JP2005308549A - プローブ位置調整用フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本プローブ位置調整用フィルムは、電子部品検査用のプローブ位置を調整する際に用いられるものであり、好ましくはエラストマー組成物から形成される。このエラストマー組成物は、ジエン系ブロック共重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる重合体を含む。上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物は、共役ジエンのブロック重合体の水素添加物、共役ジエン及び芳香族ビニル化合物からなるブロック共重合体の水素添加物等が好ましい。
【選択図】 図1
Description
このようなプローブカードを用いる場合には、予め、プローブカードのプローブ(探針)と、被検査体(集積回路の電極部等)との位置関係を調整する(プローブのアライメントを行う)必要がある。従来、この位置関係の調整は、CCDカメラによって撮影された画像をコンピューターソフトで解析することによって実施されてきた。
であった。
1.電子部品検査用のプローブ位置を調整する際に使用されるプローブ位置調整用フィルム。
2.上記プローブ位置調整用フィルムは、エラストマー組成物から形成されている上記1に記載のプローブ位置調整用フィルム。
3.上記エラストマー組成物は、ジエン系ブロック共重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる少なくとも1種の重合体を含む上記2に記載のプローブ位置調整用フィルム。
4.上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物は、共役ジエンのブロック重合体の水素添加物並びに共役ジエン及び芳香族ビニル化合物からなるブロック共重合体の水素添加物から選ばれる少なくとも1種である上記3に記載のプローブ位置調整用フィルム。
5.上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物は、ビニル結合含量が25%未満であるブタジエン重合体ブロック(I)と、共役ジエン単位(a1)及び他の単量体単位(a2)の質量割合が(a1)/(a2)=(100〜50)/(0〜50)であり、ビニル結合含量が25〜95%である重合体ブロック(II)とを、それぞれ分子中に少なくとも1つ有するジエン系ブロック共重合体が水素添加されたものである上記3又は4に記載のプローブ位置調整用フィルム。
6.上記極性基変性オレフィン系重合体は、極性基変性エチレン・α−オレフィン共重合体及び極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体から選ばれる少なくとも1種であり、且つ、上記エラストマー組成物は、金属イオン及び/又は金属化合物を含む上記3に記載のプローブ位置調整用フィルム。
7.上記極性基は、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、スルホン酸基及びニトリル基から選ばれる上記6に記載のプローブ位置調整用フィルム。
8.上記エラストマー組成物は、液状材料を含み、この液状材料の含有量は、液状重合体以外の重合体成分の合計100質量部に対して、1〜5000質量部である上記2乃至7のいずれかに記載のプローブ位置調整用フィルム。
9.上記エラストマー組成物の少なくとも一部が架橋されている上記2乃至8のいずれかに記載のプローブ位置調整用フィルム。
10.厚さが0.01〜5000μmである上記1乃至9のいずれかに記載のプローブ位置調整用フィルム。
本発明のプローブ位置調整用フィルムが、エラストマー組成物から形成されている場合には、優れた柔軟性及び耐熱性を有するため、プローブ位置の調整を効率よく行うことができる。
また、上記エラストマー組成物が、ジエン系ブロック共重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる少なくとも1種の重合体を含む場合には、特に優れた柔軟性及び耐熱性を有するフィルムとすることができる。
本発明のプローブ位置調整用フィルムは、電子部品検査用のプローブ位置を調整する際に使用されることを特徴とするものである。
上記エラストマー組成物に含有される重合体としては、ジエン系重合体及びその水素添加物、オレフィン系重合体、アクリル系重合体、ウレタン系重合体、ポリアミド系重合体、ポリエステル系重合体、塩化ビニル系重合体、フッ素系重合体、シリコーン系重合体等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。尚、上記重合体は、ランダム重合体であってもよいし、ブロック重合体であってもよい。また、官能基の1種以上を有する重合体であってもよい。本発明においては、ジエン系重合体の水素添加物、特に、ジエン系ブロック共重合体の水素添加物、及び、オレフィン系重合体、特に、極性基変性オレフィン系重合体が好ましい。これらの重合体を含むエラストマー組成物を用いることにより、柔軟性及び耐熱性に優れたフィルムを形成することができる。
