JP2005354484A - 増幅型メモリ装置及び固体撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】大きな面積を必要とすることなく高いSN比を維持することができる増幅型メモリ装置を提供すること。
【解決手段】信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個、前記複数のメモリセルが共通に接続する制御電極を有する増幅用トランジスタ、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタ、とで構成されるメモリブロックを複数個配列して成る増幅型メモリ装置において、前記メモリ信号線を通して該メモリブロックにおける増幅用トランジスタの制御電極電位を制御するための回路手段を備える。
【選択図】図4

Description

本発明は、増幅型メモリ装置及びこれをを備えた固体撮像装置に関する。
従来、固体撮像装置としては、そのSN比の良さからCCDが多く使われている。しかし、一方では、使い方の簡便さや消費電力の小ささを長所とする所謂増幅型固体撮像装置の開発も行われてきた。増幅型固体撮像装置とは、受光画素に蓄積された信号電荷を画素部に備わったトランジスタの制御電極に導き、増幅された信号を主電極から出力するタイプのものであり、増幅用トランジスタとしてSITを使ったSIT型イメージセンサ(A .Yusa、J .Nishizawa et al., "SIT image sensor: Design consideration and characteri stics," IEEE
trans. Vol. ED-33, pp.735-742, June 1986.)、バイポーラトランジスタを使ったBASIS (N.Tanaka et al., "A 310K pixel bipolar imager
(BASIS)," IEEE Trans. Electron Devices, vol.35, pp. 646-652, may 1990) 、制御電極が空乏化するJFETを使ったCMD (中村他“ゲート蓄積型MOSフォトトランジスタイメージセンサ”, テレビ学会誌,41,11,pp.1075-1082 Nov .,1987) 、MOSトランジスタを使ったCMOSセンサ (S.K.Men dis, S.E.Kemeny and E.R.Fossum, "A 128×128 CMOS active image sensor for highly integrated imaging systems," in IEDM
Tech. Dig., 1993, pp. 583-586.) 等がある。特に、CMOSセンサはCMOSプロセスとのマッチングが良く、周辺CMOS回路をオンチップ化できることから、開発に力が注がれている。
しかし、これらの増幅型固体撮像装置に共通する欠点は、各画素に備わる増幅用トランジスタの出力オフセットが各画素毎に異なるため、イメージセンサの信号としては固定パターンノイズ(FPN)が乗るということである。このFPNを除くため、従来色々な信号読み出し回路が工夫されている。
増幅型固体撮像装置の他の欠点は、動作タイミングに関するものである。この型のイメージセンサの画素信号読み出しは1行ずつ行われ、更にこの1行読み出し後に水平転送動作が続く。このため、画素の信号蓄積動作は1行ごとにずれてくる。なぜなら、1フィールドにおける画素の信号蓄積動作は画素信号読み出しで終了するからである。従って、第1行と最終行とのタイミングずれは殆ど1フィールド時間となる。
一方、CCDでは全ての画素信号が一斉に垂直CCDに転送されるが、CCD画素の蓄積動作はこの一斉転送で終了し、且つ、開始するため、CCD画素の動作は同時である。増幅型イメージセンサのこの動作タイミングずれは、高速動作する被写体を写したときに、像のゆがみとなって現れる。
この欠点を改善する目的で、特許文献1,2には、MOSスイッチと容量とで形成されるメモリセルで構成されるアナログフレームメモリを備えたイメージセンサが提案されている。これら提案のセンサにおいては、画素信号が対応するメモリセルに、水平転送動作を伴わず短時間で転送され、その後、水平転送を伴ったメモリ信号の読み出しがほぼ1フィールド期間を使って行われる。これにより、動作タイミングのずれは著しく短縮される。
図1は上記従来例によるイメージセンサの回路図を表すものであり、同図において、1は少なくともフォトダイオードと増幅用トランジスタとを有する増幅型画素を示す。図2は図1における増幅型画素例としての典型的CMOSセンサ画素回路図である。図1及び図2により、従来技術を説明する。
走査回路4によって選択された行の画素1の増幅用トランジスタ21は、選択トランジスタ22が導通状態になると、電流供給用トランジスタ7より電流が供給されて、ソースフォロワとして作動し、垂直画素出力線2にその出力電圧を出力する。初めにフローティングディフュージョン(FD)部19が、リセットパルスφRESをリセットトランジスタ23に印加することによってリセットされ、そのFD電位相当の出力が垂直画素出力線2に現れる。垂直画素出力線側のこの基準電圧は、ソースフォロワのしきい電圧の画素間ばらつきのためにばらつくが、メモリ信号線11の側では、φCとφSHのパルスによりクランプトランジスタ6とスイッチトランジスタ8と導通させるため、一律のクランプ電位VRが基準電圧となる。
次に、クランプトランジスタ6をオフ状態とし、パルスφTXを転送トランジスタ20に印加することで、フォトダイオード18にある信号電荷をFD19に転送する。この信号に比例したFD電圧の落ち分は垂直画素出力線2に読み出され、更に、結合容量5を通して垂直メモリ出力線11に伝えられる。この信号電圧は、メモリ選択線12を通して書き込みトランジスタ10にパルスを印加することで、メモリセル容量9に書き込まれる。メモリ選択線12はメモリ走査回路13に従って次々に選択される。メモリセル容量9に書き込まれた信号電圧は、上記に述べたクランプ動作により、画素の固定パターンノイズ(F.P.N.)を含んでいない。この行毎の画素からメモリへの信号転送が終了すると、メモリの信号読み出しが次のように行われる。
初めに、パルスφCとφSHとをクランプトランジスタ6とスイッチトランジスタ8とに印加することで、垂直メモリ出力線11をVRにリセットする。スイッチトランジスタ8をオフ状態とした後、メモリ走査回路13によって選択された行のメモリセルの容量9に溜っていた信号電圧が垂直メモリ出力線11に転送される。この垂直メモリ出力線11上の信号電圧は、水平走査回路16によって走査を受けたスイッチトランジスタ15を通して水平出力線14に順に転送される。水平出力線上の信号電圧は、増幅回路17によって増幅され、センサ出力として読み出される。メモリ信号はこのように、メモリ走査回路13と水平走査回路16とによって読み出される。
画素信号のメモリへの転送時間は、メモリのない一般的なCMOSセンサの読み出し時間に比べて、大幅に短縮されている。このため、画素の蓄積動作タイミングの時間差に関する欠点は十分に改善される。図1の例においては、メモリセル容量に書き込まれる信号電圧は、メモリ出力線容量との容量分割により、画素出力線における信号電圧に比べて減少する。更に、メモリセルが単なる容量とスイッチMOSトランジスタで形成されているため、メモリセルから読み出される信号電圧は、メモリセル容量とメモリ信号線容量との容量分割を受けて大幅に減少し、SN比の大きな低下を招く。
特に、数十万画素、画素サイズが数ミクロン角程度のイメージセンサに本発明を適用する場合、メモリセル容量が数十fFに対し、メモリ信号線容量は数pFになるため、メモリ信号読み出し時の容量分割比は数十分の1〜百分の1程度となり、著しい信号信号の低下を招く。この信号の減少を防止するため、メモリセル自体に増幅用トランジスタを備えた増幅型アナログメモリを用いる構成もある。一般に、増幅型アナログメモリセルは、1セル当たり4つのMOSトランジスタで構成される。
図3は特許文献3で開示されているメモリセル構成を示し、同図において、24は信号増幅用MOSトランジスタ、25は読み出し選択用トランジスタ、26は信号書き込み用MOSトランジスタ、27は書き込まれた信号を保持するための信号容量、28は信号入力線、29は信号出力線である。信号の書き込み動作と信号の出力動作が、時間的に分離され、同時動作がない場合には、上記信号信号線は1本に共通化することもできる。
特開昭58−125982号公報 特開平02−065380号公報 米国特許第5,805,492号公報
然るに、この従来の増幅型アナログフレームメモリについては、次の2つの重大な欠点を有している。
即ち、第1は、メモリセルが基本的に4つのMOSトランジスタ構成であるため、1つのメモリセル面積を小さくするのが難しく、画素面積と同じ程度か又は画素面積よりも大きくなってしまうことである。これは、センサの大幅な価格上昇をもたらす。第2はメモリセルの増幅用信号トランジスタの出力にはオフセットばらつきがあるため、仮に一様な信号がメモリに入力された場合でも、メモリ出力には固定パターンノイズ(以下F. P. N. と称する)が発生し、このためにSN比の重大な低下を招く。このような2つの欠点があるため、増幅型アナログメモリ付増幅型イメージセンサの実用化は困難となっている。
本発明は上記問題に鑑みてなされたもので、その目的とする処は、大きな面積を必要とすることなく高いSN比を維持することができる増幅型メモリ装置及び固体撮像装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は、信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個と、増幅用トランジスタと、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタと、選択用トランジスタとで構成されるメモリブロックであって、該複数のメモリセルが該増幅用トランジスタの制御電極に共通に接続されている構成のメモリブロックを複数個配列して成ることを特徴とする。
又、本発明は、信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個、前記複数のメモリセルが共通に接続する制御電極を有する増幅用トランジスタ、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタ、とで構成されるメモリブロックを複数個配列して成る増幅型メモリ装置において、前記メモリ信号線を通して該メモリブロックにおける増幅用トランジスタの制御電極電位を制御するための回路手段を備えたことを特徴とする。
更に、本発明は、入射光を信号電荷に変換して蓄積する光電変換部と、前記信号電荷を電圧信号に変換し、増幅して出力するためのトランジスタとを少なくとも備えた画素を複数配列して成る光電変換画素部と、前記光電変換画素部の少なくとも一部の画素に対応したメモリセルを有するメモリブロックを複数配列して成るメモリ部とを備えた固体撮像装置において、前記メモリブロックは、増幅用トランジスタと、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタと、選択用トランジスタと、信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個とから成り、且つ、前記複数個のメモリセルは、前記増幅用トランジスタの制御電極に接続する構成となっていることを特徴とする。
本発明によれば、センサ出力を高SN比に保ちつつ、画素の動作タイミングの時間ずれが小さい増幅型メモリ付きイメージセンサが、従来よりもずっと少ないメモリ面積によって実現できる。
又、センサ出力を高SN比に保ちつつ、画素の動作タイミングの時間ずれが小さい増幅型メモリ付きイメージセンサが、より一層少ないメモリ面積によって実現できる。
更に、より一層の高SN比を保ち、画素の動作タイミングの時間ずれが小さい増幅型メモリ付きイメージセンサが、少ないメモリ面積によって実現できる。
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。尚、以下の実施の形態で使われているトランジスタは、特に断らない限りN型のMOSトランジスタとし、そのゲート電位がHighレベルで導通、Lowレベルで非導通になるとする。
<実施の形態1>
図4は本発明の実施の形態1における1つのメモリ信号線でのアナログメモリのブロック構成とメモリに付随するオフセットばらつき除去回路を示し、同図において、28はアナログメモリセル3つを含むアナログメモリの1ブロック、29は増幅用トランジスタ24の制御電極に接続し、メモリセル容量9からの信号電荷を受ける共通信号入力部、30はメモリ信号線11と共通信号入力部29とをスイッチし、共通信号入力部29に書き込むべき信号電圧を導く書き込み用トランジスタ、31はメモリセル容量9と、共通信号入力部29とをスイッチし、メモリセル容量9に書き込むべき信号電圧を導くメモリセル用スイッチトランジスタ、32はメモリブロックの増幅用トランジスタ24に定電流を供給し、増幅用トランジスタ24をソースフォロワとして動作させるための電流供給用トランジスタであり、スイッチトランジスタ31とメモリ容量9とで、メモリセルが構成される。
又、33はメモリに書き込まれた信号の増幅出力を保持するための信号蓄積容量、34はメモリに書き込まれた基準レベル信号の増幅出力を保持するためのノイズ蓄積容量、35はメモリに書き込まれた信号の増幅出力を信号蓄積容量33にサンプリングするためのスイッチ用トランジスタ、36はメモリに書き込まれた基準レベル信号の増幅出力をノイズ蓄積容量34にサンプリングするためのスイッチ用トランジスタ、37は信号蓄積容量33に保持された信号出力が導かれる水平信号出力線、38はノイズ蓄積容量34に保持されたノイズ出力が導かれる水平ノイズ出力線、39は水平走査時に信号蓄積容量33に保持された信号出力を水平信号出力線37に導くための水平走査スイッチ用トランジスタ、40は水平走査時にノイズ蓄積容量34に保持された信号出力を水平信号出力線38に導くための水平走査スイッチ用トランジスタ、41は水平信号出力線37と水平ノイズ出力線38とを入力とし、この2つの信号電圧の差分を出力する差動アンプである。
図4において、メモリブロックは3つのメモリセルで構成され、又、1つのメモリ信号線に接続するメモリブロックは簡略化のため1つしか書かれていないが、1つのメモリブロックが含むメモリセルはいくつで構成されていても良く、又、1つのメモリ信号線に接続するメモリブロックは一般には複数個ある。
図5は、図4におけるメモリ動作を説明するためのパルスタイミングチャートである。図5において、V2は画素出力線2の電位変化を表し、画素の各行のリセット出力電位、リセット出力電位に画素の信号電圧が上乗せされた信号電位が時系列的に出力される。
先ず、画素の信号をメモリに書き込む動作において、スイッチトランジスタ8とメモリブロックの書き込み用トランジスタ30とを導通状態とするため、パルスΦSHとΦBLKとをHigh状態とする。V2が画素のリセットレベル出力の時に、ΦCパルスによりメモリ信号線11の電位を一定値VRとして、メモリ側で画素のリセットレベルばらつきを除去し、V2が画素信号上乗せレベル出力時には、メモリ信号線11の電位がVRに画素信号電圧を加えたレベルとする。この状態でΦB1をオフ状態とし、画素リセットばらつきのない信号電圧をメモリセル容量に書き込む。この動作を3行分繰り返して、画素3行分の信号をそれぞれ、ΦB1,ΦB2,ΦB3によってスイッチされるメモリセルの容量に書き込む。
次に、メモリに書き込まれた信号の読み出し動作においては、ΦCをHighレベルとして、クランプトランジスタ6を導通状態にする。先ず、ΦSHパルスとΦBLKパルスとを同時に印加した時に、メモリ信号線の基準電位VRを、書き込み用トランジスタ30を通して共通信号入力部29に書き込む。
次に、ΦBLKとΦSHとをLowにした状態で、ΦB1パルスをHighとしてメモリ容量9に保持された信号を共通信号入力部29に導くのに伴い、ΦMSELとΦMGをHighレベルとして、増幅用トランジスタ24をソースフォロワアンプ動作させ、メモリ信号線11にΦB1に対応したメモリセル容量9の電圧の増幅信号を出力する。このとき、ΦTSにサンプリングパルスが入り、スイッチトランジスタ35を通して、信号蓄積容量33にメモリからの増幅信号が蓄積される。
引き続きΦB1をHigh、ΦMSEL、ΦGをLowとした状態でΦSHパルスとΦBLKパルスとを同時に印加し、その後ΦB1をLowとすることでメモリ信号線の基準電位VRをΦB1に対応するメモリセル容量9と共通信号入力部29とに書き込む。この状態でΦBLKとΦSHとをLowに、ΦMSELとΦGをHighに、ΦB1パルスを再びHighとして増幅用トランジスタ24をソースフォロワアンプ動作させ、メモリ信号線11にメモリセル容量9に入力された基準レベルの電圧の増幅信号を出力する。このとき、ΦTNにサンプリングパルスが入り、スイッチトランジスタ36を通して、ノイズ蓄積容量34にメモリからの増幅信号が蓄積される。
この状態で、信号蓄積容量33には基準電位VRにメモリの増幅用トランジスタ24のオフセット電圧と、画素の信号電圧とが上乗せされた電位が保持され、一方、ノイズ蓄積容量34には基準電位VRにメモリの増幅用トランジスタ24のオフセット電圧が上乗せされた電位が保持されている。
引き続き行われる水平走査において、各列順次選択はΦHのパルスによって行われる。ΦHにHighパルスが入り、スイッチトランジスタ39,40が導通状態になると、信号蓄積容量33上の電圧は水平信号出力線37に、ノイズ蓄積容量34上の電圧は水平ノイズ出力線38に転送され、差動アンプ41はこれら2つの水平出力線の電圧の差分電圧を出力する。従って、差動アンプ41は、メモリの増幅用トランジスタ24のオフセットばらつきによるFPNを除去し、高SN比の画素の信号電圧を出力する。
本実施の形態において、メモリセルは容量と1つのスイッチトランジスタとで構成される一方、増幅用トランジスタ、選択用トランジスタ、書き込み用トランジスタは1つのメモリブロックにあって複数メモリセルに共用されるので、容量と4つのトランジスタで構成されるメモリセルを集積してなる従来のメモリに比べて、メモリ面積を十分に縮小することができる。よって、画素の動作タイミングずれが小さく、高SN比のセンサ出力を示し、且つ、大きな面積を要しない固体撮像装置を提供することができる。
<実施の形態2>
図6は本発明の実施の形態2における1つのメモリ信号線でのアナログメモリのブロック構成とメモリに付随するオフセットばらつき除去回路を示す。
実施の形態1と比べると、メモリブロックは選択用トランジスタが省かれた構成になっており、又、メモリ信号線電位をVLに設定するためのトランジスタ42が加えられている。信号書き込み、信号読み出し時におけるメモリブロックの選択は、選択されないブロックの増幅用トランジスタを非導通状態に設定し、非選択ブロックに影響されないようにする状態を実現することでなされる。そのためには、トランジスタが型MOSトランジスタとすると、非選択メモリブロックの増幅用トランジスタのゲート電極電位を、選択メモリブロックの増幅用トランジスタのゲート電極電位よりも0.6V程度以上低く設定すれば良い。
選択用トランジスタがソースフォロワ動作してもメモリ信号線電位は、選択メモリブロックの増幅用トランジスタのゲート電極電位から増幅用トランジスタのしきい電圧値分と約0.2〜0.3V分とを引いた値となり、メモリ信号線電位に対する非選択メモリブロックの増幅用トランジスタのゲート電極電位差は増幅用トランジスタのしきい電圧値を超えることがないからである。図7はそのような状態を説明するための電位関係図である。
図8は、図6におけるメモリ動作を説明するためのパルスタイミングチャートであり、実施の形態1のタイミングチャートである図5と異なる点は、メモリブロックの非選択と選択とを区別するために,選択ブロックへの信号書き込み又は読み出し動作の直前に、全てのメモリブロックのΦBLKをHigh状態としてΦLパルスにより、全てのメモリブロックの共通信号入力部29にVL電位を書き込む。その後、選択メモリブロックの信号書き込み又は信号読み出しを行えば、上述の通りに非選択ブロックに影響を受けることがない動作ができる。
本実施の形態によれば、実施の形態1で用いたメモリブロックの選択用トランジスタが不要になるためにメモリの面積がより一層小さく、画素の動作タイミングずれが小さく、高SN比のセンサ出力を出す固体撮像装置を提供することができる。
<実施の形態3>
図9は本発明の実施の形態3における1つのメモリ信号線でのアナログメモリのブロック構成とメモリに付随するオフセットばらつき除去回路を示す。
同図において、43は結合容量5によって、画素信号のオフセットが除かれた信号電圧を増幅するために各列に設けられる列アンプである。本実施の形態の回路を駆動するパルスタイミングは、図5におけるパルスタイミングと同じである。メモリセルに書き込まれる信号は、列アンプ43のオフセットを含んでいるが、信号蓄積容量33にはメモリブロックの増幅用トランジスタ24のオフセットと列アンプ43のオフセットとの合計に上乗せした画素信号がメモリブロックから読み出され、又、ノイズ蓄積容量34にはメモリブロックの増幅用トランジスタ24のオフセットと列アンプ43のオフセットとの合計がメモリブロックから読み出されることで、差動アンプ41はこれらオフセットばらつきが除去された画素信号を出力する。
又、実施の形態1においては、メモリセル容量に書き込まれる信号電圧は、結合容量5とメモリ信号線の寄生容量との容量分割によって、画素出力線2における画素信号電圧よりも低下したものである。然るに、本実施の形態においては、列アンプ42によって、実施の形態1のような信号電圧の低下がなく、又、列アンプ43のゲインが1よりも高い場合には、画素出力線2における画素信号電圧よりも大きな信号電圧をメモリセル容量に書き込むこともできる。
従って、本実施の形態によれば、少ないメモリ面積で画素の動作タイミングずれが小さく、より一層高SN比の信号を出力することができる。
尚、本実施の形態において、メモリ構成ブロック構成は実施の形態1のものを使っているが、実施の形態2のメモリブロックを使っても構成できる。
尚、上記実施の形態1〜3において、メモリは固体撮像装置に設けられ、撮像信号が入力されているが、本発明の増幅型メモリは別の装置の別の信号にも適用し得る。
又、本発明の実施の形態には上記実施の形態1,2の構成に基づいて幾つかの他の構成が考えられる。例えば、オフセット除去回路手段として、クランプ回路を使ったものも考えられる。又、上記実施の形態の回路においてN型MOSトランジスタを構成要素としているが、P型MOSトランジスタを構成要素としても良く、このとき、駆動パルスの極性はN型MOSトランジスタの場合と逆になることは勿論である。
従来技術によるフレームメモリが付いた増幅型イメージセンサを表す回路図である。 従来の典型的CMOSセンサ画素を表す回路図である。 従来の増幅型メモリセルを表す回路図である。 本発明の実施の形態1を示す回路図である。 図4におけるメモリの動作を説明するパルスタイミングチャートである。 本発明の実施の形態2を示す回路図である。 本発明の実施の形態2における電位関係を示す図である。 図6におけるメモリの動作を説明するパルスタイミングチャートである。 本発明の実施の形態3を示す回路図である。
符号の説明
1 画素
2 画素出力線
3 画素駆動線
4 画素走査回路
5 結合容量
6 クランプトランジスタ
7 電流供給用トランジスタ
8 スイッチトランジスタ
9 メモリセル容量
10 書き込みトランジス
11 メモリ信号線
12 メモリ駆動線
13 メモリ走査回路
14 水平出力線
15 スイッチトランジスタ
16 水平走査回路
17 増幅器
18 フォトダイオード
19 フローティングディフージョン
20 転送トランジスタ
21 増幅用トランジスタ
22 選択用トランジスタ
23 リセット用トランジスタ
24 増幅用トランジスタ
25 選択用トランジスタ
26 信号入力
27 信号出力線
28 メモリブロック
29 共通信号入力部
30 書き込みトランジスタ
31 スイッチトランジスタ
32 電流供給用トランジスタ
33 信号蓄積容量
34 ノイズ蓄積容量
35 スイッチトランジスタ
36 スイッチトランジスタ
37,38 水平信号線
39,40 スイッチトランジスタ
41 差動アンプ
42 電位制御用トランジスタ
43 列増幅器

Claims (12)

  1. 信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個と、増幅用トランジスタと、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタと、選択用トランジスタとで構成されるメモリブロックであって、該複数のメモリセルが該増幅用トランジスタの制御電極に共通に接続されている構成のメモリブロックを複数個配列して成ることを特徴とする増幅型メモリ装置。
  2. 前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットにメモリセル信号が上乗せされた出力と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセット出力との差分信号を取り出す回路手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の増幅型メモリ装置。
  3. 前記メモリ入力線ごとに備えられ、メモリに入力すべき信号を増幅するための列増幅器と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力に前記メモリセル信号が上乗せされた出力と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力との差分信号を取り出す回路手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の増幅型メモリ装置。
  4. 信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個、前記複数のメモリセルが共通に接続する制御電極を有する増幅用トランジスタ、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタ、とで構成されるメモリブロックを複数個配列して成る増幅型メモリ装置において、
    前記メモリ信号線を通して該メモリブロックにおける増幅用トランジスタの制御電極電位を制御するための回路手段を備えたことを特徴とする増幅型メモリ装置。
  5. 前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットにメモリセル信号が上乗せされた出力と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセット出力との差分信号を取り出す回路手段を備えたことを特徴とする請求項4記載の増幅型メモリ装置。
  6. 前記メモリ入力線ごとに備えられ、メモリに入力すべき信号を増幅するための列増幅器と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力に前記メモリセル信号が上乗せされた出力と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力との差分信号を取り出す回路手段を備えたことを特徴とする請求項4記載の増幅型メモリ装置。
  7. 入射光を信号電荷に変換して蓄積する光電変換部と、前記信号電荷を電圧信号に変換し、増幅して出力するためのトランジスタとを少なくとも備えた画素を複数配列して成る光電変換画素部と、前記光電変換画素部の少なくとも一部の画素に対応したメモリセルを有するメモリブロックを複数配列して成るメモリ部とを備えた固体撮像装置において、
    前記メモリブロックは、増幅用トランジスタと、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタと、選択用トランジスタと、信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個とから成り、且つ、前記複数個のメモリセルは、前記増幅用トランジスタの制御電極に接続する構成となっていることを特徴とする固体撮像装置。
  8. 前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットにメモリセル信号が上乗せされた出力と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセット出力との差分信号を取り出す回路手段を備えたことを特徴とする請求項7記載の固体撮像装置。
  9. 前記光電変換部の各列ごとに配列され、前記画素からの信号電圧をクランプすることで前記画素の固定パターンノイズを除去するための結合容量と、前記光電変換部の各列ごとに配列され、前記画素からの信号電圧を増幅し、前記画素に対応する前記メモリセルに書き込むための増幅信号を出力する列増幅器と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力に前記メモリセル信号が上乗せされた出力と前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力との差分信号を取り出す回路手段を備えたことを特徴とする請求項7記載の固体撮像装置。
  10. 入射光を信号電荷に変換して蓄積する光電変換部と、前記信号電荷を電圧信号に変換し、増幅して出力するためのトランジスタとを少なくとも備えた画素を複数配列して成る光電変換画素部と、前記光電変換画素部の少なくとも一部の画素に対応したメモリセルを有するメモリブロックを複数配列して成るメモリ部とを備えた固体撮像装置において、
    前記メモリブロックは信号蓄積容量とスイッチトランジスタとから成るメモリセル複数個、前記複数のメモリセルが共通に接続する制御電極を有する増幅用トランジスタ、メモリ信号線と該増幅用トランジスタの制御電極とを接続する信号書き込み用トランジスタ、とで構成され、且つ、前記メモリ信号線を通して該メモリブロックにおける増幅用トランジスタの制御電極電位を制御するための回路手段を備えたことを特徴とする固体撮像装置。
  11. 前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットにメモリセル信号が上乗せされた出力と、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセット出力との差分信号を取り出す回路手段を備えたことを特徴とする請求項10記載の固体撮像装置。
  12. 前記光電変換部の各列ごとに配列され、前記画素からの信号電圧をクランプすることで前記画素の固定パターンノイズを除去するための結合容量、前記光電変換部の各列ごとに配列され、前記画素からの信号電圧を増幅し、前記画素に対応する前記メモリセルに書き込むための増幅信号を出力する列増幅器、前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力に前記メモリセル信号が上乗せされた出力と前記メモリブロックにおける前記増幅用トランジスタのオフセットに前記列増幅器のオフセットが加わった出力との差分信号を取り出す回路手段、を備えたことを特徴とする請求項10記載の固体撮像装置。
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