JP2005504618A - 微粒子を分離するためのシステム並びに方法 - Google Patents

微粒子を分離するためのシステム並びに方法 Download PDF

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Abstract

【課題】
【解決手段】粒子を分離するためのシステム並びに方法が開示されている。粒子は、動く光強度パターンにさらされ、粒子の夫々異なる物理的性質に基づいて夫々異なる速度で動かされる。このシステム並びに方法は、同じサイズもしくは形状の粒子を、粒子の誘電特性の違いに基づいて分離する。

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、微粒子並びに／もしくはナノ粒子を分離するためのシステム並びに方法、特に、光源を用いて粒子にこれらの物理的性質に基づいて分離力を発生させる、微粒子並びに／もしくはナノ粒子を分離するためのシステム並びに／方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本出願は、２０００年１１月１３日に出願された仮出願番号（ｐｒｏｖｉｓｉｏｎａｌ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｅｒｉａｌ ＮＯ）６０／２４８、４５１号に関連し、これの優先権を主張するものであり、これの内容を参照して、本明細書に組み入れる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
現在、細胞や他の生物学的実体のような粒子を、これらのサイズ、密度及び電荷に基づいて分離するための分離方法が提供されているが、光学的誘電特性に基づく分離方法はない。例えばレーザピンセットは、光と粒子の相互作用を利用して粒子が動き回るようにさせると説明されてきた。しかしながら、この場合、動かすためには粒子に関する予めの知識が、ピンセットを分離機構として使用するためには必要とされる。即ち、ピンセットは、‘分離’ツールであるよりもむしろ‘操作並びに／もしくは運搬’ツールである。かくして、現在の粒子を分離するための方法並びにシステムでは、分離される粒子の事前の識別が必要である。
【０００４】
分離される粒子の事前の識別が不要な、粒子を分離するためのシステム並びに方法が必要とされている。また、粒子に損傷を与えない、粒子を分離するためのシステム並びに方法が必要とされている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
これら及び他の要件は、粒子付近に光強度パターンを作り出すための手段と、光強度パターンを粒子に対して動かすための手段とを具備する、本発明に係る数種類の粒子を分離するためのシステム並びに方法によって果たされる。光強度パターンを作り出すための手段は、２種類の粒子付近で互いに干渉するような向きの２つの光ビームを生じるための光源を有してよい。
【０００６】
一実施形態では、システムは、ビームスプリッターと反射器とを有する。この実施形態では、光源は、ビームスプリッターに向かう光ビームを生じるように構成されている。ビームスプリッターは、光ビームを、粒子の方へ向かう第１の光ビームと、反射器へ向かう第２の光ビームとに分割するように構成されている。反射器は、第２の光ビームを粒子の方へ向け直すように構成されている。かくして、第１、第２の光ビームは、干渉し合い、粒子付近に光強度パターンを生じる。
【０００７】
反射器には、この反射器を動かし、かくして光強度パターンを動かすために、アクチュエーターが接続されてよい。あるいは、アクチュエーターは、光源及びビームスプリッターを動かすために、光源及びビームスプリッターに接続されてもよい。
【０００８】
また、動く光強度パターンを作り出すように、光強度パターンに対して粒子を動かすことも可能である。このために、粒子は、アクチュエーターに接続されたスライド上に支持され得る。このアクチュエーターは、スライドを光強度パターンに対して動かすように構成されている。
【０００９】
また、光強度パターンは、２種類の光ビームのうち一方の位相を他方に対して変調するように、位相モジュレーターを用いて動かされてもよい。このため、複数の光ビームが干渉して作り出された光強度パターンは、空間的に動く。位相モジュレーターは、第１の光ビームと第２の光ビームのいずれかの光路内に位置され得る。あるいは、振幅モジュレーターが用いられてもよく、この場合は、干渉のパターンは、時間的に動く。
【００１０】
光源に応じた所定の材料が、本発明によって利用され得る。生物学的な領域の例には、細胞、細胞小器官、プロテイン及びＤＮＡが含まれ、非生物学的な領域の例には、金属、半導体、絶縁体、ポリマー及び他の無機材料が含まれる。
【００１１】
