JP2000357724A - 基板搬送部材およびそれの有無検知方法 - Google Patents
基板搬送部材およびそれの有無検知方法Info
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- JP2000357724A JP2000357724A JP16831499A JP16831499A JP2000357724A JP 2000357724 A JP2000357724 A JP 2000357724A JP 16831499 A JP16831499 A JP 16831499A JP 16831499 A JP16831499 A JP 16831499A JP 2000357724 A JP2000357724 A JP 2000357724A
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- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 17
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 58
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 10
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 異なるウェーハ搬送部材を複数段重ねて設置
し処理を行わなければならない場合に、実質的に一種類
で済むウェーハ搬送部材を提供する。 【解決手段】 この発明のウェーハ搬送部材11,1
2,13,14は、取り扱われる半導体ウェーハがその
上に一枚ずつ載置され、それが半導体ウェーハ処理装置
の中で、間隔を開けて水平に、平行移動するがごとくに
鉛直方向に複数段設置される。鉛直方向からセンサS
a,Sb,Sc,Sdの検査光がウェーハ搬送部材の識
別目印のキャップ30を通過するか否かで各ウェーハ搬
送部材の有無を検出する。このウェーハ搬送部材は、そ
れぞれ同じ形状をした本体を有するとともに、キャップ
が所望の位置の貫通孔25a,25b,25c,25d
に挿入されている。したがって、該当するウェーハ搬送
部材が有れば、検査光は受光センサに受光されず、無け
れば、受光される。
し処理を行わなければならない場合に、実質的に一種類
で済むウェーハ搬送部材を提供する。 【解決手段】 この発明のウェーハ搬送部材11,1
2,13,14は、取り扱われる半導体ウェーハがその
上に一枚ずつ載置され、それが半導体ウェーハ処理装置
の中で、間隔を開けて水平に、平行移動するがごとくに
鉛直方向に複数段設置される。鉛直方向からセンサS
a,Sb,Sc,Sdの検査光がウェーハ搬送部材の識
別目印のキャップ30を通過するか否かで各ウェーハ搬
送部材の有無を検出する。このウェーハ搬送部材は、そ
れぞれ同じ形状をした本体を有するとともに、キャップ
が所望の位置の貫通孔25a,25b,25c,25d
に挿入されている。したがって、該当するウェーハ搬送
部材が有れば、検査光は受光センサに受光されず、無け
れば、受光される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、基板搬送部材と
して、例えば、半導体ウェーハを処理するための半導体
処理装置の中で用いられるウェーハ搬送部材に関し、特
に、取り扱われる基板としての半導体ウェーハがその上
に一枚ずつ載置され、それが半導体ウェーハ処理装置の
中で、間隔を開けて水平に、平行移動するがごとくに鉛
直方向に複数段設置される基板搬送部材であって、鉛直
方向からの検査光が基板搬送部材の検知部を通過するか
否かで各基板搬送部材の有無が検出されるようにした基
板搬送部材に関する。
して、例えば、半導体ウェーハを処理するための半導体
処理装置の中で用いられるウェーハ搬送部材に関し、特
に、取り扱われる基板としての半導体ウェーハがその上
に一枚ずつ載置され、それが半導体ウェーハ処理装置の
中で、間隔を開けて水平に、平行移動するがごとくに鉛
直方向に複数段設置される基板搬送部材であって、鉛直
方向からの検査光が基板搬送部材の検知部を通過するか
否かで各基板搬送部材の有無が検出されるようにした基
板搬送部材に関する。
【0002】
【従来の技術】図7は、半導体ウェーハを熱処理するた
めの従来の搬送式熱処理装置40を示す図である。熱処
理装置40の中心部には搬送室41が設けられ、搬送室
41の内部には、搬送用ロボット42が設置され、さら
に、搬送室41の外部には、搬送室41に隣接するよう
に、ゲートバルブ51,52を介してロードロック室6
1,62と、ゲートバルブ71,72を介して反応室8
1,82とが設けられている。
