるものであってもよく、この出願は引用により本明細書に一体化される。一般的に、他のセンサシステムを用いることも可能である。
本発明のセンサの配置は搬送チャンバ内で用いられるものとして記載されているが、本発明に係るセンサの配置は処理チャンバのような他のチャンバで用いることもできる。本発明の少なくとも一の実施例において、本発明に係るセンサの配置は2002年6月21日に「真空処理システムのための処理チャンバ」の名称で出願された米国特許仮出願第60/390,626号及び2002年6月28日に「真空処理システムのための搬送チャンバ」の名称で出願された米国特許仮出願第60/392,578号に記載されているようなドーム型底部を有する搬送チャンバで実施することが可能であり、これらの出願は引用により本明細書に一体化される。
各々のセンサの全て又は一部分は、本発明のセンサ配列が用いられているチャンバの内部又は外部にあってもよい(例えば、外部又は部分的に外部に存在するセンサ配列において、1又はそれ以上の石英ウインドウを介して光ビームを照射することにより)。
従って、本発明は実施例との関係で開示されているが、他の実施例は、特許請求の範囲で規定される本発明の精神及び範囲に含まれるものと理解されなければならない。
基板に対し半導体製造プロセスを実行する従来の処理ツールの概略図である。 本発明の実施例により配列された基板センサを含む処理ツール搬送チャンバの概略図である。 図2A〜Cの搬送チャンバに連結されたチャンバで作用する図2A〜Cのセンサのグループを特定する表である。 図2A〜Cの搬送チャンバの概略側面図であり、図2A〜Cのセンサの典型的な例を示す。

Claims (17)

