JP2005308592A - 変位検出装置 - Google Patents

変位検出装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005308592A
JP2005308592A JP2004127205A JP2004127205A JP2005308592A JP 2005308592 A JP2005308592 A JP 2005308592A JP 2004127205 A JP2004127205 A JP 2004127205A JP 2004127205 A JP2004127205 A JP 2004127205A JP 2005308592 A JP2005308592 A JP 2005308592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scale
head
heads
difference value
processing circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004127205A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4751032B2 (ja
Inventor
Nobuo Nabeshima
信雄 鍋島
Kayoko Taniguchi
佳代子 谷口
Hideko Kanbara
英子 神原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2004127205A priority Critical patent/JP4751032B2/ja
Priority to TW094112270A priority patent/TWI260395B/zh
Priority to KR1020050032325A priority patent/KR101117241B1/ko
Priority to US11/109,911 priority patent/US7238931B2/en
Priority to DE102005018807.9A priority patent/DE102005018807B4/de
Publication of JP2005308592A publication Critical patent/JP2005308592A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4751032B2 publication Critical patent/JP4751032B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/12Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means
    • G01D5/244Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing characteristics of pulses or pulse trains; generating pulses or pulse trains
    • G01D5/245Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing characteristics of pulses or pulse trains; generating pulses or pulse trains using a variable number of pulses in a train
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/18Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
    • G05B19/402Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by control arrangements for positioning, e.g. centring a tool relative to a hole in the workpiece, additional detection means to correct position
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/26Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
    • G01D5/32Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
    • G01D5/34Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
    • G01D5/347Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
    • G01D5/34746Linear encoders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/37Measurements
    • G05B2219/37112Several scales with one device
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/45Nc applications
    • G05B2219/45031Manufacturing semiconductor wafers