めの従来の搬送式熱処理装置40を示す図である。熱処
理装置40の中心部には搬送室41が設けられ、搬送室
41の内部には、搬送用ロボット42が設置され、さら
に、搬送室41の外部には、搬送室41に隣接するよう
に、ゲートバルブ51,52を介してロードロック室6
1,62と、ゲートバルブ71,72を介して反応室8
1,82とが設けられている。
【0003】上述の搬送式熱処理装置40において、搬
送用ロボット42は、アームの先端に設けられたツイー
ザ(あるいは、ウェーハ搬送プレート)43によってウ
ェーハを搬送する。しかし、この場合ウェーハとツィー
ザとの間の温度差が大きくなると、ウェーハにスリップ
が発生する。そこで、かかるスリップ発生を防止するた
め、ウェーハをリングに載せツィーザがウェーハの真下
を通過しないようにしている。
送用ロボット42は、アームの先端に設けられたツイー
ザ(あるいは、ウェーハ搬送プレート)43によってウ
ェーハを搬送する。しかし、この場合ウェーハとツィー
ザとの間の温度差が大きくなると、ウェーハにスリップ
が発生する。そこで、かかるスリップ発生を防止するた
め、ウェーハをリングに載せツィーザがウェーハの真下
を通過しないようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウェー
ハをリングに載せてツィーザで搬送するようにした場合
において、そのリングを複数段重ねてロードロック室又
は装置の処理室などに置いてあるときに、ツィーザでウ
ェーハを搬送しようとするときには、現在、何段目のリ
ングが有るのかを知る必要があり、従来より、かかる検
知を自動的に行えるようにする技術が要望されていた。
ハをリングに載せてツィーザで搬送するようにした場合
において、そのリングを複数段重ねてロードロック室又
は装置の処理室などに置いてあるときに、ツィーザでウ
ェーハを搬送しようとするときには、現在、何段目のリ
ングが有るのかを知る必要があり、従来より、かかる検
知を自動的に行えるようにする技術が要望されていた。
【0005】この発明は、上記課題を解消するためにな
されたもので、リングを複数段重ねて処理を行わなけれ
ばならないような場合に、存在するリングが何段目のリ
ングであるのか容易に、且つ自動的に検知できる基板搬
送部材およびそれの有無検知方法を提供することを目的
とする。
されたもので、リングを複数段重ねて処理を行わなけれ
ばならないような場合に、存在するリングが何段目のリ
ングであるのか容易に、且つ自動的に検知できる基板搬
送部材およびそれの有無検知方法を提供することを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、この発明に係る基板搬送部材は、取り扱われる
基板が載置され、基板処理装置の中で、間隔を開けて鉛
直方向に複数段設置される基板搬送部材において、前記
複数の基板搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直方向
からの検査光を遮断することで、該基板搬送部材が存在
することを検知するための検知部を設け、各検知部に対
して照射される検査光が該検知部により遮断されるか否
かにより各基板搬送部材の有無が検知できる構成とされ
たことを特徴とするものである。
ために、この発明に係る基板搬送部材は、取り扱われる
基板が載置され、基板処理装置の中で、間隔を開けて鉛
直方向に複数段設置される基板搬送部材において、前記
複数の基板搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直方向
からの検査光を遮断することで、該基板搬送部材が存在
することを検知するための検知部を設け、各検知部に対
して照射される検査光が該検知部により遮断されるか否
かにより各基板搬送部材の有無が検知できる構成とされ
たことを特徴とするものである。
【0007】このような構成によれば、基板搬送部材の
何段目が存在しているのかを、容易に、且つ自動的に検
知することができる。
何段目が存在しているのかを、容易に、且つ自動的に検
知することができる。
【0008】また、この発明に係る基板搬送部材におい
て、前記複数の基板搬送部材は、それぞれ同じ形状をし
た本体を有し、前記検知部は、前記本体の所定箇所に穿
設された検査光通過用の複数の貫通孔と、複数の貫通孔
のうちの所望の一つの貫通孔を前記検査光が通過しない
ように閉塞する不透明部材とから構成されているもので
ある。
て、前記複数の基板搬送部材は、それぞれ同じ形状をし
た本体を有し、前記検知部は、前記本体の所定箇所に穿
設された検査光通過用の複数の貫通孔と、複数の貫通孔
のうちの所望の一つの貫通孔を前記検査光が通過しない
ように閉塞する不透明部材とから構成されているもので
ある。
【0009】このような構成によれば、それぞれの種類
に区別される検知部を有する基板搬送部材の本体は、同
じ形状に加工でき、生産コスト低減を図ることができ
る。すなわち、例えば、半導体ウェーハを載置して搬送
するのに複数の種類のリングを使用するようにすると、
リングは、材質が高純度SiC、シリコン単結晶、ある
いは、石英等から作られるために生産加工が容易でな
く、多種類生産においてはコストが高くなる。この発明
によれば、重ねるリングの段数が増加するに従って、リ
ンクの種類を増加させるようなことをせずに、段数に関
係なく、実質的に一種類のリングで済むように標準化で
きるので、同一工程での製作数を多くすることができ、
コスト低減を行い、スペアパーツにしても一種類にして
管理を容易に行うことができる。
に区別される検知部を有する基板搬送部材の本体は、同
じ形状に加工でき、生産コスト低減を図ることができ
る。すなわち、例えば、半導体ウェーハを載置して搬送
するのに複数の種類のリングを使用するようにすると、
リングは、材質が高純度SiC、シリコン単結晶、ある
いは、石英等から作られるために生産加工が容易でな
く、多種類生産においてはコストが高くなる。この発明
によれば、重ねるリングの段数が増加するに従って、リ
ンクの種類を増加させるようなことをせずに、段数に関
係なく、実質的に一種類のリングで済むように標準化で
きるので、同一工程での製作数を多くすることができ、
コスト低減を行い、スペアパーツにしても一種類にして
管理を容易に行うことができる。
【0010】さらに、この発明に係る基板搬送部材の有
無検知方法は、取り扱われる基板が載置され、基板処理
装置の中で、間隔を開けて鉛直方向に複数段設置される
基板搬送部材の有無検知方法において、前記複数の基板
搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直方向からの検査
光を遮断することで、該基板搬送部材が存在することを
検知するための検知部を設け、各検知部に対して照射さ
れる検査光が該検知部により遮断されるか否かにより各
基板搬送部材の有無が検知できるようにしたことを特徴
とするものである。
無検知方法は、取り扱われる基板が載置され、基板処理
装置の中で、間隔を開けて鉛直方向に複数段設置される
基板搬送部材の有無検知方法において、前記複数の基板
搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直方向からの検査
光を遮断することで、該基板搬送部材が存在することを
検知するための検知部を設け、各検知部に対して照射さ
れる検査光が該検知部により遮断されるか否かにより各
基板搬送部材の有無が検知できるようにしたことを特徴
とするものである。
【0011】このような構成によれば、基板搬送部材の
何段目が存在しているのかを、容易に、且つ自動的に検
知することができる。
何段目が存在しているのかを、容易に、且つ自動的に検
知することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて添付図面に基づいて説明する。 実施の形態1.図1はこの発明におけるロードロック室
の断面拡大図、図2は図1で使用されるウェーハ搬送部
材(この従来例では、リングと称する)を示す図、図3
はロードロック室に格納されたリングの存在がどのよう
に検知されるかを説明する図である。
いて添付図面に基づいて説明する。 実施の形態1.図1はこの発明におけるロードロック室
の断面拡大図、図2は図1で使用されるウェーハ搬送部
材(この従来例では、リングと称する)を示す図、図3
はロードロック室に格納されたリングの存在がどのよう
に検知されるかを説明する図である。
【0013】図7に示したリング搬送式熱処理装置40
において、搬送用ロボット42は、アームの先端に設け
られたツイーザ(あるいは、ウェーハ搬送プレート)4
3によってウェーハWHが載置されたリングを保持し、
ロードロック室61,62と反応室81,82との間等
を搬送する。ロードロック室61,62においては、図
1に示されるように、ウェーハWHが一枚ずつ載置され
たリング91〜94は、所定の間隔を開けて水平に、平
行移動したように積み重ねられて格納されている。搬送
用ロボット42がこれらのウェーハWHが載置されたリ
ング91,〜,94を順次に搬送しようとする場合、何
番目のリングが格納されているのかを検知する必要があ
る。
において、搬送用ロボット42は、アームの先端に設け
られたツイーザ(あるいは、ウェーハ搬送プレート)4
3によってウェーハWHが載置されたリングを保持し、
ロードロック室61,62と反応室81,82との間等
を搬送する。ロードロック室61,62においては、図
1に示されるように、ウェーハWHが一枚ずつ載置され
たリング91〜94は、所定の間隔を開けて水平に、平
行移動したように積み重ねられて格納されている。搬送
用ロボット42がこれらのウェーハWHが載置されたリ
ング91,〜,94を順次に搬送しようとする場合、何
番目のリングが格納されているのかを検知する必要があ
る。
【0014】上述のリングは、平らな板状の環状部95
と、ウェーハWHを保持するために環状部95の内側の
空間部の中心に向けて水平に突出している複数(3個以
上)のウェーハ保持用の内部タブ96と、環状部95の
外側に水平に突出している複数(この例では4個)の外
部タブ97とから構成されている。
と、ウェーハWHを保持するために環状部95の内側の
空間部の中心に向けて水平に突出している複数(3個以
上)のウェーハ保持用の内部タブ96と、環状部95の
外側に水平に突出している複数(この例では4個)の外
部タブ97とから構成されている。
【0015】ただし、図2および図3に示されるよう
に、外部タブ97に関し、リング91では、図で左奧の
タブがX軸に平行にX軸側に幅広くされ、リング種類区
別用の外部タブ97aとされ、リング92では、図で左
前のタブがX軸に平行にX軸側に幅広くされ、リング種
類区別用の外部タブ97bとされ、リング93では、図
で右奧のタブがX軸に平行にX軸側に幅広くされ、リン
グ種類区別用の外部タブ97cとされ、リング94で
は、図で右前のタブ97がX軸に平行にX軸側に幅広く
され、この発明の検知部に相当するリング種類区別用の
外部タブ97dとされている。
に、外部タブ97に関し、リング91では、図で左奧の
タブがX軸に平行にX軸側に幅広くされ、リング種類区
別用の外部タブ97aとされ、リング92では、図で左
前のタブがX軸に平行にX軸側に幅広くされ、リング種
類区別用の外部タブ97bとされ、リング93では、図
で右奧のタブがX軸に平行にX軸側に幅広くされ、リン
グ種類区別用の外部タブ97cとされ、リング94で
は、図で右前のタブ97がX軸に平行にX軸側に幅広く
され、この発明の検知部に相当するリング種類区別用の
外部タブ97dとされている。
【0016】したがって、ロードロック室において、鉛
直下方向に光を照射する投光センサSa,Sb,Sc,
Sdを設けると共に、それらの光をそれぞれ受光する受
光センサRa,Rb,Rc,Rdを設け、投光センサS
a,Sb,Sc,Sdから窓Wa,Wb,Wc,Wdお
よび窓Va,Vb,Vc,Vdを通って受光センサR
a,Rb,Rc,Rdへ向かう光の進路に、リング9
1,92,93,94それぞれのリング種類区別用の外
部タブ97a,97b,97c,97dが存在するよう
にしておけば、これらリングによってそれに対応するセ
ンサの光が遮断され、そのリングの存在が検知される。
直下方向に光を照射する投光センサSa,Sb,Sc,
Sdを設けると共に、それらの光をそれぞれ受光する受
光センサRa,Rb,Rc,Rdを設け、投光センサS
a,Sb,Sc,Sdから窓Wa,Wb,Wc,Wdお
よび窓Va,Vb,Vc,Vdを通って受光センサR
a,Rb,Rc,Rdへ向かう光の進路に、リング9
1,92,93,94それぞれのリング種類区別用の外
部タブ97a,97b,97c,97dが存在するよう
にしておけば、これらリングによってそれに対応するセ
ンサの光が遮断され、そのリングの存在が検知される。
【0017】したがって、受光センサRa,Rb,R
c,Rdの何れかが受光すれば、受光した受光センサR
a,Rb,Rc,Rdに対応するリング種類区別用の外
部タブ97a,97b,97c,97dを有するリング
91,92,93,94は、存在しないことになる。し
たがって、4種類のリングの有無が正確に判断できるこ
ととなる。
c,Rdの何れかが受光すれば、受光した受光センサR
a,Rb,Rc,Rdに対応するリング種類区別用の外
部タブ97a,97b,97c,97dを有するリング
91,92,93,94は、存在しないことになる。し
たがって、4種類のリングの有無が正確に判断できるこ
ととなる。
【0018】実施の形態2.実施の形態1では、リング
種類区別用の外部タブ97a,97b,97c,97d
がそれぞれ異なる位置に形成された4種類のリンク9
1,92,93,94を用意しなければならない。実施
の形態2は、実質的に一種類のリングで済むように標準
化できるようにした場合について説明するものである。
種類区別用の外部タブ97a,97b,97c,97d
がそれぞれ異なる位置に形成された4種類のリンク9
1,92,93,94を用意しなければならない。実施
の形態2は、実質的に一種類のリングで済むように標準
化できるようにした場合について説明するものである。
【0019】図4はこの発明に係わるウェーハ搬送部材
の実施の形態における本体を示す平面図、図5は図4の
ウェーハ搬送部材の本体のに挿入されるキャップを示す
図、図6はロードロック室に格納された4種類のウェー
ハ搬送部材の存在がどのように検知されるかを説明する
図である。
の実施の形態における本体を示す平面図、図5は図4の
ウェーハ搬送部材の本体のに挿入されるキャップを示す
図、図6はロードロック室に格納された4種類のウェー
ハ搬送部材の存在がどのように検知されるかを説明する
図である。
【0020】実施の形態2のウェーハ搬送部材は、実施
の形態1において示したリング91,92,93,94
に置きかえて使用されるものとして説明を行う。したが
って、必要なウェーハ搬送部材は、4種類である。ま
た、従来例及び実施の形態1の説明から極めて明らかな
ものについては、既述の説明を参照されたい。
の形態1において示したリング91,92,93,94
に置きかえて使用されるものとして説明を行う。したが
って、必要なウェーハ搬送部材は、4種類である。ま
た、従来例及び実施の形態1の説明から極めて明らかな
ものについては、既述の説明を参照されたい。
【0021】ウェーハ搬送部材11,12,13,14
は、本体20と、本体20に装着されて検査光(投光セ
ンサからの光)を遮断する不透明のキャップ30とから
構成される。本体20は、4種類のウェーハ搬送部材1
1,12,13,14に共通して同一形状となってい
る。本体20は、平らな板状の環状部21と、ウェーハ
WHを保持するために、環状部21の内側の空間部の中
心に向けて水平に突出している複数(3個以上)のウェ
ーハ保持用の内部タブ22と、環状部21と平行に環状
部21の中心を通るX軸,Y軸に対して線対称になるよ
うに(このように構成する必要はないが製造上あるいは
左右を逆にしても使用できるから便利である)、環状部
95の外側に水平に突出している2つの外部タブ23,
24とから構成されている。なお、これら外部タブ2
3,24及びキャップ30は、この発明の検知部を構成
している。
は、本体20と、本体20に装着されて検査光(投光セ
ンサからの光)を遮断する不透明のキャップ30とから
構成される。本体20は、4種類のウェーハ搬送部材1
1,12,13,14に共通して同一形状となってい
る。本体20は、平らな板状の環状部21と、ウェーハ
WHを保持するために、環状部21の内側の空間部の中
心に向けて水平に突出している複数(3個以上)のウェ
ーハ保持用の内部タブ22と、環状部21と平行に環状
部21の中心を通るX軸,Y軸に対して線対称になるよ
うに(このように構成する必要はないが製造上あるいは
左右を逆にしても使用できるから便利である)、環状部
95の外側に水平に突出している2つの外部タブ23,
24とから構成されている。なお、これら外部タブ2
3,24及びキャップ30は、この発明の検知部を構成
している。
【0022】上述の場合、外部タブ23,24には、ウ
ェーハ搬送部材11,12,13,14の有無検出用の
貫通孔25a,25b,25c,25dが穿設されてい
る。これらの貫通孔25a,25b,25c,25d
は、X軸,Y軸に対して線対称になるように形成されて
いる(このようにすることは必ずしも必要ではない)。
また、外部タブ23,24の外形は、搬送室内の搬送用
ロボットが従来のツイーザ43によって容易にウェーハ
搬送部材11,12,13,14を保持できるように、
リング91,92,93,94の外部タブの外形を結ん
だ線と一致するようにされているのが望ましい。
ェーハ搬送部材11,12,13,14の有無検出用の
貫通孔25a,25b,25c,25dが穿設されてい
る。これらの貫通孔25a,25b,25c,25d
は、X軸,Y軸に対して線対称になるように形成されて
いる(このようにすることは必ずしも必要ではない)。
また、外部タブ23,24の外形は、搬送室内の搬送用
ロボットが従来のツイーザ43によって容易にウェーハ
搬送部材11,12,13,14を保持できるように、
リング91,92,93,94の外部タブの外形を結ん
だ線と一致するようにされているのが望ましい。
【0023】貫通孔25a,25b,25c,25d
は、同一形状に穿設されており、上側は、キャップが入
るように大きめに、下側は、キャップを位置決めできる
ように小さくされている。したがって、4種類のウェー
ハ搬送部材11,12,13,14を作成するには、図
6を参照すれば明らかなように、本体20の貫通孔25
aのみにキャップ30を挿入したもの、本体20の貫通
孔25bのみにキャップ30を挿入したもの、本体20
の貫通孔25cのみにキャップ30を挿入したもの、本
体20の貫通孔25dのみにキャップ30を挿入したも
のを用意すればよい。
は、同一形状に穿設されており、上側は、キャップが入
るように大きめに、下側は、キャップを位置決めできる
ように小さくされている。したがって、4種類のウェー
ハ搬送部材11,12,13,14を作成するには、図
6を参照すれば明らかなように、本体20の貫通孔25
aのみにキャップ30を挿入したもの、本体20の貫通
孔25bのみにキャップ30を挿入したもの、本体20
の貫通孔25cのみにキャップ30を挿入したもの、本
体20の貫通孔25dのみにキャップ30を挿入したも
のを用意すればよい。
【0024】投光センサSa,Sb,Sc,Sdからの
検査光は、間隔を置いて重ねて設置されたウェーハ搬送
部材11,12,13,14それぞれの貫通孔25a,
25b,25c,25dを通過するように設定されてい
るので、投光センサSa,Sb,Sc,Sdからの検査
光に対応するウェーハ搬送部材11,12,13,14
が設置されていれば、ウェーハ搬送部材11,12,1
3,14に装着されたキャップによって、検査光は遮断
され、その存在が確認され、ウェーハ搬送部材11,1
2,13,14が設置されていなければ、該当する投光
センサSa,Sb,Sc,Sdからの検査光は、遮断さ
れずに該当する受光センサRa,Rb,Rc,Rdに受
光される。
検査光は、間隔を置いて重ねて設置されたウェーハ搬送
部材11,12,13,14それぞれの貫通孔25a,
25b,25c,25dを通過するように設定されてい
るので、投光センサSa,Sb,Sc,Sdからの検査
光に対応するウェーハ搬送部材11,12,13,14
が設置されていれば、ウェーハ搬送部材11,12,1
3,14に装着されたキャップによって、検査光は遮断
され、その存在が確認され、ウェーハ搬送部材11,1
2,13,14が設置されていなければ、該当する投光
センサSa,Sb,Sc,Sdからの検査光は、遮断さ
れずに該当する受光センサRa,Rb,Rc,Rdに受
光される。
【0025】この例によって、明らかなように、実施の
形態2におけるウェーハ搬送部材の本体は全て同じ形で
あるから、生産するに当たり、その数量は大きくなり、
生産性が上がり、コストが下がる。また、スペアパーツ
にしても一種類だけ補間管理すればよいので能率的であ
る。また、ウェーハ搬送部材の種類を変更するのもキャ
ップを挿入する位置を変えるだけで実施でき能率的であ
る。
形態2におけるウェーハ搬送部材の本体は全て同じ形で
あるから、生産するに当たり、その数量は大きくなり、
生産性が上がり、コストが下がる。また、スペアパーツ
にしても一種類だけ補間管理すればよいので能率的であ
る。また、ウェーハ搬送部材の種類を変更するのもキャ
ップを挿入する位置を変えるだけで実施でき能率的であ
る。
【0026】
【発明の効果】以上に詳述したように、この発明の基板
搬送部材は、取り扱われる基板が載置され、基板処理装
置の中で、間隔を開けて水平に、平行移動するように鉛
直方向に複数段設置される基板搬送部材において、前記
複数の基板搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直方向
からの検査光を遮断することで、該基板搬送部材が存在
することを検知するための検知部を設け、各検知部に対
して照射される検査光が該検知部により遮断されるか否
かにより各基板搬送部材の有無が検知できる構成とされ
たことを特徴とするものであるから、基板搬送部材の何
段目が存在しているのかを、容易に、且つ自動的に検知
することができる。
搬送部材は、取り扱われる基板が載置され、基板処理装
置の中で、間隔を開けて水平に、平行移動するように鉛
直方向に複数段設置される基板搬送部材において、前記
複数の基板搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直方向
からの検査光を遮断することで、該基板搬送部材が存在
することを検知するための検知部を設け、各検知部に対
して照射される検査光が該検知部により遮断されるか否
かにより各基板搬送部材の有無が検知できる構成とされ
たことを特徴とするものであるから、基板搬送部材の何
段目が存在しているのかを、容易に、且つ自動的に検知
することができる。
【0027】また、この発明の基板搬送部材は、それぞ
れ同じ形状をした本体を有し、前記検知部は、前記本体
の所定箇所に穿設された検査光通過用の複数の貫通孔
と、複数の貫通孔のうちの所望の一つの貫通孔を前記検
査光が通過しないように閉塞する不透明部材とから構成
されるようにしたので、本体の生産数量が増加し、能率
が上がると共に、種類の異なるウェーハ搬送部材を作る
のにも、識別目印の位置を変えるだけなので容易であ
る。また、スペアパーツも一種類だけ管理すればよいか
ら能率的である。
れ同じ形状をした本体を有し、前記検知部は、前記本体
の所定箇所に穿設された検査光通過用の複数の貫通孔
と、複数の貫通孔のうちの所望の一つの貫通孔を前記検
査光が通過しないように閉塞する不透明部材とから構成
されるようにしたので、本体の生産数量が増加し、能率
が上がると共に、種類の異なるウェーハ搬送部材を作る
のにも、識別目印の位置を変えるだけなので容易であ
る。また、スペアパーツも一種類だけ管理すればよいか
ら能率的である。
【0028】また、このウェーハ搬送部材を用いた本発
明の検知方法によれば、検知が検査光の通過あるいは遮
断で自動的に判断される。
明の検知方法によれば、検知が検査光の通過あるいは遮
断で自動的に判断される。
【図1】ロードロック室の断面拡大図である。
【図2】図1で使用されるウェーハ搬送部材(リング)
を示す図である。
を示す図である。
【図3】図1のロードロック室に格納されたリングの存
在がどのように検知されるかを説明する図である。
在がどのように検知されるかを説明する図である。
【図4】この発明に係わるウェーハ搬送部材の実施の形
態における本体を示す平面図である。
態における本体を示す平面図である。
【図5】図4のA−A断面であり、ウェーハ搬送部材の
本体の貫通孔にキャップを挿入するのを示す図である。
本体の貫通孔にキャップを挿入するのを示す図である。
【図6】ロードロック室に格納された4種類のウェーハ
搬送部材の有無がどのように検知されるかを説明する図
である。
搬送部材の有無がどのように検知されるかを説明する図
である。
【図7】半導体ウェーハを熱処理するための従来のリン
グ搬送式熱処理装置を示す図である。
グ搬送式熱処理装置を示す図である。
11,12,13,14,91,92,93,94
ウェーハ搬送部材 20 本体 21 環状部 22,96 内部タブ 23,24,97 外部タブ 25a,25b,25c,25d 貫通孔 30 キャップ 40 リング搬送式熱処理装置 42 搬送用ロボット 43 ツイーザ 60,61 ロードロック室 81,82 反応室 WH ウェーハ Sa,Sb,Sc,Sd 投光センサ Ra,Rb,Rc,Rd 受光センサ
ウェーハ搬送部材 20 本体 21 環状部 22,96 内部タブ 23,24,97 外部タブ 25a,25b,25c,25d 貫通孔 30 キャップ 40 リング搬送式熱処理装置 42 搬送用ロボット 43 ツイーザ 60,61 ロードロック室 81,82 反応室 WH ウェーハ Sa,Sb,Sc,Sd 投光センサ Ra,Rb,Rc,Rd 受光センサ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年6月15日(1999.6.1
5)
5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図7
【補正方法】変更
【補正内容】
【図7】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA61 AA67 BB15 CC17 DD06 FF02 GG01 HH04 HH13 JJ01 JJ24 5F031 CA02 DA13 FA11 JA05 JA14 JA22 MA33
Claims (3)
- 【請求項1】 取り扱われる基板が載置され、基板処理
装置の中で、間隔を開けて鉛直方向に複数段設置される
基板搬送部材において、 前記複数の基板搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直
方向からの検査光を遮断することで、該基板搬送部材が
存在することを検知するための検知部を設け、各検知部
に対して照射される検査光が該検知部により遮断される
か否かにより各基板搬送部材の有無が検知できる構成と
されたことを特徴とする基板搬送部材。 - 【請求項2】 請求項1記載の基板搬送部材において、 前記複数の基板搬送部材は、それぞれ同じ形状をした本
体を有し、前記検知部は、前記本体の所定箇所に穿設さ
れた検査光通過用の複数の貫通孔と、複数の貫通孔のう
ちの所望の一つの貫通孔を前記検査光が通過しないよう
に閉塞する不透明部材とから構成されている基板搬送部
材。 - 【請求項3】 取り扱われる基板が載置され、基板処理
装置の中で、間隔を開けて鉛直方向に複数段設置される
基板搬送部材の有無検知方法において、 前記複数の基板搬送部材のそれぞれ異なる位置に、鉛直
方向からの検査光を遮断することで、該基板搬送部材が
存在することを検知するための検知部を設け、各検知部
に対して照射される検査光が該検知部により遮断される
か否かにより各基板搬送部材の有無が検知できるように
したことを特徴とする基板搬送部材の有無検知方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16831499A JP2000357724A (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | 基板搬送部材およびそれの有無検知方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16831499A JP2000357724A (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | 基板搬送部材およびそれの有無検知方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000357724A true JP2000357724A (ja) | 2000-12-26 |
Family
ID=15865746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16831499A Withdrawn JP2000357724A (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | 基板搬送部材およびそれの有無検知方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000357724A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007529109A (ja) * | 2003-07-11 | 2007-10-18 | テック・セム アーゲー | 電子部品の製造におけるプレート形状のサブストレートを貯蔵し及び/又は輸送するための機器 |
| CN102915937A (zh) * | 2012-10-08 | 2013-02-06 | 上海华力微电子有限公司 | 一种预防晶圆滑落的装置及方法 |
| JP2016122710A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置および基板搬送方法 |
| JP2021513223A (ja) * | 2018-02-12 | 2021-05-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 裏側の基板接触を減少させる基板移送機構 |
-
1999
- 1999-06-15 JP JP16831499A patent/JP2000357724A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007529109A (ja) * | 2003-07-11 | 2007-10-18 | テック・セム アーゲー | 電子部品の製造におけるプレート形状のサブストレートを貯蔵し及び/又は輸送するための機器 |
| KR101229132B1 (ko) | 2003-07-11 | 2013-02-01 | 테크-셈 아크티엔게젤샤프트 | 전자부품들을 제조하는 동안 판형상의 기질들을 저장하고 전달하기 위한 장치 |
| CN102915937A (zh) * | 2012-10-08 | 2013-02-06 | 上海华力微电子有限公司 | 一种预防晶圆滑落的装置及方法 |
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| JP7083911B2 (ja) | 2018-02-12 | 2022-06-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 裏側の基板接触を減少させる基板移送機構 |
| US11424149B2 (en) | 2018-02-12 | 2022-08-23 | Applied Materials, Inc. | Substrate transfer mechanism to reduce back-side substrate contact |
| TWI813617B (zh) * | 2018-02-12 | 2023-09-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 減少背側基板接觸的基板傳送機制 |
| US11784076B2 (en) | 2018-02-12 | 2023-10-10 | Applied Materials, Inc. | Substrate transfer mechanism to reduce back-side substrate contact |
| JP2024119851A (ja) * | 2018-02-12 | 2024-09-03 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 裏側の基板接触を減少させる基板移送機構 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060905 |