上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物は、ジエン系ブロック共重合体の水素添加物であれば特に限定されない。このジエン系ブロック共重合体は、共役ジエンのブロック共重合体であってもよいし、共役ジエンと1種以上の他の単量体とからなるブロック共重合体であってもよい。従って、上記ジエン系ブロック共重合体のブロック構造としては、(A−B)mA、(B−A)mB、(A−B−A)m、(B−A−B)m等が挙げられ、更に、(A−B)mX、(B−A)mX、(A−B−A)mX、(B−A−B)mX等のように、カップリング剤残基Xを介して重合体分子鎖が延長又は分岐されたものでもよい。各一般式において、「A」は共役ジエン単位を主体とするブロック、「B」は他の共役ジエン単位又は他の単量体単位を主体とするブロック、mは1以上の整数である。
これらの共役ジエンを用いたブロック共重合体としては、2つ以上のブタジエン重合体ブロックを有するポリブタジエン、2つ以上のイソプレン重合体ブロックを有するポリイソプレン等が挙げられる。
尚、上記重合体ブロック(II)において、ビニル結合(1,2−ビニル結合及び3,4−ビニル結合)の含量は、好ましくは25〜95%であり、より好ましくは25〜90%、更に好ましくは30〜85%である。
また、上記重合体(P)は、トリブロック以上のブロックを有する共重合体であれば、水素添加物とした場合に形状保持性及び力学的性質により優れるフィルムを得ることができる。従って、上記一般式において、m1は、2以上の整数であることが好ましい。
上記カップリング剤としては、1,2−ジブロモエタン、メチルジクロロシラン、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、ジビニルベンゼン、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジオクチル、ベンゼン−1,2,4−トリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、エポキシ化1,2−ポリブタジエン、エポキシ化アマニ油、テトラクロロゲルマニウム、テトラクロロスズ、ブチルトリクロロスズ、ブチルトリクロロシラン、ジメチルクロロシラン、1,4−クロロメチルベンゼン、ビス(トリクロロシリル)エタン等が挙げられる。
上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物の、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、好ましくは1,000〜3,000,000、より好ましくは3,000〜1,000,000、更に好ましくは5,000〜700,000である。
また、上記部分架橋共重合体は、これらの極性基含有化合物に多官能性不飽和結合を有する化合物を共重合することにより得られるが、この化合物としては、多価アリル化合物、多価(メタ)アクリレート化合物、ジビニル化合物、ビスマレイミド化合物、ジオキシム化合物等が挙げられる。
上記アクリル酸アルキルエステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、イソアミルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、2−メチルペンチルアクリレート、n−オクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、n−デシルアクリレート、n−ドデシルアクリレート、n−オクタデシルアクリレート、シアノメチルアクリレート、1−シアノエチルアクリレート、2−シアノエチルアクリレート、1−シアノプロピルアクリレート、2−シアノプロピルアクリレート、3−シアノプロピルアクリレート、4−シアノブチルアクリレート、6−シアノヘキシルアクリレート、2−エチル−6−シアノヘキシルアクリレート、8−シアノオクチルアクリレート等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
上記アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、2−メトキシエチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−(n−プロポキシ)エチルアクリレート、2−(n−ブトキシ)エチルアクリレート、3−メトキシプロピルアクリレート、3−エトキシプロピルアクリレート、2−(n−プロポキシ)プロピルアクリレート、2−(n−ブトキシ)プロピルアクリレート等が挙げられる。
上記有機ジイソシアネートとしては、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類;ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式ジイソシアネート類等が挙げられる。これらの有機ジイソシアネートは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらのうち、ポリエステルジオールとしては、脂肪族ジオールと脂肪族ジカルボン酸又はこれらのエステル形成性誘導体の反応により得られた脂肪族ポリエステルジオール、脂肪族ジオールと芳香族ジカルボン酸又はそれらのエステル形成性誘導体の反応により得られた芳香族ポリエステルジオール等が挙げられる。また、ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール又はそれらのブロック共重合体等が挙げられる。更に、ポリカーボネートジオールとしては、脂肪族ジオールとカーボネート化合物との反応により得られたポリカーボネートジオール、ビスフェノールA等の芳香族ジオールとカーボネート化合物との反応により得られたポリカーボネートジオール等が挙げられる。これらの高分子ジオールは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
上記以外に、エチレン・酢酸ビニル共重合体、スチレン系重合体、ポリカーボネート、ポリアセタール、エポキシ系重合体等の重合体を用いることもできる。
有機過酸化物としては、t−ブチルハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)オクタン、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン、1,3−ビス(t−ブチルパーオキシ−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ベイゾイルパーオキサイド、m−トルイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−イソプロピルカーボナート、t−ブチルパーオキシアリルカーボナート等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
エチレン・α−オレフィン共重合体としては、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・1−ブテン共重合体、エチレン・1−ペンテン共重合体、エチレン・3−メチル−1−ブテン共重合体、エチレン・1−ヘキセン共重合体、エチレン・3−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン・4−メチル−1−ペンテン共重合体、エチレン・3−エチル−1−ペンテン共重合体、エチレン・1−オクテン共重合体、エチレン・1−デセン共重合体、エチレン・1−ウンデセン共重合体等が挙げられる。これらのうち、エチレン・プロピレン共重合体及びエチレン・1−ブテン共重合体が好ましい。尚、上記例示したエチレン・α−オレフィン共重合体は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体としては、エチレン・プロピレン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・プロピレン・5−エチリデン−2−ノルボルネン共重合体、エチレン・1−ブテン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・1−ブテン・5−エチリデン−2−ノルボルネン共重合体等が挙げられる。これらは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
上記一般式(1)で表される化合物を共重合させることにより得られた極性基変性エチレン・α−オレフィン共重合体又は極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体は、ランダム共重合体であることが好ましい。また、これらのランダム共重合体の、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは、好ましくは1,000〜3,000,000、より好ましくは3,000〜1,000,000、更に好ましくは5,000〜700,000である。
これら他の重合体を用いる場合の含有量は、上記極性基変性オレフィン系重合体100質量部に対し、好ましくは1〜100質量部、より好ましくは1〜90質量部、更に好ましくは1〜80質量部である。
また、活性剤として用いられる金属塩における金属元素としては、上記イオンとするための物質を構成する金属元素から選択すればよいが、上記イオンとするための物質を構成する金属元素と同種の元素を含む金属塩を用いることが好ましい。
上記極性基変性オレフィン系重合体が架橋されている場合には、エラストマー組成物の少なくとも一部がその架橋構造による三次元骨格を形成することとなり、柔軟性、強度及び耐熱性に優れたフィルムを形成することができる。
可塑剤としては、フタル酸誘導体、イソフタル酸誘導体、テトラヒドロフタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、セバシン酸誘導体、フマル酸誘導体、クエン酸誘導体、アゼライン酸誘導体、リン酸誘導体、マレイン酸誘導体等の各種脂肪酸の誘導体等が挙げられる。
滑剤としては、パラフィン系滑剤、炭化水素系滑剤、金属セッケン等が挙げられる。
また、液状重合体としては、室温(25℃)において液状である重合体が好ましく、液状ポリブタジエン、液状スチレン・ブタジエンゴム等の液状ゴム、ポリイソブチレン、シリコーンオイル等が挙げられる。
上記例示した液状材料は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの液状材料は、上記エラストマー組成物がジエン系ブロック共重合体の水素添加物を含む場合、特に柔軟性に優れたフィルムとすることができる。
この添加剤としては、酸化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、熱安定剤、抗菌剤、防かび剤、耐候剤、粘着付与剤、造核剤、充填剤、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、着色剤等が挙げられる。
また、本発明のプローブ位置調整用フィルムは、目的、用途等に応じて、多様な表面構造又は断面構造を有するものとすることができる。例えば、フィルムの少なくとも1面に、凸部、凹部、溝部、切り込み部、貫通穴等の部位を、それぞれ、1種単独であるいは2種以上の組み合わせで備えるものとすることができる。これらの各部位の形状は特に限定されず、凸部、凹部及び貫通穴の場合は、円形、角形(三角形、四角形等の多角形)、星形、ランダム形状等とすることができる。これらの形状とした場合の開口部の長さ(最大長さ等)や、凸部の場合では高さ等、凹部の場合では深さ等も特に限定されない。また、溝部の場合は、直線状、曲線状等から任意に選択又は組み合わせた形状とすることができる。溝部の断面形状も角形、U字形等目的、用途に応じた形状とすることができる。更に、溝部の幅、深さ等も特に限定されない。
切り込み部の場合は、点であってもよいし、線(直線、曲線、十字型等)であってもよい。また、切り込みは、部材本体に対し、垂直方向でもよいし、斜め方向でもよい。
尚、上記部位を複数備える場合にも、各部位の形状、サイズ等は同一であってもよいし、異なるものの組み合わせであってもよい。更には隣り合う部位どうしの間隔等も特に限定されない。
上記モジュラスが大きすぎると、プローブ(探針)をフィルム表面に対して押し当てた場合に傷跡が付きにくくなる。
尚、周波数1Hzの条件下、厚さ500μmのフィルムの剪断貯蔵弾性率G’を、温度30℃及び60℃において求め(それぞれ、G30’及びG60’とする)、これらのG30’及びG60’を用い、下記式(1)により得られるδG’は、好ましくは3.5以下、より好ましくは3.0以下、更に好ましくは0.05〜2.0である。
δG’=log(G30’/G60’) ・・・(1)
上記δG’が大きすぎると、高温におけるG’が大きく低下してフィルムが柔らかくなりすぎ、即ち、形状保持性に劣り、プローブによる傷跡が、正常な位置を示さなくなる。
この保護フィルムのプローブ位置調整用フィルムとの接触面は、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理等の化学処理がされていてもよい。更に、剥離を容易にするために、シリコーン系、フッ素系の剥離コート層を設けてもよい。また、凹凸を有してもよい。
上記保護フィルムは、単一層でも多層でもよい。また、この保護フィルムの厚さは、通常、10〜3000μm、好ましくは10〜2000μm、より好ましくは10〜500μmである。
本発明のプローブ位置調整用フィルムは、耐熱性に優れるため、上記位置関係の確認は、室温(25℃)のみならず、例えば、60℃といった高温において行うこともできる。
1.エラストマー組成物の調製
以下に示す重合体及び液状材料を用いて表1に記載の割合で混合し、エラストマー組成物(i)〜(viii)及び組成物(ix)を調製した。
1−1.重合体
(1)ジエン系ブロック共重合体の水素添加物(A1)
窒素置換された内容積50リットルの反応容器に、シクロヘキサン25kg、テトラヒドロフラン1g、1,3−ブタジエン1500g及びn−ブチルリチウム3.9gを投入し、70℃で重合を開始した。反応完結後、反応溶液の温度を40℃とし、テトラヒドロフラン100gを、次いで、1,3−ブタジエン3500gを添加して更に断熱重合した。30分後、メチルジクロロシラン2.7gを添加し、15分間反応を行い、反応を完結させた。
次に、水素ガスを0.4MPa−Gの圧力で供給し、反応溶液を撹拌しながら、リビングアニオンとして生きているポリマー末端リチウムと20分間反応させ、水素化リチウムとした。その後、反応溶液を80℃とし、水添触媒であるチタノセンジクロリドを加え、水素ガスの圧力を1.0MPaで維持しながら2時間反応させた。反応後、反応溶液を常温、常圧に戻して反応容器より抜き出した。次いで、反応溶液を水中に撹拌投入して溶媒を水蒸気蒸留により除去することによって、目的とするジエン系ブロック共重合体の水素添加物A1を得た。得られたジエン系ブロック共重合体の水素添加物A1の水素添加率は99%、GPCによる重量平均分子量は34万、水素添加前ポリマーの1段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は14%、水素添加前ポリマーの2段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は49%であった。
窒素置換された内容積50リットルの反応容器に、シクロヘキサン25kg、テトラヒドロフラン1g、1,3−ブタジエン1500g及びn−ブチルリチウム4.1gを投入し、70℃で重合を開始した。反応完結後、反応溶液の温度を35℃とし、テトラヒドロフラン27gを、次いで、1,3−ブタジエン3500gを添加して更に断熱重合した。30分後、メチルジクロロシラン2.9gを添加し、15分間反応を行い、反応を完結させた。
次に、水素ガスを0.4MPa−Gの圧力で供給し、反応溶液を撹拌しながら、リビングアニオンとして生きているポリマー末端リチウムと20分間反応させ、水素化リチウムとした。その後、反応溶液を80℃とし、水添触媒であるチタノセンジクロリドを加え、水素ガスの圧力を1.0MPaで維持しながら2時間反応させた。反応後、反応溶液を常温、常圧に戻して反応容器より抜き出した。次いで、反応溶液を水中に撹拌投入して溶媒を水蒸気蒸留により除去することによって、目的とするジエン系ブロック共重合体の水素添加物A2を得た。得られたジエン系ブロック共重合体の水素添加物A2の水素添加率は98%、GPCによる重量平均分子量は29万、水素添加前ポリマーの1段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は14%、水素添加前ポリマーの2段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は35%であった。
窒素置換された内容積50リットルの反応容器に、シクロヘキサン25kg、テトラヒドロフラン1g、1,3−ブタジエン1500g及びn−ブチルリチウム4.1gを加え、70℃で重合を開始した。反応完結後、反応溶液の温度を35℃とし、テトラヒドロフラン350gを、次いで、1,3−ブタジエン3500gを添加して更に断熱重合した。30分後、メチルジクロロシラン2.9gを添加し、15分間反応を行い、反応を完結させた。
次に、水素ガスを0.4MPa−Gの圧力で供給し、反応溶液を撹拌しながら、リビングアニオンとして生きているポリマー末端リチウムと20分間反応させ、水素化リチウムとした。その後、反応溶液を80℃とし、水添触媒であるチタノセンジクロリドを加え、水素ガスの圧力を1.0MPaで維持しながら2時間反応させた。反応後、反応溶液を常温、常圧に戻して反応容器より抜き出した。次いで、反応溶液を水中に撹拌投入して溶媒を水蒸気蒸留により除去することによって、目的とするジエン系ブロック共重合体の水素添加物A3を得た。得られたジエン系ブロック共重合体の水素添加物A3の水素添加率は99%、GPCによる重量平均分子量は30万、水素添加前ポリマーの1段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は14%、水素添加前ポリマーの2段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は78%であった。
エチレンに由来する構造単位を75.1モル%、プロピレンに由来する構造単位を22.8モル%、5−エチリデン−2−ノルボルネンに由来する構造単位を1.8モル%、及び8−メチル−8−カルボキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンに由来する構造単位を0.3モル%含み、重量平均分子量(Mw)が16.0×104である官能基含有オレフィン系共重合体100部をトルエン1000部に溶解した後、官能基含有オレフィン系共重合体中の官能基1モル%に対して、0.25モル%のジルコニウム(IV)ブトキシド(85%の1−ブタノール溶液(和光純薬工業社製)を使用)を用いて架橋し、トルエンを乾燥除去して、極性基変性オレフィン系重合体A4を得た。
エチレンに由来する構造単位を75.1モル%、プロピレンに由来する構造単位を22.8モル%、5−エチリデン−2−ノルボルネンに由来する構造単位を1.8モル%、及び8−メチル−8−カルボキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンに由来する構造単位を0.3モル%含み、重量平均分子量(Mw)が16.0×104である官能基含有オレフィン系共重合体100部をトルエン1000部に溶解した後、トルエンを乾燥除去して、極性基変性オレフィン系重合体A5を得た。
「B1」;40℃における動粘度が30.85mm2/sである鉱物油系軟化剤(出光興産社製、商品名「PW−32」)である。
「B2」;40℃における動粘度が95.54mm2/sである鉱物油系軟化剤(出光興産社製、商品名「PW−90」)である。
「B3」;40℃における動粘度が381.6mm2/sである鉱物油系軟化剤(出光興産社製、商品名「PW−380」)である。
1−3.架橋剤
「C1」;有機過酸化物(日本油脂社製、商品名「パーヘキサ3M」)。
実施例1〜8及び比較例1
上記エラストマー組成物(i)〜(viii)及び組成物(ix)を用い、コーター成形により厚さ500μmのフィルムを作製し、これをプローブ位置調整用フィルムとした。このプローブ位置調整用フィルムを以下の方法で評価した。その結果を表2に示す。
(1)柔軟性
JIS K−7127に準拠し、引張速度500mm/分でフィルム(厚さ500μm)の引張試験を行い、50%モジュラスを測定した。表2において、「○」は、50%モジュラスが25MPa以下であったことを、「×」は、50%モジュラスが25MPaより大きかったことを示す。
(2)耐熱性
動的粘弾性測定装置(レオロジー社製、型式「MR−500」)を用い、周波数1Hzの条件下、厚さ500μmのフィルムの剪断貯蔵弾性率G’を、温度30℃及び60℃において求め(それぞれ、G30’及びG60’とする)、これらのG30’及びG60’を用い、下記式(1)によりδG’を算出した。
δG’=log(G30’/G60’) ・・・(1)
このδG’が小さいほど耐熱性に優れる。表2において、「○」は、δG’が3.5以下であったことを、「×」は、δG’が3.5より大きかったことを示す。
(3)イオン濃度
誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP−AES)を用い、ナトリウムイオンの濃度を、また、イオンクロマトグラフィーにより、塩素イオンの濃度を測定した。表2において、「○」は、これらの濃度がいずれも1000ppm以下であったことを、「×」は、少なくとも一方が1000ppmを超えたことを示す。
(4)傷跡残存性
同じ長さであり且つ先端径が20μmのプローブ(探針)を多数備えるプローブカードを用い、プローブの先端をフィルム表面に対して垂直に押し当てることにより傷跡を付けた。表2において、「○」は、CCDカメラを用いることによりプローブと同じ数の傷跡を確認することができたことを、「×」は、傷跡が確認できなかったことを示す。
表2に示すように、本発明のプローブ位置調整用フィルムである実施例1〜8は、50%モジュラスが25MPa以下と柔軟性に優れており、低針圧でプローブの傷跡を付けることができる。また、全光線透過率が92%以上で、透明性が良好である。更に、耐熱性、傷跡残存性に優れていることから、低温から高温までの幅広い温度範囲において、正確にプローブによる傷跡の位置確認を行うことができる。更に、イオン濃度が低いため、プローブ先端を汚染することがない。
Claims (10)
- 電子部品検査用のプローブ位置を調整する際に使用されるプローブ位置調整用フィルム。
- 上記プローブ位置調整用フィルムは、エラストマー組成物から形成されている請求項1に記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 上記エラストマー組成物は、ジエン系ブロック共重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる少なくとも1種の重合体を含む請求項2に記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物は、共役ジエンのブロック重合体の水素添加物並びに共役ジエン及び芳香族ビニル化合物からなるブロック共重合体の水素添加物から選ばれる少なくとも1種である請求項3に記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物は、ビニル結合含量が25%未満であるブタジエン重合体ブロック(I)と、共役ジエン単位(a1)及び他の単量体単位(a2)の質量割合が(a1)/(a2)=(100〜50)/(0〜50)であり、ビニル結合含量が25〜95%である重合体ブロック(II)とを、それぞれ分子中に少なくとも1つ有するジエン系ブロック共重合体が水素添加されたものである請求項3又は4に記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 上記極性基変性オレフィン系重合体は、極性基変性エチレン・α−オレフィン共重合体及び極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体から選ばれる少なくとも1種であり、且つ、上記エラストマー組成物は、金属イオン及び/又は金属化合物を含む請求項3に記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 上記極性基は、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、スルホン酸基及びニトリル基から選ばれる請求項6に記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 上記エラストマー組成物は、液状材料を含み、該液状材料の含有量は、液状重合体以外の重合体成分の合計100質量部に対して、1〜5000質量部である請求項2乃至7のいずれかに記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 上記エラストマー組成物の少なくとも一部が架橋されている請求項2乃至8のいずれかに記載のプローブ位置調整用フィルム。
- 厚さが0.01〜5000μmである請求項1乃至9のいずれかに記載のプローブ位置調整用フィルム。
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