JP2005507993A5

JP2005507993A5 -

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Publication number: JP2005507993A5
Application number: JP2003512665A
Authority: JP
Filing date: 2002-06-06
Publication date: 2006-01-05

Claims

インプロセス比質量分析システムであって、
添加剤貯蔵容器と、
前記添加剤貯蔵容器からの、第１の濃度の添加剤を希釈して、希釈されて第２の濃度になった被処理添加剤にするように構成可能な添加剤希釈装置と、
前記被処理添加剤と、少なくとも１つの分析物を有する被抽出試料とを、平衡化するまで混合するように構成可能な混合機と、
平衡化された、前記被抽出試料と前記被処理添加剤とを、イオン化するように構成可能な大気圧イオン化装置（ＡＰＩ）と、
前記イオンを、比を測定することにより処理するように構成可能な質量分析計と、
前記試料が、自動的に、前記被処理添加剤と混合され、イオン化され、前記質量分析計により処理されるように、前記インプロセス比質量分析システム内の前記添加剤希釈装置、前記混合機、および前記ＡＰＩを自動設定するように適合された制御システムと、
を備え、
前記制御システムは、さらに、前記質量分析計により測定された比を用いて、前記被抽出試料中の少なくとも１つの分析物の濃度を特徴づけるように構成されているインプロセス比質量分析システム。
少なくとも１つの処理溶液から前記被抽出試料を抽出するように構成された試料抽出装置をさらに備え、前記制御システムは、前記被抽出試料が所定の量になるような制御を前記試料抽出装置に行うようにさらに構成されている請求項１に記載のシステム。
前記少なくとも１つの処理溶液は、複数の処理溶液を含み、前記試料抽出装置は、前記制御システムにより制御される前記複数の処理溶液から選択された処理溶液から、前記試料を抽出するようにさらに構成されている請求項２に記載のシステム。
前記被処理添加剤を化学的に変化させるように構成された化学修正装置をさらに備える請求項１に記載のシステム。
前記添加剤希釈装置は、第１の希釈サブモジュールから最終希釈サブモジュールまで配置された複数の希釈サブモジュールを含み、
各希釈サブモジュールは、可能な希釈範囲から選択された希釈を行うように構成可能であり、
前記最終希釈サブモジュールが、前記添加剤を最終希釈濃度に希釈するように構成され得るように、前記第１の濃度の添加剤を第１の希釈濃度へ希釈するように、前記第１の希釈サブモジュールを構成し、前記第１の希釈濃度の前記添加剤を第２の希釈濃度へ希釈するように、前記第２の希釈サブモジュールを構成可能であり、
前記制御システムは、前記被処理添加剤を第２の濃度にするように、希釈サブモジュールを適切に組み合わせるように作動可能である請求項１に記載のシステム。
各希釈サブモジュールのための前記可能な希釈範囲は、１から約３０である請求項５に記載のシステム。
各希釈サブモジュールのための前記可能な希釈範囲は、前記最終希釈濃度が、第１の濃度よりも６桁を超えて希釈された濃度になるような範囲である請求項５に記載のシステム。
各サブモジュールは、第１の流量で、希釈混合機内へ希釈を行う前記溶液を吸引することによって、かつ第２の流量で、前記希釈混合機内へ前記希釈剤を吸引することによって、希釈するように構成可能である請求項５に記載のシステム。
前記希釈混合機は、
希釈される前記溶液を受け入れるための第１の入力導管、および前記希釈剤を受け入れる第２の入力導管を有する導管接合部を備え、
前記第１および第２の入力導管は、希釈される溶液と希釈剤とが、混合に作用するように前記出力導管から流出する前に実質的に方向を変更されるような、出力導管に対する配置にされる請求項８に記載のシステム。
前記添加剤希釈装置は、前記添加剤を、前記第１の濃度にするために、複数の添加剤源から選択するように構成可能である請求項１に記載のシステム。
分析物を自動分析する方法であって、
第１の濃度の添加剤を、第２の濃度の被処理添加剤にするように希釈するステップであって、前記第２の濃度は、試料中の前記分析物の濃度を推定することに基づいて選択される前記希釈ステップと、
前記被処理添加剤と試料とを、平衡化するまで混合するステップと、
前記平衡化された混合物を、大気圧イオン化装置を用いてイオン化するステップと、
質量分析計内において前記イオンを、応答比を生じるように処理するステップと、
前記応答比を用いて前記少なくとも１つの分析物の濃度を特徴づけるステップと、
を含む方法。
前記応答比は、同位体比である請求項１１に記載の方法。
前記第２の濃度は、前記質量分析計が、前記少なくとも１つの分析物の濃度を測定するように適切な解析で応答比を提供することになる前記推定された濃度に基づいて選択される請求項１１に記載の方法。
複数の処理溶液から前記試料を選択するステップをさらに含む請求項１１に記載の方法。
前記添加剤を希釈するステップは、前記第２の濃度の被処理添加剤にするように、第１の濃度の添加剤を連続して希釈するステップを含む請求項１１に記載の方法。
各連続的な希釈において、被処理添加剤を前記第２の濃度にするような希釈を適宜選択するステップをさらに含む請求項１５に記載の方法。