JP2005326455A

JP2005326455A - 光回折構造体

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Publication number: JP2005326455A
Application number: JP2004142135A
Authority: JP
Inventors: Shinichiro Suzuki; 慎一郎鈴木
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2004-05-12
Filing date: 2004-05-12
Publication date: 2005-11-24
Anticipated expiration: 2024-05-12
Also published as: JP4416161B2

Abstract

【課題】専用の用具や読取装置を必要とせずに、従来型のホログラムや回折格子表示体との差異を容易かつ明確に認識でき、高い偽造防止効果を有する光回折構造体。
【解決手段】ホログラムの干渉縞又は回折格子パターンの格子がレリーフパターン１として記録された透明樹脂層２表面において、方向性のある万線又は網点からなるパターンの万線又は網点に対応する位置のレリーフパターンが省かれ、その代わりに一定高さあるいは深さの突起あるいは溝３が透明樹脂層２表面に設けられて凹凸レリーフ構造を構成している光回折構造体。
【選択図】図１

Description

本発明は、光回折構造体に関し、特に、ホログラムや回折格子等の光回折構造体に万線パターン又は網点パターンを形成して、従来の光回折構造体にない独特の視認性を容易に付与することができるものに関する。

従来より、ホログラムは偽造防止の手法として用いられてきたが、近年ホログラム自体の「一見似たものレベル」の偽造品が横行するにつれ、従来型のホログラムにさらに偽造防止効果を付与する加工が求められてきている。

例えば、ホログラムに肉眼では視認不能なインキを付与し、真偽確認時には専用の光源を用いてインキの有無を確認するものや、ホログラム自体にコヒーレント光照射により像を再生する効果を持たせ、真偽判定時にはコヒーレント光を照射し、再生された像を確認する手法等が考案されている。

本出願人は、特許文献１において、ホログラムと隠しパターン形成層を具備する光回折構造体について提案しており、この場合、隠しパターンは専用の確認パターンを使用して確認することができるものである。
特開平１１−２７７９６２号公報特開平５−３５１７３号公報

特許文献１で開示した発明によれば、従来のホログラムにさらに偽造防止効果は加えられるものの、その真偽の確認の際に専用の用具（確認パターン形成体）が必要であり、一般的なユーザーよりはむしろ限られた管理者が真偽を確認するためのものであった。

本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、専用の用具や読取装置を必要とせずに、また、一般のユーザーが従来型のホログラムや回折格子表示体との差異を容易かつ明確に認識できる高い偽造防止効果を有する光回折構造体を提供することである。

上記目的を達成する本発明の光回折構造体は、ホログラムの干渉縞又は回折格子パターンの格子がレリーフパターンとして記録された透明樹脂層表面において、方向性のある万線又は網点からなるパターンの万線又は網点に対応する位置のレリーフパターンが省かれ、その代わりに一定高さあるいは深さの突起あるいは溝が前記透明樹脂層表面に設けられて凹凸レリーフ構造を構成していることを特徴とするものである。

この場合、透明樹脂層表面に設けられた凹凸レリーフ構造上に反射層を設けて反射型に構成することが望ましい。

また、レリーフパターンの面と突起あるいは溝の面との間の高さの差が５０ｎｍ以上に設定されていることが望ましい。

また、方向性のある万線又は網点からなるパターンが、２つ以上の方向性が異なる万線又は網点からなる領域が並列されたパターンからなることが望ましい。

その場合に、方向性のある万線又は網点からなるパターン中の少なくとも１つ領域の周囲に縁取り領域が設定され、その縁取り領域における万線又は網点が、その縁取り領域を挟む両側の領域の万線又は網点と方向性が異なるものであるように構成することができる。

本発明においては、ホログラムの干渉縞又は回折格子パターンの格子がレリーフパターンとして記録された透明樹脂層表面において、方向性のある万線又は網点からなるパターンの万線又は網点に対応する位置のレリーフパターンが省かれ、その代わりに一定高さあるいは深さの突起あるいは溝がその透明樹脂層表面に設けられて凹凸レリーフ構造を構成しているので、レリーフパターンによる回折光が入射しない斜め方向からこの光回折構造体を観察することにより、方向性のある万線又は網点からなるパターンを何らの用具や読取装置を用いずに明確に認識できる。それに対して、レリーフパターンによる回折光が入射する方向からこの光回折構造体を観察する場合は、レリーフパターンとして記録されたホログラムの再生像あるいは回折格子パターンからの回折光を観察することができ、方向性のある万線又は網点からなるパターンは何ら見えない。そのため、レリーフパターンのみを持つ通常のホログラムあるいは回折格子パターンとの差異が容易に確認でき、偽造防止媒体として活用できる。そして、ホログラム又は回折格子パターンの視認性と万線又は網点からなるパターンの情報との双方を持ち、高い偽造防止媒体として活用できる。

本発明の光回折構造体は、既存の方法でホログラムシール、ホログラム転写箔、ホログラムフィルム等の形態に加工し、それを適宜パッケージ・容器類、金券・商品券類、物品類等の偽造防止加工を施したい媒体に適用して高い偽造防止効果を得ることができる。

以下に、本発明の光回折構造体を実施例に基づいて説明する。

図１は、反射型レリーフホログラムに本発明に基づいて万線パターンを重畳的に形成して構成された光回折構造体の１実施例の概略の構成を示す断面図である。ホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン１が透明のホログラム形成層２の裏面に飛び飛びに形成されており、その間に万線パターンを表現する一定の深さで一定周期の断面略矩形状の凹溝３が形成されている。このホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン１と万線パターンを表現する凹溝３とが交互に複合されて凹凸レリーフ構造としてホログラム形成層２の裏面全体に形成されている。ここで、飛び飛びのホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン１は、破線でつながれて図示されているように、本来は連続したものであるが、万線パターンを表現する凹溝３によって周期的に取り除かれ、その代わりにその凹溝３で置き換えられている。

ホログラム形成層２の裏面のホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン１と万線パターンを表現する凹溝３との複合凹凸レリーフ構造全体の上に反射層４が形成されて、本発明の光回折構造体の１実施例の基本形態が構成されている。

ここで、レリーフパターン１の凹凸のピッチは、ホログラム記録像にも依存するが、概ね１μｍ程度である。これに対して、万線パターンの凹溝３（観察側から見ると線状突起となるため、線状突起３とも表現する。）のピッチＳは１００μｍ程度に設定されている。また、凹溝３の深さ（線状突起３の高さ）Ｇはレリーフパターン１の面に対して５０ｎｍ以上に設定されている。

このような光回折構造体のホログラム形成層２のレリーフパターン１とは反対側の表面に、所定方向から白色光又は単色光が入射すると、ホログラム形成層２を介して線状突起３間に位置するレリーフパターン１に入射した光は、その位置でのレリーフパターン１に沿った反射層４で反射回折されて、所定の再生像を所定位置に再生するので、光回折構造体の略正面方向に位置する観察者には、レリーフパターン１として記録されたホログラム再生像が観察される。

一方、万線パターンの線状突起３の頂部に入射した光はそこでの反射層４で略正反射方向に反射され、その正反射方向に位置する観察者にその反射光が入射するが、万線のピッチＳが眼で分解できる大きさ以下であるので、万線パターンは分解しては見えない。

これに対して、万線パターンの線状突起３のエッジ（凹溝３の底部のエッジ）５に入射した光はそのエッジ５で散乱される。その散乱光の角度分布は、エッジ５に直交する方向には最も強く、エッジ５に平行な方向には最も弱く散乱される。

そのため、レリーフパターン１による回折光が入射しない斜め前方からこの光回折構造体を観察すると、その方向に線状突起３が略直交している万線パターン部分はより明るく見え、その方向を光回折構造体に投影した方向に略平行に線状突起３が伸びている万線パターン部分はより暗く見える。

したがって、ホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン１上に重畳された万線パターンを異なる方向に向いている万線の組み合わせにより構成すると、レリーフパターン１による回折光が入射しない斜め前方からこの光回折構造体を観察することにより、その重畳された万線パターンを何らの用具や読取装置を用いずに明確に認識できることになる。そのため、レリーフパターン１のみを有する光回折構造体との差異が容易に確認でき、偽造防止媒体として活用できる。

図２は、このようにしてホログラム形成層２のレリーフパターン１上に重畳される万線パターン１０の１例を示す図であり、レリーフパターン１によって形成される画面が、例えば文字“Ａ”からなる確認パターン領域１１と、その背景を構成する背景領域１２とからなる。画面の内部領域を構成する確認パターン領域１１には、画面の下辺を基準線Ｌとして、例えば４５°方向を向く万線１３が配置され、画面の外部領域を構成する背景領域１２には、基準線Ｌに対して１３５°方向を向く万線１４が配置されて構成される。万線１３と万線１４のピッチは何れも１００μｍで、線部と非線部の幅の比は５０μｍ：５０μｍとしてある。

このような万線パターン１０が反射型レリーフホログラムに重畳されて形成された反射型光回折構造体においては、略正面方向から観察者が見ると、万線１３、１４の間に位置するホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン１からの回折光によってレリーフパターン１に記録されたホログラムの再生像が観察される。しかし、万線１３、１４は幅及び間隔が５０μｍと人間の眼で分解できる寸法より小さいので、確認パターン領域１１と背景領域１２とからなる万線パターン１０は見ることができない。しかし、レリーフパターン１による回折光が入射しない斜め前方からこの光回折構造体を観察すると、万線パターン１０の周囲の観察方向に応じて確認パターン領域１１と背景領域１２との間にコントラストがついて、確認パターン領域１１の文字“Ａ”が観察できるようになる。

上記実施例では、確認パターン領域１１の万線１３は基準線Ｌに対して４５°方向でピッチが１００μｍ、背景領域１２が基準線Ｌに対して１３５°方向でピッチが１００μｍで形成されているが、この条件に限らず、確認パターン領域１１と背景領域１２が差が出るように適宜角度、ピッチを選択して作製することができる。万線のピッチは、１００μｍに限らず、記録されているホログラムの絵柄によって５０μｍ〜３００μｍの範囲で適宜選択することができる。また、線部と非線部の幅の比についても、同様に、１：１に限らず、記録されているホログラムの絵柄によって適宜選択することができる。

ホログラム形成層２のレリーフパターン１上に重畳される万線パターン１０としては、図２に示すように、方向の異なる２つの万線領域からなるものに限らず、方向の異なる３つ以上の万線領域から構成することもできる。図３に、図２の万線パターン１０において、文字“Ａ”からなる確認パターン領域１１の周辺に、万線１３、１４と異なる方向を向く万線１６からなる縁取り領域１５を設け、その縁取り領域１５中の万線１６として、基準線Ｌに対して９０°方向を向く万線とした万線パターン１０の例を示す。この場合に、万線１３と万線１４と万線１６のピッチは何れも例えば１００μｍで、線部と非線部の幅の比は５０μｍ：５０μｍとすることが望ましい。

図３の万線パターン１０が反射型レリーフホログラムに重畳されて形成された反射型光回折構造体においては、同様に、略正面方向から観察者が見ると、万線１３、１４、１６の間に位置するホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン１からの回折光によってレリーフパターン１に記録されたホログラムの再生像が観察される。しかし、万線１３、１４、１６は幅及び間隔が５０μｍと人間の眼で分解できる寸法より小さいので、確認パターン領域１１とその周辺の縁取り領域１５と背景領域１２とからなる万線パターン１０は見ることができない。しかし、レリーフパターン１による回折光が入射しない斜め前方からこの光回折構造体を観察すると、万線パターン１０の周囲の観察方向に応じて確認パターン領域１１と縁取り領域１５と背景領域１２との間にコントラストがついて、確認パターン領域１１及び縁取り領域１５とからなる文字“Ａ”が観察できるようになる。

ところで、このような本発明の光回折構造体を作製するには、公知の種々の方法が利用可能である。以下に、例えば特許文献２に示されている、フォトレジスト上にレリーフパターンとして記録されたホログラムの干渉縞を紫外線硬化樹脂に複製して樹脂マスター版を作製する方法を利用して、その作製された樹脂マスター版上に万線パターンを重畳して形成し、その樹脂マスター版からエンボス用の金型を作製し、その金型を用いて本発明の光回折構造体を作製する例を示す。

図４（ａ）において、樹脂マスター版２１の表面には、反射型レリーフホログラムの干渉縞を表すレリーフパターンが紫外線硬化樹脂を用いた複製により形成されている。その樹脂マスター版２１の上に同様の未硬化の紫外線硬化樹脂２２を塗布し、その上に近接して、図２に示されたような確認パターン領域１１と背景領域１２とからなる万線パターン１０又は図３に示されたような確認パターン領域１１と縁取り領域１５と背景領域１２とからなる万線パターン１０が高精度で描かれてなる万線マスクフィルム２３を配置し、光源２４から紫外線２５をその万線マスクフィルム２３を介して照射し、万線パターン１０の透明な万線に対応する部分２６の紫外線硬化樹脂２２を硬化させる。

その後、紫外線硬化樹脂２２の現像を行うと、紫外線硬化樹脂２２の硬化部２６が残って樹脂マスター版２１と一体になり、図４（ｂ）に示すような、ホログラムの干渉縞を表すレリーフパターン３２と万線パターンを表現する線状突起３３とが表面に交互に形成された樹脂マスター版３１が完成する。

このような樹脂マスター版３１の交互に並列しているレリーフパターン３２と線状突起３３との凹凸レリーフ構造をホログラム形成層にエンボスして複製することにより、本発明による光回折構造体を、転写箔、ラベル、フィルム等種々の形態に構成することができる。転写箔形態の場合には、例えば商品券、クレジットカード、パッケージ等に適用でき、ラベル形態の場合には、例えばソフトウエア、カートリッジ、医薬品等のパッケージ等に適用でき、フィルム形態の場合には、例えばそのフィルムを１〜２ｍｍ程度の幅にマイクロスリットし、用紙の抄造時に紙中に共に抄き込んで偽造防止を図ることができる。また、ラベル形態の場合には、脆質層を層構成中に介在させて、偽造のためにラベルを剥離しようとしたときにその脆質層から剥がれるようにして偽造のために表示体を剥がすことを困難にすることができる（脆質ラベル）。以下、本発明の光回折構造体を、転写箔、ラベル、脆質ラベル、フィルムの各形態に構成する場合の、層構成とその作製工程の例を説明する。

図５は、本発明の光回折構造体を転写箔５１として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、ＰＥＴ等の透明樹脂フィルムからなる基材４４上に剥離層４５を塗布し、その剥離層４５上にホログラム形成層４１を塗布し、ホログラム形成層４１に図４（ｂ）に示したような凹凸レリーフ構造の樹脂マスター版３１から形成した金型をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の交互に並列しているレリーフパターン３２と線状突起３３とを複製し、その複製された凹凸レリーフ構造面上に反射層４２を蒸着することにより反射型の光回折構造体４３を形成し、その光回折構造体４３の反射層４２側にヒートシール層４６を塗布して、図５のような層構成の転写箔５１を完成する。

ここで、基材４４を構成する樹脂フィルムとしては、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、若しくは、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム等が好ましく、中でも、これらに加え、機械的強度の優れた２軸延伸ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが適している。

また、剥離層４５を構成する樹脂は、基材４４の素材や、剥離層４５と接着するホログラム形成層４１の材質にもよるが、ポリエステル樹脂、アクリル骨格樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、酢酸セルロースと熱硬化型アクリル樹脂との２成分のブレンド樹脂、メラミン樹脂、若しくは、ニトロセルロース樹脂を使用することができる。例えば、基材４４がポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）フィルムであるときは、剥離層４５と基材４４との密着力の点で、ポリエステル樹脂が好ましい。これらの樹脂には、さらにポリエチレンワックス等のワックス、若しくは、シリコーン樹脂を添加して剥離性を向上させてもよい。剥離層４５は、上記の樹脂を適宜な溶剤若しくは分散剤を用いて溶解若しくは分散させて、塗布若しくは印刷に適した組成物を調製したものを、公知の塗布方法若しくは印刷方法により、基材４４に積層形成することができる。

また、ホログラム形成層４１を構成する合成樹脂としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例、ＰＭＭＡ）、ポリスチレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂をそれぞれ単独、あるいは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用することができ、さらには、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質、あるいは、これらにラジカル重合性不飽和単量体を加え電離放射線硬化性としたもの等を使用することができる。この他、銀塩、重クロム酸ゼラチン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモクロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料なども使用できる。

上記の合成樹脂からなる層への凹凸レリーフ構造の形成は、上記の材料を用いて、従来既知の方法によって形成することができる。例えば、凹凸レリーフ構造が記録された原版をプレス型として用い、上記樹脂層上にその原版を重ねて加熱ロール等の適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸レリーフ構造を複製することができる。あるいは、紫外線硬化性とした樹脂層上にその原版を重ねて、紫外線を照射してその樹脂層を硬化させて原版の凹凸レリーフ構造を複製することができる。

反射層４２を構成する材質としては、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｒｂ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ｐｂ、若しくは、Ｂｉ等の金属、又は、それらの酸化物、若しくは、それらの窒化物を単独で、若しくは、組み合わせ、薄膜として形成する。金属薄膜層を反射層４２として用いるときには、これらの中でも、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、若しくは、Ａｕ等が特に好ましい。

反射層４２を形成するには、真空蒸着法、スパッタリング法、若しくは、イオンプレーティング法等の公知の薄膜形成法によって行う。

ヒートシール層４６を構成する材質としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−イソブチルアクリレート共重合体樹脂、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル及びその共重合体樹脂、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、又は、フェノール樹脂が使用できる。あるいは、ＳＢＳ（スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマー）、ＳＩＳ（スチレン−イソプレン−スチレンブロックコポリマー）、ＳＥＢＳ（スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックコポリマー）等の熱可塑性エラストマー、又は、反応ホットメルト性樹脂等を使用してもよい。

図６は、本発明の光回折構造体をラベル５２として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、ＰＥＴ等の透明樹脂フィルムからなる基材４４上にホログラム形成層４１を塗布し、ホログラム形成層４１に図４（ｂ）に示したような凹凸レリーフ構造の樹脂マスター版３１から形成した金型をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の交互に並列しているレリーフパターン３２と線状突起３３とを複製し、その複製された凹凸レリーフ構造面上に反射層４２を蒸着することにより反射型の光回折構造体４３を形成し、その光回折構造体４３の反射層４２側に粘着層４７を塗布し、その粘着層４７上にその保護用としてセパレータ（剥離紙）４８をラミネートして、図６のような層構成のラベル５２を完成する。

ここで、基材４４、ホログラム形成層４１、反射層４２を構成する材質としては、図５の場合と同様である。

粘着層４７を構成する接着剤としては、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール（ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等）、シアノアクリレート、ポリビニルアルキルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ニトロセルロース、酢酸セルロース、熱可塑性エポキシ、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−アクリル酸エチルコポリマー等、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリベンツイミダゾール、ポリベンゾチアゾール等、あるいは、ゴム系の天然ゴム、再生ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ポリスルフィドゴム、シリコーンゴム、ポリウレタンゴム、ステレオゴム（合成天然ゴム）、エチレンプロピレンゴム、ブロックコポリマーゴム（ＳＢＳ，ＳＩＳ，ＳＥＢＳ等）が使用できる。

また、セパレータ（剥離紙）４８としては、従来公知の紙やフィルム基材に剥離処理を施したものが使用できる。

図７は、本発明の光回折構造体を脆質ラベル５３として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、ＰＥＴ等の透明樹脂フィルムからなる基材４４上に脆質層４９を塗布し、その脆質層４９上にホログラム形成層４１を塗布し、ホログラム形成層４１に図４（ｂ）に示したような凹凸レリーフ構造の樹脂マスター版３１から形成した金型をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の交互に並列しているレリーフパターン３２と線状突起３３とを複製し、その複製された凹凸レリーフ構造面上に反射層４２を蒸着することにより反射型の光回折構造体４３を形成し、その光回折構造体４３の反射層４２側に粘着層４７を塗布し、その粘着層４７上にセパレータ（剥離紙）４８をラミネートして、図７のような層構成の脆質ラベル５３を完成する。

ここで、基材４４、ホログラム形成層４１、反射層４２、粘着層４７、セパレータ（剥離紙）４８を構成する材質としては、図６の場合と同様である。

脆質層４９を構成する材料としては、図５の場合の剥離層４５を構成する樹脂と同じ系列のものが用いられる。

図８は、本発明の光回折構造体をフィルム５４として構成する場合の層構成を示す断面図であり、その作製方法に従ってその構成を説明すると、ＰＥＴ等の透明樹脂フィルムからなる基材４４上にホログラム形成層４１を塗布し、ホログラム形成層４１に図４（ｂ）に示したような凹凸レリーフ構造の樹脂マスター版３１から形成した金型をエンボスしてその凹凸レリーフ構造の交互に並列しているレリーフパターン３２と線状突起３３とを複製し、その複製された凹凸レリーフ構造面上に反射層４２を蒸着することにより反射型の光回折構造体４３を形成して、図８のような層構成のフィルム５４が完成する。

ここで、基材４４、ホログラム形成層４１、反射層４２を構成する材質としては、図５〜図７の場合と同様である。

ここで、図５〜図８において、ホログラム形成層４１に光回折構造体の凹凸レリーフ構造をエンボスするための金型の作製方法の例を簡単に説明しておく。図４（ｂ）に示すような樹脂マスター版３１をネガ版とし、そのネガ版から紫外線硬化樹脂を用いて同様に複製してポジ版を得るか、あるいは、このような複製を偶数回繰り返すことにより得られたポジ版を、上記のホログラム形成層４１に光回折構造体の凹凸レリーフ構造をエンボスするための金型として用いることができる。

あるいは、図４のようにして得られた樹脂マスター版３１のレリーフ面に金等を蒸着して導電化処理を施し、その上にニッケルメッキ（電鋳）を行い、ある程度の厚さのニッケルメッキ後、樹脂マスター版３１を剥離して、金属マスターを作製する。これ以降は、従来の方法と同様で、金属マスターの複製面に離型処理を行い、再度上記と同様なニッケルメッキを行い、マザーを複製し、このマザーをエンボス用の金型として用いるか、さらに同様にして、第３の金属複製（スタンパー）を作製してこれを金型として用いることができる。

ところで、以上において、ホログラム形成層の裏面に設けられるレリーフパターンがホログラムの干渉縞を表すものとしていたが、その代わりに回折格子パターンの格子をレリーフパターンとして設けるようにしてもよい。

さらに、このようなレリーフパターン上に重畳されるパターンを万線パターンとして説明したが、その代わりに方向性あるいは指向性を有する網点パターンを設けるようにしてもよい。方向性あるいは指向性を有する網点パターンの例としては、網点が所定の方向へ整列された網点パターンや、さらには、その場合に各網点が偏平な形状でその長手方向がその整列方向へ揃って向いている網点パターンがあり、その場合に、その整列方向が相互に異なる２つ以上の網点領域を組み合わせて網点パターンを構成するようにする。

また、本発明の光回折構造体において、ホログラムの干渉縞あるいは回折格子パターンの格子を表すレリーフパターンの面と万線パターンを表現する溝又は突起の面との間に高低差があることにより、溝又は突起のエッジで光が散乱して万線パターン又は網点パターンの存在が明確になるため、偽造防止媒体として本発明の光回折構造体を作製した際に従来型のホログラムや回折格子表示体との差異がより明確となる。特に、その高低差が５０ｎｍ以上あることがより望ましい。

以上、本発明の光回折構造体を実施例に基づいて説明したが、これら実施例に限定されず種々の変形が可能である。

反射型レリーフホログラムに本発明に基づいて万線パターンを重畳的に形成して構成された光回折構造体の１実施例の概略の構成を示す断面図である。ホログラム形成層のレリーフパターン上に重畳される万線パターンの１例を示す図である。図２の万線パターンにおいて確認パターン領域の周辺に縁取り領域を設けた例を示す図である。本発明の光回折構造体を作製するための樹脂マスター版を作製する例を説明するための図である。本発明の光回折構造体を転写箔として構成する場合の層構成を示す断面図である。本発明の光回折構造体をラベルとして構成する場合の層構成を示す断面図である。本発明の光回折構造体を脆質ラベルとして構成する場合の層構成を示す断面図である。本発明の光回折構造体をフィルムとして構成する場合の層構成を示す断面図である。

符号の説明

１…レリーフパターン
２…ホログラム形成層
３…凹溝（線状突起）
４…反射層
５…エッジ
１０…万線パターン
１１…確認パターン領域
１２…背景領域
１３、１４、１６…万線
１５…縁取り領域
２１…樹脂マスター版（レリーフホログラム用）
２２…紫外線硬化樹脂
２３…万線マスクフィルム
２４…光源
２５…紫外線
２６…万線に対応する硬化部
３１…樹脂マスター版（本発明）
３２…レリーフパターン
３３…線状突起
４１…ホログラム形成層
４２…反射層
４３…光回折構造体
４４…基材
４５…剥離層
４６…ヒートシール層
４７…粘着層
４８…セパレータ（剥離紙）
４９…脆質層
５１…転写箔
５２…ラベル
５３…脆質ラベル
５４…フィルム
Ｌ…基準線

Claims

ホログラムの干渉縞又は回折格子パターンの格子がレリーフパターンとして記録された透明樹脂層表面において、方向性のある万線又は網点からなるパターンの万線又は網点に対応する位置のレリーフパターンが省かれ、その代わりに一定高さあるいは深さの突起あるいは溝が前記透明樹脂層表面に設けられて凹凸レリーフ構造を構成していることを特徴とする光回折構造体。
前記透明樹脂層表面に設けられた凹凸レリーフ構造上に反射層が設けられていることを特徴とする請求項１記載の光回折構造体。
前記レリーフパターンの面と前記突起あるいは溝の面との間の高さの差が５０ｎｍ以上に設定されていることを特徴とする請求項１又は２記載の光回折構造体。
前記方向性のある万線又は網点からなるパターンが、２つ以上の方向性が異なる万線又は網点からなる領域が並列されたパターンからなることを特徴とする請求項１から３の何れか１項記載の光回折構造体。
前記方向性のある万線又は網点からなるパターン中の少なくとも１つ領域の周囲に縁取り領域が設定され、その縁取り領域における万線又は網点が、その縁取り領域を挟む両側の領域の万線又は網点と方向性が異なるものであることを特徴とする請求項４記載の光回折構造体。