JP2005503487A - ストランド状の金属の素材の表面を被膜処理するための方法及び装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、被膜処理すべき素材（１）が、連続的に溶融液状の被覆材料（２）で満たされた浸漬槽（３）を通過する際に金属の被覆材料（２）を塗布することによって、ストランド状の金属の素材（１）、特に帯材又は線材の表面を被膜処理するための方法及び装置に関する。被膜処理設備の生産性を向上させるために、この方法は、ａ）素材（１）上に塗布された浸漬槽（３）による被覆材料（２）の層の厚さ（ｄ_Ist ）を測定する段階と、ｂ）測定された厚さ（ｄ_Ist ）を予め設定された層の厚さの値（ｄ_Soll）と比較し、両方の値の間の差（Δ）を算定する段階と、ｃ）算定された差（Δ）に依存して、測定された値（ｄ_Ist ）を予め設定された値（ｄ_Soll）に近付けるために、被膜処理プロセスの少なくとも１つのパラメータ（Ｐ）に影響を与えるか、もしくはこれを変更する段階と、を備える。

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、被膜処理すべき素材が連続的に溶融液状の被覆材料で満たされた浸漬槽を通過する際に金属の被覆材料を塗布することによって、ストランド状の金属の素材、特に帯材又は線材の表面を被膜処理するための方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１から、この種の様式の方法が公知である。そこでは、スチールストリップが金属の被覆を備えている。このため、スチールストリップは、垂直に下から被膜処理装置に供給される。この被膜処理装置は、被膜処理容器（浸漬槽）を備え、この被膜処理容器は、溶融液状の被覆材料で満たされている。金属ストリップは、被膜処理容器を経て垂直に上に向かって案内され、その際、被覆材料は、金属ストリップの表面に堆積する。この様式の同様の方法は、特許文献２及び特許文献３からも公知である。特許文献２の場合、被膜処理すべき素材が通過する複数の浸漬容器が垂直方向に上下に配設されていることによって、多層の被膜が塗布される。
【０００３】
この様式のドブ漬け被膜処理方法の場合、ストリップは、亜鉛、アルミニウム、Ｚｎ−Ａｌ又はＡｌ−Ｓｉ合金を備えられ、その際、ストリップは、焼きなまし炉から、空気を遮断しつつ第１の措置方法により溶湯を有する大きい容器内へと走入し、そこで、駆動されてない種々のローラによって垂直方向へと転向され、安定化される。これは、言及した全てのドブ漬け精錬における被膜金属もしくは被膜合金に通用する。大きい溶湯容器を使用する場合、ローラ及びローラの軸受が溶湯内に存在し、全ての部分が溶湯の化学的な攻撃に晒されていることが欠点である。従って、溶湯内の使用される部分の寿命は、比較的短い。更に、全ローラ装置を収容するために、大きい溶湯容積が、相応に大きい浸漬槽を含めて必要である。ドブ漬け亜鉛メッキの場合、２００〜３００ｔの液状の亜鉛が、通常使用される。溶湯の温度の迅速な調整並びに合金組成への影響の付与は、大きい容積に基づいて可能でない。従って、温度及び合金組成の変動は、受け入れなければならず、これは、品質を損なうことになってしまう。
【０００４】
この方法の更なる欠点は、設備の速度を、特に０．５ｍｍよりも小さい厚さを有する薄いストリップを被膜処理すべきである場合、経済的な運転方法を得るためには、任意に高めることができないことである。これに対する理由は、槽内に存在するローラとストリップとの間で相対運動が行なわれてしまうことである。この問題を回避するため、ストリップに対する張力が高められる場合、ストリップに亀裂が生じる危険がある。その結果は、スクラップ並びに長い設備停止である。
【０００５】
ドブ漬け亜鉛メッキにおける被膜処理すべきストリップの最大限に可能な搬送速度の更なる限定は、浸漬槽の上に配設されるノズル掻取りシステムによって与えられる。そこでは、空気又は窒素によって、層厚さが調節され、その際、ストリップ速度が増加すると共に、最低限にできる被覆厚さが増加する。これは、薄い層は、ストリップ速度が高い場合には塗布することができないことを意味する。しかしながら、本当に薄いメッキ（例えば、薄板がドブ漬け亜鉛メッキされる場合に片側が２５ｇ／ｍ² よりも少ない）は、要求度の高い特別な適用にとって必要である。
【０００６】
この場合、例えばドブ漬け亜鉛メッキをする際に４６０°Ｃから５００°Ｃへと浸漬槽内の溶湯の温度を上昇させることによって、動粘度は３０％以上減少することが公知である。従って、理論的には、温度を上昇させることによって、浸漬槽内への液状の被膜材料の還流を改善することができ、これにより被覆厚さを減少させることができる。この関係で、非常に大量の溶湯量（２００〜４００ｔの液状亜鉛）を使用する場合、槽の温度の再現可能な調整が実際には不可能であることが問題となる。
【０００７】
更に、説明した方法の場合、浸漬槽内の内蔵物に対する溶湯の化学的な攻撃を考慮すべきである。この攻撃は、５００°Ｃ以上の温度の場合、漸進的に増加する。これは、浸漬槽内に存在するローラ及び軸受を更にしばしば交換されなければならないことを意味する。更にまたこれは、設備の効率を著しく限定し、方法の経済性を相応に悪化させる。
【０００８】
浸漬槽内の温度を任意に上昇させることは、以下の理由から問題とならない。温度が上昇する際に、高まったスラグ収量が浸漬槽内で生じる。これは、非常に不利に被膜の品質に作用する。
【０００９】
浸漬槽内の非常に大量の溶湯量の問題は、上記の刊行物から公知であるような解決策によって回避することができる。ドブ漬け精錬のため、これらの文献からは、ストリップが、焼きなまし炉内に用意され、次に垂直方向へと転向され、そして最後に下から浸漬槽内へと走入することが公知である。浸漬槽は、その下面に通路状の開口部を有する。下方への浸漬槽からの溶湯の流出を、誘導的な変動磁場によって発生させられる磁気的な密栓が阻止する。
【００１０】
そこに開示された浸漬槽は、本質的に最初に議論の対象となった方法におけるよりも少ない容積で使用可能である。約１０ｔの溶湯しか必要とならない。ここでは、溶湯の合金化及びこの溶湯の温度調整が独立した容器内で行なわれることが有利である。溶湯は、ポンプによって浸漬槽内へと送られる。この方法の更なる利点は、合金組成及び温度の調整が、ここでは、本質的に多くの溶湯を有する浸漬槽を要する冒頭で議論の対象となった方法におけるよりも非常に効率的に行なうことができることである。
【００１１】
比較的僅かな溶湯量を有する浸漬槽を使用する場合でも、所望の層厚さを調節及び制御するために、浸漬槽の上に配設された掻取りシステムが使用される。ここでも、設備の最大限に可能なストリップ速度は、被膜処理すべきストリップの伝達可能な張力によって制限される。
【００１２】
良好な掻取りのための、全ストリップ幅及び長さにわたる被膜処理すべき素材上での良好な被膜処理結果及び均一な層にとっての前提は、安定した邪魔されないストリップの流れである。ストリップは、常に平行にストリップの両側に配設された両方の掻取りノズルを経るように案内されなければならず、その際、ノズルに対して一定の間隔が維持されるべきである。運転にあっては、このようなストリップの安定化は、非常に費用をかけてしか保証することができない。ほんの僅かなノズルに対するズレ又はストリップにおける波打ちは、ストリップの幅及び長さにわたっても、被膜処理されるストリップの両面の比においても、層厚さを大きく変化させる。
【００１３】
従って、ノズル掻取り方法で得られる被覆厚さは、常にストリップの幅及び長さにわたってある程度のバラツキと密着しており、これは、被膜処理方法の品質を低下させる。腐食防止の理由から、それぞれ最低限必要とされる層厚さを下回ることは許されないので、結果におけるこのバラツキに基づいて、常に、絶対に必要であるものよりも多くの被覆材料が塗布される。これは、被膜処理方法の経済性を更に悪化させる。
【特許文献１】
欧州特許第０ ６３０ ４２１号明細書
【特許文献２】
欧州特許第０ ６３０ ４２０号明細書
【特許文献３】
欧州特許第０ ６７３ ４４４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
従って、本発明の基本にある課題は、被膜処理方法の品質を向上させ、同時に方法の経済性を改善することを可能にする、冒頭で述べた様式の表面被膜処理方法並びに付属の被膜処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によるこの課題の解決は、方法に関しては、
ａ）素材上に塗布された浸漬槽による被覆材料の層の厚さを測定する段階と、
ｂ）測定された厚さを予め設定された層の厚さの値と比較し、両方の値の間の差を算定する段階と、
ｃ）算定された差に依存して、測定された値を予め設定された値に近付けるために、被膜処理プロセスの少なくとも１つのパラメータに影響を与えるか、もしくはこれを変更する段階と、
が実施されることを特徴とする。
【００１６】
本発明は、ドブ漬け精錬の際に、浸漬槽から出て来るストリップが、−例えば、ノズル掻取り方法のような別の措置を講ずることなく−自動的にある程度の被覆材料の層厚さを備えているという認識と、プロセスパラメータのある程度の状況もしくは情勢の下で、品質的に価値の高い被覆が、被膜処理すべき素材上に塗布可能であるという認識とを利用する。
【００１７】
従って、有利な方法で、言及した様式のドブ漬け被膜処理プロセスを、被膜処理すべき素材の非常に高い搬送速度で運転することが可能であり、その際、３００ｍ／ｍｉｎの速度が、０．５ｍｍ以下の厚さを有するストリップのために可能である。従って、被膜処理設備の高い効率及び相応に高い経済性が得られる。
【００１８】
更に、本発明による方法の場合、全ストリップ幅にわたる一様な層厚さが、全く被膜処理パラメータに依存せずに生じることが有利である。何故なら、これらの被膜処理パラメータは、全てが、ストリップ幅にわたって均一に作用するからである。ストリップの流れ及びストリップの平面度も、層厚さに対して影響力がない。全ストリップ幅及びストリップ長さにわたる一定の層厚さの実現は、プロセスパラメータの迅速な調整によって保証される。
【００１９】
特に、被膜処理すべき素材は、浸漬槽を垂直に上に向かって通過する。
【００２０】
提案した方法を効率的に利用するために、被膜処理プロセスの種々のパラメータの制御もしくは調整が特に有利であると分かった。
【００２１】
先ず、制御もしくは調整される被膜処理プロセスのパラメータは、素材の送り方向の被膜処理すべき素材の搬送速度である。この場合、測定された厚さが非常に大きい場合、搬送速度は高められる。
【００２２】
選択的又は付加的に、パラメータとして、浸漬槽内の溶融槽温度が問題となる。この場合、その際には大抵、測定された厚さが非常に大きい場合、溶融槽温度が高められる（これにより、被覆材料の粘度は低下し、薄い被膜が得られる）。
【００２３】
更に、パラメータとして、被膜処理すべき素材が浸漬槽内の溶融液状の被覆材料と接触する浸漬長さもしくは溶融槽高さが適当である。測定された厚さが非常に大きい場合、良好な被膜処理結果を得るために、浸漬長さもしくは溶融槽高さを低めることができる。
【００２４】
更に、選択的又は付加的に、被膜処理プロセスのパラメータが、特に浸漬槽内へと入る前の素材の温度であることが問題となる。ここでは、大抵、測定された厚さが非常に大きい場合、素材の温度が高められる。
【００２５】
更に、特に、被膜処理プロセスのパラメータとして、浸漬槽内での被膜処理すべき素材の浸漬時間を使用することができ、その際、測定された厚さが非常に大きい場合、浸漬時間を低めることができる。
【００２６】
最後に、パラメータは、−再び選択的又は付加的に−浸漬槽内の溶湯の組成でもよい。
【００２７】
浸漬槽を被膜処理すべき素材が連続的に、特に垂直に通過する際に素材の表面を被膜処理するための装置は、本発明によれば、送り方向で浸漬槽の後に、素材上に塗布された被覆材料の層の厚さを測定するための装置が配設されており、この装置が、測定された厚さの値を制御又は調整装置に供給し、この制御又は調整装置が、測定された値を予め設定された層厚さの値と比較し、算定された両方の値の間の差に依存して、測定された値を予め設定された値に近付けるために、被膜処理プロセスの少なくとも１つのパラメータに影響を与えるか、もしくはこれを変更することができる手段を制御することを特徴とする。
【００２８】
手段が、素材の送り方向の被膜処理すべき素材の搬送速度に影響を与えるので有利である。選択的又は付加的に、手段は、浸漬槽内の溶融槽温度に影響を与えることができる。更に、被膜処理すべき素材が浸漬槽内の溶融液状の被覆材料と接触する浸漬長さもしくは溶融槽高さに影響を与えることも、手段によっては問題となり、手段は、特に浸漬槽内へと入る前の素材の温度に影響を与えることもできる。
【００２９】
浸漬層内の被覆金属の組成に対する効率的な影響の付与を可能にするために、浸漬槽は、溶融液状の被覆材料のためのリザーブタンクと接続していてもよい。この場合、本発明によれば、浸漬槽の収容容積は、本質的にリザーブタンクの収容容積よりも少なく、このため、更にまた、特に、浸漬槽の収容容積が、リザーブタンクの収容容積のせいぜい２０％、特にせいぜい１０％であることが問題となる。
【００３０】
下方への浸漬槽のシールをするために、浸漬槽の底部領域に、磁気的な密栓が配設されているが、しかしながらまた、選択的に、他のシールシステムを使用してもよい。
【００３１】
浸漬槽の上に、被膜処理された素材のための冷却装置が配設されてもよい。その際、厚さを測定するための装置は、特に、浸漬槽と冷却装置との間に配設されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明の実施例を図示した図面を基にして、本発明を詳細に説明する。
【００３３】
図１に、スチールストリップの形の被膜処理すべき素材１を金属の被覆材料２（例えば亜鉛）で被膜処理する装置を見ることができる。
【００３４】
帯状の素材の両面を一様に被膜処理するため、ストリップ１は、下から貫通路１０を経て垂直に上に向かって浸漬槽３を経るように導かれ、この浸漬槽は、所望の溶融槽高さｈに至るまで液状の被覆材料で満たされている。浸漬槽３の底部領域には、磁気的な密栓８が配設されており、この密栓は、液状の被膜材料２が貫通路１０を経て下に向かって流出することを阻止する。
【００３５】
ストリップ１の送り方向は、Ｒで記載されている。非常に概略的にのみ、駆動モータ６’が１つのローラ１１（もしくは複数のローラ）を駆動し、これによりストリップ１が搬送速度ｖで送られることが略図にされている。
【００３６】
ストリップ１は、炉１２内で、先ず温度調整される。ストリップは、次に通路１３を通過し、炉ハウジング１４内に達する。通路１３もしくは炉ハウジング１４の領域には、誘導ヒータ６’’’’が配設されており、この誘導ヒータによって、ストリップ１は、通過の際に適切かつ迅速に加熱することができる。そうして、ストリップは、浸漬槽３内へと入る前にストリップ温度Ｔ_B を有する。
【００３７】
浸漬槽３内には、溶融槽温度Ｔを有する溶融液状の被覆材料２が存在する。浸漬槽３を通過する際、液状の被覆材料２がストリップ１の表面に堆積し、浸漬槽３を出た後、被覆材料２が素材１上で凝固し、従って、所望の製品、即ち被膜処理された金属のストリップが存在する。
【００３８】
新鮮な被覆又は被膜材料２の供給は、大きいリザーブタンク７から行なわれ、このリザーブタンク内では、予め、被覆材料２における冶金学上の作業が、酸化物の析出、及び固体の被覆材料もしくは液状の被膜材料から成るストリップ金属の結晶の濾過の形で行なわれる。更に、そこでは、新鮮な被覆材料が、溶解装置を経て供給される。
【００３９】
浸漬槽３内の被覆材料２の迅速な温度調整をするため、即ち溶融槽温度Ｔの迅速かつ適切な調節をするため、浸漬槽３は、誘導ヒータ６’’によって取り囲まれている。この場合、浸漬槽３の容積は、リザーブタンク７の容積にくらべて少ない。例えば、浸漬槽３は、約５ｔの液状の亜鉛しか、ストリップ１の亜鉛メッキのために収容しなくてもよいのに対し、リザーブタンク７は、これの何倍も収容する。
【００４０】
溶湯ポンプ６’’’によって、被覆材料２は、リザーブタンク７から浸漬槽３内へと圧送され、これにより、浸漬槽３内の被覆材料の組成を調節することができる。
【００４１】
溶融液状の被覆材料２を有する浸漬槽３の供給及び廃棄をするために必要である周辺装置は、この実施例では、詳細には図示されてない。これは、従来技術においてこれまでに公知であるような装置である。これについては、既に上で述べた特許文献１を参照願いたい。
【００４２】
浸漬槽３の直ぐ上には、素材１上に塗布された層の厚さｄ_Ist を測定するための装置４が配設されている。この装置の上には、冷却装置９が位置決めされており、この冷却装置によって、既に高温の被膜処理されたストリップを冷却することができる。
【００４３】
出願による被膜処理方法についての更なる詳細は、図２から分かる。
【００４４】
ストリップ１は、浸漬層内へと走入する前に厚さｄ₀ を有する。ストリップ１上へと、被覆材料２から成る被膜が塗布され、この被膜は、基準厚さｄ_Sollを備えるべきである。但し、一般的な被膜処理方法の場合、実際にストリップ１上に塗布される厚さの多少大きなバラツキが存在する。効果的にできる層厚さは、ｄ_Ist で指示されている。
【００４５】
できるだけ密接に浸漬槽３上に配設されている層の厚さｄ_Ist を測定するための装置４は、層厚さｄ_Ist の実際の値を測定し、制御又は調整装置５へと供給する。この装置５には、基準厚さｄ_Sollも備えられる。
【００４６】
第１の部分５ａ、即ち差形成器には、先ず、
・基準厚さと実厚さとの差が、関係式
Δ＝ｄ_Ist −ｄ_Soll
に従って形成され、第２の部分５ｂ、即ち調整器に供給される。調整器には、被膜処理プロセスのパラメータＰとこの差との間の機能的な関係が登録されている。これは、機能的な関係が、差をできるだけ小さく、理想的な場合にはゼロにするために、差Δが存在する場合にパラメータＰをどのように変更しなければならないかを示すことを意味する。
【００４７】
機能的な関係は、経験的に、具体的に適用するための実験から得られる。この実施例では、この関係が、
・差の関数としての搬送速度ｖ、
・差の関数としての溶融槽温度Ｔ、
・差の関数としての溶融槽高さｈ（選択的に浸漬長さＬ）、そして
・差の関数としての浸漬槽の前の素材の温度Ｔ_B
のために算定及び登録されている。
【００４８】
ストリップ１上に堆積する被覆材料２から成る層は、非常に一様にストリップ１の幅及び長さにわたって塗布されている。何故なら、影響を与える掻取りノズルシステムが、何ら必要ないからである。むしろ、所望の層厚さｄ_Ist は、被膜処理設備内で制御部もしくは調整部５によって調節されるパラメータＰに対する反応として再現可能に生じ、これは、図２に非常に概略的にだけ略図にされている。
【００４９】
基準厚さｄ_Sollと比べて実際の層厚さｄ_Ist が非常に大きい場合、制御部もしくは調整部５は、ストリップの搬送速度ｖが高められるか、及び／又は溶融槽温度Ｔが高められるか、及び／又は溶融槽高さｈが低減されるか、及び／又はストリップの温度Ｔ_B が高められるように指示する。これら全ての措置が、層厚さの減少を生じさせるか、もしくは相応のパラメータ化の逆転が、厚さの増加を生じさせる。この方法で、繊細に、金属ストリップ１上の実際の層厚さｄ_Ist を調整することができる。
【００５０】
従って、本発明によれば、知的な制御又は調整モデルが使用される。制御部もしくは調整部は、連続的に、記憶されている必要な全ての測定データを供給される。パラメータ間の機能的な関係は、調整部もしくは制御部に登録されている。
【００５１】
言及した調整値以外に、浸漬槽の組成及びストリップの表面粗さも検出され、従って、これらの場合には、これらのパラメータを制御もしくは調整の際に引き出すことも、もしくは、この場合、これらのパラメータを考慮することもできる。
【００５２】
浸漬槽３のための誘導ヒータ６’’もしくは素材１のための誘導ヒータ６’’’’によって、それぞれの温度の迅速な制御もしくは調整が可能である。浸漬槽３内の溶湯の組成の場合、通常、迅速な調整が重要であるのではなく、むしろ、ここでは、一定の合金成分の維持が重要である。このため、（大きい）リザーブタンク７との（小さい）浸漬槽３の流体工学上の連結が有利である。これに対して、溶湯温度は、非常に迅速に調整可能でなければならない。このため、誘導ヒータ６’’は、例えば浸漬槽３への溶湯の供給路内に配設されていてもよい。
【００５３】
提案した形態によって、ストリップ幅及びストリップ長さにわたる層厚さの均一性の本質的な改善が可能である。ストリップの流れ及び公知の掻取りノズル装置のノズルとのストリップの間隔が同じであることに依存することは一切ない。何故なら、これらは、省略されているからである。従って、大抵はいずれにしろコントロールすることが非常に困難でしかないストリップとノズルとの間の間隔も、いかなる影響も及ぼすことができない。全てのストリップガイドローラを駆動することができる。
【００５４】
更に、−いかなる掻取りノズルももはや与えられていないので−いかなる媒体（空気又は酸素）も、ストリップ表面もしくは未だ液状の被覆材料上にもたらされず、これは、さもなければ、層厚さが薄く掻取りノズルが高い場合には、しばしば、ストリップの表面及びこれにより品質に対して非常にマイナスに作用する。この関係で、特に経済的な方法で、コストの高いいかなる媒体（窒素）も、また（送風機駆動機構のための）いかなるエネルギももはや必要とならず、これが、全プロセスを簡単にし、経済的にすることも得られる。ポットローラ交換のために必要な設備の停止も省略され、設備は、本質的に高いストリップ速度及びこれにより高い設備効率を、薄いストリップを被膜処理する場合でも得ることができる。
【００５５】
連続的にドブ漬け亜鉛メッキをする場合、ドブ漬け亜鉛メッキされた純粋な薄板（ここでは、被覆がほとんど専ら１質量％までのアルミニウムを有する亜鉛を含有する）以外に、亜鉛メッキ薄板の変形例が生じる。この材料の被覆は、１３質量％までのＦｅを含んだＦｅ−Ｚｎ合金層から成り、均質化することによって直接ドブ漬け亜鉛メッキ部への接続部内で生じている。
【００５６】
従来技術による亜鉛メッキ薄板のための製造設備には、（再焼鈍し）炉が、掻取りノズルの上に設備されており、この炉は、ストリップに、拡散工程のために必要な熱を供給する。亜鉛メッキ薄板は、ほとんどがもっぱら自動車産業のための製品であり、薄い被覆を備える。
【００５７】
提案した方法によって、特に有利な方法で、亜鉛メッキ薄板は、ストリップ及び亜鉛槽の温度が高い場合でも付加的な再加熱をすることなく直接溶湯から製造することができる。このため、浸漬槽３の上の冷却装置９は切断される。
【００５８】
従来の方法の場合、掻取りノズルシステムは、溶湯から出て来るストリップを著しく冷却するのに対し、このことは、切断された冷却装置９による提案した措置方法の場合には、そのような場合ではない。更に、浸漬槽温度は、公知の方法の場合、明らかに本発明による提案におけるそれよりも低く、そのような場合である。何故なら、従来技術による解決策の場合、底部スラグの発生とは反対の作用が行なわれなければならないからである。本発明による措置方法の場合、これは、非常に小さい浸漬槽に基づいて、いかなる問題にもならず、ここで、底部スラグは、ほとんど生じることができず、従って、この点にかぎっても、製品の品質を改善することができる。
【００５９】
従って、亜鉛メッキ薄板を製造する場合の拡散工程は、公知の方法の場合、亜鉛メッキ部に対する接続部内で進行することができず、新たな熱の供給を要する。これは、本発明による措置方法の場合、有利な方法で必要なく、即ち、未だストリップ内に存在する熱量は、拡散のために十分である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】概略的にストランド状の金属の素材の表面を被膜処理するための装置の構造を示す。
【図２】概略的に本発明による調整コンセプトの図を示す。
【符号の説明】
【００６１】
１ 被膜処理すべき素材
２ 金属の被覆材料
３ 浸漬槽
４ 層の厚さを測定するための装置
５ 制御又は調整装置
５ａ 差形成器
５ｂ 調整器
６ 被膜処理プロセスのパラメータに影響を与えるためもしくはこれを変更するための手段
６’ 駆動モータ
６’’ 浸漬槽３のための誘導ヒータ
６’’’ 溶湯ポンプ
６’’’’ 素材１のための誘導ヒータ
７ リザーブタンク
８ 磁気的な密栓
９ 冷却装置
１０ 貫通路
１１ ローラ
１２ 炉
１３ 通路
１４ 炉ハウジング
ｄ_Ist 素材１に塗布された層の厚さ
ｄ_Soll 予め設定された層厚さの値
ｄ₀ 素材１の厚さ
Δ ｄ_Ist とｄ_Sollとの間の差
Ｐ 被膜処理プロセスのパラメータ
ｖ 搬送速度
Ｒ 送り方向
Ｔ 溶融槽温度
Ｌ 浸漬長さ
ｈ 溶融槽高さ
Ｔ_B 浸漬槽の前の素材の温度
ｔ 浸漬時間

Claims (24)

1. 被膜処理すべき素材（１）が、連続的に溶融液状の被覆材料（２）で満たされた浸漬槽（３）を通過する際に金属の被覆材料（２）を塗布することによって、ストランド状の金属の素材（１）、特に帯材又は線材の表面を被膜処理するための方法において、
   この方法が、
   ａ）素材（１）上に塗布された浸漬槽（３）による被覆材料（２）の層の厚さ（ｄ_Ist ）を測定する段階と、
   ｂ）測定された厚さ（ｄ_Ist ）を予め設定された層の厚さの値（ｄ_Soll）と比較し、両方の値の間の差（Δ）を算定する段階と、
   ｃ）算定された差（Δ）に依存して、測定された値（ｄ_Ist ）を予め設定された値（ｄ_Soll）に近付けるために、被膜処理プロセスの少なくとも１つのパラメータ（Ｐ）に影響を与えるか、もしくはこれを変更する段階と、
   を備えることを特徴とする方法。
2. 被膜処理すべき素材（１）が、浸漬槽（３）を垂直に上に向かって通過することを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 被膜処理プロセスのパラメータが、素材（１）の送り方向（Ｒ）の被膜処理すべき素材（１）の搬送速度（ｖ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
4. 測定された厚さ（ｄ_Ist ）が非常に大きい場合、搬送速度（ｖ）が高められることを特徴とする請求項３に記載の方法。
5. 被膜処理プロセスのパラメータが、浸漬槽（３）内の溶融槽温度（Ｔ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
6. 測定された厚さ（ｄ_Ist ）が非常に大きい場合、溶融槽温度（Ｔ）が高められることを特徴とする請求項５に記載の方法。
7. 被膜処理プロセスのパラメータが、被膜処理すべき素材（１）が浸漬槽（３）内の溶融液状の被覆材料（２）と接触する浸漬長さ（Ｌ）もしくは溶融槽高さ（ｈ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
8. 測定された厚さ（ｄ_Ist ）が非常に大きい場合、浸漬長さ（Ｌ）もしくは溶融槽高さ（ｈ）が低められることを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 被膜処理プロセスのパラメータが、特に浸漬槽（３）内へと入る前の素材（１）の温度（Ｔ_B ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
10. 測定された厚さ（ｄ_Ist ）が非常に大きい場合、素材（１）の温度（Ｔ_B ）が高められることを特徴とする請求項９に記載の方法。
11. 被膜処理プロセスのパラメータが、浸漬槽（３）内での被膜処理すべき素材（１）の浸漬時間（ｔ）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
12. 測定された厚さ（ｄ_Ist ）が非常に大きい場合、浸漬時間（ｔ）が低められることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
13. 被膜処理プロセスのパラメータが、浸漬槽（３）内の溶湯の組成であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
14. 溶融液状の被覆材料（２）を有する浸漬槽（３）に被膜処理すべき素材（１）を連続的に、特に垂直に通過させる際に金属の被覆材料（２）を塗布することによってストランド状の金属の素材（１）、特に帯材又は線材の表面を被膜処理するための装置において、
    送り方向（Ｒ）で浸漬槽（３）の後に、素材（１）上に塗布された被覆材料（２）の層の厚さ（ｄ_Ist ）を測定するための装置（４）が配設されており、この装置が、測定された厚さ（ｄ_Ist ）の値を制御又は調整装置（５）に供給し、この制御又は調整装置が、測定された値（ｄ_Ist ）を予め設定された層厚さの値（ｄ_Soll）と比較し、算定された両方の値の間の差（Δ）に依存して、測定された値（ｄ_Ist ）を予め設定された値（ｄ_Soll）に近付けるために、被膜処理プロセスの少なくとも１つのパラメータ（Ｐ）に影響を与えるか、もしくはこれを変更することができる手段（６）を制御することに適していることを特徴とする装置。
15. 手段（６’）が、素材（１）の送り方向（Ｒ）の被膜処理すべき素材（１）の搬送速度（ｖ）に影響を与えることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
16. 手段（６’’）が、浸漬槽（３）内の溶融槽温度（Ｔ）に影響を与えることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
17. 手段（６’’’）が、被膜処理すべき素材（１）が浸漬槽（３）内の溶融液状の被覆材料（２）と接触する浸漬長さ（Ｌ）もしくは溶融槽高さ（ｈ）に影響を与えることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
18. 手段（６’’’’）が、特に浸漬槽（３）内へと入る前の素材（１）の温度（Ｔ_B ）に影響を与えることを特徴とする請求項１４に記載の装置。
19. 浸漬槽（３）が、溶融液状の被覆材料（２）のためのリザーブタンク（７）と接続していることを特徴とする請求項１４〜１８のいずれか１つに記載の装置。
20. 浸漬槽（３）の収容容積が、本質的にリザーブタンク（７）の収容容積よりも少ないことを特徴とする請求項１９に記載の装置。
21. 浸漬槽（３）の収容容積が、リザーブタンク（７）の収容容積のせいぜい２０％、特にせいぜい１０％であることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
22. 浸漬槽（３）の底部領域に、磁気的な密栓（８）が配設されていることを特徴とする請求項１４〜２１のいずれか１つに記載の装置。
23. 浸漬槽（３）の上に、被膜処理された素材（１）のための冷却装置（９）が配設されていることを特徴とする請求項１４〜２２のいずれか１つに記載の装置。
24. 厚さ（ｄ_Ist ）を測定するための装置（４）が、浸漬槽（３）と冷却装置（９）との間に配設されていることを特徴とする請求項２３に記載の装置。