Abstract

【課題】 短いスケールを使用しながらも、1本の長いスケールと同程度の測定長範囲を確保でき、かつベッドの長さを短くできる変位検出装置を提供する。
【解決手段】 ヘッド1及び2がスケール4から検出した複数種類のアナログ周期性信号は処理回路8及び9に供給される。処理回路8及び処理回路9は、クロック端子10から供給される高速のクロックに同期してアナログ周期性信号をサンプリングしてから、現在の位置データと1回前の位置デートとの差分データΔ1及びΔ2を検出する。切り換えスイッチ11は、処理回路8及び処理回路9が検出した差分データΔ1又は差分データΔ2を選択的に切り換える。切り換えスイッチ11は、切り換え制御器12の制御に基づいて差分データΔ1又は差分データΔ2の切り換えを選択的に行う。切り換え制御器12は、スケール位置検出器7からの検出出力に応じて切り換えスイッチ11の切換を制御する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、工作機械や検査装置、さらには半導体製造装置等における相対移動位置を検出するための変位検出装置に関する。
従来より、工作機械や半導体製造装置等の可動部分における相対移動位置を検出する装置として変位検出装置が知られている。この変位検出装置は、一定の波長で信号レベルが変動する周期信号が一定方向に沿って記録されたスケールと、このスケールに記録された周期信号を検出するヘッド部と、ヘッド部から検出された周期信号の信号処理をして位置情報を出力する演算処理部とを備えて構成される。スケール及びヘッド部は、相対移動する2部材の可動部と基準部とに取り付けられる。変位検出装置では、ヘッド部が、2部材の相対移動に応じて、信号レベルが変動する周期信号をスケール検出して、この検出した周期信号を演算処理部に供給する。演算処理部は、ヘッド部が検出した周期信号に基づき、2部材の相対移動位置を示す位置情報を出力する。
従来、変位検出装置としては、スケールとヘッド部が1個づつのものがある。図24は直線移動をする工作機械に設置された変位検出装置の具体例である。工作機械にあって、変位検出装置の1個のヘッド100は、固定部であるベッド101の中央部に後述するスケール102に対向して設置されている。また、スケール102は、左L側から右R側への矢印A、或いは右R側から左L側への矢印Bで示す方向に直線移動する可動部であるテーブル103の長手方向に、ヘッド100に対向して取り付けられている。なお、スケール102とヘッド100には、磁気スケールと磁気変調型磁気ヘッド、或いは光学式のスケールとヘッドが用いられる。
図24(a)はテーブル103がベッド101に対して矢印Bで示す方向に移動し、スケール102が左限界に位置している状態を示している。ヘッド100はスケール102の右端部に対向している。図24(b)はテーブル103が矢印Aで示す方向に移動している途中、ベッド101に対して中央部に位置し、スケール102も中央部に位置している状態を示している。ヘッド100はスケール102の中央部に対向している。図24(c)はテーブル103がベッド101に対してさらに矢印Aで示す方向に移動し、スケール102が右限界に位置している状態を示している。ヘッド100はスケール102の左端部に対向している。図24(d)はスケール102がヘッド100に対して左限界に位置している状態と、スケール102が右限界に位置している状態を重ねて示している。測定長MLに対してベッド101の長さ(ベッド長:BL)は2倍となっている。
また、変位検出装置としては、特開平10−239105号公報に開示されているような、複数の磁気スケールをつなげ、一体構造に組み込まれた2個の磁気トランスジューサを用いて位相変調信号を取り出す構成の磁気スケール装置もある。
図25は上記特許文献1に記載の磁気スケール装置を概略的に示す図である。磁気スケール基板110は、帯状板体上に形成された磁気媒体でなる磁気スケール111に一定波長λの信号が記録されてなる。磁気スケール111に対向して一対の磁気変調型磁気ヘッドより構成した磁気トランスジューサ112がベッドに取り付けられている。
磁気スケール基板113も同様の構成であり、この磁気スケール基板113に対向して一対の磁気変調型磁気ヘッドより構成した磁気トランスジューサ114がベッドに取り付けられている。二つの磁気スケール基板110及び113は、繋ぎあわされて長いスケールとして用いられる。また、二つの磁気トランスジューサ112及び114も一体構造とされ、ヘッド115部を構成している。
二つの磁気トランスジューサ112及び114を構成する各一対の磁気ヘッドには、励磁回路116から励磁信号が供給される。また、二つの磁気トランスジューサ112及び114を構成する各一対の磁気ヘッドは、第1検出回路117、第2検出回路118に接続されている。第1検出回路117及び第2の検出回路118は、各磁気トランスジューサが各磁気スケールとの相対位置変化に応じて取り出した位相変調信号を検出し、該信号に内挿処理を施して出力する。出力回路119は、一方の検出回路からの出力を選別して出力することによって位置情報を得ることができる。
図26は上記磁気スケール装置のスケール基板110及び113の配列と、ヘッド部115を構成する磁気トランスジューサ114及び112の配置関係を示す図である。今、ヘッド部115がスケール基板110に対して相対的に右に向かって移動しているものとすれば、図示の位置では磁気トランスジューサ114と112の両方の出力が使用可能である。従って、例えば、磁気トランスジューサ112の出力を使うように設定しておく。
磁気トランスジューサ112が2枚のスケール基板110、113の繋ぎ部120にさしかかると、該磁気トランスジューサ112からの出力が低下するので、出力回路118により磁気トランスジューサ114からの出力を切り換わる。
更に進んで、今度は磁気トランスジューサ114が繋ぎ部120にさしかかると、該磁気トランスジューサ114からの出力が低下するが、磁気トランスジューサ112は既に繋ぎ部120を通過し、出力が回復しているので、出力回路118は磁気トランスジューサ112からの出力を使うように切り換える。
このように、上記磁気スケール装置は、良好な出力を出している方のトランスジューサから出力を得ることにより、繋ぎ部120における信号の劣化を回避している。
特開平10−239105号
ところで、上記図24に示したスケールとヘッド部が1個づつの変位検出装置では、スケールが長いので、スケール自体の作製が困難になる。スケールに刻む目盛りのピッチは、μm、またnm、或いはpmまでに及ぶ。したがって、長いスケールにあっては、精度良く1本のスケールに目盛りを付けるのは困難であった。また、スケールは気温や湿度などの周囲環境の影響を受けにくい素材によって形成される必要があるので、材質によっては長いスケールだと扱いが難しく、テーブルに設置するの困難であった。また、1本の長いスケールを用いたときには、ベッドの長さを測定長の2倍にしなければならないので変位検出装置を取り付ける工作機械などが大型化してしまうことになる。
また、上記図25に構成を示した上記特許文献1に記載の磁気スケール装置は、ヘッド部115を磁気トランスジューサ112及び114で一体構造にして形成しているので、必ずスケールを複数用いることになる。つまり、スケールが1本でヘッドが複数という構成は不可能であった。
また、位相変調方式であり、一体構造のヘッド部115で正弦波sin、余弦波cosを読み取る構成であり、差分値のサンプリング周期が上げられない。つまり、変調信号を作って、その中の位相のずれにクロックがいくつ入るかを見て移動量を読み取っているので、クロックの周波数を非常に早くしないと高い分解能が得られない。高い分解能を得るには非常に高いクロック周波数が必要になるが、磁気スケール装置ではそれほどクロック周波数を上げることができない。上記位相のずれに入れるクロック周波数を上げられないということは、位相ずれの振幅をサンプリングする周期を狭くできないということなので、信号の歪みの影響を受けやすい。
また、図26に示したように磁気トランスジューサで検出した信号レベルに基づいて出力を用いる磁気トランスジューサを切り換えているので、信号レベルの判定時に例えばコンパレートレベルのばらつきにより、切り換えたときに位置ずれが発生する。スケールの目盛りは理想的には高精度で完全にリニアに刻まれているのが望ましい。また、誤差がある場合でも誤差が目盛りの位置によっても均一であることが望ましい。しかし、実際には目盛りの位置によって図27(a)に示すように目盛りの誤差にはばらつきがある。このような状況で、磁気トランスジューサを切り換えたときに位置ずれが発生すると、図27(b)に示すようにヘッドの相対的な移動方向が逆になったときには、信号レベルにΔという差が出てしまい、再現性が出しにくく誤差になりやすい。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、短いスケールを使用しながらも、1本の長いスケールと同程度の測定長範囲を確保でき、かつベッドの長さを短くできる変位検出装置の提供を目的とする。
また、信号の歪みの影響を受けにくくしながらも、スケール1本で長い測定長を得、かつ切り換え誤差を抑えることができる変位検出装置の提供を目的とする。
本発明に係る変位検出装置は、短いスケールを使用しながらも、1本の長いスケールと同程度の測定長範囲を確保でき、かつベッドの長さを短くできる。このため、スケールを軽くでき、コストを抑えられる。また、スケールを短くするので、汚れやゴミの付着の可能性が長い場合よりも減り、信頼性を上げられる。また、スケールの扱いが容易であり、テーブルへの取り付けを妨げない。また、スケールの作製が容易になる。さらに、ベッドの長さを短くできるので、変位検出装置を取り付ける工作機械などを小型化できる。
また、本発明に係る変位検出装置は、高速な同一クロックでの位置の差分値をスケール信号の1波長以内に検出することで信号の歪みの影響を受けにくくする。また、さらに、外部の切り換え信号を用いることで切り換え誤差を抑えることができる。
以下、本発明のいくつかの実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1は第1の実施の形態の構成を示す図である。図2は第1の実施の形態における1本のスケールと二つのヘッドとの相対位置関係を示す状態図である。第1の実施の形態は、図1及び図2に示すように、1本のスケール4と、2個のヘッド1及び2と、切り換えセンサ7を用いてリニアステージ5等の移動量を検出しフィードバックサーボをかける装置に適用される。例えば、ナノメータnmオーダの移動量を測定する半導体製造、或いは液晶製造等の分野で使用される変位検出装置である。
変位検出装置の2個のヘッド1及び2は、固定部(基準部)であるベッド(図2に示すベッド3)に所定の間隔Dを開けてスケール4に対向して設置されている。また、スケール4は、左L側から右R側への矢印A、或いは右R側から左L側への矢印Bで示す方向に直線移動する可動部であるテーブル5の長手方向に、ヘッド1及び2に対向して取り付けられている。
この変位検出装置は、例えば高精度、高分解能の検出を可能とするために、回折光の干渉を利用して変位を検出する。スケール4としては、例えば反射型或いは透過型の回折格子をホログラム等で作成し、さらに得られた正弦波を分解することでnmオーダの分解を可能とする。スケール4として用いる回折格子は、例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等、または屈折率が分布した格子が目盛りとして所定間隔毎、つまり所定ピッチに刻まれている。もちろん、スケール4として用いる回折格子の種類は限定されるものではなく、機械的に溝等が形成されたもののみならず、例えば、感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成したものであってもよい。
ただし、このスケール4は、例えば薄板状のガラスに上記回折格子を目盛りを例えば4μm、或いは138nmというピッチで刻んで作成される。もちろん、138nmから4μmの他の値で刻んで作成されることもある。このため、スケールのん長さが長いものよりは短いものの方が作成が容易く、取扱いが容易である。さらに、長いものは高価になる。また、長いよりは短いものである方が汚れやゴミの付着の可能性が小さい。このためできれば、スケール4は、長いものよりは短いものを用いるのが好ましい。もちろん、装置の小型化も達成できる。
このようなスケール4は、左L側から右R側への矢印A、或いは右R側から左L側への矢印Bで示す方向に直線移動するテーブル5の長手方向に、ヘッド1及び2に対向して取り付けられているので、ヘッド1とヘッド2はスケール4に対して相対変位可能とされている。
図3は、スケール4とヘッド1及びヘッド2の相対位置を概略的に示す図である。図3(a)はスケール4の左限界を示し、図3(c)はスケール4の右限界を示す。図3(b)はそれぞれのヘッド1及びヘッド2からの信号が有効な位置を示す。図2(a)、図2(b)、図2(c)の状態を簡略化して示す図である。
図3(b)のときに後述する差分値Δ1又は差分値Δ2の切り換えを行うために二つのヘッド1及びヘッド2の間隔はスケール4の長さLよりも短くしている。ヘッド1及びヘッド2はスケール4に対して相対変位可能とされることにより、スケール4に所定ピッチで刻まれた目盛りに応じたアナログの周期性信号を複数種類検出する。
ここでいうアナログの周期性信号とは、例えば正弦波sin、余弦波cosはもちろん、位相のずれた複数の正弦波sin、余弦波cosを示す。本実施例では、ヘッド1及びヘッド2として光学式のヘッドを用いている。
光学式のヘッドは、詳細を後述するが、光を出射する光源と、光源から出射された光を2本のビームに分割するとともにスケール4からの2つの回折光を重ね合わせ干渉させると共に、スケール4の回折格子で回折された回折光を反射する光学系と、干渉した二つの回折光を光電変換して干渉信号を生成するフォトディテクタとを備えてなる。
図1において、ヘッド1がスケール4から検出した複数種類のアナログ周期性信号は処理回路8に供給される。ヘッド2がスケール4から検出した複数種類のアナログ周期性信号は処理回路9に供給される。
処理回路8は、クロック端子10から供給されるクロックに同期して上記アナログ周期性信号をサンプリングする。このクロック端子10から供給されるクロックは、後述する切り換え制御器12や加算回路13に供給されるクロックと同期したクロックで、A/D変換器の分解能、すなわち、A/D変換の量子化単位分、位置検出対象となる工作機械の可動部が移動するのに必要な時間よりも、十分高い周波数のクロックとする。例えば、位置検出対象となる工作機械がA/D変換の量子化単位分移動するのに、最低1μ秒必要という仕様が定められていれば、それよりも十分高い10MHz〜20MHzの速さのサンプリングクロックとする。
そして、処理回路8は、現在のサンプリングデータとなる現在の位置データと1回前(前回)のサンプリングデータとなる1回前の位置デートとの差分データΔ1を検出する。処理回路9も同様にして上記アナログ周期性信号をサンプリングしてから、現在の位置データと1回前(前回)のサンプリングデータとなる1回前の位置デートとの差分データΔ2を検出する。差分データΔ1と差分Δ2は切り換えスイッチ11に供給される。
処理回路8及び処理回路9で上記アナログ周期性信号をサンプリングするのに用いるクロックを高速な同一クロックとする。このため、それぞれの位置データ及びそれぞれの差分値は同時刻のものとなる。よって、後述するような外部の切り換え検出器の状態により選択されるヘッドの差分値を足し込んでインクリメンタルな位置情報Dinkにした場合には切り換え誤差が生じにくくなる。
切り換えスイッチ11は、処理回路8が検出した差分データΔ1又は処理回路9が検出した差分データΔ2を選択的に切り換える。切り換えスイッチ11は、切り換え制御器12の制御に基づいて差分データΔ1又は差分データΔ2の切り換えを選択的に行う。切り換え制御器12は、スケール位置検出器7からの検出出力に応じて切り換えスイッチ11の切換を制御する。
スケール位置検出器7は、例えば光電スイッチからなり、発光側が発した光が受光側に届くのを遮られたときに、例えば“L”を出力し、遮られていないときには“H”を出力する。図1に示したテーブル5上にスケール4の長さと同じ長さで設けられた遮光板6がテーブル5の移動に伴い、上記光を遮ることになる。
スケール位置検出器7としては、上記光電スイッチ以外に、例えばスケール上に基準位置を示す特定ホログラムを記録し、これをヘッド1及び/又はヘッド2で検出しスケール位置検出を行ってもよいし、また、スケール上にインクリメンタル用のホログラム波長λとは異なる波長λ2のホログラムを記録し、これをヘッド1及び/又はヘッド2で検出し、λとλ2の差分値からスケール位置検出を行ってもよい。以下では、光電スイッチを利用することとして説明を続ける。