好ましくは、光源は、０．３μｍと１．８μｍとの間の波長を有する光ビームを生じるレーザを有する。この範囲の波長の光ビームを用いると、粒子が生きた細胞もしくは生物学的な実体である場合にこれに損傷が与えられる危険を、最少限に抑えることができる。光ビームの波長の範囲が０．８μｍと１．８μｍとの間であると、更に好ましい。１．５５μｍの波長を有する光ビームを生じる、市販の良いレーザが、利用できる。
【００１２】
代わりの実施形態では、システムは、光源と光学マスクとを有する。光源は、光学マスクを通って粒子へと向かう光ビームを生じるように構成されている。光学マスクは、粒子付近に光強度パターンを作り出す。光源及び光学マスクには、光源及び光学マスクを動かして動く光強度パターンを作り出すために、アクチュエーターが接続され得る。代わって、光学マスクは、少なくとも２種類の粒子付近に動く光強度パターンを作り出すように、特に構成され得る。他の実施形態では、光ビームの位相を変調して、動く光強度パターンを作り出すために、光ビームの光路内に位相モジュレーターが位置されている。
【００１３】
更なる他の実施形態では、システムは、粒子の方へ向かう複数の光ビームを生じさせるために、互いに隣接するように配置された複数の光源を有してもよい。光ビームは、光強度パターンを作り出すために、互いに僅かに重なるような向きにされてもよい。複数の光源を動かすために、アクチュエーターが提供されてもよく、かくして、光強度パターンは空間的に動かされる。代わって、光ビームは、時間的に動く光強度パターンを生じるようなパターンで暗くされたり明るくされたりし得る。
【００１４】
本発明に係る粒子を分離するための方法は、光強度パターンを作り出すために光源を適用する工程と、粒子を光強度パターンにさらし、粒子に力を発生させる工程と、粒子に対して光強度パターンを動かして、粒子が、夫々の物理的性質に関連した速度で光強度パターンに従って動くようにさせる工程とを具備する。粒子が夫々異なる物理的性質を有する場合、これら粒子は、夫々異なる速度で動き、かくして、これら粒子は分離される。
【００１５】
好ましくは、光源を適用する工程は、本発明に係るシステムの一実施形態に関連して説明されているように少なくとも２つの光ビームを干渉させる工程を更に具備する。
【００１６】
代わって、光源を適用する工程は、光強度パターンを作り出すために光学マスクを用いる工程を更に具備してもよい。光学マスクは、振幅マスク、位相マスク、ホログラフィーマスク、もしくは光強度パターンを作り出すための任意の他の適当なマスクを有してよい。
【００１７】
本発明の方法の他の実施形態では、光源を適用する工程は、光強度パターンを作り出すために複数の光源を周期的に暗くさせたり明るくさせたりする工程を具備してよい。
【００１８】
好ましくは、光強度パターンは、少なくとも２つのピークと、少なくとも２つの谷を有する。光強度パターンは、周期的であっても、正弦波もしくは非正弦波の形であっても、時間的に一定であっても、時間的に変化してもよい。光強度パターンは、周期的で、この周期は、数種類の粒子を分離させるために最適化されている。
【００１９】
一実施形態では、本方法は、光強度パターンを一定の速度で動かす工程を有する。光強度パターンの速度は、粒子をこれらの物理的性質に基づいて分離させるために最適化され得る。
【００２０】
代わりの実施形態では、本方法は、少なくとも２種類の粒子を分離可能にする工程と、続いて、夫々異なる物理的性質を有する粒子を、光強度パターンによって作り出されたポテンシャルパターンの夫々異なる谷に落ちさせるように、光強度パターンを“引く（ｊｅｒｋｉｎｇ）”工程とを有してもよい。
【００２１】
本方法の光強度パターンは、１つのタイプの粒子の分離を最適化するように、このタイプの粒子の物理的性質に対応する共振周波数に同調され得る。光強度パターンは、複数の次元に適用可能で、光強度パターンの周期は、各次元によって異なってよい。
【００２２】
粒子は、流体媒体のような媒体中に支持され得る。媒体は、誘導性でも非誘導性でもよい。媒体が誘導性の場合には、流体チャネルを有してもよい。
【００２３】
本方法はまた、光強度パターンに勾配を重ねる工程を更に有する。勾配は、空間的に一定であっても変化してもよく、温度、ｐＨ、粘度を有してもよい。また、付加的な外部の力が、与えられてもよい。この力は、磁気を帯びているか、電気の力か、重力か、流体の力か、摩擦力か、電磁気の力などで、一定であるか変する。
【００２４】
また、モニター並びに／もしくはフィードバックシステムは、数種類の粒子間の分離をモニターし、粒子の分離と位置付けとに関するフィードバックの情報を提供するために設けられ得る。
【００２５】
本発明の更なる目的、特徴及び利点は、以下の説明と図面より明らかになるだろう。
【００２６】
【発明の実施の形態】
本発明に係れば、先行技術と比較して明確な利点を提供する、粒子を分離するためのシステム並びに方法が説明されている。本発明は、添付図面を参照することで最も良く理解され得る。
【００２７】
図面を参照すると、本発明に係るシステムが、全体として参照符号１０で示されている。このシステム１０は、分離される粒子に力を発生させる、動く光強度パターンを作り出すように構成されている。この力によって、粒子は、各粒子の所定の物理的性質、例えば粒子の光学的な誘電率に関連した速度で動くようにされる。夫々異なる物理的性質を有する数種類の粒子は、夫々異なる速度で動いて、夫々の物理的性質に基づいて分離される。
【００２８】
本発明に係るシステム１０の一実施形態が、図１に示されている。この実施形態では、システム１０は、光源１２、ビームスプリッター１４、及び反射器１６を有する。反射器１６には、この反射器１６を移動させるか回転させるためにモータ１８が接続され得る。このモータ１８には、このモータ１８の動作と、かくして反射器１６の動きとを制御するために、制御システム１９が接続されている。
【００２９】
分離される粒子は、スライド２２上の媒体中に位置され得る。本発明の一実施形態では、スライド２２は、水のような非誘導性（ｎｏｎ−ｇｕｉｄｅｄ）の流体媒体を含む。図６に示されている他の実施形態では、スライド２２は、粒子４１０、４１２が移動するように中を通る流体チャネル５００、５０２、及び５０４を有する。
【００３０】
媒体は、非誘導性と誘導性（ｇｕｉｄｅｄ）のどちらでもよい。誘導性の媒体の一例が、当分野で公知の流体チャネルを有する媒体である。
【００３１】
光源１２は、ビームスプリッター１４に向かう光ビーム２４を発生させるように配置されている。ビームスプリッター１４は、１つの光ビーム２４を、２つの光ビーム２６、２８に分割し、一方の光ビーム２６を反射器１６へ、また、他方の光ビーム２８をスライド２２へと向ける。反射器１６は、光ビーム２６をスライド２２へと向け直す。これら光ビーム２６、２８は、粒子の付近で収束され、これら粒子の付近に光強度パターンを作り出すように互いに干渉しようとする。
【００３２】
モータ１８を使用して、反射器１６を移動させるか回転させると、光強度パターンを空間的に動かすことができる。モータ１８には、これの動作を制御するために、制御システム１９が接続されている。光強度パターンを空間的に動かし、これに対してスライド２２を固定させた状態に維持すると、光強度パターンによって粒子に発生される力が、粒子を、説明されているように各粒子の物理的性質に関連した速度で動かす。これら粒子はまた、光強度パターンを空間的に固定して、これに対して粒子を支持しているスライド２２を機械的に動かすことによっても動かされ得る。これによって、光強度パターンは、空間的に粒子に対して相対的に動かされる。
【００３３】
代って、モータ１８は、光源１２とビームスプリッター１４とに接続されてもよい。このような実施形態では、光源１２とビームスプリッター１４とは、モータ１８によって移動されるか回転され得る。このため、光ビーム２８が、光ビーム２６に対して相対的に動き、これによって、光強度パターンが動かされる。
【００３４】
図１（Ｂ）に示されているような他の実施形態では、光強度パターンは、両光ビーム２６、２８の相対的位相（ｒｅｌａｔｉｖｅ ｐｈａｓｅ）を変調することによって動かされる。この実施形態では、位相モジュレーター２０が、光ビーム２６の光路内に配置されている。この位相モジュレーター２０は、光ビーム２８の位相に対して光ビーム２６の位相を変調し得るように構成されている。この位相モジュレーター２０には、これの動作を制御するために制御システム１９が接続されている。代って、この位相モジュレーター２０は、光ビーム２６の位相に対して光ビーム２８の位相を変調するために、光ビーム２８の光路内に配置されてもよい。
【００３５】
光ビーム２６、２８の位相が互いに対して変調されると、光ビーム２６、２８の干渉によって作り出された光強度パターンが動かされる。粒子に対して光強度パターンを動かすと、これら粒子に、各粒子の物理的性質に関連して力が発生される。上述されたように、こうした力により、夫々異なる物理的性質を有する粒子が、夫々異なる速度で相対的に動く。
【００３６】
あるいは、位相モジュレーター２０の代わりに、振幅モジュレーターが使用されてもよい。振幅モジュレーターは、光ビーム２４、２６、２８の振幅を変調して光強度パターンを動かすために、使用され得る。
【００３７】
好ましくは、前記光源１２は、互いに干渉する光ビーム２６、２８を生じるためのレーザである。代って、２つの光源が、光ビーム２６、２８を生じるために使用され得る。
【００３８】
粒子が生物学的な材料か生きた細胞かである応用例では、レーザは、粒子に害を与え得る過度の熱を発生させないように０．３μｍと１．８μｍとの間の波長を有する光ビーム２６、２８を生じさせることが好ましい。レーザは、０．８μｍより大きい波長を有する光ビーム２６、２８を生じさせることが、より好ましい。１．５５μｍの波長を有する光ビーム２６、２８を生じさせ、本発明に係るシステム１０内での使用に適する非常に好ましいレーザが、市販されている。代って、光源１２は、非コヒーレントな光ビーム２６、２８を生じ得る。
【００３９】
図２（Ａ）に示されているような本発明の他の実施形態では、システム１１０は、光源１１２と光学マスク１１４とを有する。光源１１２と光学マスク１１４とには、これら光源１１２と光学マスク１１４とを移動させるか回転させるために、モータ１１６が接続され得る。モータ１１６には、このモータ１１６の動作、かくして光源１１２と光学マスク１１４との運動を制御するために、制御システム１１９が接続されている。この実施形態では、光源１１２は、光学マスク１１４を通って、分離される粒子を支持しているスライド１２０へと向かう光ビーム１１８を生じる。
【００４０】
前記光学マスク１１４は、粒子の付近に光強度パターンを作り出すように構成されている。モータ１１６は、光源１１２と光学マスク１１４とを移動させるか回転させ、かくして光強度パターンを動かすために使用され得る。代わって、光強度パターンが空間的に固定され、スライド１２０が動かされ、光強度パターンと粒子との間の相対的な動きを生じてもよい。
【００４１】
前記光学マスク１１４は、光学的な位相マスク、光学的な振幅マスク、ホログラフィーマスク、又は、光強度パターンを作り出すための任意の同様のマスクもしくは装置を有してよい。他の異なる実施形態では、光学マスク１１４は、特に動く光強度パターンを作り出し得るように構成され得る。このタイプの光学マスク１１４は、少なくとも２つの光ビームでマスクを描くことによって製造することができる。基本的に、一方の光ビームは、光強度パターンを作り出すようにマスクを描き、他方のマスクは、このマスクを消す。この実施形態では、マスクが描かれるごとに、新しい光強度パターンが作り出される。
【００４２】
図２（Ｂ）に示された実施形態では、動く光強度パターンを作り出すために、位相モジュレーター１２２が使用されている。この位相モジュレーター１２２は、光ビーム１１８が位相モジュレーター１１２を通るように、光源１１２と光学マスク１１４との間に配置されている。位相モジュレーター１２２には、これの動作を制御するために、制御システム１１９が接続されている。
【００４３】
図３に示されているような更なる他の実施形態では、システム１０は、互いに隣接して配置された複数の光源２１２を有し、これら光源は、分離される粒子を支持しているスライド２１６に向かう光ビーム２１４を夫々生じる。一実施形態では、複数の光源２１２は、これらが生じる光ビーム２１４が互いに部分的に重なって光強度パターンを作り出すような向きにされている。
【００４４】
光源２１２には、この光源２１２を移動させるか回転させて、光強度パターンをスライド２１６に対して動かすために、アクチュエーター２１８が取着されている。アクチュエーター２１８には、このアクチュエーター２１８の動作を制御するために、制御システム２１９が接続されている。例えば、モータ（図示されず）が、光源２１２に夫々取着されていてもよい。また、光強度パターンは、位相を変調することによってスライド２１６に対して、また、スライド２１６を光源２１２に対して動かすことによって、もしくは、本明細書に説明されている他の方法で動かされ得る。
【００４５】
あるいは、複数の光源２１２は、光ビーム２１４がスライド２１６付近で互いに僅かに重なるような向きにされてもよい。光強度パターンは、動く光強度パターンを出現させるように、所定のパターンに従って暗くされたり明るくされたりするように光源を切り替えることによって、作られ得る。例えば、一実施形態では、光源２１２は、時間内のいつ何時でも、１つの光源が明るいときにはその隣の光源は暗くされ、１つの光源が暗くされているときにはその隣の光源は明るくされるように、暗く、及び明るくされる。
【００４６】
運転中、粒子の付近で光ビームを収束させると、この光ビームが、粒子中の光学ダイポールと相互作用する。光ビームの強度は、ビームの焦点で最大となる。全体的なシステムのためのエネルギーは、光ビームの強度が最大のところに粒子のダイポールが存するときに最小となるため、粒子は、光ビームの強度が最大となっているところへ動く傾向がある。
【００４７】
以下に説明される本発明に係るシステムは、様々の光強度パターンを作り出すように構成されている。図４（Ａ）乃至（Ｃ）には、周期的な光強度パターン４００と、この光強度パターン４００によって粒子に働かせられる力４０２と、光強度パターン４００によって粒子に働かせられるポテンシャル（ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）４０４とが、夫々示されている。図４（Ａ）に示された光強度パターン４００は、度々、光学的な格子と称される。
【００４８】
図４（Ａ）の光強度パターン４００にさらされた粒子は、強度がピークの点４０６へ向かって動く傾向がある。図４（Ｃ）に示されたポテンシャルパターン４０４のウェル４０８は、全体的なシステムのエネルギーが最小のところを表わす。かくして、粒子は、ポテンシャルパターン４０４のウェル４０８に向かって動く傾向がある。
【００４９】
本発明に係って作り出された光強度パターン４００は、少なくとも２つのピーク４０６と、少なくとも２つの谷４０７とを有することができる。適した光強度パターン４００は、周期的であっても、正弦波の形もしくは非正弦波の形であっても、また、時間的に一定でも時間的に変化してもよい。光強度パターン４００が周期的なものである場合、この周期（ｐｅｒｉｏｄ）は、光強度パターン４００にさらされる数種類の粒子間の分離を可能にするために最適化され得る。例えば、粒子が大きい場合、周期の長さは、この大きな粒子を収容するために対応するポテンシャルパターン４０４のウェル４０８のサイズを大きくするために、長くされ得る。
【００５０】
図５（Ａ）乃至（Ｃ）には、ポテンシャルパターン４０６にさらされている２種類の粒子４１０、４１２が示されている。図では、粒子４１０、４１２は、同じサイズ及び形状を有しているが、誘電率は夫々異なる。
【００５１】
以下に説明されるように、光強度パターン４００と、かくして、この光強度パターン４００によって作り出されたポテンシャル４０６とを、光強度パターン４００にさらされている粒子４１０、４１２に対して動かすと、粒子４１０、４１２は、これら粒子４１０、４１２の物理的性質に関連した速度で動く。例えば、粒子に影響する力は、粒子の誘電率に比例する。具体的には、力は、（Ｅｐ−Ｅｍ）／（Ｅｐ＋２Ｅｍ）に比例する。かくして、同じサイズ及び形状を有するが誘電率が夫々異なる２種類の粒子４１０、４１２は、動く光強度パターン４００にさらされると夫々異なった速度で動く。
【００５２】
光強度パターン４００によって作り出されるポテンシャル４０６によって、粒子４１０、４１２は、ポテンシャルパターン４０６のウェル４０８に向けて動かされる。光強度パターン４００とポテンシャルパターン４０６とが動くことから、粒子４１０、４１２は、ポテンシャルパターン４０６の波に“乗る”。この波は、高いポテンシャルを有するピーク４１４と、低いポテンシャルを有するウェル４０８とを有する。
【００５３】
粒子４１０、４１２は、ポテンシャルパターン４０６に従って、これら粒子４１０、４１２夫々の物理的性質に関連した速度で夫々動く。このような物理的性質の１つが、粒子４１０、４１２の誘電率である。粒子４１０、４１２の誘電率が夫々異なることから、これら粒子は、光強度パターン４００によって作られたポテンシャルパターン４０６にさらされると、夫々異なる速度で動く。
【００５４】
一実施形態では、光強度パターン４００と、かくして、ポテンシャルパターン４０６とは、一定の速度で動かされる。この速度は、粒子４１０、４１２の物理的性質に基づいて粒子４１０、４１２の分離を可能にするように最適化され得る。例えば、最大の速度は、各粒子４１０、４１２ごとに異なり、最大の速度を超えた場合には、粒子４１０もしくは４１２が“乗っている（ｓｕｒｆｉｎｇ）”ピーク４１４は、粒子４１０もしくは４１２を通し、粒子４１０もしくは４１２は、先のウェル４０８中に落ちる。
【００５５】
この実施形態では、速度は、粒子４１０、４１２の最大速度のどちらかから選択される。粒子４１２の最大速度が粒子４１０の最大速度より大きいと想定した場合、図５（Ａ）に示されたポテンシャルパターン４０６にさらされると、粒子４１２は、ピーク４１４に“乗り”、粒子４１０は、ウェル４０８中へと後ろに落ちる。このようにして、粒子４１０、４１２は、これらの物理的性質に基づいて分離される。
【００５６】
他の実施形態が、図５（Ｂ）、（Ｃ）に示されている。この実施形態では、粒子４１０、４１２は、所定時間ポテンシャルパターン４０６にさらされて、図５（Ｂ）に示されているように僅かに分離される。粒子４１０、４１２が僅かに離されると、ポテンシャルパターン４０６は、粒子４１０、４１２がピーク４１４の両側に位置されるように所定の違いに向かって“引かれる（ｊｅｒｋｅｄ）”。これら粒子がピーク４１４の両側に位置されると、粒子４１０、４１２に影響する力によって、これら粒子は、ピーク４１４の両側のウェル４０８に落ちる。かくして、粒子４１０、４１２は、これらの物理的性質に基づいて分離される。
【００５７】
図６に示されているような本発明の１応用例では、動く光強度パターン４００は、流体チャネル５００、５０２及び５０４を有する流体チャネル誘導性媒体（ｆｌｕｉｄｉｃ ｃｈａｎｎｅｌ ｍｅｄｉｕｍ）５０６に重ねられ得る。チャネル５００、５０２及び５０４は、Ｔ字形状に配置されており、光強度パターン４００は、“Ｔ”の分岐部（ｂｒａｎｃｈ）（即ち、チャネル５００、５０２、５０４間の接合部）に重ねられる。
【００５８】
粒子４１０、４１２は、チャネル５００から光強度パターン４００中へと移動する。光強度パターン４００は、以下に説明されるように、粒子４１０、４１２をこれらの物理的性質に基づいて夫々異なった方向へ動かすように構成されている。この場合、光強度パターン４００は、粒子４１２をチャネル５０２中へ、粒子４１０をチャネル５０４中へ動かすように構成されている。このようにして、粒子４１０、４１２は、分離され、対応するチャネル５０４、５０２から集められ得る。
【００５９】
このような応用例によって、光強度パターンは、所定の閾値より下の物理的性質を有する粒子４１０を一方のチャネル５０４中へ、所定の閾値より上の物理的性質を有する粒子４１２を他方のチャネル５０２中へと動かすように構成され得る。かくして、様々の粒子が、チャネル５００中を移動され、所定の閾値の物理的性質に基づいて分離され得る。チャネル５０２並びに／もしくは５０４には、分離された粒子４１０、４１２を他の閾値の物理的性質に基づいて更に分離するために、複数の流体チャネル誘導性媒体５００が接続され得る。
【００６０】
粒子の分離を容易にするように、付加的に最適化がなされる。例えば、各粒子４１０、４１２は、特定の共振周波数を有する。光強度パターン４００の波長を粒子４１０もしくは４１２の共振周波数に同調させると、粒子４１０もしくは４１２に影響する力が増される。例えば光強度パターンの周波数が粒子４１２の共振周波数に同調されている場合、粒子４１２が移動する速度が上がり、かくして、粒子４１０、４１２の分離が、増進される。
【００６１】
また、他の力が、粒子４１０、４１２の物理的性質の付加的な違いを利用するために、粒子４１０、４１２に重ねられてもよい（ｓｕｐｅｒｉｍｐｏｓｅ）。例えば、温度、ｐＨ、速度などの勾配（ｇｒａｄｉｅｎｔ）は、線形もしくは非線形に、粒子４１０、４１２に重ねられ得る。また、磁力、電気の力、重力、流体の力、摩擦力、電磁力などの外部の力が、線形もしくは非線形に、粒子４１０、４１２に重ねられ得る。
【００６２】
光強度パターン４００並びに／もしくは付加的な力が、粒子４１０、４１２を更に分離するために、複数の次元（２次元、３次元など）に適用され得る。光強度パターン４００の周期は、任意の即ち全ての次元で変えられ、付加的な力は、様々の次元で線形もしくは非線形に適用され得る。
【００６３】
図示されていないモニターシステムが、粒子４１０、４１２の分離を追跡するために設けられてもよい。このモニターシステムは、システムにフィードバックを与え、このフィードバックは、粒子４１０、４１２の分離を最適化するために、もしくは、これらを操作するために、利用され得る。
【００６４】
当分野の当業者には、本発明の精神と範囲とを逸脱することなく変形が成されることが明らかであろう。従って、本発明は、添付図面から見て必須である場合を除いて、限定されない。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）、（Ｂ）は、本発明に係るシステムの一実施形態のブロック図である。
【図２】（Ａ）、（Ｂ）は、本発明に係るシステムの一実施形態のブロック図である。
【図３】本発明に係るシステムの一実施形態のブロック図である。
【図４】（Ａ）は、本発明に係るシステムによって発生された光学回折格子が作り出した光強度パターンのグラフ描写であり、（Ｂ）は、（Ａ）の光強度パターンに対応するエネルギーパターンのグラフ描写であり、（Ｃ）は、（Ａ）の光強度パターンに対応する位置エネルギーのパターンのグラフ描写である。
【図５】（Ａ）乃至（Ｃ）は、本発明に係るシステム並びに方法によって発生された位置エネルギーの動くパターンのグラフ描写である。
【図６】流体のミクロチャネルの拡大断面図と、これに重ねて示された図４（Ａ）の光強度の動くパターンのグラフ描写とである。

Claims (78)

  1. 夫々異なる物理的性質を有する少なくとも２種類の粒子を分離するための方法であって、
    光強度パターンを作り出すために光源を適用する工程と、
    前記少なくとも２種類の粒子を光強度パターンにさらし、各粒子に力を発生させる工程と、
    前記少なくとも２種類の粒子に対して光強度パターンを動かして、これら少なくとも２種類の粒子が、夫々の物理的性質に関連した速度で光強度パターンに従って動くようにさせる工程とを具備し、前記少なくとも２種類の粒子は夫々異なる速度で動き、かくして、これら少なくとも２種類の粒子は分離される方法。
  2. 前記光源を適用する工程は、少なくとも２つの光ビームを干渉させる工程を更に具備する請求項１の方法。
  3. 前記少なくとも２つの光ビームは、コヒーレントな光ビームである請求項２の方法。
  4. 前記少なくとも２つの光ビームは、非コヒーレントな光ビームである請求項２の方法。
  5. 前記少なくとも２つの光ビームを作り出すために、１つの光ビームを分割する工程を更に具備する請求項２の方法。
  6. 前記光源を適用する工程は、光強度パターンを作り出すために光学マスクを用いる工程を更に具備する請求項１の方法。
  7. 前記光学マスクは、振幅マスクを有する請求項６の方法。
  8. 前記光学マスクは、位相マスクを有する請求項６の方法。
  9. 前記光学マスクは、ホログラフィーマスクを有する請求項６の方法。
  10. 前記光源を適用する工程は、光強度パターンを作り出すために複数の光源を周期的に暗くさせたり明るくさせたりする工程を更に具備する請求項１の方法。
  11. 前記光強度パターンは、少なくとも２つのピークを有する請求項１の方法。
  12. 前記光強度パターンは、少なくとも２つの谷を有する請求項１の方法。
  13. 前記光強度パターンは、正弦波の形である請求項１の方法。
  14. 前記光強度パターンは、周期的だが、正弦波の形ではない請求項１の方法。
  15. 前記光強度パターンは、時間的に一定である請求項１の方法。
  16. 前記光強度パターンは、時間的に変化する請求項１の方法。
  17. 前記光強度パターンは、周期的で、この周期は、前記少なくとも２種類の粒子を分離させるために最適化されている請求項１の方法。
  18. 前記光強度パターンは空間的に一定であり、前記少なくとも２種類の粒子は、光強度パターンに対して動かされる請求項１の方法。
  19. 前記光強度パターンは、空間的に動かされる請求項１の方法。
  20. 前記光強度パターンは、コヒーレントな光ビームによって発生され、前記光強度パターンを動かす工程は、光ビームの位相を変調する工程を更に有する請求項１の方法。
  21. 前記光強度パターンは、一定の速度で動かされる請求項１の方法。
  22. 前記少なくとも２種類の粒子をこれらの物理的性質に基づいて分離させるために光強度パターンの速度を最適化する工程を更に具備する請求項１の方法。
  23. 前記少なくとも２種類の粒子を分離した後に、少なくとも２種類の粒子に対して光強度パターンの速度を変えて、これら少なくとも２種類の粒子を更に分離させる工程を更に具備する請求項１の方法。
  24. 前記光源は、０．３μｍと１．８μｍとの間の波長を有する請求項１の方法。
  25. 前記波長は、０．８μｍと１．８μｍとの間である請求項２４の方法。
  26. 前記波長は、まさにもしくはほぼ１．５５μｍである請求項２５の方法。
  27. 前記少なくとも２種類の粒子の少なくとも一方は、共振周波数を有し、光強度パターンは、少なくとも２種類の粒子の一方の共振周波数に同調した波長を有する請求項１の方法。
  28. 前記光強度パターンは、２次元である請求項１の方法。
  29. 前記光強度パターンは、２次元の各々に周期を有し、これらの周期は、各次元によって異なる請求項２８の方法。
  30. 前記光強度パターンは、３次元である請求項１の方法。
  31. 前記光強度パターンは、３次元の各々に周期を有し、この周期は、前記次元の少なくとも２つで異なる請求項３０の方法。
  32. 前記少なくとも２種類の粒子は、媒体中に支持されている請求項１の方法。
  33. 前記媒体は、流体の媒体である請求項３２の方法。
  34. 前記媒体は、非誘導性である請求項３３の方法。
  35. 前記媒体は、誘導性である請求項３３の方法。
  36. 前記媒体は、流体チャネルを有する請求項３５の方法。
  37. 前記光強度パターンに勾配を重ねる工程を更に具備する請求項１の方法。
  38. 前記勾配は、空間的に一定である請求項３７の方法。
  39. 前記勾配は、空間的に変化する請求項３７の方法。
  40. 前記勾配は、温度である請求項３７の方法。
  41. 前記勾配は、ｐＨである請求項３７の方法。
  42. 前記勾配は、粘度である請求項３７の方法。
  43. 前記光強度パターンに外部の力を重ねる工程を更に具備する請求項１の方法。
  44. 前記力は、一定である請求項４３の方法。
  45. 前記力は、空間的に、並びに／もしくは、時間的に変化する請求項４３の方法。
  46. 前記力は、磁気による請求項４３の方法。
  47. 前記力は、電気による請求項４３の方法。
  48. 前記力は、重力である請求項４３の方法。
  49. 前記力は、流体による請求項４３の方法。
  50. 前記力は、摩擦による請求項４３の方法。
  51. 前記力は、電磁気による請求項４３の方法。
  52. 前記少なくとも２種類の粒子の分離をモニターする工程を更に具備する請求項１の方法。
  53. 粒子の分離に関してフィードバックを提供する工程を更に具備する請求項５２の方法。
  54. 夫々異なる物理的性質を有する少なくとも２種類の粒子の分離のためのシステムであって、
    前記少なくとも２種類の粒子の付近に光強度パターンを作り出すための手段と、
    前記少なくとも２種類の粒子に対して光強度パターンを動かすための手段とを具備するシステム。
  55. 前記光強度パターンを作り出す手段は、少なくとも２種類の粒子の付近に、互いに干渉するような向きにされた２つの光ビームを生じるための光源を有する請求項５４のシステム。
  56. 前記光ビームは、コヒーレントな光ビームである請求項５５のシステム。
  57. ビームスプリッターと反射器とを更に具備し、前記光源は、ビームスプリッターに向かう光ビームを生じるように構成され、ビームスプリッターは、光ビームを、少なくとも２種類の粒子の方に向かう第１の光ビームと、反射器に向かう第２の光ビームとに分割するように構成され、反射器は、第１の光ビームと第２の光ビームとが互いに干渉して少なくとも２種類の粒子の付近に光強度パターンを作り出すように、第２の光ビームを少なくとも２種類の粒子の方に向け直すように構成されている請求項５４のシステム。
  58. 前記動かすための手段は、反射器を動かすために反射器に接続されたアクチュエーターを有する請求項５７のシステム。
  59. 前記動かすための手段は、光源及びビームスプリッターを動かすために光源及びビームスプリッターに接続されたアクチュエーターを有する請求項５７のシステム。
  60. 前記動かすための手段は、光強度パターンを空間的に動かすように構成されている請求項５５のシステム。
  61. 前記動かすための手段は、光強度パターンを時間的に動かすように構成されている請求項５５のシステム。
  62. 前記動かすための手段は、光強度パターンを固定し、光強度パターンに対して少なくとも２種類の粒子を空間的に動かすように構成されている請求項５５のシステム。
  63. 前記少なくとも２種類の粒子は、スライド上に保持され、動かすための手段は、光強度パターンに対してスライドを動かすためのアクチュエーターを有する請求項６２のシステム。
  64. 前記動かすための手段は、２つの光ビームの一方の位相を他方に対して変調するための位相モジュレーターを有する請求項５５のシステム。
  65. 前記第１の光ビームの光路内に位置された位相モジュレーターを更に具備し、この位相モジュレーターは、第１の光ビームの位相を第２の光ビームに対して変調し得るるように構成されている請求項５７のシステム。
  66. 前記第２の光ビームの光路内に位置された位相モジュレーターを更に具備し、この位相モジュレーターは、第２の光ビームの位相を第１のビームに対して変調し得るように構成されている請求項５７のシステム。
  67. 前記動かすための手段は、２つの光ビームの少なくとも一方、即ち第１の光ビームもしくは第２の光ビームの振幅を変調し得るように構成された振幅モジュレーターを有する請求項５４のシステム。
  68. 前記光源は、レーザを有する請求項５５のシステム。
  69. 前記光ビームは、０．３μｍと１．８μｍとの間である請求項５５のシステム。
  70. 前記光ビームは、０．８μｍと１．８μｍとの間である請求項５５のシステム。
  71. 前記光ビームは、１．５５μｍの波長を有する請求項５５のシステム。
  72. 前記光強度パターンを作り出すための手段は、光源と光学マスクとを有し、この光学マスクは、位相マスク、振幅マスク、もしくはホログラフィーマスクでよく、光源は、光学マスクを通って少なくとも２種類の粒子の方に向かう光ビームを作り出し得るように構成されている請求項５４のシステム。
  73. 前記動かすための手段は、光源及び光学マスクを動かすために光源及び光学マスクに接続されたアクチュエーターを有する請求項７２のシステム。
  74. 前記光学マスクは、少なくとも２種類の留子の付近に動く光強度パターンを作り出し得るように構成されている請求項７２のシステム。
  75. 前記光ビームの光路に位置され、光ビームの位相を変調し得るように構成された位相モジュレーターを更に具備する請求項７２のシステム。
  76. 光強度パターンを作り出すために、少なくとも２種類の粒子の方へ向かう複数の光ビームを生じるように互いに並んで配置された複数の光源を更に具備する請求項５５のシステム。
  77. 前記複数の光源を動かすためのアクチュエーターを更に具備する請求項７６のシステム。
  78. 前記複数の光ビームは、少なくとも２種類の粒子の付近において夫々隣接したビームに僅かに重なるような向きにされ、複数の光源は、動く光強度パターンを作り出すようなパターンで暗くされたり明るくされたりするように構成されている請求項７６のシステム。
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