JP2005510108A - 実質的に平面的な微細機械構造及び相当する電気機械的共振器の二つの機械要素のギャップ調整に対する方法 - Google Patents

実質的に平面的な微細機械構造及び相当する電気機械的共振器の二つの機械要素のギャップ調整に対する方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005510108A
JP2005510108A JP2003544904A JP2003544904A JP2005510108A JP 2005510108 A JP2005510108 A JP 2005510108A JP 2003544904 A JP2003544904 A JP 2003544904A JP 2003544904 A JP2003544904 A JP 2003544904A JP 2005510108 A JP2005510108 A JP 2005510108A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gap
another element
constituting
resonator
signal electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003544904A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005510108A5 (ja
JP4351055B2 (ja
Inventor
カイザー,アンドレアス
ユリエビッチ ガレイコ,ディミトリ
ジュール ビクトル コラール,ドミニク
Original Assignee
サントル ナシオナル ドゥ ラ ルシェルシェサイアンティフィク(セエヌエールエス)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サントル ナシオナル ドゥ ラ ルシェルシェサイアンティフィク(セエヌエールエス) filed Critical サントル ナシオナル ドゥ ラ ルシェルシェサイアンティフィク(セエヌエールエス)
Publication of JP2005510108A publication Critical patent/JP2005510108A/ja
Publication of JP2005510108A5 publication Critical patent/JP2005510108A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4351055B2 publication Critical patent/JP4351055B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02244Details of microelectro-mechanical resonators
    • H03H9/02393Post-fabrication trimming of parameters, e.g. resonance frequency, Q factor
    • H03H9/02417Post-fabrication trimming of parameters, e.g. resonance frequency, Q factor involving adjustment of the transducing gap
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02244Details of microelectro-mechanical resonators
    • H03H2009/02488Vibration modes
    • H03H2009/02496Horizontal, i.e. parallel to the substrate plane

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

本発明は、微細エッチングによって得られる実質的に平面的な機械構造の二つの機械要素の動作ギャップを調整するための方法に関する。本方法は、要素(E)の一つに前記要素を分離する残留ギャップの方向にある固定基準位置(RF)を帰属させること(A)、弾性的リンク(S)によって別の要素(OE)を固定基準位置(RF)に接続すること(C)、固定基準位置(RF)と別の要素(OE)との間に別の要素の最大変位振幅である隣接ギャップを規定する少なくとも一つのストップ・ブロックを設置すること(D)、隣接位置が動作位置を構成し、残留ギャップが残留ギャップと隣接ギャップとの差まで減少して微細エッチング工程の解像度より小となるまで弾性的リンク(S)に拮抗する変位を別の要素(OE)に与えること(DE)で構成される。本発明は、電気機械的共振器に応用可能である。

Description

本発明は、実質的に平面的な微細機械構造及び相当する電気機械的共振器の二つの機械要素のギャップ調整に対する方法に関する。
微細システム技術の分野において、厚さが10μmから30μm(1μm=1ミクロン)である、厚層と呼ばれる構造的層を用いることが様々な応用には必要である。相対的に大きいそのような厚さによって、そのような厚さを持つ微細機械構造の中に、かなり小さい慣性を持ち調整可能な可動要素として動作することのできる機械要素を固定するための機械要素を形成することができる。
他方、そのような機械固定要素を形成するために層の厚さが増加した結果、上述の要素の最小の製造可能な平面的寸法が体系的に増加し、必然的にこれらの要素間の側方分離間隔が増加する。検討中の技術分野において現在利用可能な微細エッチング工程の全ては、平面的なすなわち側方の最小寸法と上述の寸法に垂直な方向におけるその微細構造の厚さの間の比率として通常は規定されている一定の形状因子を持つものとして言及されていることが回想されるであろう。
そのような微細構造は通常、無線周波回路の分野において、10MHzから100MHzの周波数帯で用いられる。
その要素及びその分離間隔の平面的寸法を調整することによって、上述の周波数帯の全帯域において無線電気的周波数同調を最良の微調整で確実にするために、用いられる微細エッチング工程の通常の解像度をはるかに下回った特定の分離間隔値において、最低値を達成し得る必要がある。
微細機械的共振器の構成する公知の微細機械構造については、Technical Digest, 12th International IEEE Micro Electro Mechanical Systems Conference, Orlando, Florida, Jan 17-21-1999, pp453-458にある、Kun Wang、Yinglei Yu、Ark-Chew Woung及びClara T. -C Nguyenによって発表された"VHF Free-Free Beam High-Q Micro-mechanical Resonators"と題する出版物に記述された構造に言及することができる。
上述の共振器は、柔軟な梁から吊り下がり、基板の平面範囲に直角な方向に埋め込まれた電極よって静電気的に引き寄せられる。
記述されたこの技術によって、共振器のエア・ギャップは、1.5μmから0.3μmに減少することが可能となる。
しかしながら、この技術は、埋め込まれた電極によって基板の平面的範囲に直角な方向に、垂直に励振される共振器に限定され、これにより、この技術の応用は薄層技術に限定される。
そのような技術の厚層への移転は、高すぎて工業的に利用できない電圧レベルを必要とする。
更に、そのような技術は、かなり複雑でそれゆえ工業的方法で応用するのが困難となり得る、様々なマスキング・レベル、多層法及び微細機械的動作を必要とする。
結局、上述の技術は、構造の設計の自由度をかなり制限し、それゆえ、無線周波センサ及び/又は共振器において非常に有用である複雑な無線周波振動モードの利用が不可能となる。
従って、従来技術に基づいた、厚層微細機械構造の利用及びその電気機械的共振器の製造への応用は、非常に微妙なものとなり、結果として、発展的構造の利用は、構想することもできない。
本発明の目的は、実質的に平面的な微細機械構造の二つの機械要素のギャップ調整に対する方法を用いることによって従来技術の不都合及び限界を克服することである。この方法によって、そのような微細機械構造を製造するために用いられる微細エッチング工程の解像度よりかなり小さい寸法を有する値に微細機械構造の要素の分離間隔値を調整することができる。
本発明はまた、上述の機械構造の実質的に平面的な構造の結果として、薄層又は厚層によってあるいはあらゆるタイプの技術によって製造される実質的に平面的な微細機械構造の二つの機械的要素のギャップ調整に対する方法の利用に関する。
本発明はまた、実質的に平面的な配置を有し、それゆえ、非常に高度な信頼性を示し、無線電気的周波数同調に関して非常に動的となる電気機械的共振回路の利用に関する。
本発明はまた、低い値の電気的制御電圧を供給することによって高度な正確さでその無線電気的共振周波数を調整することができる電気機械的共振回路の利用に関する。
本発明が関連する、微細エッチング工程によって得られる実質的に平面的な機械構造の二つの機械要素の動作ギャップを調整するための方法は、各々が実質的に平面的な表面又は端面で構成され、その表面又は端面が互いに対向して配置され、微細エッチング工程の解像度に実質的に等しい残留ギャップを有する構造の、ある要素及び別の要素が形成する機械要素に応用可能である。
本方法は、少なくとも、構造内の固定基準位置を要素の一つに割り当てること及び残留ギャップの方向における少なくとも一つの自由度に従って別の要素をその要素に対して自由にすることで構成される点で注目に値する。
本方法はまた、弾性的リンクによって別の要素を固定基準位置に接続すること、互いに対向して配置された実質的に平面的な表面の各々の間にあるギャップが残留ギャップに実質的に等しくなっている静止位置を別の要素が弾性的リンクの存在の下で占めることで構成される。本方法は次いで、静止位置と動作位置を構成する隣接位置との間にある別の要素の最大変位振幅を規定する隣接ギャップを別の要素とストップ・ブロックの間に与えるべく、構造内の固定基準位置と自由にされた別の要素との間に少なくとも一つのストップ・ブロックを設置することで構成される。
隣接位置が動作位置を構成する限り、別の要素は次いで、弾性的リンクに拮抗する変位を受け、それにより、残留ギャップがその残留ギャップと隣接ギャップとの差に等しい動作ギャップにまで減少し微細エッチング工程の解像度より小となる。
本発明が関連する、調整可能な側方エア・ギャップを有する電気機械的共振回路は、誘電体基板上に微細エッチング工程によって形成されること及び実質的に平面的な構造に従って配置されることで少なくとも構成され、一つの導電性共振器要素は固定基準位置を有する構造に固定され、一つの別の要素は信号電極を構成し、共振器要素及び別の要素はそれぞれ、互いに対抗して配置され微細エッチング工程の解像度に実質的に等しい残留ギャップによって分離される実質的に平面的な表面を有する点で注目に値する。別の要素は、残留ギャップの方向に自由度を持つ。信号電極を構成する別の要素を固定するための要素が与えられ、少なくとも一つの弾性的リンクが、信号電極を構成する別の要素と固定する要素を接続する。互いに対向して配置された実質的に平面的な表面の各々の間にあるギャップが残留ギャップに実質的に等しくなっている静止位置を信号電極を構成する別の要素が弾性的リンクの存在の下で占める。静止位置と動作位置を構成する隣接位置との間にある別の要素の最大変位振幅を規定する隣接ギャップを別の要素とストップ・ブロックの間に与えるべく、固定基準位置を有する構造と信号電極を構成する別の要素との間にストップ・ブロックも設置する。信号電極を構成する別の要素と共振器を構成する要素に対して固定された電極との間に電位差を供給するための回路によって、供給された電位差の関数として調整可能なエア・ギャップを有する静電気的モータを形成することが可能となる。この静電気的モータは、共振器素子又は予備電極、信号電極を構成する別の電極、及び弾性的リンクによって構成される。静電気的モータによって、残留ギャップは、その残留ギャップと隣接ギャップとの差に等しい動作ギャップにまで減少し、微細エッチング工程の解像度より小となることが可能となる。
本発明が関連する方法及び共振回路は、例えば、10MHzから100MHzの周波数帯にある無線周波信号を生成するか又はそれらの信号間で識別するための電気機械的な共振器又はフィルタの製造において用いることができる。
これらのことは、以下の記述を読み図面を見ることによってより良く理解されるであろう。
本発明の要旨に従い微細エッチング工程によって得られる実質的に平面的な機械的又は微細機械構造の二つの機械要素の間における動作ギャップを調整するための方法のより詳細な記述を図1に関連してここに与える。
一般に、上述の図を参照して考察しているのは、例えば、微細エッチングによって得られる実質的に平面的な微細機械構造上に形成される電気機械的共振器のような微細機械構造である。
微細機械構造の機械要素は、要素E及び別の要素OEが形成し、各要素は、例えば、実質的に平面的な表面又は端面で構成され、前述の表面の各々は、互いに対向して配置され、用いられるエッチング又は微細エッチング工程によって得られる残留ギャップを有する。従って、結果として、残留ギャップは、微細エッチング工程の解像度と等しくなる。
微細機械構造が電気機械的共振器の構造である場合、上述の残留ギャップは微細機械的共振器のエア・ギャップの限定的値であり、それゆえ、残留ギャップは、単に微細エッチング工程を用いることによって最終的に得られるギャップ値及びエア・ギャップ値のより低い制限に相当することになることが特に理解されるであろう。
この状況において、要素E及び別の要素OEのような二つの機械要素の動作ギャップを調整するための本発明が関連する方法は、それらの各位置及びそれらを分離する残留ギャップDresから始まって、上述の微細機械構造内の基準位置RFと呼ばれる固定位置を要素の一つ、例えば要素E、にステップAにおいて割り当てることで構成される。
上述の残留ギャップDresの方向への少なくとも一つの自由度に従って、要素Eに対してかつもちろん後者の固定基準位置に対して別の要素OEを自由にすることで構成されるステップBが、ステップAに続く。
自由にされた別の要素OEを弾性的リンクSによって固定基準位置RFに接続することで構成されるステップCが、ステップBに続く。別の要素OEは、接続及び弾性的リンクSの存在の下で、互いに対向して配置された実質的に平面的な表面の各々の間にあるギャップが残留ギャップDresに実質的に等しくなっている静止位置を占める。
別の要素OEとストップ・ブロックBの間に隣接ギャップDbutを与えるべく、固定規準位置RFを構成する要素Eと自由にされた別の要素OEとの間に少なくとも一つのストップ・ブロックBを設置することで構成されるステップDが、ステップCに続く。静止位置と規定される動作位置を構成する隣接位置との間にある別の要素OEの最大変位振幅を可能にする所定の値を持つように、隣接ギャップは、選択される。
隣接位置が動作位置を構成する限り、別の要素OEが、弾性的リンクSに拮抗する変位を受けるようにすることで構成されるステップDEが、ステップDに続く。これにより、残留ギャップは、残留ギャップと隣接ギャップとの差に等しい動作ギャップeにまで減少し微細エッチング工程の解像度より小となることが可能となる。
要素Eと別の要素OEとの動作ギャップは、関係式:e=Dres−Dbutを実証する。
本発明が関連する方法は、電気機械的共振器の動作ギャップ、特にそのエア・ギャップ、を調整するために有利に用いることができる。
この状況において、要素E及び別の要素OEは、集積回路微細エッチング技術に従って、例えば誘電体基板上に配置されたポリシリコン基板を例えば微細エッチングすることによって得られる導電性材料で構成される。
この状況において、図1のステップEで示したような、別の要素OEが弾性リンクSに拮抗する変位を受けるようにすることで構成されるステップは、別の要素OEと要素E、特に固定基準位置RF、に接続された固定電極FEとの間に特定の電位差を供給することで有利に構成され得る。この状況において、要素Eに接続された固定電極、別の要素OE、及び弾性リンクSで形成されるアセンブリ、及び供給された電位差は、調整可能なエア・ギャップを有する静電気的モータを構成する。
この状況において本発明が関連する方法の実施を、それぞれ、図2a及び2bに示す。
図2aは、平面図において要素の全てを示しており、その要素は、図の平面に灰色で示した導電性ポリシリコン材料で形成され、図示しない誘電体基板上に配置されたポリシリコン材料の細片で構成されている。
共振器を構成する要素Eの固定は、上述した固定位置となっている機械的塊RFに関連して達成され、信号電極を構成する別の要素OEは、実際には、可動部OE及び固定基準位置RFとなっている固定部に更に分割され、信号電極を構成する別の要素OE及び固定基準位置RFを構成する固定部は、図2a及び2b内の二つの蛇行する要素Sで構成される弾性的リンクによって機械的に接続されていることが特に理解されるであろう。
図2aにおいて、固定電極FEと信号電極を構成する別の要素OEの固定基準位置RFとなっている固定要素との間に供給される電位差は、実質的にゼロである。この状況において、要素Eと信号電極を構成する別の要素OEとの間のギャップは、残留ギャップDresに相当する。
他方、図2bにおいて、ゼロ以外の、例えばゼロより大の、電位差Vが供給される場合には、このように構成された静電気的モータによって、可動にされた信号電極を構成する別の要素OEは、要素Eの方向へ変位することが可能となり、それにより、ギャップ値は、前述した状況において動作ギャップeにまで減少することが可能となる。
最終的な位置は、例えば固定電極FE近傍に配置されたストップ・ブロックB上の隣接位置に相当する。
電気機械的共振器の構造を構成する微細機械構造、及び、特に、共振器要素Eを構成する要素、信号電極を構成する別の要素OE、及び弾性リンクが誘電体基板上の実質的に平面的な導電性構造によって形成される場合に、本発明が関連する方法は、特に有利であるように見えるであろう。
この状況において、共振器を構成する要素Eの機械的共振周波数は、側方振動モードにおける共振器の信号の動作周波数を示す。
本発明の要旨に従う共振回路及び電気機械的共振器の更に詳細な記述を図2a及び2b及び図3に関連してここに与える。
本発明の要旨に従う調整可能な側方のエア・ギャップを有する共振回路及び電気機械的共振器は、誘電体基板上に微細エッチング工程によって形成された導電性機械要素で構成され、これらの要素は、実質的に平面的な構造に従って配置されることに一般に注目されたい。
要素Eは、導電性共振要素を構成し、固定基準位置RFを表す構造に固定される。
別の要素OE及び共振器要素Eは、互いに対抗して配置される平面的な端面及び表面を有し、静止位置においては、すなわち信号電極を構成する別の要素OEの変位の適用がない場合には、前述の残留ギャップだけ分離している。別の要素OEは、上述の残留ギャップの方向に自由度を有するべく、固定基準位置RFから分離している、すなわち、切り離されている。しかしながら、それは、蛇行するポリシリコン構造によって形成された、例えばスプリングSのような弾性的リンクによって接続されている。前述した蛇行構造は、上述した共振回路の縦の対称軸X’Xに関して対称的に配置された二つの基本的蛇行構造によって構成することができる。蛇行構造は、固定基準位置を構成する固定要素に信号電極を構成する別の要素OEを接続する。
ストップ・ブロックBに関しては、それらは、前述したように別の要素OEとストップ・ブロックBとの間に隣接ギャップを与えるべく、基準位置を有する構造と信号電極を構成する別の要素OEとの間に設置される。隣接ギャップは、静止位置と動作位置を構成する隣接位置との間における、別の要素OEすなわち信号電極の最大変位振幅を規定する。
結局、図2a又は2bに示したような共振回路は、前述したように静電気的モータを形成すべく、別の要素OEと固定基準位置RFを介して要素Eに機械的に固定的に接続されている固定電極FEとの間に、電位差すなわち連続的な電位差を供給可能とする回路を含む。
図2a及び2bにおいて、電位差を供給するための回路は、それぞれ、固定電極FE及び信号電極を構成する別の要素OEに対する固定基準位置RFを与える固定部に接続された電線によって図式的に表される。
動作中、別の要素OEによって構成される信号電極は、供給される上述の電位差を可能とするバイアス電圧を直接的ではなく、スプリングSによって形成される弾性的リンクを介して受けることに注目されたい。モータの電極間、すなわち固定電極FEと別の要素OEによって形成される信号電極との間でこのように生成された静電界の効果の下で、信号電極は、固定電極FE及び共振器を形成する要素Eに接近し、動作位置にすなわちストップ・ブロックB上に配置される。
この状況において、動作エア・ギャップeは、微細エッチング工程によって形成される二つのギャップの差によって構成される、前述の関係を実証する。従って、動作ギャップは、用いられる微細エッチング工程に固有のギャップ限界である微細エッチング・ギャップよりかなり小なる値を有する。
特に、本発明の方法が構造的層の過度エッチングという現象に敏感でないために、本発明が関連する方法によって、共振回路は、工業的に用いることが可能となることに注目されたい。シリコンの厚い層を微細エッチングする間に、構造又は微細構造の端面は、エッチされる厚さの3〜5%、すなわち20μmの厚さの層に対しては側方エッチングの0.6μm〜1μm、に近い幅にわたって消滅する。側方過度エッチングというこの現象は、エッチされる要素のサイズを減少させ、全てのギャップの幅を増加させる。従って、端面上で消滅するシリコンの幅は、微細エッチング工程の条件に依存するが、隣接するパターン上では一定のままなので、予測不可能である。ゆえに、そのような過度エッチングという現象によって、構造及びそれと共に与えるべき関連するギャップを正確な大きさにすることが不可能になる。
対照的に、本発明が関連する方法を用いると、動作ギャップで構成される共振器、すなわち、共振器を構成する要素Eと信号電極を構成する別の要素OEとの間にあって、二つの残留ギャップの幅の差によって決定される動作エア・ギャップを有する共振器を規定することが可能となる。従来技術で既知の過度エッチング現象は、もちろん、存在し、二つのギャップに対して一定なので、その現象の効果は、差によって相殺され、それゆえ、過度エッチング現象は、実質的に抑圧され、動作ギャップの最終値には現れない。この状況において、最終的ギャップは、単にリソグラフィー・マスクによって規定される。リソグラフィー・マスクによって、上述の変位のみならず、別の要素OEによって構成される信号電極の変位値をもちろん決定するストップ・ブロックの厚さをも規定することが可能となることが理解されるであろう。
図3は、本発明が関連する方法を用いることにより製造された電気機械的共振器を示す。
図2a及び2bに示した共振回路が残留ギャップDresと実質的に平行な縦の対称軸X’Xに関して実質的に対称な構造を持つのに対して、本発明が関連する図3に示した電気機械的共振器は、図2a及び2bに関連して前述したような、共振回路Aと呼ばれる第1の共振回路及び共振回路Bと呼ばれる第2の共振回路で構成される。
共振回路A及びBは、縦の対称軸X’Xに直角な軸Y’Yに関して対称に逆様に配置される。
図3において、同じ参照符号は、図2a及び2bの場合と同じ要素を表すが、これらの参照符号は、共振回路A及びBの各々に関連して、それぞれ、添え字及びを持つ。
このように、各共振回路は、それぞれ、第1及び第2のスプリングSa1、Sa2及びSb1、Sb2で構成され、各々は、弾性的リンク、及びストップ・ブロックのセットBa1、B’a1及びBb1、B’b1をそれぞれ与える。ストップ・ブロックは、動作位置に、それぞれ、別の要素OEa及びOEbを保持し、それらは、各共振回路の信号電極を構成する。
電位差を供給するための回路に関しては、それらを単純な電源線によって図3に図式的に示し、固定要素RFa、RFb及び固定電極FEa、FEbに対して、それぞれ、正電圧、負電圧を供給可能とする微細接続によって構成することができる。
図3に示した共振器は、側方振動モードにおいて固定梁型の二つの実質的に同一の共振回路から始まって用いられ、長さ40μm、幅3μm、厚さ15μmという寸法を有した。これらの寸法は、本発明が関連する方法を用いたために実質的に抑圧された過度エッチング現象を考慮していない設計寸法である。
以下の測定結果は、共振器の一つに対して0.2μmという値、別の共振器に対して0.4μmという値で規定される動作ギャップを用いて得られた。共振器を構成する共振回路の実効寸法を以下の表に与える。
Figure 2005510108
*ギャップが0.2μmとなるように設計された共振器に対しては1.8μm、ギャップが0.4μmとなるように設計された共振器に対しては2.0μm。
0.2μmの動作ギャップを有する共振器に対して残留ギャップは、1.8μmであったが、他の共振器に対して同残留ギャップは、0.4μmの動作ギャップに対して2μmであったことに注目されたい。
ある共振器及び別の共振器に対する動作ギャップの調整は、上述の共振器の各々に対して特に信頼性があるということが発見された。信号電極の接近を確実にするために必要な電圧は、30ボルトの最大値であった。
接近動作、すなわち、それぞれ別の要素OEa及びOEbによって形成される信号電極の変位の後に、これらの電極は、ストップ・ブロックにもたれ続け、静止状態に戻すためには、供給する直流電圧を20ボルトまで下げる必要がある。
図4a及び4bは、各共振器に対して図3に従って用いられた共振器に関するいくつかの実験結果を示している。
図4aは、各共振回路の一定のバイアス電圧下における励振周波数の関数として、各共振器の伝達特性を示している。縦軸は、減衰量すなわちdBで目盛りが付けられ、横軸は、周波数で目盛りが付けられている。
図4bは、各共振器の共振周波数の漸進的変化特性を示しており、縦軸は、周波数で目盛りが付けられ、横軸は、供給される電位差すなわち電圧の値で目盛りが付けられている。
共振回路及び共振器の固有周波数は、実質的にゼロバイアスに相当する。この固有周波数は、図4bの曲線から外挿によって得られる。ゼロである供給される電位差すなわちバイアス電圧は、小さすぎて検出できない振幅を生ずる。理論上は二つの共振器の固有周波数は実質的に同一となるはずであるが、それらの差、約2%、は、微細加工技術に関連する分散が原因である。
図4bにおいて、0.2μmにまで減少する動作ギャップを有する共振器に相当する曲線は、0.4μmにまでしか減少しない動作ギャップを有する共振器に相当する曲線よりかなり急峻である。この効果は、より小さい動作ギャップを有する共振器に対してより良い変換(transduction)係数を持つ明確な証拠である。二つの共振器の全ての他の変換パラメータは同一であるという事実のため、0.2μmの動作ギャップのために設計された共振器に対して残留ギャップはより小さいものであると推定することができる。本発明が関連する方法及び共振回路及びそれにより得られる共振器によって与えられる改良の質を、そのような測定は証明する。
従って、上の表で触れた動作ギャップの真の値は、製造マスクの設計段階で設計された値に近いことが、研究によって最終的に示された。ゆえに、動作ギャップを3μmから、上述の共振器に対してそれぞれ、0.2μm又は0.4μmにまで減少することができる。
図4aに関連して、二つの共振器の伝達特性は、一定の供給された電位差に対して定められたことに注目されたい。前述の電位差すなわちバイアス電圧は、各共振器の共振周波数と一致する伝達レベル得るために選択された。最大伝達値すなわち最小減衰値に対して、前述のバイアス電圧は、比率が実質的に3.6に等しいことが、特に理解されるであろう。前述の比率によって、設計値0.2及び0.4μmに相当する二つの共振器の動作ギャップの間に、値2に近いファクターを決定することができる。
従来技術に従う共振回路を用いる類似の状況において、すなわち本発明が関連する方法によって与えられる改良がない場合において、3μmの残留ギャップに対する比較し得る特性は、従来技術の効率的な工業的応用を排除する2500 Vに近いバイアス電圧すなわち供給される電位差を必要とすることになったであろう。
実質的に平面的な微細機械構造の二つの機械要素、及び共振回路及び相当する共振器のギャップ調整に対する方法であって、特に有利な方法に関して、このように記述を与えてきた。
特に、用いられる静電気的モータ構造によって、例えば誘電体材料上にポリシリコンの単一な構造的層を有する標準的なシリコン微細エッチング技術を用いて、サブミクロンの動作ギャップを得ることが可能となる。
十分小なるギャップを用いることが非常に困難であるため、非常に低い電圧下で微細電気機械的フィルタ又はアクチュエータを製造するために標準的な微細エッチング技術を用いるには大きな障害が生じるが、本発明が関連する方法によれば、微細エッチング工程を改良する必要なく、そのような障害を完全に免れる。
可動電極、特に信号電極、を用いると、付加的な電気的バイアス源が必要になるが、消費電流のない30Vの直流電圧は、携帯システムにおいてさえ容易に生成し得るので、そのような必要性は、どのような場合でも大きな制約を示さないことにも注目されたい。
最後に、単一の電極FEを記載の実施形態に示したが、共振器を構成する要素Eの構造が薄層の構造ではない場合には、様々な電極の取り付けを考えることができる。
本発明が関連する方法を実施するためのステップのブロック・ダイアグラムを単に例のために示す。 共振器を構成する要素と信号電極を構成する別の要素との間に電位差が供給されておらず、結果として別の要素が静止位置にある、静止位置における電気機械的共振回路を平面図で示す。 別の電極を隣接及び動作位置にもたらすべく、電位差が供給されるときの同電気機械的共振回路を平面図で示す。 図2a及び2bに示した二つの共振回路を含み、それらを逆様に配置した共振器の具体的な実施形態を示す。 図3に示した共振器を構成する第1の具体的な共振回路及び第2の具体的な共振回路に対する、周波数の関数としての伝達特性すなわち減衰特性を示す。 図3に示した共振器を構成する第1の具体的な共振回路及び第2の具体的な共振回路に対して、共振器要素と信号電極を構成する別の要素との間に供給された電位差すなわちバイアス電圧の関数としての周波数同調特性を示す。

Claims (8)

  1. 微細エッチング工程によって得られる実質的に平面的な機械構造の二つの機械要素の動作ギャップを調整するための方法であって、前記機械要素は要素及び別の要素によってそれぞれ形成され、各々は実質的に平面的な表面で構成され、それらの表面は互いに対向して配置され、かつ前記微細エッチング工程の解像度に実質的に等しい残留ギャップを有し、前記方法は前記要素の一つに前記構造内の固定基準位置を少なくとも割り当てることで構成される方法において、
    前記残留ギャップの方向の少なくとも一つの自由度に従って前記要素に対して前記別の要素を自由にすることと、
    前記別の要素を弾性的リンクによって前記固定基準位置に接続し、互いに対抗して配置された実質的に平面的な表面の各々の間にあるギャップが前記残留ギャップに実質的に等しくなる静止位置を前記別の要素が前記弾性的リンクの存在下で占めることと、
    前記静止位置と動作位置を構成する隣接位置との間で前記別の要素の最大変位振幅を規定する所定値の隣接ギャップを前記別の要素と少なくとも一つのストップ・ブロックとの間に与えるべく、前記構造内の前記固定基準位置を構成する前記要素と自由にされた前記別の要素との間に少なくとも一つのストップ・ブロックを設置することと、
    前記隣接位置が前記動作位置を構成し、それにより前記残留ギャップが前記残留ギャップと前記隣接ギャップとの差に等しい動作ギャップにまで減少し前記微細エッチング工程の解像度より小となることが可能である限り、前記別の要素が前記弾性的リンクに拮抗する変位を受けるようにすることと、
    で更に構成されることを特徴とする方法。
  2. 前記要素及び前記別の要素は導電性材料で構成され、前記別の要素が前記弾性的リンクに拮抗する変位を受けるようにすることで構成されるステップは、前記別の要素と前記要素に接続された固定電極との間に電位差を供給することと、前記要素に接続された前記固定電極、前記他の要素、前記少なくとも一つの弾性的リンクで形成されるアセンブリと、調整可能なエア・ギャップを有する静電気的モータを構成する供給された電位差とで構成されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記構造は電気機械的共振器の構造を構成し、前記要素は共振器要素を構成し、別の要素は信号電極を構成し、前記弾性的リンクは誘電体基板上に実質的に平面的な導電性構造によって形成され、前記要素の機械的共振周波数は側方振動モードにおける共振器の信号の動作周波数を示すことを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 誘電体基板上に微細エッチング工程によって形成されること及び実質的に平面的な構造に従って配置されることで少なくとも構成される調整可能な側方エア・ギャップを有する電気機械的共振回路であって、一つの導電性共振器要素は固定基準位置を有する構造に固定される共振回路において、
    互いに対向して配置され微細エッチング工程の解像度に実質的に等しい残留ギャップによって分離された実質的に平面的な表面を各々が有する、信号電極を構成するもう一つの要素、前記共振器要素、及び別の要素であって、前記別の要素は前記残留ギャップの方向に自由度を有する、要素と、
    前記信号電極を構成する前記別の要素を固定するための要素と、
    前記信号電極を構成する前記別の要素と前記信号電極を構成する前記別の要素を固定するための要素とを接続する少なくとも一つの弾性的リンクであって、前記少なくとも一つの弾性的リンクの存在下で、互いに対抗して配置された実質的に平面的な表面の各々の間にあるギャップが前記残留ギャップに実質的に等しくなる静止位置を前記信号電極を構成する前記別の要素が占める、少なくとも一つの弾性的リンクと、
    前記静止位置と動作位置を構成する隣接位置との間で前記別の要素の最大変位振幅を規定する所定値の隣接ギャップを前記別の要素と少なくとも一つのストップ・ブロックとの間に与えるべく、基準位置を有する構造と前記信号電極を構成する前記別の要素との間に設置された、少なくとも一つのストップ・ブロックと、
    前記信号電極を構成する前記別の要素と前記共振器を構成する要素に対して固定された電極との間に電位差を供給するための手段であって、前記共振器要素、前記信号電極を構成する前記別の要素、前記少なくとも一つの弾性的リンク、及び前記電位差を供給するための手段によって形成されるアセンブリは供給された電位差の関数として調整可能なエア・ギャップを有する静電気的モータを構成し、それにより前記残留ギャップが前記残留ギャップと前記隣接ギャップとの差に等しい動作ギャップにまで減少し前記微細エッチング工程の解像度より小となることが可能となる、電位差を供給するための手段と、
    で更に構成されることを特徴とする共振回路。
  5. 前記要素の機械的共振周波数は側方振動モードにおいて前記共振回路の信号の動作周波数を示すことを特徴とする請求項4又は請求項5のいずれか一項に記載の共振回路。
  6. 前記残留ギャップの方向に実質的に平行な縦の対称軸に対して実質的に対称な構造を有することを特徴とする請求項5に記載の共振回路。
  7. 前記縦の対称軸に対して対称に配置され、
    各々が弾性的リンクを与える第1及び第2のスプリングと、
    前記信号電極を構成する前記別の要素が前記動作位置に保持されることを可能とする二つのストップ・ブロックのセットと、
    で構成されることを特徴とする請求項6に記載の共振回路。
  8. 第1の共振回路に対向し対称的に配置される請求項4から7のいずれか一項に従う第1の共振回路と、
    前記第1の共振回路に対して逆様に配置される請求項4から7のいずれか一項に従う第2の共振回路と、
    で構成されることを特徴とする側方エア・ギャップを有する電気機械的共振器。
JP2003544904A 2001-11-15 2002-11-14 実質的に平面的な微細機械構造及び相当する電気機械的共振器の二つの機械要素のギャップ調整に対する方法 Expired - Fee Related JP4351055B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0114798A FR2832270B1 (fr) 2001-11-15 2001-11-15 Procede de reglage de l'ecartement de deux elements mecaniques d'une structure micromecanique sensiblement plane et resonateur electromecanique correspondant
PCT/FR2002/003902 WO2003043189A2 (fr) 2001-11-15 2002-11-14 Resonateur electromecanique e entrefer lateral ajustable et procede de reglage du meme

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005510108A true JP2005510108A (ja) 2005-04-14
JP2005510108A5 JP2005510108A5 (ja) 2006-01-12
JP4351055B2 JP4351055B2 (ja) 2009-10-28

Family

ID=8869442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003544904A Expired - Fee Related JP4351055B2 (ja) 2001-11-15 2002-11-14 実質的に平面的な微細機械構造及び相当する電気機械的共振器の二つの機械要素のギャップ調整に対する方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7893595B2 (ja)
EP (1) EP1444779B1 (ja)
JP (1) JP4351055B2 (ja)
AU (1) AU2002352338A1 (ja)
DE (1) DE60239951D1 (ja)
FR (1) FR2832270B1 (ja)
WO (1) WO2003043189A2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009094690A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Seiko Instruments Inc 発振子及び該発振子を有する発振器
JP2012029052A (ja) * 2010-07-23 2012-02-09 Ritsumeikan 電極構造要素と振動構造要素を近接して配置する方法およびこれを用いたmemsデバイス
CN105489233A (zh) * 2015-12-11 2016-04-13 重庆环漫科技有限公司 一种影院播放内容的可变精度调节方法
CN105516817A (zh) * 2015-12-11 2016-04-20 重庆环漫科技有限公司 影院播放内容的可变精度调节装置
JP2017537500A (ja) * 2014-10-22 2017-12-14 マイクロチップ・テクノロジー・インコーポレーテッド 発振器およびリアルタイムクロック用途のための複合バネmems共振器

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003275159A1 (en) 2002-09-23 2004-04-08 Georgia Tech Research Corporation Electrically-coupled micro-electro-mechanical filter systems and methods
JP2008505656A (ja) 2004-07-12 2008-02-28 テンジェン バイオメディカル カンパニー フラビウイルスワクチン
DE102004058103B4 (de) * 2004-12-01 2011-03-17 Technische Universität Chemnitz Einrichtung zur Spalteinstellung
US8111108B2 (en) 2008-07-29 2012-02-07 Sand9, Inc. Micromechanical resonating devices and related methods
DE102008040854A1 (de) 2008-07-30 2010-02-04 Robert Bosch Gmbh Mikromechanische Struktur sowie Verfahren zum Einstellen der Arbeitsspaltbreite einer mikromechanischen Struktur
CN101792108B (zh) * 2010-03-16 2011-12-21 杭州电子科技大学 一种基于滑膜阻尼的大电容微惯性传感器及其制作方法
EP2395533B1 (en) 2010-06-09 2014-04-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Electrostatically actuated micro-mechanical switching device
DE102012010549A1 (de) * 2012-05-29 2013-12-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Fixierung einer beweglichen Komponente eines mikromechanischenBauelementes
US9866200B2 (en) 2014-10-22 2018-01-09 Microchip Technology Incorporated Multiple coil spring MEMS resonator

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5537083A (en) * 1992-12-11 1996-07-16 Regents Of The University Of California Microelectromechanical signal processors
JPH08510837A (ja) * 1993-05-26 1996-11-12 コーネル・リサーチ・ファウンデーション・インコーポレイテッド 超小形電気機械式横方向加速度計
JPH10115527A (ja) * 1997-11-14 1998-05-06 Murata Mfg Co Ltd 共振子
JPH11508418A (ja) * 1995-06-23 1999-07-21 コーネル・リサーチ・ファンデーション・インコーポレイテッド キャパシタンスに基づくチューニング可能な超小型機械共振器
WO2001027025A1 (de) * 1999-10-08 2001-04-19 Hahn-Schickard Gesellschaft Für Angewandte Forschung E.V. Elektromechanisches bauelement und verfahren zur herstellung desselben

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5491604A (en) * 1992-12-11 1996-02-13 The Regents Of The University Of California Q-controlled microresonators and tunable electronic filters using such resonators

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5537083A (en) * 1992-12-11 1996-07-16 Regents Of The University Of California Microelectromechanical signal processors
JPH08510837A (ja) * 1993-05-26 1996-11-12 コーネル・リサーチ・ファウンデーション・インコーポレイテッド 超小形電気機械式横方向加速度計
JPH11508418A (ja) * 1995-06-23 1999-07-21 コーネル・リサーチ・ファンデーション・インコーポレイテッド キャパシタンスに基づくチューニング可能な超小型機械共振器
JPH10115527A (ja) * 1997-11-14 1998-05-06 Murata Mfg Co Ltd 共振子
WO2001027025A1 (de) * 1999-10-08 2001-04-19 Hahn-Schickard Gesellschaft Für Angewandte Forschung E.V. Elektromechanisches bauelement und verfahren zur herstellung desselben

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
T.HIRANO,T.FURUHATA,K.J.GABRIEL,H.FUJITA: "OPERATION OF SUB-MICRON GAP ELECTROSTATIC COMB-DRIVE ACTUATORS", 1991 PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID STATE SENSORS AND ACTUATORS, JPN7008008224, 1991, US, pages 873 - 876, XP010037297, ISSN: 0001185312, DOI: 10.1109/SENSOR.1991.149025 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009094690A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Seiko Instruments Inc 発振子及び該発振子を有する発振器
JP2012029052A (ja) * 2010-07-23 2012-02-09 Ritsumeikan 電極構造要素と振動構造要素を近接して配置する方法およびこれを用いたmemsデバイス
JP2017537500A (ja) * 2014-10-22 2017-12-14 マイクロチップ・テクノロジー・インコーポレーテッド 発振器およびリアルタイムクロック用途のための複合バネmems共振器
CN105489233A (zh) * 2015-12-11 2016-04-13 重庆环漫科技有限公司 一种影院播放内容的可变精度调节方法
CN105516817A (zh) * 2015-12-11 2016-04-20 重庆环漫科技有限公司 影院播放内容的可变精度调节装置
CN105489233B (zh) * 2015-12-11 2018-08-31 重庆环漫科技有限公司 一种影院播放内容的可变精度调节方法
CN105516817B (zh) * 2015-12-11 2018-11-02 重庆环漫科技有限公司 影院播放内容的可变精度调节装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20090219113A1 (en) 2009-09-03
FR2832270A1 (fr) 2003-05-16
EP1444779A2 (fr) 2004-08-11
WO2003043189A3 (fr) 2003-12-11
DE60239951D1 (de) 2011-06-16
FR2832270B1 (fr) 2006-07-28
JP4351055B2 (ja) 2009-10-28
EP1444779B1 (fr) 2011-05-04
US7893595B2 (en) 2011-02-22
AU2002352338A1 (en) 2003-05-26
WO2003043189A2 (fr) 2003-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4351055B2 (ja) 実質的に平面的な微細機械構造及び相当する電気機械的共振器の二つの機械要素のギャップ調整に対する方法
JP4521537B2 (ja) 同調可能なmemsフィルムバルク音響波マイクロ共振器
JP4011617B2 (ja) キャパシタンスに基づくチューニング可能な超小型機械共振器
JP4188805B2 (ja) Mems可変インダクタ及びキャパシタ
JP4087790B2 (ja) 極超短波mem共振器のための中心質量の減少したマイクロブリッジ構造
JP3651671B2 (ja) マイクロメカニカルスイッチ及びその製造方法
US7902942B2 (en) Resonator and filter using the same
WO2010015963A1 (en) An electromechanical transducer and a method of providing an electromechanical transducer
KR20120029465A (ko) 2개의 압전층을 구비한 압전 공진기
JP4977431B2 (ja) マイクロメカニカル共振器
JP2006263905A (ja) 曲げ変形を受ける梁を有するマイクロエレクトロメカニカルシステム
JP2005510108A5 (ja)
JP4513366B2 (ja) 機械共振器、フィルタおよび電気回路
Galayko et al. Design, realization and testing of micro-mechanical resonators in thick-film silicon technology with postprocess electrode-to-resonator gap reduction
JP2004243462A (ja) Mems素子
Galayko et al. High-frequency high-Q micro-mechanical resonators in thick epipoly technology with post-process gap adjustment
JP2008099042A (ja) マイクロメカニカル共振器
US20100327993A1 (en) Micro mechanical resonator
Dell et al. Variable MEMS-based inductors fabricated from PECVD silicon nitride
KR100591862B1 (ko) SiOG 기판을 이용한 미세구동기 및 그 제조방법
Galayko et al. Design, realization and test of micro-mechanical resonators in thick-film silicon technology with postprocess electrode-to-resonator gap reducing
Okamoto et al. Lame-mode octagonal microelectromechanical system resonator utilizing slanting shape of sliding driving electrodes
JP2004312784A (ja) 振動子フィルタ及びその製造方法
JP2005534505A (ja) 側方ギャップを有するマイクロシステム構造を生産する方法とこれに対応するマイクロシステム構造
JP2004276200A (ja) マイクロ構造体およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051114

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051114

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081027

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081118

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090217

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090224

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090511

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090630

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090723

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees