JP2005298428A - 2以上の保護された官能基を有するシラン化合物及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【解決手段】 下記一般式(1)
A−R−Si(CH3n3-n (1)
〔式中、Aは
【化1】

(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は
【化2】

(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
で表される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物。
【効果】 本発明によれば、2以上の保護された官能基を有するシラン化合物が、変性時、処理時に官能基自身と反応するのを防ぐことができ、保護された官能基を導入した後脱保護することにより、定量的、効率的に2以上の官能基を導入することができ、変性、添加効果をより多く発現させることができる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、高分子変性剤、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、表面処理剤等として有用な保護された官能基を有するシラン化合物及びその製造方法に関する。
官能基が保護されたシラン化合物は高分子変性剤、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、表面処理剤等として有用である。
例えば、特許第3414134号公報(特許文献1)記載のN,N−(ビストリメチルシリル)アミノプロピルシラン化合物は、アミノ基がトリメチルシリル基により保護されたシラン化合物であり、アミノ変性シリコーンオイルの変性剤として有用であることが開示されている。
また、特開2004−18795号公報(特許文献2)には、保護された第1級アミノ基とアルコキシシリル基を有する化合物、即ちN,N−(ビストリメチルシリル)アミノプロピルシラン化合物が、スチレン−ブタジエンアニオン重合のリビング重合末端鎖にアミノ基を導入することのできる化合物であり、この化合物をアニオン重合末端変性剤として用いて製造されたアミノ基含有スチレン−ブタジエンゴムは、シリカ、カーボンブラックを配合したタイヤ用ベースポリマーとして有用であることが開示されている。
更に、このような官能基が保護されたシラン化合物は塗料や接着剤の添加剤としても有用であり、例えばアミノ基を保護したシラン化合物は、エポキシ樹脂に添加することにより、水分を遮断した系では反応性を示さず安定な組成物であるが、水分と接触することにより加水分解による脱保護が起こり、アミノ基が再生し硬化が開始する、一液型硬化性組成物とすることができる。
このように官能基が保護されたシラン化合物は、アニオン重合末端変性時、塗料や接着剤添加時に、官能基の保護により官能基自身が反応してしまうのを防ぐことができ、その後脱保護することにより、定量的、効率的に官能基を再生、導入することができるため有用であるが、これらの化合物は1分子あたり1つの官能基しか導入することができないため、官能基導入による効果の発現が少ない場合があり、官能基導入の効果がより多く発現する変性剤、添加剤が求められていた。
特許第3414134号公報 特開2004−18795号公報
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、変性時に2つ以上の官能基を導入することができ、変性、添加による効果がより多く発現するシラン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(2)又は(3)で示される化合物と下記一般式(4)で示されるハイドロジェンシラン化合物とを付加反応させることにより得られる下記一般式(1)で示される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物が、変性時、添加時に官能基自身と反応するのを防ぐことができ、保護された官能基を導入した後、脱保護することにより、定量的、効率的に2以上の官能基を導入することができ、変性、添加効果がより多く発現することを知見し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は下記シラン化合物及びその製造方法を提供する。
(I)下記一般式(1)
A−R−Si(CH3n3-n (1)
〔式中、Aは

(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は

(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
で表される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物。
(II)下記一般式(2)又は(3)
A−R’−CH=CH2 (2)
A−CH=CH2 (3)
(式中、Aは上記と同様であり、R’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基である。)
で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(4)
HSi(CH3n3-n (4)
(式中、X、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させることを特徴とする(I)記載のシラン化合物の製造方法。
本発明によれば、2以上の保護された官能基を有するシラン化合物が、変性時、処理時に官能基自身と反応するのを防ぐことができ、保護された官能基を導入した後脱保護することにより、定量的、効率的に2以上の官能基を導入することができ、変性、添加効果をより多く発現させることができる。
本発明の化合物は、下記一般式(1)
A−R−Si(CH3n3-n (1)
〔式中、Aは

(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は

(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
で示される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物である。
ここで、R1,R2,R3は、炭素数1〜10、好ましくは1〜6の1価炭化水素基であり、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、フェニル基等が例示される。Rは炭素数2〜10、好ましくは3〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基であり、アルキレン基、アラルキレン基等が挙げられ、具体的には、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、イソブチレン基等が例示される。Xは、塩素、フッ素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子又は炭素数1〜10、好ましくは1〜6のオルガノキシ基であり、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、アセトキシ基等のアシロキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、フェノキシ基等が挙げられる。
本発明の2以上の保護された官能基を有するシラン化合物を具体的に例示すると、下記の通りである。
N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメチルクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルトリクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルメチルジクロロシラン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(6−アミノヘキシル)−3−アミノプロピルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(トリエチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(tert−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリメトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジメトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルメトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルエトキシシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリクロロシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジクロロシラン、6,7−ビス(トリイソプロピルシロキシ)−4−オキサヘプチルジメチルクロロシラン。
一般式(1)で示される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物の製造方法は、例えば、下記一般式(2)又は(3)
A−R’−CH=CH2 (2)
A−CH=CH2 (3)
(式中、Aは上記と同様であり、R’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基である。)
で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(4)
HSi(CH3n3-n (4)
(式中、X、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させる方法が例示される。
ここで、R’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基であり、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、アラルキレン基等が挙げられる。
上記一般式(2)で示される化合物としては、具体的には、N,N,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−アリルエチレンジアミン、N,N,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−アリルヘキサメチレンジアミン、グリセリンビス(トリメチルシリル)モノアリルエーテル、グリセリンビス(トリエチルシリル)モノアリルエーテル、グリセリンビス(tert−ブチルジメチルシリル)モノアリルエーテル、グリセリンビス(トリイソプロピルシリル)モノアリルエーテル等が例示される。
上記一般式(3)で示される化合物としては、具体的には、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−ビニルエチレンジアミン、N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−ビニルヘキサメチレンジアミン、グリセリンビス(トリメチルシリル)モノビニルエーテル、グリセリン(トリエチルシリル)モノビニルエーテル、グリセリンビス(tert−ブチルジメチルシリル)モノビニルエーテル、グリセリンビス(トリイソプロピルシリル)モノビニルエーテル等を挙げることができる。
上記反応で用いられる一般式(4)で示されるハイドロジェンシラン化合物としては、具体的には、トリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、トリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン等が例示される。
一般式(2)又は(3)で示される二重結合を有する化合物と、一般式(4)で示されるハイドロジェンシラン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式(2)又は(3)で表される二重結合を有する化合物1モルに対し、一般式(4)で表されるハイドロジェンシラン化合物0.5〜2モル、特に0.8〜1.2モルの範囲が好ましい。
上記反応で用いられる白金触媒としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金等が例示される。
白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式(2)又は(3)で示される二重結合を有する化合物1モルに対し、0.000001〜0.01モル、特に0.00001〜0.001モルの範囲が好ましい。
上記反応の反応温度は特に限定されないが、0〜120℃、特に20〜100℃が好ましく、反応時間は1〜20時間、特に1〜10時間が好ましい。
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は1種を単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。
また、本発明の上記一般式(1)で示される化合物のうち、オルガノキシシラン化合物(即ち、Xがオルガノキシ基である化合物)については、Xがハロゲン原子であるハロシラン化合物を、アルコールやフェノール類等でオルガノキシ化することにより製造することもできる。
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
[実施例1] N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N,N,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−アリルエチレンジアミン31.7g(0.1モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.07gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン16.4g(0.1モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点129−136℃/25Paの留分を36.5g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)、IRスペクトルを測定した。質量スペクトルの結果を下記に示す。また、図1には1H−NMRスペクトルのチャート、図2にはIRスペクトルのチャートを示した。
質量スペクトル
m/z 465, 306, 188, 174, 163
以上の結果より、得られた化合物はN,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランであることが確認された。
[実施例2] N,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、N,N,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−アリルエチレンジアミン63.3g(0.2モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.13gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン26.9g(0.2モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点117−124℃/20Paの留分を63.4g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)、IRスペクトルを測定した。質量スペクトルの結果を下記に示す。また、図3には1H−NMRスペクトルのチャート、図4にはIRスペクトルのチャートを示した。
質量スペクトル
m/z 435, 276, 188, 174, 133
以上の結果より、得られた化合物はN,N’,N’−トリス(トリメチルシリル)−N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジエトキシシランであることが確認された。
[実施例3] 6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、グリセリンビス(トリメチルシリル)モノアリルエーテル83.0g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン49.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点113−117℃/27Paの留分を83.9g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)、IRスペクトルを測定した。質量スペクトルの結果を下記に示す。また、図5には1H−NMRスペクトルのチャート、図6にはIRスペクトルのチャートを示した。
質量スペクトル
m/z 425, 291, 205, 163, 73
以上の結果より、得られた化合物は6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルトリエトキシシランであることが確認された。
[実施例4] 6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、グリセリンビス(トリメチルシリル)モノアリルエーテル83.0g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン40.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点101−103℃/15Paの留分を85.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)、IRスペクトルを測定した。質量スペクトルの結果を下記に示す。また、図7には1H−NMRスペクトルのチャート、図8にはIRスペクトルのチャートを示した。
質量スペクトル
m/z 395, 261, 205, 133, 73
以上の結果より、得られた化合物は6,7−ビス(トリメチルシロキシ)−4−オキサヘプチルメチルジエトキシシランであることが確認された。
実施例1で得られたシラン化合物の1H−NMRスペクトルである。 実施例1で得られたシラン化合物のIRスペクトルである。 実施例2で得られたシラン化合物の1H−NMRスペクトルである。 実施例2で得られたシラン化合物のIRスペクトルである。 実施例3で得られたシラン化合物の1H−NMRスペクトルである。 実施例3で得られたシラン化合物のIRスペクトルである。 実施例4で得られたシラン化合物の1H−NMRスペクトルである。 実施例4で得られたシラン化合物のIRスペクトルである。

Claims (2)

  1. 下記一般式(1)
    A−R−Si(CH3n3-n (1)
    〔式中、Aは

    (式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、aは1〜10の整数、bは1〜10の整数である。)又は

    (式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
    であり、Rは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜10のオルガノキシ基、nは0、1又は2である。〕
    で表される2以上の保護された官能基を有するシラン化合物。
  2. 下記一般式(2)又は(3)
    A−R’−CH=CH2 (2)
    A−CH=CH2 (3)
    (式中、Aは上記と同様であり、R’は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の2価炭化水素基である。)
    で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(4)
    HSi(CH3n3-n (4)
    (式中、X、nは上記と同様である。)
    で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させることを特徴とする請求項1記載のシラン化合物の製造方法。
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