  1. 少なくとも一の処理チャンバと少なくとも一のロードロックチャンバを含む他の複数のチャンバと連結されて用いられる搬送チャンバと、
    基板を他のチャンバのうちの第1チャンバにロードするように配置されていることを示すため搬送チャンバ内に配置されている第1センサグループと、
    基板を他のチャンバのうちの第2チャンバにロードするように配置されていることを示すため搬送チャンバ内に配置されている第2センサグループとを備え、
    他のチャンバのうちの第2チャンバは他のチャンバのうちの第1チャンバと隣接しておらず、
    第1センサグループの少なくとも一のセンサは第2センサグループに含まれている基板検出装置。
  2. 各々のセンサグループは4個のセンサを含み、各々のセンサは四角形基板の各々の角部を検出するために用いられる請求項1記載の装置。
  3. 四角形基板はガラス板である請求項2記載の装置。
  4. 搬送チャンバは7個の他のチャンバに連結して用いられる請求項1記載の装置。
  5. 搬送チャンバ内に全14個のセンサが配置されている請求項4記載の装置。
  6. 他のチャンバのうちの第1チャンバは他のチャンバのうちの第2チャンバから搬送チャンバの周囲の両方向において他のチャンバのうちの少なくとも2個のチャンバにより分離されている請求項1記載の装置。
  7. 第1センサグループの1個のセンサのみが第2センサグループに含まれている請求項1記載の装置。
  8. 少なくとも一の処理チャンバと少なくとも一のロードロックチャンバに連結されて用いられる搬送チャンバと、
    搬送チャンバの中心から第1半径で搬送チャンバ内に配置されている第1センサリングと、
    搬送チャンバの中心から第2半径で搬送チャンバ内に配置されている第2センサリングとを備え、
    搬送チャンバに連結された処理チャンバ及びロードロックチャンバの各々のために4個の独立したセンサを必要とすることなく、4個の側部を有する基板を搬送チャンバに連結された各々の処理チャンバ及びロードロックチャンバの開口部の正面で検知することができるように、センサが配置され、第1半径及び第2半径が選択される基板検出装置。
  9. 第1センサリング内のセンサの総数は第2センサリング内のセンサの総数に等しい請求項8記載の装置。
  10. 第1センサリングは7個のセンサからなり、第2センサリングは7個のセンサからなる請求項8記載の装置。
  11. 基板を搬送チャンバに連結されている第1チャンバにロードするように配置されていることを示すため搬送チャンバ内に第1センサグループを配置し、
    基板を搬送チャンバに連結されている第2チャンバにロードするように配置されていることを示すため搬送チャンバ内に第2センサグループを配置し、
    第1チャンバは第2チャンバと隣接しておらず、
    第1センサグループの少なくとも一のセンサは第2センサグループに含まれている基板検出方法。
  12. 各々のセンサグループは4個のセンサを含み、各々のセンサは四角形基板の各々の角部を検出するために用いられる請求項11記載の方法。
  13. 第1センサグループの1個のセンサのみが第2センサグループに含まれている請求項11記載の方法。
  14. 搬送チャンバの中心から第1半径で搬送チャンバ内に第1センサリングを配置し、
    搬送チャンバの中心から第2半径で搬送チャンバ内に第2センサリングを配置し、
    搬送チャンバに連結された処理チャンバ及びロードロックチャンバの各々のために4個の独立したセンサを必要とすることなく、4個の側部を有する基板を搬送チャンバに連結された各々のチャンバの開口部の正面で検知することができるように、センサが配置され、第1半径及び第2半径が選択される基板検出装置。
  15. 第1チャンバ、 第2チャンバ、第3チャンバ、第4チャンバ、第5チャンバ、第6チャンバ及び第7チャンバを含む7個の他のチャンバに連結されて用いられる搬送チャンバと、
    搬送チャンバ内に配置された第1センサ、第2センサ、第3センサ、第4センサ、第5センサ、第6センサ、第7センサ、第8センサ、第9センサ、第10センサ、第11センサ、第12センサ、第13センサ及び第14センサを含む14個のセンサとを備え、
    第1、第2、第10及び第13センサは基板を第1チャンバ内にロードするように配置されているかを検出するために配置され、
    第2、第3、第11及び第14センサは基板を第2チャンバ内にロードするように配置されているかを検出するために配置され、
    第3、第4、第8及び第12センサは基板を第3チャンバ内にロードするように配置されているかを検出するために配置され、
    第4、第5、第9及び第13センサは基板を第4チャンバ内にロードするように配置されているかを検出するために配置され、
    第5、第6、第10及び第14センサは基板を第5チャンバ内にロードするように配置されているかを検出するために配置され、
    第6、第7、第8及び第11センサは基板を第6チャンバ内にロードするように配置されているかを検出するために配置され、
    第1、第7、第9及び第12センサは基板を第7チャンバ内にロードするように配置されているかを検出するために配置されている基板検出装置。
  16. 7個の他のチャンバは、搬送チャンバの周りで時計周りに第1チャンバ、第2チャンバ、第3チャンバ、第4チャンバ、第5チャンバ、第6チャンバ、第7チャンバの順序で配置されており、
    第1から第7センサは、搬送チャンバの周りで時計周りに第1センサ、第2センサ、第3センサ、第4センサ、第5センサ、第6センサ、第7センサの順序で配置されており、
    第8から第14センサは、搬送チャンバの周りで時計周りに第8センサ、第9センサ、第10センサ、第11センサ、第12センサ、第13センサ、第14センサの順序で配置されている請求項15記載の装置。
  17. 基板を第1チャンバにロードするように配置されているかを検出するため第1センサ、第2センサ、第10センサ及び第13センサを使用し、
    基板を第2チャンバにロードするように配置されているかを検出するため第2センサ、第3センサ、第11センサ及び第14センサを使用し、
    基板を第3チャンバにロードするように配置されているかを検出するため第3センサ、第4センサ、第8センサ及び第12センサを使用し、
    基板を第4チャンバにロードするように配置されているかを検出するため第4センサ、第5センサ、第9センサ及び第13センサを使用し、
    基板を第5チャンバにロードするように配置されているかを検出するため第5センサ、第6センサ、第10センサ及び第14センサを使用し、
    基板を第6チャンバにロードするように配置されているかを検出するため第6センサ、第7センサ、第8センサ及び第11センサを使用し、
    基板を第7チャンバにロードするように配置されているかを検出するため第1センサ、第7センサ、第9センサ及び第12センサを使用する基板検出方法。
JP2004516134A 2002-06-21 2003-06-20 基板の位置/存在を検出するための共有センサ Expired - Fee Related JP4490263B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US39076402P 2002-06-21 2002-06-21
PCT/US2003/019723 WO2004001818A2 (en) 2002-06-21 2003-06-20 Shared sensors for detecting substrate position/presence

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005531150A true JP2005531150A (ja) 2005-10-13
JP4490263B2 JP4490263B2 (ja) 2010-06-23

Family

ID=30000614

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004516134A Expired - Fee Related JP4490263B2 (ja) 2002-06-21 2003-06-20 基板の位置/存在を検出するための共有センサ

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6856858B2 (ja)
EP (1) EP1522088A2 (ja)
JP (1) JP4490263B2 (ja)
KR (1) KR100743322B1 (ja)
CN (1) CN100423180C (ja)
AU (1) AU2003243737A1 (ja)
TW (1) TWI283453B (ja)
WO (1) WO2004001818A2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007227781A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Tokyo Electron Ltd 基板の位置ずれ検査機構,処理システム及び基板の位置ずれ検査方法
JP2011139074A (ja) * 2011-01-07 2011-07-14 Applied Materials Inc 基板の破損及び移動中の基板のずれを動的に検出するセンサ
JP2011254117A (ja) * 2008-07-02 2011-12-15 Advanced Display Process Engineering Co Ltd 基板感知方法、基板処理装置及び基板処理方法

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004060486A1 (en) * 2003-01-02 2004-07-22 Loma Linda University Medical Center Configuration management and retrieval system for proton beam therapy system
JP2004282002A (ja) * 2003-02-27 2004-10-07 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
US7107125B2 (en) * 2003-10-29 2006-09-12 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for monitoring the position of a semiconductor processing robot
US8313277B2 (en) * 2003-11-10 2012-11-20 Brooks Automation, Inc. Semiconductor manufacturing process modules
US7458763B2 (en) * 2003-11-10 2008-12-02 Blueshift Technologies, Inc. Mid-entry load lock for semiconductor handling system
US10086511B2 (en) 2003-11-10 2018-10-02 Brooks Automation, Inc. Semiconductor manufacturing systems
US20070269297A1 (en) * 2003-11-10 2007-11-22 Meulen Peter V D Semiconductor wafer handling and transport
US8634633B2 (en) 2003-11-10 2014-01-21 Brooks Automation, Inc. Wafer center finding with kalman filter
US7792350B2 (en) * 2003-11-10 2010-09-07 Brooks Automation, Inc. Wafer center finding
US8267632B2 (en) 2003-11-10 2012-09-18 Brooks Automation, Inc. Semiconductor manufacturing process modules
US8696298B2 (en) * 2003-11-10 2014-04-15 Brooks Automation, Inc. Semiconductor manufacturing process modules
US7440091B2 (en) * 2004-10-26 2008-10-21 Applied Materials, Inc. Sensors for dynamically detecting substrate breakage and misalignment of a moving substrate
US8099190B2 (en) * 2007-06-22 2012-01-17 Asm International N.V. Apparatus and method for transferring two or more wafers whereby the positions of the wafers can be measured
US8276959B2 (en) 2008-08-08 2012-10-02 Applied Materials, Inc. Magnetic pad for end-effectors
US20100177076A1 (en) * 2009-01-13 2010-07-15 Metrologic Instruments, Inc. Edge-lit electronic-ink display device for use in indoor and outdoor environments
KR101557333B1 (ko) * 2011-03-16 2015-10-05 가부시키가이샤 아루박 반송 장치, 진공 장치
JP5639958B2 (ja) * 2011-05-27 2014-12-10 日東電工株式会社 半導体ウエハマウント方法および半導体ウエハマウント装置
CN104241162A (zh) * 2013-06-09 2014-12-24 上海和辉光电有限公司 撞片防护装置、涂布平台及其撞片防护方法
KR101548345B1 (ko) * 2014-04-10 2015-09-01 피에스케이 주식회사 기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 그리고 기록 매체
US11862499B2 (en) * 2020-08-19 2024-01-02 Applied Materials, Inc. Multiplexing control of multiple positional sensors in device manufacturing machines
KR102487639B1 (ko) * 2022-05-03 2023-01-11 주식회사 이서 챔버의 상태를 모니터링하기 위한 참조 상태 데이터 생성 방법, 챔버의 상태를 모니터링하는 방법 및 챔버의 상태를 모니터링하는 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001110873A (ja) * 1999-10-06 2001-04-20 Tokyo Electron Ltd 処理装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69329269T2 (de) * 1992-11-12 2000-12-28 Applied Materials Inc System und Verfahren für automatische Positionierung eines Substrats in einem Prozessraum
US5452521A (en) * 1994-03-09 1995-09-26 Niewmierzycki; Leszek Workpiece alignment structure and method
JPH09102530A (ja) * 1995-06-07 1997-04-15 Varian Assoc Inc ウェーハの向き検査システム
JP3105544B2 (ja) * 1996-03-18 2000-11-06 株式会社小松製作所 ワーク搬送システムの制御装置
TW350115B (en) * 1996-12-02 1999-01-11 Toyota Automatic Loom Co Ltd Misregistration detection device and method thereof
US6190037B1 (en) * 1999-02-19 2001-02-20 Applied Materials, Inc. Non-intrusive, on-the-fly (OTF) temperature measurement and monitoring system
US6629053B1 (en) * 1999-11-22 2003-09-30 Lam Research Corporation Method and apparatus for determining substrate offset using optimization techniques
US6502054B1 (en) * 1999-11-22 2002-12-31 Lam Research Corporation Method of and apparatus for dynamic alignment of substrates
US6327517B1 (en) * 2000-07-27 2001-12-04 Applied Materials, Inc. Apparatus for on-the-fly center finding and notch aligning for wafer handling robots
US6556887B2 (en) * 2001-07-12 2003-04-29 Applied Materials, Inc. Method for determining a position of a robot

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001110873A (ja) * 1999-10-06 2001-04-20 Tokyo Electron Ltd 処理装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007227781A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Tokyo Electron Ltd 基板の位置ずれ検査機構,処理システム及び基板の位置ずれ検査方法
JP2011254117A (ja) * 2008-07-02 2011-12-15 Advanced Display Process Engineering Co Ltd 基板感知方法、基板処理装置及び基板処理方法
JP2011139074A (ja) * 2011-01-07 2011-07-14 Applied Materials Inc 基板の破損及び移動中の基板のずれを動的に検出するセンサ

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050013598A (ko) 2005-02-04
WO2004001818A3 (en) 2004-02-19
CN1675743A (zh) 2005-09-28
TWI283453B (en) 2007-07-01
WO2004001818A2 (en) 2003-12-31
CN100423180C (zh) 2008-10-01
US20040055397A1 (en) 2004-03-25
JP4490263B2 (ja) 2010-06-23
EP1522088A2 (en) 2005-04-13
TW200403793A (en) 2004-03-01
AU2003243737A1 (en) 2004-01-06
US6856858B2 (en) 2005-02-15
KR100743322B1 (ko) 2007-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4490263B2 (ja) 基板の位置/存在を検出するための共有センサ
US8395136B2 (en) Positional deviation detection apparatus and process system employing the same
JP3468056B2 (ja) 基板検出装置
JP4696373B2 (ja) 処理システム及び被処理体の搬送方法
US6313596B1 (en) Detection system for substrate clamp
KR100676029B1 (ko) 진공 처리 시스템
JP2001110873A (ja) 処理装置
US20080138176A1 (en) Apparatus for manufacturing semiconductor device
JP4256551B2 (ja) 真空処理システム
TW201523762A (zh) 具有即時基板定心的處理裝置
JP2000150618A (ja) 真空処理システム
JP4422745B2 (ja) ウェハ位置ずれ検出装置およびウェハ位置ずれ検出方法
JPH11145241A (ja) マルチチャンバシステムおよび基板検出方法
JP4422300B2 (ja) ウェハ処理装置
JP4570954B2 (ja) 基板検出の為の角度付きセンサ
JPH11330480A (ja) 薄膜トランジスタの製造方法
JP2001015573A (ja) 基板処理装置
JP2000357724A (ja) 基板搬送部材およびそれの有無検知方法
JP2006005210A (ja) 半導体製造装置
KR20220084528A (ko) 기판 처리 장치
JPH11168129A (ja) 基板搬送装置およびプラズマ処理装置
JPH1084028A (ja) ウェーハ搬送装置
JPS6255655A (ja) フオトマスク
JP2000156394A (ja) 搬送装置およびそれを用いた半導体製造装置
KR20030001838A (ko) 웨이퍼 카운트 센서를 구비한 로드 락 챔버

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090818

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091110

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091117

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091214

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091221

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100114

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100216

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100316

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100401

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130409

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees