JP2005509157A - 光学遷移を空間的に狭く限定して励起する方法と装置 - Google Patents
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Abstract
Description
2 励起光源
3 励起光線
4 レーザーパルス
5 ミラー
6 ミラー
7 ビームスプリッタ
8 ミラー
9 対物レンズ
10 試料
11 焦点
12 焦点範囲
13 蛍光
14 ミラー
15 レンズ
16 ピンホール
17 検出器
18 非励起光線
19 非励起光源
20 レーザーパルス
21 光学要素
22 部分ビーム
23 部分ビーム
24 ミラー
25 対物レンズ
26 二重矢印
27 ずれた波面
28 波面
29 位相板
30 干渉縞
31 最大強度
32 最大強度
33 最小強度
34 検出信号
35 検出信号
36 線
37 細胞膜
38 バクテリア
39 半値幅
40 波長選択要素
Claims (24)
- 光学遷移を空間的に狭く限定して励起する方法にあって、この場合、1本の励起光線の波長が励起すべき光学遷移に合わせられているこの励起光線の焦点を越えて広がる焦点範囲が、光学遷移に任意の方法で影響し、部分ビームに分割され、この焦点範囲内で焦点合わせされた部分ビームの形態で、異なる側からそれ自体干渉される1本の非励起光線の、焦点で1つの最小強度を有しこの焦点の異なる側で多数の最大強度を有する空間的な干渉縞と重畳する方法において、異なる方向から焦点(11)に向かって焦点合わせされた部分ビーム(22,23)の波面(28)が、焦点(11)への焦点合わせ前にずれ、その結果、焦点の最小強度を取り除くことなしに、干渉縞(30)の最大強度(31,32)が、焦点 (11)の各側で空間的に広がることを特徴とする方法。
- 部分ビーム(22,23)は、逆方向から焦点上に焦点合わせされることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 励起光線(3)は、焦点範囲(12)内でそれ自体干渉しないことを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 焦点(11)の各側の第1最大強度(31)と第2最大強度(32)との間の強度の零点が消滅するように、干渉縞(30)のこれらの最大強度(31,32)が空間的に大きく広がることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 非励起光線(18)の部分ビーム(22,23)の波面は、同様にずらされることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 非励起光線(18)の波面(28)は、その分割前に部分ビーム(22,23)にずらされることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 波面(28)の中心領域が、非励起光線(18)の部分ビーム(22,23)の波面(28)の収差時にその縁領域に対して移相されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 非励起光線(18)の部分ビーム(22,23)の波面(28)の収差時に、これらの波面の領域(28)が、非励起光線(18)のコヒーレント長よりも大きく移相されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 部分ビーム(22,23)は、58°より大きい半開口角を有する等しい光学系 (9,25)によって焦点(11)上に焦点合わせされることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 励起光線(3)及び非励起光線(18)は、それらの波長及び/又はそれらの焦点範囲(11)内への入射時点及び/又はそれらによって生成されたレーザーパルス(4,20)の形で区別が付くことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 別の非励起光線の光強度が、焦点範囲内で励起光線に重畳することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 複数の方法ステップが、多数の相並んでいる焦点範囲及び/又は相前後している焦点範囲内で同時に実施されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 励起光線(3)は、試料(10)を励起して蛍光(13)を自然放射するために使用され、非励起光線(18)は、励起を阻止するため又は試料(10)の刺激放射を起動させるために使用され、この場合、自然放射された蛍光(13)が、共焦点的に検出されることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 励起光線(3)は、光化学処理の出力状態である状態を使用するために使用され、非励起光線(18)は、この光化学処理を阻止するために使用されることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 励起光線を出力する励起光源,励起光線を焦点上に焦点合わせする第1対物レンズ,非励起光線を出力する非励起光源及び非励起光線を部分ビームに分割するビームスプリッタを有し、この場合、これらの部分ビームを干渉させるため、これらの部分ビームの一方の部分ビームが、第1対物レンズを通じて焦点上に焦点合わせされ、そしてこれらの部分ビームの他方の部分ビームを焦点合わせする少なくとも1つの第2対物レンズによって他方の方向からこの焦点上に焦点合わせされる、請求項1〜14のいずれか1項に記載の光学遷移を空間的に狭く限定して励起する装置において、波面(28)をずらす光学要素(21)が、それぞれの対物レンズ(9,25)の前方で異なる方向から焦点(11)上に焦点合わせされる両部分ビーム(22,23)のビーム経路内に配置されていることを特徴とする装置。
- 第1対物レンズ(9)及び第2対物レンズ(25)は、部分ビーム(22,23)を互いに逆方向から焦点(11)上に焦点合わせすることを特徴とする請求項15に記載の装置。
- 励起光線(3)の一部が、第2対物レンズ(25)を経由して焦点範囲(12)内に到達しないことを特徴とする請求項15又は16に記載の装置。
- 波面(28)をずらす光学要素(21)は、ビームスプリッタ(7)の前方で非励起光線(18)内に配置されていることを特徴とする請求項15〜17のいずれか1項に記載の装置。
- 波面(28)をずらす光学要素(21)は、非励起光の位相を波面(28)を超えて変化させる光学要素を有することを特徴とする請求項15〜18のいずれか1項に記載の装置。
- 希望の収差を設定するため、波面(28)をずらす光学要素(21)は、コンピュータで番地付け可能であることを特徴とする請求項16〜19のいずれか1項に記載の装置。
- 両対物レンズ(9,25)は、等しくかつ58°より大きい半開口角を有すること、及び、位相調節要素が、部分ビーム(22,23)のうちの1つの部分ビームのビーム経路内に配置されていることを特徴とする請求項15〜20のいずれか1項に記載の装置。
- 蛍光(13)を受け止める装置(17)が、焦点に対して共焦点配置に配置されていることを特徴とする請求項15〜21のいずれか1項に記載の装置。
- 調節可能な強度減衰手段が、両部分ビームのうちの少なくとも1つの部分ビーム内に配置されていて、非励起光線(18)の部分ビーム(22,23)の強度が、この強度減衰手段によって調節可能であることを特徴とする請求項15〜22のいずれか1項に記載の装置。
- 能動的な光源が1つだけ設けられていて、この光源は、励起光源として又は非励起光源として直接構成され、この場合、その都度別の光源が、この能動的な光源に加えて非線形の光学受動素子をさらに有することを特徴とする請求項15〜23のいずれか1項に記載の装置。
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