図4はスケール位置検出器7からの検出出力に基づいて切り換え制御器12が差分データΔ1又は差分データΔ2のどちらを有効にするかを決定する処理を説明するための図である。スケール位置検出器7が“H”を出力するのは、遮光板6によって発光側から受光側に向かう光が遮断されていないとき、すなわち図2(a)に示す状態のときである。スケール位置検出器7が“L”を出力するのは、遮光板6によって発光側から受光側に向かう光が遮断されたとき、すなわち図2(b)に示す状態のときである。
スケール位置検出器7は、スケール4が図2(b)の位置のときに、遮光板6により上記光が遮られるように装置の固定部に固定されている。このため、スケール位置検出器7は、スケール4の長さよりも短い間隔で離間されたヘッド1及びヘッド2が図2の(b)に示すような位置になったときを機械的に正確に検出する。つまり、図4に示したスケール位置検出器出力が“H”から“L”に変化するタイミング変化点Pを再現性を高くして検出できる。もちろん、このタイミング変化点Pは、切り換え制御器12によって正確に検知される。
このとき切り換え制御器12は、切り換えスイッチ11に図4に示す切り換え信号を供給する。これにより、切り換えスイッチ11は、処理回路8が検出した差分データΔ1又は処理回路9が検出した差分データΔ2をスケール位置検出器7の検出出力に基づいて選択的に切り換えることができる。
以下、第1の実施の形態の動作を詳細に説明する。図2の(b)は、ヘッド1及びヘッド2が共に処理回路8及び処理回路9にアナログの周期性信号を出力している状態を示している。このとき、処理回路8及び処理回路9は共に上記差分データΔ1及び差分データΔ2を切り換えスイッチ11に出力している。
上述したように、スケール位置検出器7は、遮光板6によって上記発光側からの光が遮断されずに受光側で受光されてときには“H”を切り換え制御器12に供給する。このためスケール位置検出器7は、例えばスケール4が矢印A方向に移動し、図2(a)の状態から図2(b)の状態に移動したときには、図4に示したように所定時間だけ“H”を出力してから“L”を出力する。
図2(b)の状態からスケールがさらに矢印A方向に図2(c)の状態になるまで移動したときには、スケール位置検出器7は図4に示すように所定時間だけ“L”を継続して出力する。ここでの所定時間は、スケール4の長さと移動速度によって決まる時間である。このため、切り換え制御器12は、スケール4が図2(a)に示すように矢印A方向に移動し始め、図2(b)の状態になったとき、さらには図2(c)の状態になったことを検出できる。さらに、スケール位置検出器7が所定時間出力する“H”及び“L”の順番を検知することによりスケール4の移動方向を知ることもできる。
スケール4が矢印B方向に、図2(c)の状態から図2(a)の状態に移動したときには、スケール位置検出器7は切り換え制御器12に所定時間の“L”から所定時間の“H”に変化する出力を供給する。このため、切り換え制御器12は“L”から“H”に切り換わる図2(b)の状態を検知することができる。もちろん、スケール4の移動方向も知ることができる。
スケール4が矢印A方向に移動し始める図2(a)の状態にあるときは、ヘッド1のみが上記アナログの周期性信号を複数種類検出する。このため、処理回路8のみが上記差分値Δ1を検出して切り換えスイッチ11に供給する。このとき、切り換え制御器12は、スケール位置検出器7が図4に示すように出力する“H”に基づいて切り換え信号を生成して切り換えスイッチ11に供給する。切り換えスイッチ11は、処理回路8からの上記差分値Δ1を選択し後段の加算回路13に供給する。
スケール4がさらに矢印A方向に移動し図2(b)の状態になると、ヘッド1及びヘッド2は共に処理回路8及び処理回路9にアナログの周期性信号を出力するようになる。すると、処理回路8及び処理回路9は共に上記差分データΔ1及び差分データΔ2を切り換えスイッチ11に出力する。このとき、スケール位置検出器7は、上記所定時間の“H”の後に“L”を出力する。この“H”から“L”へのタイミング変化点P(図4に示す)を切り換え制御器12が検知すると、切り換え制御器12は“H”から“L”に変化する切り換え信号を切り換えスイッチ11に供給する。すると、切り換えスイッチ11は、処理回路9からの上記差分値Δ2を選択し、加算回路13に供給する。
この後、スケール4がさらに矢印A方向に移動し図2(c)の状態になるまで、ヘッド2のみが上記アナログの周期性信号を複数種類検出する。このため、処理回路9のみが上記差分値Δ2を検出して切り換えスイッチ11に供給する。切り換えスイッチ11は、上記図2(b)の状態で既に処理回路9側に切り換えられているので、加算器13には上記差分値2が供給され続けることになる。
このようにスケール4が矢印A方向に移動したときは、図2(a)の状態から図2(b)の状態までヘッド1を有効にし、よって処理回路8から差分値Δ1を加算器13に供給し、図2(b)の状態になるとヘッド2を有効にし、よって処理回路9から差分値Δ2を加算器13に供給する。
加算器13は、切り換え制御器12によって選択的に切り換えられて出力された差分値Δ1又は差分値Δ2を先の差分値に足し込んでインクリメンタルな位置情報Dinkを出力する。
次に、図1に示した構成の変位検出装置の一実施例について図5〜図17を参照して説明する。図5はヘッド1及びヘッド2に用いられる光学ヘッドの構成を示す図である。回折格子により得られた回折光の干渉を利用したものである。
構成を大きく分けると、光照射部b、光路制御及び被検部c、受光部dの3つの部分からなっており、各部の構成要素を列挙すると以下のようになる。光照射部半導体レーザー(LS)と、収束レンズ(L1)と、偏光ビームスプリッター(BS1)と、光路制御及び被検部反射ミラー(R1a、R1b)と、反射型回折格子(RG)と、収束レンズ(L2a、L2b)と、λ/4波長板(WP1a、WP1b)と、反射ミラー(R2a、R2b)と、受光部半透過ミラー(HM)と、偏光ビームスプリッター(BS2、BS3)
λ/4波長板(WP2)と、光検出器(PD1〜4)とからなる。
光源である半導体レーザーLSから出射した光は収束レンズL1で収束光になった後、偏光ビームスプリッターBS1により偏光分離されて2つの光(光束LFa、LFb参照。)となり、その一方が反射ミラーR1aにより光路変更を受けて反射型回折格子RGに到達し、他方が反射ミラーR1bにより光路変更を受けて反射型回折格子RGに到達する。尚、ここで「偏光分離」とは、入射光束をP偏光成分とS偏光成分に分離することを意味する。
被検部(リニアスケール等)に付設された反射型回折格子RGにおいて、次数が同一符号(正負が同じ)とされる少なくとも1次より高次の回折をしたそれぞれの光束については、収束レンズL2a、L2bをそれぞれ経てから、回折角に対応した角度位置に配置されたλ/4波長板WP1a、WP1bによりそれぞれの偏光方向が90度回転された後で、反射ミラーR2a、R2bにより反射され、往路と同じ光路を逆方向に辿って偏光ビームスプリッターBS1に達する。
偏光ビームスプリッターBS1に達した光は、各々がその偏光方向を元の方向に対して90度回転した状態となっているため、往路での入射方向とは異なる方向に出射されて半透過ミラーHMに向かう。そして、半透過ミラーHMに達した光束については光量が2分され、分かれた光の一方が偏光ビームスプリッターBS3に達し、他方の光がλ/4波長板WP2を通過した後に偏光ビームスプリッターBS2に達する。
尚、偏光ビームスプリッターBS3の取付姿勢に関しては、その光軸を中心に、到達した光束の偏光方向に対し約45度の角度をもって光軸回りに回転された配置とされている。
偏光ビームスプリッターBS2で偏光分離された光束については、光検出器PD1やPD2にそれぞれ到達し、光強度が電気量に変換される。また、偏光ビームスプリッターBS3で偏光分離された光束については光検出器PD3やPD4にそれぞれ到達し、光強度が電気量に変換される。
このヘッド1及びヘッド2は、以下の通りに動作する。先ず、偏光ビームスプリッターBS1で分離された、異なる偏光方向(あるいは偏光状態)をもつ2つの光束LFa、LFbについて、反射型回折格子RGで反射回折することにより同一符号の回折光となるとともに、λ/4波長板WP1a、WP1b及び反射ミラーR2a、R2bにより、往路とは偏光方向が略90度回転した光束として偏光ビームスプリッターBS1に戻されて混合される。その際、混合された2つの光束は、同一の偏光成分をもつ光源LSから2分されたものであることから、両者の光は異なる偏光方向であっても干渉を生じる。
また、ヘッド1及びヘッド2には、図6に示す構成の受発光複合ユニットを用いてもよい。この受発光複合ユニットは特開2002−228412に開示されているように格子干渉型変位検出装置に適用される。
図6からも判るように光学系の構成部品の大半部が受発光複合ユニット200内に収められており、当該ユニット内で偏光分離されてから外部に出射した2つの光束LFa、LFbについては、外部光学系ETを構成する第1の反射部材(反射鏡R1a、R1b)にそれぞれ到達して光路変更を受ける。尚、これら反射部材は、受発光複合ユニット200から出射された光をスケール4として用いられる反射型回折格子RG、例えば、回折効率の高いホログラム格子(体積型位相ホログラム等)に向けて反射させるために必要なものである。
スケール4として用いられる反射型回折格子RGに到達する各光は、近い距離で当該格子に投入され(格子内の光路長の差を小さくして、原信号の波長に誤差が生じ難くするため。)、ここで1次以上の次数で回折した後、収束レンズL2a、L2bをそれぞれ介して偏光部材(λ/4波長板WP1a、WP1b)及び第2の反射部材(反射鏡R2a、R2b)へと達する。つまり、光束LFaについては反射型回折格子RGでの回折の後に、λ/4波長板WP1aを経て反射鏡R2aに到達し、また、光束LFbについては反射型回折格子RGでの回折の後に、λ/4波長板WP1bを経て反射鏡R2bに到達する。尚、これらのλ/4波長板WP1a、WP1bについては、反射型回折格子RGによる回折光を受けて偏光状態を変える役割をもっており、偏光方向を90度回転させるものである。また、反射鏡R2a、R2bは、偏光状態を変えられた光に対して、これを反射させて逆方向に戻す役割をもっており、反射された各光は、往路を逆に辿って受発光複合ユニット200にそれぞれ達する(ユニットへの戻り光となる。)。受発光複合ユニット200は、光源、光分岐部、偏光部、受光部をまとめて同一部材(収容部材201を参照。)に配設することで一体化した構造に形成されている。
図7は処理回路8及び処理回路9に適用できる具体例を示す構成図である。例えばヘッド1から出力される上記アナログ信号は90°位相の異なる周期性信号であり、それらの周期性信号はsin(正弦波)とcos(余弦波)の関係になっている。処理回路8は、入力端子61及び入力端子62から入力されるヘッド1からの上記アナログ信号の振幅値をA/D変換器63及びA/D変換器64で高速のクロックでサンプリングしてディジタル化し、それらのディジタル化された信号を象限変換器65に供給する。象限変換器65は、ディジタル化した信号値の最上位ビットからその信号の1周期を4象限に分割してどの象限に対応するかを識別し、それ以外のビットでアドレス指定して、ルックアップ・テーブル66から1象限分の内挿データを読み出し、これを補正回路67により、各象限に合うようにデータ値の入れ替え、反転を行って、補正された出力を差分算出器68に送る。差分算出器68は、上記補正された出力を用いて現在の位置データと1回前(前回)のサンプリングデータとなる1回前の位置データとの差分データΔ1を検出する。
図8は、上述の正弦波および余弦波で与えられる周期性信号の性質を説明したもので、横軸をx軸とし、縦軸をy軸として、xy座標の原点の周りに円を描き、その円の半径をrとし、回転角をωとすれば、
y=rsinωt
x=rcosωt
の関係があるので、縦軸にsin、横軸にcosの値をとってある。
同図において、I,II,III,IVは第1〜第4象限を表しており、I象限、II象限は夫々IV象限、III象限とx軸に関して対称であるからそれらの組は同じxの値を持つ。同様にして、I象限、IV象限は夫々II象限、III象限とy軸に関して対称であり、それぞれ同じyの値を持つ。
そこで、図示のとおり、II及びIII象限のxの値を000から1FFに定め、IおよびIV象限のxの値を200から3FFにとり、IV及びIII象限のyの値を000から1FFに定め、I及びII象限のyの値を200から3FFに定めることができる。
I象限のx,yの値とII象限のx,yの値を比較すると、yに関しては、I象限、II象限とも200〜3FFであり、xに関しては、I象限が200〜3FFで、II象限が000〜1FFである。従って、最上位ビットを除いて、全てのビットが同じ(000〜1FF)になっており、II象限はI象限で置換できることを表している。
同様にして、III象限、IV象限についても、夫々、xの値が000〜1FF、yの値が000〜1FF、xの値が200〜3FF、yの値が000〜1FFとなっているので、I象限で置換できることを表している。図9はこれらを代表する1つの象限をディジタル符号に対応させて表したものである。
図10、図11は図9に示す1象限の内挿データの具体的数値例を示したもので、図10はA/B相の場合、図11は2ビットグレーコードの場合を示している。これらの具体的な数値は本発明の要部ではないので、これ以上の説明は省略して、図9の略式図を使って説明する。
図9に示す1/4円はアドレス値が左から右へ、下から上へ大きくなるような配列であるから、I象限についてはこのまま適用できるが、II象限についてはROMに記憶された値をそのまま使用することはできず、図12に示す様な変換を行う必要がある。
図12において、(a)はROMに記憶された基本データで、これをI象限とすると、II象限を時計回りに90°回転したものはI象限と等価であるから、図12の(b)のように表せるが、この時縦軸は上から下へ数値が大きくなる順序で数値が並んでいるので、これを反転しなければならない。また、(a)では横軸がCOS、縦軸がSINであるが、(b)では、横軸がSIN、縦軸がCOSとなるので、これも入れ替えなければならない。また、III象限を180°回転したものはI象限と等価であるから、図12の(c)のように表せるが、縦軸も横軸も数値の増加方向が図12の(a)と逆になっているので、それらを反転しなければならない。
IV象限を270°回転したものはI象限と等価であるから図12の(d)の様に表せるが横軸の数値の増加方向が図12(a)の場合と逆になっているのでこれを反転する必要がある。また、(a)では横軸がCOS、縦軸がSINであるが、(d)では、横軸がSIN、縦軸がCOSとなるので、これも入れ替えなければならない。以上は、各象限における数値の絶対値についての説明であるが、これらの4つの象限を区別するための符号ビットとして最上位ビットが与えられる。
図13は、この様子を表したものである。同図表中、scはsinとcosの最上位ビットを表し、I〜IV象限に対応して11〜01となっている。また、下位アドレス、上位アドレスの欄に上横線を引いた値は補数値(反転値)を表している。
図7に示した処理回路8の具体例は、sin、cosの1周期分(360°)の内挿データを1/4周期(90°)のデータで代行させることが目的である。例として、sinとcosのデータ長が符号無し10ビットで、このデータをxy平面に配置したときにできるリサージュ(図8参照)の場合について考えると、このリサージュ上の第1象限(図9参照)だけで、他の象限を代行させるために、sinとcosのデータの最上位ビットを使い各象限毎にsinとcosのデータの最上位ビットを取り除いたデータをそれぞれ最上位ビットが0の時反転を行い偶数の象限ではsinとcosのデータを入れ替え、第1象限のデータの増減方向と一致する様に変換して第1象限のルックアップ・テーブルROMの下位アドレスと上位アドレスに振り分ける。
この例では、データ長が10ビット(000〜3FF)なので下位9ビット(000〜1FF)を反転し、入れ替えを最上位ビットの状態に基いて行う(図12参照)。また、この例の真理値表を図14に示す。なお、ルックアップ・テーブルROMの内挿データと下位アドレス、上位アドレスとの関係は次式による。但し、本例ではX軸を上位アドレス、Y軸を下位アドレスとしているが、逆であっても良い。
内挿データ=arctan(下位アドレス/上位アドレス)・内挿数/2π
但し、下位アドレス≧上位アドレス又は
内挿データ=内挿数/4−arctan(上位アドレス/下位アドレス)・内挿数/2π
但し、下位アドレス<上位アドレス
この状態で得られる内挿データは、例えば、1周期移動したとしても、0〜1/4周期のデータが4回出力されるだけなので、1周期分のデータを得るにはオフセットを象限毎に加算すればよい。
図15は上記差分値Δ1を算出するための差分算出器68の構成を示す回路図である。1周期分のデータをサンプル毎に保持し、1サンプル前のデータと比較し減算することで、差分値を得ている。同図の回路に於いて、入力位置データは端子71に供給され、端子72に供給されるサンプリングクロックによって、フリップフロップF/F73に取り込まれる。従って、F/F73の出力は1サンプル前のデータを表している。
現在のデータ値と前回のデータ値が減算器74で減算されて、その出力にリサージュ上の移動方向の反時計回り方向の差を出力し、同様に減算器75で現在データと前回データが減算されて時計方向の差信号を出力する。減算器74の出力は比較回路76の一入力に印加され、他の入力に印加される最大差分値と比較され、最大差分値より大きければハイレベル出力を出して、アンド回路74の一方の入力をオンにする。
同様にして、減算器75の出力は比較回路82の一入力に印加され、他の入力に印加される最大差分値と比較される。減算器75からの差信号が最大差分値よりも大きければ比較器82の出力はハイレベルとなり、アンド回路84のもう一つの入力がオンになるので、アンド回路84の出力にエラー信号が出力される。
上記差信号が最大差分値を越えない範囲であれば、比較器76,82の出力はローレベルにあるので、アンド回路78,79の出力がオンになってオア回路80の出力端子81からは差分値が出力される。この時比較器82の出力は時計方向の差分を示しているので、それを出力端子83から出力することで、方向の指示ができる。
次に、図1における加算回路13の具体例について説明する。図16は加算回路13の具体例の構成を示す図である。図示のとおり、入力端子91に入力する方向信号に従って、差分算出器の出力から供給されて端子92に入力する差分値を加算器93に入力し、フリップフロップ94にセットされた前回値と累積加算すれば、出力端子95にはインクリメンタルな位置情報Dinkが出てくる。
なお、処理回路9についても同様の構成を採ることができる。また、処理回路8及び処理回路9としては、図7〜図16を用いて説明したルックアップテーブルを用いる構成に限定されるものではなく、アークタンジェントtan−1θで演算する構成を適用することもできる。
また、図7に示した構成にあって、象限変換器65の前に補正回路を、また差分算出器68の前にデジタルフィルタを入れてもよい。このような構成にすることにより、処理回路8及び処理回路9は差分値の検出精度を高めることができる。
このように、第1の実施の形態の変位検出装置は、スケール4として反射型或いは透過型の回折格子をホログラム等で作成したものを用いている。回折格子は例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等、または屈折率が分布した格子が目盛りとして所定間隔毎、つまり所定ピッチに刻まれている。
また、ヘッド1及びヘッド2としては、図5又は図6に示す構成の受発光部を有する光学ヘッドを用いている。
図17(a)及び図17(b)に示すように、従来のスケール102の長さL1に対し、本実施の形態で用いているスケール4の長さは半分ほどであり、L2=1/2・L1という関係になるが、2個のヘッド1及びヘッド2を用いることにより、測定長ML1及びML2は同一であり、ベッド長はBL1よりも短いBL2とすることができる。本実施例の固定部であるベッドの長さBL2は、従来のスケール102を用いた変位検出装置のベッド長BL1が測定長ML1の2倍であるのに対し、測定長ML2+(測定長ML2/2)で済む。
よって、図1に構成を示した変位検出装置は、同じ測定長範囲である場合には、スケール1本でヘッド1個を用いていた従来の装置よりも、ヘッドを2個に増やしはするが従来のスケールよりも短いスケール4を用いることができるので、スケールを軽量化できる。また、コストを抑えられる。また、汚れ、ゴミの付着する確率が小さくなるので信頼性を上げられる。また、スケールの扱いが容易になり、かつスケールの作製が容易になる。また、ベッドの長さも短くすることができる。
また、処理回路8及び処理回路9では高速な同一クロックを用いているので、それぞれの位置データ及びそれぞれの差分値は同時刻のものとなり、インクリメンタルな位置情報Dinkを生成したときには切り換え誤差が生じにくくなる。また、位置データ及び差分値の分解能をインクリメンタルデータの変位量分解能よりも十分高くするので、より切り換え誤差を減らすことも可能である。
図18は第2の実施の形態の構成を示す図である。図19は第2の実施の形態における1本のスケールと三つのヘッドとの相対位置関係を示す図である。第2の実施の形態は、図18及び図19に示すように、1本のスケール24と、3個のヘッド21、ヘッド22及びヘッド23と、切り換えセンサ27及び28を用いてリニアステージ25等の移動量を検出しフィードバックサーボをかける装置に適用される。第1の実施の形態と同様に、ナノメータnmオーダの移動量を測定する半導体製造、或いは液晶製造等の分野で使用される変位検出装置である。
変位検出装置の3個のヘッド21、ヘッド22及びヘッド23は、固定部であるベッド(図19に示すベッド29)に所定の間隔D1、D2を開けてスケール24に対向して設置されている。また、スケール24は、左L側から右R側への矢印A、或いは右R側から左L側への矢印Bで示す方向に直線移動する可動部であるテーブル25の長手方向に、ヘッド21、ヘッド22及びヘッド23に対向して取り付けられている。
スケール24は第1の実施の形態で用いたスケール4と同様に、例えば反射型或いは透過型の回折格子をホログラム等で作成し、さらに得られた正弦波を分解することでnmオーダの分解を可能とする。したがって、スケール24として用いる回折格子も、例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等、または屈折率が分布した格子が目盛りとして所定間隔毎、つまり所定ピッチに刻まれている。もちろん、スケール24として用いる回折格子の種類は限定されるものではなく、機械的に溝等が形成されたもののみならず、例えば、感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成したものであってもよい。
スケール24も、スケール4と同様に、例えば薄板状のガラスに上記回折格子を目盛りを4μmから138nmというピッチで刻んで作成される。このため、長いものよりは短いものの方が作成が容易く、取扱いが容易である。さらに、長いものは高価になる。また、長いよりは短いものである方が汚れやゴミの付着の可能性が小さい。このためできれば、スケール24は、長いものよりは短いものを用いるのが好ましい。もちろん、装置の小型化も達成できる。
このようなスケール24は、左L側から右R側への矢印A、或いは右R側から左L側への矢印Bで示す方向に直線移動するテーブル25の長手方向に、ヘッド21、ヘッド22及びヘッド23に対向して取り付けられているので、ヘッド21、ヘッド22及びヘッド23もスケール24に対して相対変位可能とされている。
図20は、スケール24とヘッド21、ヘッド22及びヘッド23の相対位置を概略的に示す図である。後述する差分値Δ1、差分値Δ2又は差分値Δ3の切り換えを行うために三つのヘッド21、ヘッド22及びヘッド23の内の隣合う二つの間隔(ヘッド21とヘッド22との間隔D1、ヘッド22とヘッド23との間隔D2)はスケール24の長さLよりも短くしている。ヘッド21、ヘッド22及びヘッド23は、スケール24に対して相対変位可能とされることにより、スケール24に所定ピッチで刻まれた目盛りに応じたアナログの周期性信号を複数種類検出する。ここでいうアナログの周期性信号とは、上述したように、例えば正弦波sin、余弦波cosはもちろん、位相のずれた複数の正弦波sin、余弦波cosを示す。この実施の形態でも、ヘッド21、ヘッド22及びヘッド23として光学式のヘッドを用いている。
図18において、ヘッド21がスケール24から検出した複数種類のアナログ周期性信号は処理回路30に供給される。ヘッド22がスケール24から検出した複数種類のアナログ周期性信号は処理回路31に供給される。ヘッド23がスケール24から検出した複数種類のアナログ周期性信号は処理回路32に供給される。
処理回路30は、クロック端子36から供給される例えば10MHz又は20MHzの高速のクロックに同期して上記アナログ周期性信号をサンプリングする。この高速のクロックは、10MHz〜20MHzの内のいずれかであっても構わない。
そして、処理回路30は、現在のサンプリングデータとなる現在の位置データと1回前(前回)のサンプリングデータとなる1回前の位置デートとの差分データΔ1を検出する。処理回路31及び処理回路32も同様にして上記アナログ周期性信号をサンプリングしてから、現在の位置データと1回前(前回)のサンプリングデータとなる1回前の位置デートとの差分データΔ2及び差分データΔ3を検出する。差分データΔ1、差分データΔ2及び差分データΔ3は切り換えスイッチ34に供給される。
処理回路30、処理回路31及び処理回路32で上記各アナログ周期性信号をサンプリングするのに用いるクロックを高速な同一クロックとすることにより、それぞれの位置データ及びそれぞれの差分値は同時刻のものとなる。よって、後述するような外部の切り換え検出器の状態により選択されるヘッドの差分値を足し込んでインクリメンタルな位置情報Dinkにした場合には切り換え誤差が生じにくくなる。
切り換えスイッチ34は、処理回路30が検出した差分データΔ1、処理回路31が検出した差分データΔ2又は処理回路32が検出した差分データΔ3を選択的に切り換える。切り換えスイッチ34は、切り換え制御器33の制御に基づいて差分データΔ1、差分データΔ2又は差分データΔ3の切り換えを選択的に行う。切り換え制御器33は、ヘッド21、ヘッド22及びヘッド23に対してスケール24が所定の位置に達したことを検出するスケール位置検出器27及びスケール位置検出器28からの検出出力に応じて切り換えスイッチ34の切換を制御する。
スケール位置検出器27及びスケール位置検出器28は、第1の実施の形態で用いたスケール位置検出スイッチ7と同様に例えば光電スイッチからなり、図18に示したテーブル25上にスケール24の長さと同じ長さで設けられた遮光板26によって、発光側が発した光が受光側に届くのを遮られたときに、例えば“L”を切り換え制御器33に出力し、遮られていないときには“H”を出力する。
図20には、スケール位置検出器27及びスケール位置検出器28からの検出出力に基づいて切り換え制御器34が差分データΔ1、差分データΔ2又は差分データΔ3の何れを有効にするかを決定するための切り換え信号も示している。
スケール位置検出器27が“H”を出力するのは、遮光板26によって発光側から受光側に向かう光が遮断されていないとき、すなわち図19(a)に示す状態のときである。スケール位置検出器27が“L”を出力するのは、遮光板26によって発光側から受光側に向かう光が遮断されたとき、すなわち図19(b)に示す状態のときである。
スケール位置検出器27は、スケール24が図19(b)の位置のときに、遮光板26により上記光が遮られるように装置の固定部に固定されている。このため、スケール位置検出器27は、スケール24の長さLよりも短い間隔D1で離間されたヘッド21及びヘッド22が図19の(b)に示すような位置になったときを機械的に正確に検出する。つまり、図20に示したスケール位置検出器27出力が“H”から“L”に変化するタイミング変化点P1を再現性を高くして検出できる。もちろん、このタイミング変化点P1は、切り換え制御器33によって正確に検知される。
このとき切り換え制御器33は、切り換えスイッチ34に図20に示す切り換え信号を供給する。これにより、切り換えスイッチ34は、処理回路31が検出した差分データΔ2を処理回路30が検出した差分データΔ1から選択的に切り換えて加算回路35に出力する。
スケール位置検出器28が“H”を出力するのは、遮光板26によって発光側から受光側に向かう光が遮断されていないとき、すなわち図19(a)及び図19(b)に示す状態のときである。スケール位置検出器28が“L”を出力するのは、遮光板26によって発光側から受光側に向かう光が遮断されたとき、すなわち図19(c)に示す状態のときである。
スケール位置検出器28は、スケール24が図19(c)の位置のときに、遮光板26により上記光が遮られるように装置の固定部に固定されている。このため、スケール位置検出器28は、スケール24の長さLよりも短い間隔D2で離間されたヘッド22及びヘッド23が図19(c)に示すような位置になったときを機械的に正確に検出する。つまり、図20に示したスケール位置検出器28出力が“H”から“L”に変化するタイミング変化点P2を再現性を高くして検出できる。もちろん、このタイミング変化点P2は、切り換え制御器33によって正確に検知される。
このとき切り換え制御器33は、切り換えスイッチ34に図20に示す切り換え信号を供給する。これにより、切り換えスイッチ34は、処理回路32が検出した差分データΔ3を処理回路31が検出した差分データΔ2から選択的に切り換えて加算回路35に出力する。
以下、第2の実施の形態の動作を詳細に説明する。図19(b)は、ヘッド21及びヘッド22が共に処理回路30及び処理回路31にアナログの周期性信号を出力している状態を示している。このとき、処理回路30及び処理回路31は共に上記差分データΔ1及び差分データΔ2を切り換えスイッチ34に出力している。
上述したように、スケール位置検出器27は、遮光板26によって上記発光側からの光が遮断されずに受光側で受光されてときには“H”を切り換え制御器33に供給する。このためスケール位置検出器27は、例えばスケール24が矢印A方向に移動し、図19(a)の状態から図19(b)の状態に移動したときには、図20に示したように所定時間だけ“H”を出力してから“L”を出力する。
図19(b)の状態からスケール24さらに矢印A方向に図19(c)の状態になるまで移動したときには、スケール位置検出器27は図20に示すように所定時間だけ“L”を継続して出力する。ここでの所定時間は、スケール24の長さと移動速度によって決まる時間である。このため、切り換え制御器33は、スケール24が図19(a)に示すように矢印A方向に移動し始め、図19(b)の状態になったとき、さらには図19(c)の状態になったことを検出できる。さらに、スケール位置検出器27が所定時間出力する“H”及び“L”の順番を検知することによりスケール24の移動方向を知ることもできる。
また、スケール位置検出器28も、遮光板26によって上記発光側からの光が遮断されずに受光側で受光されてときには“H”を切り換え制御器33に供給する。このためスケール位置検出器28は、例えばスケール24が矢印A方向に移動し、図19(a)の状態から図19(c)の状態に移動したときには、図20に示したように所定時間だけ“H”を出力してから“L”を出力する。
図19(c)の状態からスケール24がさらに矢印A方向に図19(d)の状態になるまで移動したときには、スケール位置検出器28は図20に示すように所定時間だけ“L”を継続して出力する。ここでの所定時間は、スケール24の長さと移動速度によって決まる時間である。このため、切り換え制御器33は、スケール24が図19(a)に示すように矢印A方向に移動し始め、図19(b)の状態になったとき、さらには図19(c)の状態になったことを検出できる。さらに、スケール位置検出器28が所定時間出力する“H”及び“L”の順番を検知することによりスケール24の移動方向を知ることもできる。
このようにスケール24が矢印A方向に移動したときは、図19(a)の状態から図19(b)の状態までヘッド21を有効にし、よって処理回路30から差分値Δ1を加算器35に供給し、図19(b)の状態になるとヘッド22を有効にし、よって処理回路31から差分値Δ2を加算器35に供給する。また、図19(b)の状態からヘッド22を有効にした状態で図19(c)の状態になるとヘッド23を有効にし、図19(d)の状態までヘッド23を有効にし続ける。
加算器35は、切り換え制御器33によって選択的に切り換えられて出力された差分値Δ1、差分値Δ2又は差分値Δ3を先の何れかの差分値に足し込んでインクリメンタルな位置情報Dinkを出力する。
ヘッド21〜ヘッド23には、上記図5及び図6の構成の光学ヘッドを用いることができるがそれらに限定されるものではない。また、処理回路30〜処理回路32には、図7〜図16を用いて説明したルックアップテーブルを用いる構成を採ることができるがそれに限定されるものではない。また、加算回路35には、図16を用いた構成を採ることができるがそれに限定されるものではない。
このように、第2の実施の形態の変位検出装置は、スケール24として反射型或いは透過型の回折格子をホログラム等で作成したものを用いている。回折格子は例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等、または屈折率が分布した格子が目盛りとして所定間隔毎、つまり所定ピッチに刻まれている。
従来のスケール102の長さL1に対し、第2の実施の形態で用いているスケール24の長さは半分ほどであるが、3個のヘッド21、ヘッド22及びヘッド23を用いることにより、測定長を1.5倍にでき、ベッド長は短くすることができる。
よって、図18に構成を示した変位検出装置は、スケール1本でヘッド1個を用いていた従来の装置よりも、ヘッドを3個に増やしはするが従来のスケールよりも短いスケール24を用いて測定長を長くすることができるので、スケールを軽量化できる。また、コストを抑えられる。また、汚れ、ゴミの付着する確率が小さくなるので信頼性を上げられる。また、スケールの扱いが容易になり、かつスケールの作製が容易になる。また、ベッドの長さも短くすることができる。
また、処理回路30〜処理回路31では高速な同一クロックを用いているので、それぞれの位置データ及びそれぞれの差分値は同時刻のものとなり、インクリメンタルな位置情報を生成したときには切り換え誤差が生じにくくなる。また、位置データの分解能をインクリメンタルデータの分解能よりも高くすることで、より切り換え誤差を減らすことも可能である。
なお、第2の実施の形態では、3個のヘッドを用いたが、隣合う2個のヘッドがスケール24の長さよりも短ければ、4個、5個、或いは6個以上を用いてもよい。隣合う2個のヘッドに対してスケール24は、所定の位置に達したことを検出する構成を採ることはもちろんである。
次に、図21及び図22を参照して第3の実施の形態について説明する。図21は第3の実施の形態で用いる、離間した2個のヘッド31及びヘッド32と、離間した3本のスケール33、スケール34及びスケール35との関係を示す図である。図22は固定側であるベッド36に取り付けた2個のヘッド31及びヘッド32に対して可動するテーブル37に離間して取り付けた3本のスケール33、スケール34及びスケール35の状態を時系列的に示す図である。スケール33、スケール34及びスケール35と同じ長さで形成した遮光板38、遮光板39及び遮光板40によって光が遮られることによってスケール位置検出器41がスケール位置を検出している状態変化も示している。
図21に示す3本のスケール33、スケール34及びスケール35は、長さが同じでありよって測定長Lも同一である。隣合う2個のヘッドは、スケールの測定長Lよりも短い間隔D(D<L)で離間されている。また、3本のスケール33、スケール34及びスケール35の内の隣合う2本のスケールは、隣合う2個のヘッドの間隔Dよりも短い間隔d(d<D)で離間されている。これをまとめると、隣合うヘッドの間隔Dと隣合うスケールの間隔dは、1本のスケールの長さLより短くなるように配置している。さらに、隣合うスケールの間隔dは隣合うヘッドの間隔Dよりも短くしている。このため、図22に示すスケール位置検出器41の検出出力に基づいて二つのヘッド31又はヘッド32を切り換えればヘッドが有効な信号を連続的に出し続けることができる。
ヘッド31及びヘッド32は、第1の実施の形態の変位検出装置における図1に示した処理回路8及び処理回路9にそれぞれ複数種類のアナログ周期性信号を供給する。処理回路8及び処理回路9以降の構成は図1に示しているのでここでは説明を省略する。ただし、図1に示した切り換え制御器12は、スケール位置検出器41の検出出力に基づいて切り換えスイッチ11の切換を制御する。
スケール位置検出器41も、例えば光電スイッチからなり、発光側が発した光が受光側に届くのを遮られたときに、例えば“L”を出力し、遮られていないときには“H”を出力する。図22に示したテーブル37上に、図21に示す間隔dで配置された長さLのスケール33、スケール34及びスケール35の長さと同じ長さL及び間隔dで設けられた遮光板38、遮光板39及び遮光板40がテーブル37の移動に伴い、上記光を遮ることになる。
スケール位置検出器41は、スケール33が図22(a)〜図22(b)の位置のとき、スケール34が図22(c)〜図22(d)の位置のとき、スケール35が図22(e)〜図22(f)の位置のときに、遮光板38、遮光板39、遮光板40により上記光が遮られるように装置の固定部に固定されている。
このため、スケール位置検出器41は、テーブル37が右限界に位置する図22(a)の状態から矢印B方向に移動するとき、スケール33、34及び35の長さLよりも短い間隔Dで離間されたヘッド31及びヘッド32が、スケール33、34及び35に対して相対的に図22(b)、(d)、(f)に示す位置になったときを機械的に正確に検出する。つまり、スケール位置検出器41の検出出力が“L”から“H”に変化するタイミング変化点を再現性を高くして検出できる。このタイミング変化点は、切り換え制御器12によって検知される。
このとき切り換え制御器12は、切り換えスイッチ11に切り換え信号を供給する。これにより、切り換えスイッチ11は、処理回路8が検出した差分データΔ1又は処理回路9が検出した差分データΔ2をスケール位置検出器41の検出出力に基づいて選択的に切り換えることができる。
以下、第3の実施の形態の動作を詳細に説明する。図22の(b)は、ヘッド31及びヘッド32が共に処理回路8及び処理回路9にアナログの周期性信号を出力している状態を示している。このとき、処理回路8及び処理回路9は共に上記差分データΔ1及び差分データΔ2を切り換えスイッチ11に出力している。
上述したように、スケール位置検出器41は、遮光板38、39及び40によって上記発光側からの光が遮断されたときには“L”を切り換え制御器12に供給し、遮断されないときには“H”を出力する。このためスケール位置検出器41は、例えばテーブル37の移動に伴いスケール33が矢印B方向に移動し、図22(a)の状態から図22(b)の状態に移動したときには、所定時間だけ“L”を出力する。
図22(b)の状態からテーブル37の移動に伴いスケール33がさらに矢印B方向に図22(c)の状態になるまで移動したときには、スケール位置検出器41はスケール33とスケール34間の距離dに対応する所定時間だけ“H”を出力する。ここでの所定時間は、スケール間の距離dと移動速度によって決まる時間である。このため、切り換え制御器12は、テーブル37が図22(a)に示すように矢印B方向に移動し始め、図22(b)の状態になったとき、さらには図22(c)の状態になったことを検出できる。さらに、スケール位置検出器41が所定時間出力する“L”及び“H”の順番を検知することによりテーブル37の移動方向を知ることもできる。
上記テーブル37の移動に伴ってスケール34が図22(c)から図22(d)の状態に移動するとき、さらにスケール35が図22(e)から図22(f)の状態に移動するときも同様に切り換え制御器12は、“L”から“H”に変化するタイミングを検知できるので、図22(d)の状態、図22(f)の状態になったことを検出できる。もちろん、スケール位置検出器41が所定時間出力する“L”及び“H”の順番を検知することによりテーブル37の移動方向を知ることもできる。
スケール33が矢印B方向に移動し始める図22(a)の状態にあるときは、ヘッド32のみが上記アナログの周期性信号を複数種類検出する。このため、処理回路9のみが上記差分値Δ2を検出して切り換えスイッチ11に供給する。このとき、切り換え制御器12は、スケール位置検出器41が出力する“L”に基づいて切り換え信号を生成して切り換えスイッチ11に供給する。切り換えスイッチ11は、処理回路9からの上記差分値Δ2を選択し後段の加算回路13に供給する。
スケール33がさらに矢印B方向に移動し図22(b)の状態になると、ヘッド32及びヘッド31は共に処理回路9及び処理回路8にアナログの周期性信号を出力するようになる。すると、処理回路9及び処理回路8は共に上記差分データΔ2又は差分データΔ1を切り換えスイッチ11に出力する。このとき、スケール位置検出器41は、上記所定時間の“L”の後に“H”を出力する。この“L”から“H”へのタイミング変化点Pを切り換え制御器12が検知すると、切り換え制御器12は“L”から“H”に変化する切り換え信号を切り換えスイッチ11に供給する。すると、切り換えスイッチ11は、処理回路8からの上記差分値Δ1を選択し、加算回路13に供給する。
この後、スケール33がさらに矢印B方向に移動し図22(c)の状態になるまで、ヘッド31のみが上記アナログの周期性信号を複数種類検出する。このため、処理回路8のみが上記差分値Δ1を検出して切り換えスイッチ11に供給する。切り換えスイッチ11は、上記図22(b)の状態で既に処理回路8側に切り換えられているので、加算器13には上記差分値1が供給され続けることになる。
このようにスケール33が矢印B方向に移動したときは、図22(a)の状態から図22(b)の状態までヘッド32を有効にし、よって処理回路9から差分値Δ2を加算器13に供給し、図22(b)の状態になるとヘッド31を有効にし、よって処理回路8から差分値Δ1を加算器13に供給する。
さらにテーブル37が矢印B方向に移動すると、スケール位置検出器41は“H”から“L”へ検出出力を変化する。この“H”から“L”への変化タイミングを切り換え制御器12が検知すると、切り換え制御器12は切り換えスイッチ11を差分値Δ1から差分値Δ2を選択するように切り換える。すなわち、有効にするヘッドをヘッド31からヘッド32に切り換える。ヘッド31とヘッド32間の距離Dは、スケール33とスケール34間の距離dよりも広いので、差分値Δ1から差分値Δ2への切り換えは連続的に行われる。
この後、スケール34が矢印B方向に移動し始めると、ヘッド32のみが上記アナログの周期性信号を複数種類検出する。このため、処理回路9のみが上記差分値Δ2を検出して切り換えスイッチ11に供給する。このとき、切り換え制御器12は、スケール位置検出器41が出力する“L”に基づいて切り換え信号を生成して切り換えスイッチ11に供給する。切り換えスイッチ11は、処理回路9からの上記差分値Δ2を選択し後段の加算回路13に供給する。
スケール34がさらに矢印B方向に移動し図22(d)の状態になると、ヘッド32及びヘッド31は共に処理回路9及び処理回路8にアナログの周期性信号を出力するようになる。すると、処理回路9及び処理回路8は共に上記差分データΔ2及び差分データΔ1を切り換えスイッチ11に出力する。スケール34が図22(d)の状態から更に矢印B方向に移動すると、スケール位置検出器41は、上記所定時間の“L”の後に“H”を出力する。この“L”から“H”へのタイミング変化点Pを切り換え制御器12が検知すると、切り換え制御器12は“L”から“H”に変化する切り換え信号を切り換えスイッチ11に供給する。すると、切り換えスイッチ11は、処理回路8からの上記差分値Δ1を選択し、加算回路13に供給する。
この後、スケール34がさらに矢印B方向に移動し図22(e)の状態になるまで、ヘッド31のみが上記アナログの周期性信号を複数種類検出する。このため、処理回路8のみが上記差分値Δ1を検出して切り換えスイッチ11に供給する。切り換えスイッチ11は、上記図22(d)の状態で既に処理回路8側に切り換えられているので、加算器13には上記差分値1が供給され続けることになる。
このようにスケール34が矢印B方向に移動したときは、図22(c)の状態から図22(d)の状態までヘッド32を有効にし、よって処理回路9から差分値Δ2を加算器13に供給し、図22(d)の状態になるとヘッド31を有効にし、よって処理回路8から差分値Δ1を加算器13に供給する。
スケール35が矢印方向Bに移動し、図22(e)〜図22(f)になったときのヘッド31又はヘッド32の切り換えも、上述したスケール33、スケール34の場合と同様である。そして、図22(g)の時点で所定時間の“H”を検出するとテーブル37が左限界にきたことを変位検出装置が検知する。
第3の実施の形態の変位検出装置は、スケール33〜スケール35として反射型或いは透過型の回折格子をホログラム等で作成したものを用いている。回折格子は例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等、または屈折率が分布した格子が目盛りとして所定間隔毎、つまり所定ピッチに刻まれている。
従来のスケール102の長さL1に対し、第3の実施の形態で用いているスケール33〜35の各長さは1/3ほどであるが、2個のヘッド31及びヘッド32を用いることにより、測定長をより長くでき、ベッド長は短くすることができる。
この第3の実施の形態は、スケールの扱いが容易になり、かつスケールの作製が容易になる。また、ベッドの長さも短くすることができる。
また、処理回路では高速な同一クロックを用いているので、それぞれの位置データ及びそれぞれの差分値は同時刻のものとなり、インクリメンタルな位置情報Dinkを生成したときには切り換え誤差が生じにくくなる。また、位置データの分解能をインクリメンタルデータの分解能よりも高くすることで、より切り換え誤差を減らすことも可能である。
次に、図23を参照して第4の実施の形態について説明する。図23は、第4の実施の形態で用いる、2個のヘッド51及びヘッド52と、3本のスケール53、スケール54及びスケール55との関係を示す図である。この第4の実施の形態では、図23に示すように、隣合うスケールの間隔と、隣合うヘッドの間隔を詰めている。このように、スケールの間隔と、ヘッドの間隔を詰めることで、ヘッドが周囲温度からの影響を受けにくくしている。また、スケールの設置位置による、周囲温度からの影響を差を小さくしている。これにより、誤差を減らすことがさらに可能となる。
なお、上記各実施の形態にあっては、切り換えスイッチ11による上記差分値の切り換えは、スケール位置検出器7からの検出出力に応じて切り換え制御器12が切り換える構成としたが本発明はこれに限定されるものではない。例えば、インクリメンタルデータから作製した信号で切り換えることも可能である。
第1の実施の形態の変位検出装置の構成を示す図である。 第1の実施の形態における1本のスケールと二つのヘッドとの相対位置関係を示す状態図である。 1本のスケールと2個のヘッドの相対位置を概略的に示す図である。 切り換え制御器の切り換え制御処理を説明するための図である。 回折光の干渉を利用したヘッドの具体例を示す図である。 回折光の干渉を利用したヘッドの他の具体例を示す図である。 処理回路の具体例の構成を示す図である。 正弦波および余弦波で与えられる周期性信号の性質を説明するための図である。 1つの象限をディジタル符号に対応させて表した図である。 1象限の内挿データの具体的数値例を示した図である。 1象限の内挿データの具体的数値例を示した図である。 II象限についての変換を説明するための図である。 1象限内の内挿データを他の象限内の内挿データとして使うためのsinとcosデータを、反転、入れ替えするルールを示す図表である。 1象限内の内挿データを反転し、A相B相間で入れ替えするルールを示す図表である。 差分算出器の構成を示す回路図である。 加算器の構成を示す回路図である。 第1の実施の形態の効果を従来の変位検出装置との比較によって説明するための図である。 第2の実施の形態の構成を示す図である。 第2の実施の形態における1本のスケールと三つのヘッドとの相対位置関係を示す図である。 1本のスケールと、3個のヘッドの相対位置を概略的に示す図である。 第3の実施の形態で用いる、離間した2個のヘッドと、離間した3本のスケールの関係を示す図である。 固定側であるベッドに取り付けた2個のヘッドに対して可動するテーブルに離間して取り付けた3本のスケールの状態を時系列的に示す図である。 第4の実施の形態で用いる、2個のヘッドと3本のスケールの関係を示す図である。 従来の変位検出装置を説明するための図である。 従来の他の変位検出装置を説明するための図である。 従来の他の変位検出装置の要部を示す図である。 従来の他の変位検出装置の問題となる再現性を説明するための図である。
符号の説明
1 ヘッド、2 ヘッド、4 スケール、5 可動テーブル、6 遮光板、7 スケール位置検出器、8 処理回路、9 処理回路、11 切り換えスイッチ、12 切り換え制御器、13 加算器

Claims (10)

  1. 所定ピッチの目盛を記録したスケールと、
    上記スケールに対して相対変位可能であり上記所定ピッチに応じたアナログの周期性信号を複数種類検出する第1のヘッドと、
    上記スケールに対して相対変位可能であり上記所定ピッチに応じたアナログの周期性信号を複数種類検出する第2のヘッドと、
    上記第1のヘッドが検出した複数種類のアナログ周期性信号を所定クロックに同期してサンプリングして得た1回前の位置データと現在の位置データとの第1の差分値を検出する第1の処理手段と、
    上記第2のヘッドが検出した複数種類のアナログ周期性信号を上記所定クロックに同期してサンプリングして得た1回前の位置データと現在の位置データとの第2の差分値を検出する第2の処理手段と、
    上記第1の処理手段が検出した第1の差分値又は上記第2の処理手段が検出した差分値を選択的に切り換える切り換え手段と、
    上記第1のヘッド及び第2のヘッドに対して上記スケールが所定の位置に達したことを検出するスケール位置検出手段と、
    上記スケール位置検出手段によって上記スケールが上記第1のヘッド及び第2のヘッドに対して所定の位置に達したことが検出されたときには上記切り換え手段に差分値の切り換えを選択的に行わせる切り換え制御手段と、
    上記切り換え制御手段によって選択的に切り換えられて出力される第1の差分値又は第2の差分値を加算して位置情報を出力する加算手段と
    を備えることを特徴とする変位検出装置。
  2. 上記第1のヘッドと上記第2のヘッドは、上記スケールの長さよりも短い間隔で離間されていることを特徴とする請求項1記載の変位検出装置。
  3. 上記スケール位置検出手段が上記第1のヘッド及び第2のヘッドに対して上記スケールが所定の位置に達したことを検出したとき、上記第1の処理手段及び第2の処理手段は第1の差分値及び第2の差分値を検出していることを特徴とする請求項2記載の変位検出装置。
  4. 所定ピッチの目盛を記録したスケールと、
    上記スケールに対して相対変位可能であり上記所定ピッチに応じたアナログの周期性信号を複数種類検出する3個以上のヘッドと、
    上記3個以上のヘッドに各々接続し、該3個以上のヘッドが検出した複数種類のアナログ周期性信号を所定クロックに同期してサンプリングして得た1回前の位置データと現在の位置データとの各差分値を検出する3個以上の処理手段と、
    上記3個以上の処理手段が検出した各差分値を選択的に切り換える切り換え手段と、
    上記3個以上のヘッドの内の隣合う2個のヘッドに対して上記スケールが所定の位置に達したことを検出するスケール位置検出手段と、
    上記スケール位置検出手段によって上記スケールが上記隣合う2個のヘッドに対して所定の位置に達したことが検出されたときには上記切り換え手段に差分値の切り換えを選択的に行わせる切り換え制御手段と、
    上記切り換え制御手段によって選択的に切り換えられて出力される差分値を加算して位置情報を出力する加算手段と
    を備えることを特徴とする変位検出装置。
  5. 上記3個以上のヘッドの内の隣合う2個のヘッドは、上記スケールの長さよりも短い間隔で離間されていることを特徴とする請求項4記載の変位検出装置。
  6. 上記スケール位置検出手段が上記隣合う2個のヘッドに対して上記スケールが所定の位置に達したことを検出したとき、上記隣合う2個のヘッドに接続している2個の処理手段は差分値を検出していることを特徴とする請求項5記載の変位検出装置。
  7. 所定ピッチの目盛を記録した複数m(mは自然数)のスケールと、
    上記複数のスケールに対して相対変位可能であり上記所定ピッチに応じたアナログの周期性信号を複数種類検出する複数n(nは自然数)のヘッドと、
    上記複数nのヘッドに各々接続し、該nのヘッドが検出した複数種類のアナログ周期性信号を所定クロックに同期してサンプリングして得た1回前の位置データと現在の位置データとの各差分値を検出する複数nの処理手段と、
    上記複数nの処理手段が検出した各差分値を選択的に切り換える切り換え手段と、
    上記複数nのヘッドの内の隣合う2個のヘッドに対して上記複数mの内のいずれか一つのスケールが所定の位置に達したことを検出するスケール位置検出手段と、
    上記スケール位置検出手段によって上記いずれか一つのスケールが上記隣合う2個のヘッドに対して所定の位置に達したことが検出されたときには上記切り換え手段に差分値の切り換えを選択的に行わせる切り換え制御手段と、
    上記切り換え制御手段によって選択的に切り換えられて出力される差分値を加算して位置情報を出力する加算手段と
    を備えることを特徴とする変位検出装置。
  8. 上記複数mのスケールは同じ測定長を有し、上記複数nのヘッドの内の隣合う2個のヘッドの間隔は、上記スケールの測定長よりも短い間隔で離間されていることを特徴とする請求項7記載の変位検出装置。
  9. 上記スケール位置検出手段が上記隣合う2個のヘッドに対して上記いずれかのスケールが所定の位置に達したことを検出したとき、上記隣合う2個のヘッドに接続している2個の処理手段は差分値を検出していることを特徴とする請求項8記載の変位検出装置。
  10. 上記複数mのスケールの内の隣合う二つのスケールは、上記隣合う2個のヘッドの間隔よりも短い間隔で離間されていることを特徴とする請求項8記載の変位検出装置。
JP2004127205A 2004-04-22 2004-04-22 変位検出装置 Expired - Fee Related JP4751032B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004127205A JP4751032B2 (ja) 2004-04-22 2004-04-22 変位検出装置
TW094112270A TWI260395B (en) 2004-04-22 2005-04-18 Displacement detecting device
KR1020050032325A KR101117241B1 (ko) 2004-04-22 2005-04-19 변위 검출 장치
US11/109,911 US7238931B2 (en) 2004-04-22 2005-04-19 Displacement detection apparatus
DE102005018807.9A DE102005018807B4 (de) 2004-04-22 2005-04-22 Verschiebungsermittlungsvorrichtung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004127205A JP4751032B2 (ja) 2004-04-22 2004-04-22 変位検出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005308592A true JP2005308592A (ja) 2005-11-04
JP4751032B2 JP4751032B2 (ja) 2011-08-17

Family

ID=35135499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004127205A Expired - Fee Related JP4751032B2 (ja) 2004-04-22 2004-04-22 変位検出装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7238931B2 (ja)
JP (1) JP4751032B2 (ja)
KR (1) KR101117241B1 (ja)
DE (1) DE102005018807B4 (ja)
TW (1) TWI260395B (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008026742A1 (fr) 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif
WO2008026739A1 (fr) 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif
WO2008026732A1 (fr) 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Système d'entraînement de corps mobile et procédé d'entraînement de corps mobile, appareil et procédé de mise en forme de motif, appareil et procédé d'exposition, procédé de fabrication de dispositif et procédé de décision
WO2008029757A1 (en) 2006-09-01 2008-03-13 Nikon Corporation Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method
WO2008029758A1 (en) 2006-09-01 2008-03-13 Nikon Corporation Mobile body driving method, mobile body driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus and device manufacturing method
WO2009013903A1 (ja) 2007-07-24 2009-01-29 Nikon Corporation 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2011003927A (ja) * 2006-09-29 2011-01-06 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8194232B2 (en) 2007-07-24 2012-06-05 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, position control method and position control system, and device manufacturing method
US8547527B2 (en) 2007-07-24 2013-10-01 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and pattern formation apparatus, and device manufacturing method
KR101679339B1 (ko) 2014-12-30 2016-11-25 순환엔지니어링 주식회사 선형 위치 결정 장치 및 이의 오차 보상 방법
US9534934B2 (en) 2011-09-06 2017-01-03 Nikon Corporation High resolution encoder head

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101385122B (zh) * 2006-02-21 2010-12-08 株式会社尼康 图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法
TWI534408B (zh) 2007-07-24 2016-05-21 尼康股份有限公司 Position measuring system, exposure apparatus, position measuring method, exposure method and component manufacturing method, and measuring tool and measuring method
US8711327B2 (en) * 2007-12-14 2014-04-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8115906B2 (en) * 2007-12-14 2012-02-14 Nikon Corporation Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and measurement device, and device manufacturing method
US8792079B2 (en) * 2007-12-28 2014-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method having encoders to measure displacement between optical member and measurement mount and between measurement mount and movable body
US8237916B2 (en) * 2007-12-28 2012-08-07 Nikon Corporation Movable body drive system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
NL1036662A1 (nl) * 2008-04-08 2009-10-09 Asml Netherlands Bv Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system.
US8817236B2 (en) * 2008-05-13 2014-08-26 Nikon Corporation Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8228482B2 (en) * 2008-05-13 2012-07-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8786829B2 (en) * 2008-05-13 2014-07-22 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8325325B2 (en) 2008-09-22 2012-12-04 Nikon Corporation Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8994923B2 (en) * 2008-09-22 2015-03-31 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8508735B2 (en) * 2008-09-22 2013-08-13 Nikon Corporation Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8902402B2 (en) 2008-12-19 2014-12-02 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8599359B2 (en) 2008-12-19 2013-12-03 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method
US8773635B2 (en) * 2008-12-19 2014-07-08 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8760629B2 (en) 2008-12-19 2014-06-24 Nikon Corporation Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body
US8970820B2 (en) 2009-05-20 2015-03-03 Nikon Corporation Object exchange method, exposure method, carrier system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8792084B2 (en) * 2009-05-20 2014-07-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8553204B2 (en) 2009-05-20 2013-10-08 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US20110102761A1 (en) * 2009-09-28 2011-05-05 Nikon Corporation Stage apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method
US20110096306A1 (en) * 2009-09-28 2011-04-28 Nikon Corporation Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method
US20110096312A1 (en) * 2009-09-28 2011-04-28 Nikon Corporation Exposure apparatus and device fabricating method
US20110096318A1 (en) * 2009-09-28 2011-04-28 Nikon Corporation Exposure apparatus and device fabricating method
US20110128523A1 (en) * 2009-11-19 2011-06-02 Nikon Corporation Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method
US20110123913A1 (en) * 2009-11-19 2011-05-26 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method
US20110164238A1 (en) 2009-12-02 2011-07-07 Nikon Corporation Exposure apparatus and device fabricating method
US8488106B2 (en) * 2009-12-28 2013-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8829420B2 (en) 2010-06-09 2014-09-09 Nikon Corporation Two dimensional encoder system and method
US10691219B2 (en) 2012-01-17 2020-06-23 Ultrahaptics IP Two Limited Systems and methods for machine control
US9679215B2 (en) 2012-01-17 2017-06-13 Leap Motion, Inc. Systems and methods for machine control
US8693731B2 (en) 2012-01-17 2014-04-08 Leap Motion, Inc. Enhanced contrast for object detection and characterization by optical imaging
US11493998B2 (en) 2012-01-17 2022-11-08 Ultrahaptics IP Two Limited Systems and methods for machine control
US9501152B2 (en) 2013-01-15 2016-11-22 Leap Motion, Inc. Free-space user interface and control using virtual constructs
US8638989B2 (en) 2012-01-17 2014-01-28 Leap Motion, Inc. Systems and methods for capturing motion in three-dimensional space
US9070019B2 (en) 2012-01-17 2015-06-30 Leap Motion, Inc. Systems and methods for capturing motion in three-dimensional space
US9285893B2 (en) 2012-11-08 2016-03-15 Leap Motion, Inc. Object detection and tracking with variable-field illumination devices
US10609285B2 (en) 2013-01-07 2020-03-31 Ultrahaptics IP Two Limited Power consumption in motion-capture systems
US9626015B2 (en) 2013-01-08 2017-04-18 Leap Motion, Inc. Power consumption in motion-capture systems with audio and optical signals
US9459697B2 (en) 2013-01-15 2016-10-04 Leap Motion, Inc. Dynamic, free-space user interactions for machine control
US9632658B2 (en) 2013-01-15 2017-04-25 Leap Motion, Inc. Dynamic user interactions for display control and scaling responsiveness of display objects
US9702977B2 (en) 2013-03-15 2017-07-11 Leap Motion, Inc. Determining positional information of an object in space
US10620709B2 (en) 2013-04-05 2020-04-14 Ultrahaptics IP Two Limited Customized gesture interpretation
US9916009B2 (en) 2013-04-26 2018-03-13 Leap Motion, Inc. Non-tactile interface systems and methods
US9747696B2 (en) 2013-05-17 2017-08-29 Leap Motion, Inc. Systems and methods for providing normalized parameters of motions of objects in three-dimensional space
US10281987B1 (en) 2013-08-09 2019-05-07 Leap Motion, Inc. Systems and methods of free-space gestural interaction
US10846942B1 (en) 2013-08-29 2020-11-24 Ultrahaptics IP Two Limited Predictive information for free space gesture control and communication
US9632572B2 (en) 2013-10-03 2017-04-25 Leap Motion, Inc. Enhanced field of view to augment three-dimensional (3D) sensory space for free-space gesture interpretation
US9996638B1 (en) 2013-10-31 2018-06-12 Leap Motion, Inc. Predictive information for free space gesture control and communication
US9613262B2 (en) 2014-01-15 2017-04-04 Leap Motion, Inc. Object detection and tracking for providing a virtual device experience
DE202014103729U1 (de) 2014-08-08 2014-09-09 Leap Motion, Inc. Augmented-Reality mit Bewegungserfassung
TWI696042B (zh) 2015-02-23 2020-06-11 日商尼康股份有限公司 測量裝置、微影系統及曝光裝置、以及管理方法、重疊測量方法及元件製造方法
JP6719729B2 (ja) 2015-02-23 2020-07-08 株式会社ニコン 基板処理システム及び基板処理方法、並びにデバイス製造方法
KR20230107706A (ko) 2015-02-23 2023-07-17 가부시키가이샤 니콘 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고디바이스 제조 방법
CN113641083A (zh) * 2015-09-30 2021-11-12 株式会社尼康 曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法
EP3365606B1 (en) * 2015-10-23 2019-12-04 Duke Manufacturing Co. Convection oven
JPWO2018038071A1 (ja) 2016-08-24 2019-07-18 株式会社ニコン 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法
JP6752450B2 (ja) * 2016-09-30 2020-09-09 株式会社ニコン 移動体装置、移動方法、露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、並びにデバイス製造方法
CN107607045B (zh) * 2017-08-24 2019-12-13 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量系统
CN107462166B (zh) * 2017-08-24 2019-10-15 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量方法
US11875012B2 (en) 2018-05-25 2024-01-16 Ultrahaptics IP Two Limited Throwable interface for augmented reality and virtual reality environments
DE102018128023A1 (de) * 2018-11-09 2020-05-14 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Linearführung
CN112943450A (zh) * 2019-12-10 2021-06-11 中国航发商用航空发动机有限责任公司 一种发动机监视装置
IT202100006692A1 (it) * 2021-03-19 2022-09-19 Lika Electronic S R L Apparecchiatura di trasduzione di posizione/spostamenti e sistema e metodo correlati

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2960689A (en) * 1956-03-22 1960-11-15 Clevite Corp Binary scale reader
US3594783A (en) * 1969-08-07 1971-07-20 Giddings & Lewis Apparatus for numerical signaling of positions, including digital-to-analog converter
JPS58191906A (ja) 1982-05-04 1983-11-09 Canon Inc 基準尺を用いた測長方法
JPH07239272A (ja) * 1994-02-28 1995-09-12 Ando Electric Co Ltd 光波長計
JP3395339B2 (ja) * 1994-03-31 2003-04-14 ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社 定点検出装置
DE19628765B4 (de) * 1996-07-17 2007-04-05 Braun, Paul-Wilhelm, Dipl.-Ing. Verfahren und Vorrichtung zur Positionsbestimmung von nicht-geradlinig bewegten, insbesondere rotierenden Maschinenteilen
JP3015747B2 (ja) * 1996-10-29 2000-03-06 株式会社ミツトヨ エンコーダの内挿回路
JP3004924B2 (ja) * 1996-11-01 2000-01-31 株式会社ミツトヨ 磁気エンコーダ
JPH10239105A (ja) 1997-02-28 1998-09-11 Sony Precision Technol Inc 磁気スケール装置
JP3506613B2 (ja) * 1998-09-21 2004-03-15 株式会社ミツトヨ 原点検出方式
JP2000213924A (ja) * 1999-01-20 2000-08-04 Takashi Katagiri 位置検出装置
US7031031B1 (en) * 2000-12-06 2006-04-18 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Position measuring system
JP4862108B2 (ja) 2001-02-02 2012-01-25 株式会社森精機製作所 受発光複合ユニット及びこれを用いた変位検出装置

Cited By (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9958792B2 (en) 2006-08-31 2018-05-01 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
US10353302B2 (en) 2006-08-31 2019-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
WO2008026732A1 (fr) 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Système d'entraînement de corps mobile et procédé d'entraînement de corps mobile, appareil et procédé de mise en forme de motif, appareil et procédé d'exposition, procédé de fabrication de dispositif et procédé de décision
EP3312676A1 (en) 2006-08-31 2018-04-25 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US10353301B2 (en) 2006-08-31 2019-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
EP3291010A1 (en) 2006-08-31 2018-03-07 Nikon Corporation Exposure apparatus and method, and device manufacturing method
EP3418807A1 (en) 2006-08-31 2018-12-26 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JPWO2008026742A1 (ja) * 2006-08-31 2010-01-21 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US10162274B2 (en) 2006-08-31 2018-12-25 Nikon Corporation Movable body drive method and system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus for driving movable body based on measurement value of encoder and information on flatness of scale, and device manufacturing method
US10101673B2 (en) 2006-08-31 2018-10-16 Nikon Corporation Movable body drive method and system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus for driving movable body based on measurement value of encoder and information on flatness of scale, and device manufacturing method
US8203697B2 (en) 2006-08-31 2012-06-19 Nikon Corporation Movable body drive method and system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus for driving movable body based on measurement value of encoder and information on flatness of scale, and device manufacturing method
JP2012147012A (ja) * 2006-08-31 2012-08-02 Nikon Corp 移動体駆動システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及び方法、露光装置及び方法、デバイス製造方法、並びに決定方法
US10073359B2 (en) 2006-08-31 2018-09-11 Nikon Corporation Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method
US10067428B2 (en) 2006-08-31 2018-09-04 Nikon Corporation Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method
JP5035245B2 (ja) * 2006-08-31 2012-09-26 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US9983486B2 (en) 2006-08-31 2018-05-29 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
KR20170007549A (ko) 2006-08-31 2017-01-18 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
WO2008026739A1 (fr) 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif
US10338482B2 (en) 2006-08-31 2019-07-02 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
EP2738608A1 (en) 2006-08-31 2014-06-04 Nikon Corporation Method and system for driving a movable body in an exposure apparatus
US8937710B2 (en) 2006-08-31 2015-01-20 Nikon Corporation Exposure method and apparatus compensating measuring error of encoder due to grating section and displacement of movable body in Z direction
US8947639B2 (en) 2006-08-31 2015-02-03 Nikon Corporation Exposure method and apparatus measuring position of movable body based on information on flatness of encoder grating section
KR20150092342A (ko) 2006-08-31 2015-08-12 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
KR20160006238A (ko) 2006-08-31 2016-01-18 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
KR20160006237A (ko) 2006-08-31 2016-01-18 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
KR20160006805A (ko) 2006-08-31 2016-01-19 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
KR20160006804A (ko) 2006-08-31 2016-01-19 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
EP2988320A1 (en) 2006-08-31 2016-02-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufactuing method
EP2991101A2 (en) 2006-08-31 2016-03-02 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
EP2990872A2 (en) 2006-08-31 2016-03-02 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
EP3279738A1 (en) 2006-08-31 2018-02-07 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
EP2993688A2 (en) 2006-08-31 2016-03-09 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
WO2008026742A1 (fr) 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif
EP3067748A1 (en) 2006-08-31 2016-09-14 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
EP3064999A1 (en) 2006-08-31 2016-09-07 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
EP2993524A2 (en) 2006-09-01 2016-03-09 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US9971253B2 (en) 2006-09-01 2018-05-15 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
WO2008029757A1 (en) 2006-09-01 2008-03-13 Nikon Corporation Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method
US9377698B2 (en) 2006-09-01 2016-06-28 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
WO2008029758A1 (en) 2006-09-01 2008-03-13 Nikon Corporation Mobile body driving method, mobile body driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus and device manufacturing method
US9625834B2 (en) 2006-09-01 2017-04-18 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US10289012B2 (en) 2006-09-01 2019-05-14 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US9740114B2 (en) 2006-09-01 2017-08-22 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US9760021B2 (en) 2006-09-01 2017-09-12 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US9846374B2 (en) 2006-09-01 2017-12-19 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US9874822B2 (en) 2006-09-01 2018-01-23 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
EP2993523A2 (en) 2006-09-01 2016-03-09 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
US10289010B2 (en) 2006-09-01 2019-05-14 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
US10197924B2 (en) 2006-09-01 2019-02-05 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
JPWO2008029757A1 (ja) * 2006-09-01 2010-01-21 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにキャリブレーション方法
JP2012169655A (ja) * 2006-09-01 2012-09-06 Nikon Corp 移動体駆動方法
JP5035247B2 (ja) * 2006-09-01 2012-09-26 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにキャリブレーション方法
EP3361317A1 (en) 2006-09-01 2018-08-15 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method
JP2011003927A (ja) * 2006-09-29 2011-01-06 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8264669B2 (en) 2007-07-24 2012-09-11 Nikon Corporation Movable body drive method, pattern formation method, exposure method, and device manufacturing method for maintaining position coordinate before and after switching encoder head
US8194232B2 (en) 2007-07-24 2012-06-05 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, position control method and position control system, and device manufacturing method
JP2013058796A (ja) * 2007-07-24 2013-03-28 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8547527B2 (en) 2007-07-24 2013-10-01 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and pattern formation apparatus, and device manufacturing method
US8582084B2 (en) 2007-07-24 2013-11-12 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, position control method and position control system, and device manufacturing method
EP3193212A1 (en) 2007-07-24 2017-07-19 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, position control method and position control system, and device manufacturing method
WO2009013903A1 (ja) 2007-07-24 2009-01-29 Nikon Corporation 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US9612539B2 (en) 2007-07-24 2017-04-04 Nikon Corporation Movable body drive method, pattern formation method, exposure method, and device manufacturing method for maintaining position coordinate before and after switching encoder head
US9534934B2 (en) 2011-09-06 2017-01-03 Nikon Corporation High resolution encoder head
KR101679339B1 (ko) 2014-12-30 2016-11-25 순환엔지니어링 주식회사 선형 위치 결정 장치 및 이의 오차 보상 방법

Also Published As

Publication number Publication date
DE102005018807B4 (de) 2015-01-08
TW200608051A (en) 2006-03-01
DE102005018807A1 (de) 2005-11-10
US20050236558A1 (en) 2005-10-27
KR101117241B1 (ko) 2012-03-15
JP4751032B2 (ja) 2011-08-17
US7238931B2 (en) 2007-07-03
KR20060047223A (ko) 2006-05-18
TWI260395B (en) 2006-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4751032B2 (ja) 変位検出装置
US8687202B2 (en) Displacement detecting device
JP4924879B2 (ja) エンコーダ
RU2141691C1 (ru) Система записи серводанных для использования в накопителях на дисках
RU2471289C1 (ru) Оптический кодер
US7375820B2 (en) Interference measuring apparatus for detecting a plurality of stable phase difference signals
JP2603305B2 (ja) 変位測定装置
JP2586120B2 (ja) エンコーダー
JPWO2010047100A1 (ja) エンコーダ
EP0397202A2 (en) Encoder
US7723671B2 (en) Positional information detecting device
US6958469B2 (en) Diffraction grating interference system encoder for detecting displacement information
US6879405B2 (en) Displacement pickup
JP2000081308A (ja) 光学式変位測定装置
JP2007315919A (ja) エンコーダ
US9200926B1 (en) Displacement detecting device
JP5902891B2 (ja) エンコーダ及び校正方法
JPS58100703A (ja) 光学式スケ−ル読取装置
JP3808192B2 (ja) 移動量測定装置、及び移動量測定方法
RU175968U1 (ru) Оптическая схема ультрапрецизионного голографического датчика линейных перемещений с блоком управляемых зеркал
JPS63115011A (ja) 変位測定装置
De Lang et al. Accurate digital measurement of displacement by optical means

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080805

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081003

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090427

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20090508

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20090612

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110404

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110520

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4751032

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140527

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees