JP2005332892A5 - - Google Patents
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- 略板状の六方晶系の結晶のc面上における結晶分割形状が略長方形となる様に前記結晶を複数に分割する方法であって、
xy平面が前記c面と略一致し、z軸の正の向きが前記c面の法線ベクトルの向きと略一致し、かつ、前記結晶の一つのr面の法線ベクトルの極距離θと経度φが「0°<θ<90°、かつ、40°≦φ≦50°」を満たす様に、前記結晶上に右手系の直交座標を固定した時に、
前記c面に対してx軸の正の向きにスクライブを施す第1のスクライブ工程と、
前記c面に対してy軸の正の向きにスクライブを施す第2のスクライブ工程と、
前記結晶に形成された各スクライブ線に沿って前記結晶をブレーキングする長方形分割工程と
を有することを特徴とする結晶の分割方法。 - 前記結晶はサファイアであり、
前記極距離θは約1ラジアンであることを特徴とする請求項1に記載の結晶の分割方法。 - 前記結晶は、複数の半導体デバイスの集合体を構成する半導体ウェハの結晶成長基板であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の結晶の分割方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004148318A JP4419680B2 (ja) | 2004-05-18 | 2004-05-18 | 結晶の分割方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2004148318A JP4419680B2 (ja) | 2004-05-18 | 2004-05-18 | 結晶の分割方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005332892A JP2005332892A (ja) | 2005-12-02 |
JP2005332892A5 true JP2005332892A5 (ja) | 2006-11-09 |
JP4419680B2 JP4419680B2 (ja) | 2010-02-24 |
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ID=35487338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004148318A Expired - Lifetime JP4419680B2 (ja) | 2004-05-18 | 2004-05-18 | 結晶の分割方法 |
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JPWO2011090024A1 (ja) | 2010-01-19 | 2013-05-23 | シャープ株式会社 | 機能素子およびその製造方法 |
JP4932976B2 (ja) | 2010-05-18 | 2012-05-16 | パナソニック株式会社 | 半導体チップおよびその製造方法 |
WO2011145310A1 (ja) | 2010-05-18 | 2011-11-24 | パナソニック株式会社 | 半導体チップ、半導体ウェハおよび半導体チップの製造方法 |
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