JP2005295360A - 電流検出回路およびそれを用いた半導体集積装置、レギュレータ装置 - Google Patents

電流検出回路およびそれを用いた半導体集積装置、レギュレータ装置 Download PDF

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圭 葛西
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Abstract

【課題】 同一チップ上に集積化するのに好適な構造を有する電流検出回路およびそれを
用いた半導体集積装置、レギュレータ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ドレインとゲートが負荷電流が流れるMOSトランジスタM1のドレイン
とゲートにそれぞれ接続されたMOSトランジスタM2と、ドレインがMOSトランジス
タM2のソースに接続され、ソースがMOSトランジスタM1のソースに接続され、ゲー
トが所定の基準電源Vregに接続されたMOSトランジスタM3とを有している。
MOSトランジスタM1のドレインソース間電圧Vds1を抵抗比の揃ったMOSトラン
ジスタM2、M3のオン抵抗Ron1、Ron2で分割した電圧により、MOSトランジ
スタM1に流れる電流Ids1を検出する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、電流検出回路に係り、特に集積化するのに好適な構造を有する電流検出回路
およびそれを用いた半導体集積装置、レギュレータ装置に関する。
レギュレータ装置では過電流による出力素子の破壊を防止するために、出力素子に流れ
る電流を検出し、この電流が基準値を越えた場合に、出力素子を強制的にオフさせている
従来、出力素子に流れる電流を検出するには、出力電流経路に数オームの電流検出抵抗
を直列に挿入し、電流を電圧に変換して検出していた。しかし、数Aクラスの電流を検出
するには電流検出抵抗の消費電力が大きくなるので、出力電流経路に電流検出抵抗を直列
に挿入しない方式の電流検出回路が用いられている。
この電流検出回路について図を用いて説明する。図4は、この電流検出回路を用いたレ
ギュレータ装置の構成を示す図で、破線で囲まれた枠内が電流検出回路を示す回路図であ
る。
図4に示すように、レギュレータ装置100は、負荷電流が流れるMOSトランジスタ
M11と、MOSトランジスタM11に並列に接続された電流検出回路101とを有して
いる。
電流検出回路101は、ドレインD12とゲートG12が、MOSトランジスタM11
のドレインD11とゲートG11にそれぞれ接続されたMOSトランジスタM12と、M
OSトランジスタM12のソースS12に接続された電流検出抵抗Rs1とを有している
更に、一方の入力が電流検出回路101の出力端Outに接続され、他方の入力が基準
電源Vref1に接続されたコンパレータ102と、コンパレータ102の出力によりM
OSトランジスタM11をオンオフする信号を出力する制御回路103と、制御回路10
3からの制御信号によりMOSトランジスタM11を駆動する駆動回路104とを有して
いる。
駆動回路104は駆動信号によりMOSトランジスタM11をオンオフして、MOSト
ランジスタM11のドレインD11と電源Vb1との間に接続された負荷インダクタンス
L1に流れる電流を制御している。
電流検出抵抗Rs1の電圧降下VRs1は、周知のように次式で表される。
VRs1=(Id11×Ron11)×Rs1/(Ron12+Rs1) (1)
ここで、Id11はMOSトランジスタM11のドレイン電流、Ron11、Ron12
はMOSトランジスタM11、M12のオン抵抗である。
通常、MOSトランジスタM11、M12は同一チップ上に形成され、オン抵抗Ron
11、Ron12はほぼゲートサイズ(ゲート幅Wとゲート長さLの比 W/L)に従っ
た値が得られるので、Rs1を定めればId11を求めることができる。
また、出力電流路に電流検出抵抗を直列に挿入しない別の電流検出回路が知られている
(例えば、特許文献1参照。)。
特許文献1に開示された電流検出回路について図を用いて説明する。図5は、この電流
検出回路を使用したレギュレータ装置の構成を示す図で、破線で囲まれた枠内が電流検出
回路を示す回路図である。
図5に示すように、レギュレータ装置200は負荷電流が流れるMOSトランジスタM
21(文献では負荷MOS)と、負荷電流を検出する電流検出回路201と、出力MOS
制御回路202と、MOS抵抗可変手段203と、負荷インダクタンスL2と、電流スイ
ッチM23とを有している。
電流検出回路201は、負荷電流Id21の所定比率の微小電流が流れるMOSトラン
ジスタM22(文献では検出MOS)と、一方の入力端がMOSトランジスタM21のソ
ースに接続され、他方の入力端がMOSトランジスタM22のソースに接続されOPアン
プ204と、コレクタCがMOSトランジスタM22のソースS22に接続され、ベース
BがOPアンプ204の出力端に接続されたバイポーラトランジスタQ2と、バイポーラ
トランジスタQ2のエミッタEに接続された電流検出抵抗Rs2とを有している。
OPアンプ204はMOSトランジスタM21側の電圧降下を検出し、それと同電位に
なるようにMOSトランジスタM22側の電圧降下、即ちMOSトランジスタM22側の
検出電流Id22を制御している。この電流Id22を電流検出抵抗Rs2に供給するこ
とによって負荷電流Id21を検出している。
出力MOS制御回路202は、MOSトランジスタM21、M22に対して所定の負荷
抵抗値となるように一定のバイアス電圧を与え、また電流スイッチM23のゲート電圧を
制御して負荷インダクタンスL2に流れる電流を制御している。
MOS抵抗可変手段203は、一方の入力がMOSトランジスタM21のソースに接続
され、他方の入力が基準電源Vref2に接続されOPアンプ205と、出力MOS制御
回路202の出力またはOPアンプ205の出力のいずれかを1つ選択するスイッチ20
6とを有している。
OPアンプ205は、MOSトランジスタM21側の電圧降下が0.1V以内の場合に
、スイッチ206を介して、ゲートG21、G22の電位を低下させてMOSトランジス
タのオン抵抗を適宜可変することで、OPアンプ204のオフセットによる誤差を補正し
ている。
然しながら、従来の電流検出回路101においては、電流検出抵抗Rs1は拡散抵抗素
子、またはポリシリコン抵抗素子等で構成されるので、MOSトランジスタM11、M1
2とは製造工程が別になり、異なる製造プロセスで形成されていた。
オン抵抗Ron11、Ron12はゲートサイズ(W/L)に従った値が得られるが、
電流検出抵抗Rs1は製造ばらつきにより、オン抵抗Ron11、Ron12に対する比
が不揃いになる。
その結果、電流検出抵抗Rs1の電圧降下VRs1がばらつき、設計通りの電流検出感
度が得られないという問題がある。
更に、オン抵抗Ron11、Ron12と電流検出抵抗Rs1の温度特性が異なるので
、温度により電流検出感度のずれが大きくなるという問題がある。
特許文献1に開示された電流検出回路201においても、同様に電流検出抵抗Rs2を
用いているので、電流検出感度のばらつきと温度による電流検出感度のずれが生じる問題
がある。また、部品点数が増加するという問題がある。
特開2003−28901号公報(2−4頁、図2、図5)
本発明は、同一チップ上に集積化するのに好適な構造を有する電流検出回路およびそれ
を用いた半導体集積装置、レギュレータ装置を提供する。
上記目的を達成するために、本発明の一態様の電流検出回路は、第1絶縁ゲート電界効
果トランジスタと、ドレインとゲートが前記第1絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレ
インとゲートにそれぞれ接続された第2絶縁ゲート電界効果トランジスタと、ドレインが
前記第2絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続され、ソースが前記第1絶縁ゲ
ート電界効果トランジスタのソースに接続され、ゲートが所定の基準電源に接続された第
3絶縁ゲート電界効果トランジスタとを具備し、前記第1絶縁ゲート電界効果トランジス
タのドレインソース間電圧を前記第2および第3絶縁ゲート電界効果トランジスタのオン
抵抗の比に応じて分割した電圧により、前記第1絶縁ゲート電界効果トランジスタに流れ
る電流を検出することを特徴としている。
本発明によれば、電流検出抵抗を第3絶縁ゲート電界効果トランジスタのオン抵抗にし
たので、第2および第3絶縁ゲート電界効果トランジスタを同一チップ上に隣接して配置
し、同一工程で同一プロセスにより形成することができる。
これにより、第2および第3絶縁ゲート電界効果トランジスタのオン抵抗の比がゲート
サイズ(W/L)で決まる一定の値となるので、オン抵抗の絶対値に依存しない設計通り
の電流検出感度が得られる。
更に、第2および第3絶縁ゲート電界効果トランジスタの温度係数が等しくなるので、
広い電流レンジで電流検出感度のずれが少なく、負荷電流を精度良く検出することができ
る。
従って、製造ばらつきによる影響を受けない高精度な電流検出回路およびそれを用いた
半導体集積装置、レギュレータ装置を提供することができる。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の実施例1に係る電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回
路図で、破線で囲まれた枠内が電流検出回路を示す回路図である。本実施例は、スイッチ
ングレギュレータのローサイドスイッチ部の過電流保護回路に用いた場合の例である。
図1に示すように、レギュレータ装置10は負荷電流が流れるMOSトランジスタM1
と、MOSトランジスタM1に並列に接続された電流検出回路11とを有し、負荷インダ
クタンスL0がMOSトランジスタM1のドレインD1と電源Vbとの間に接続されてい
る。
電流検出回路11は、ドレインD2とゲートG2がMOSトランジスタM1のドレイン
D1とゲートG1にそれぞれ接続されたMOSトランジスタM2と、ドレインD3がMO
SトランジスタM2のソースS2に接続され、ソースS3がMOSトランジスタM1のソ
ースS1に接続され、ゲートG3が所定の基準電源Vregに接続されたMOSトランジ
スタM3とを有している。
更に、一方の入力が電流検出回路11の出力端Outに接続され、他方の入力が所定の
基準電源Vrefに接続されたコンパレータ12と、コンパレータ12の出力によりMO
SトランジスタM1、M2を強制的にオフする信号を出力する制御回路13と、制御回路
13からの制御信号によりMOSトランジスタM1、M2を駆動する駆動回路14とを有
している。
駆動回路14は最終出力段に基準電源Vregに接続されたインバータ15を有し、制
御回路13からの制御信号に応じてインバータ15の出力端に共通接続されたMOSトラ
ンジスタM1、M2のゲートG1、G2に基準電源Vregにほぼ等しいゲート電圧を印
加する。
MOSトランジスタM3は、ゲートG3が基準電源Vregに接続されているので、常
時オンしている。
出力端Outの電圧が基準電源Vrefの電圧を越えた場合に、コンパレータ12が動
作し、MOSトランジスタM1、M2をオフにしてレギュレータ装置10を過電流から保
護している。
MOSトランジスタM2、M3は、同一チップ上に隣接して配置され、同一プロセスに
より同時に形成されたトランジスタで、例えば高耐圧のn型MOSトランジスタまたはn
型DMOS(Double Diffused MOS)トランジスタがワンチップに集積化されている。
MOSトランジスタM2、M3のゲート長さL2、L3は等しく、そのゲート幅W2、
W3とゲート長さL2、L3の比は、MOSトランジスタM1のゲート幅W1とゲート長
さL1の比より十分大きく、例えば1000:1に設定されている。
MOSトランジスタM3のドレインソース間電圧Vds3は、式(1)と同様に、次式
で表わされる。
Vds3=(Id1×Ron1)×Ron3/(Ron2+Ron3) (2)
ここで、Id1はMOSトランジスタM1のドレイン電流、Ron1はMOSトランジス
タM1のオン抵抗である。
制御回路13がオン信号を駆動回路14に出力すると、インバータ15は基準電源Vr
egと等しい電圧をゲートG1、G2に出力するので、MOSトランジスタM1、M2、
M3のゲートソース間電圧Vgsは全て等しくなる。
その結果、オン抵抗Ron2、Ron3はゲート長さL2、L3が等しいので、ゲート
幅W2、W3に従って揃った値が得られる。一方、オン抵抗Ron1はMOSトランジス
タM1のゲートサイズ(W1/L1)に従った値が得られる。
従って、Ron1を事前に求めておくことにより、MOSトランジスタM1のドレイン
ソース間電圧Vds1をオン抵抗Ron2、Ron3の比に応じて分割した電圧によりド
レイン電流Id1を検出することが可能である。
以上説明したように、本実施例の電流検出回路11を有する半導体集積装置によれば、
電流検出抵抗をMOSトランジスタM3のオン抵抗Ron3にしたので、MOSトランジ
スタM3とMOSトランジスタM2を同一チップ上に隣接して配置し、同一工程で同一プ
ロセスにより形成することができる。
これにより、MOSトランジスタM2とMOSトランジスタM3のオン抵抗Ron2、
Ron3の比が、ゲート幅W2、W3で決まる一定の値となるので、オン抵抗の絶対値に
依存しない設計通りの電流検出感度が得られる。
更に、MOSトランジスタM2、M3の温度係数が等しくなるので、広い電流レンジで
電流検出感度のずれが少なく、負荷電流を精度良く検出することができる。
従って、製造ばらつきによる影響を受けない高精度な電流検出回路およびそれを用いた
半導体集積装置、レギュレータ装置を提供することができる。
また、電流検出用のMOSトランジスタM2、M3は負荷電流が流れるMOSトランジ
スタM1と分離して配置しても構わないので、レイアウトの自由度が増加する。
図2は本発明の実施例2に係る電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回
路図で、破線で囲まれた枠内が電流検出回路を示す回路図である。本実施例において、上
記実施例1と同一の構成部分には同一符号を付してその部分の説明は省略し、異なる部分
について説明する。
本実施例が実施例1と異なる点は、イネーブル信号によりMOSトランジスタM3のオ
ンオフを制御するゲート電圧制御回路を設けたことにある。
即ち、図2に示すように、レギュレータ装置20の電流検出回路21は基準電源Vre
gに接続されたゲート電圧制御回路22を有している。ゲート電圧制御回路22の入力端
にはイネーブル信号ENAが接続され、その出力端はMOSトランジスタM3のゲートG
3に接続されている。
ゲート電圧制御回路22はイネーブル信号ENAを受け、イネーブル信号ENAが有効
の場合に、MOSトランジスタM3をオンにする基準電源Vregに等しい電圧を出力す
る。一方、イネーブル信号ENAが無効の場合に、MOSトランジスタM3をオフにする
電圧を出力する。
これにより、MOSトランジスタM3がオンの場合にのみ、ドレイン電流Id1を検出
することが可能であり、電流検出回路11の消費電力が削減できる利点がある。
以上説明したように、本実施例の電流検出回路21では、MOSトランジスタM3を制
御するゲート電圧制御回路22を設けたので、必要な場合にのみドレイン電流Id1を検
出して、電流検出回路11の消費電力を削減することができる。
図3は本発明の実施例3に係る電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回
路図で、破線で囲まれた枠内が電流検出回路を示す回路図である。本実施例において、上
記実施例1と同一の構成部分には同一符号を付してその部分の説明は省略し、異なる部分
について説明する。
本実施例が実施例1と異なる点は、MOSトランジスタの極性を反対導電型にして、ス
イッチングレギュレータのハイサイドスイッチ部の過電流保護回路に用いたことにある。
即ち、図3に示すように、レギュレータ装置30の電流検出回路31はp型のMOSト
ランジスタM4、M5、M6を有し、MOSトランジスタM4、M6のソースS4、S6
は電源Vbに接続されている。
以上説明したように、本実施例の電流検出回路31では、MOSトランジスタM4、M
5、M6の導電型をp型としたので、ハイサイドの負荷電流を精度良く検出することがで
きる。
上述した実施例において、MOSトランジスタM2、M3が同一チップ上に形成された
場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、式(3)より、オン
抵抗Ron2、Ron3の比が一定であれば、MOSトランジスタM2、M3は同じ特性
のトランジスタで無くても構わない。
例えば、トランジスタはMOSトランジスタまたはDMOSトランジスタを用いる場合
について説明したが、耐圧に問題が無い範囲で、MOSトランジスタM2、M3、または
M5、M6には小信号用のCMOSトランジスタを使用しても構わない。小信号用のCM
OSトランジスタによれば、チップ面積を低減できる利点がある。
更に、レギュレータ装置11の高効率化のために、MOSトランジスタM1の消費電力
が低減するようにオン抵抗Ron1を低減した場合、ドレインソース間電圧Vds1も低
下するので、オン抵抗Ron2、Ron3の分割比を小さくすることにより所定の電流検
出感度を確保することが容易である。
また、負荷としてインダクタンスを用いた場合について説明したが、負荷抵抗であって
も構わない。
本発明の実施例1に係る電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回路図。 本発明の実施例2に係る電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回路図。 本発明の実施例3に係る電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回路図。 従来の電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回路図。 従来の他の電流検出回路を用いたレギュレータ装置の構成を示す回路図。
符号の説明
10、20、30 レギュレータ装置
11、21、31 電流検出回路
12 コンパレータ
13 制御回路
14 駆動回路
15 インバータ
23 ゲート制御回路
ENA イネーブル信号
L0 負荷インダクタンス
M1、M2、M3 n型MOSトランジスタ
M4、M5、M6 p型MOSトランジスタ
OUT 出力端
Vb 電源
Vref、Vreg 基準電圧

Claims (5)

  1. ドレインとゲートが第1絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインとゲートにそれぞ
    れ接続された第2絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
    ドレインが前記第2絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続され、ソースが前記
    第1絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続され、ゲートが所定の基準電源に接
    続された第3絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
    を具備し、
    前記第1絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインソース間電圧を前記第2および第3
    絶縁ゲート電界効果トランジスタのオン抵抗の比に応じて分割した電圧により、前記第1
    絶縁ゲート電界効果トランジスタに流れる電流を検出することを特徴とする電流検出回路
  2. ドレインとゲートが第1絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインとゲートにそれぞ
    れ接続された第2絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
    ドレインが前記第2絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続され、ソースが前記
    第1絶縁ゲート電界効果トランジスタのソースに接続された第3絶縁ゲート電界効果トラ
    ンジスタと、
    イネーブル信号に応じて、所定の基準電圧を前記第3絶縁ゲート電界効果トランジスタの
    ゲートに出力し、前記第3絶縁ゲート電界効果トランジスタをオンまたはオフする電圧制
    御回路と、
    を具備し、
    前記イネーブル信号が有効の場合に、前記第1絶縁ゲート電界効果トランジスタに流れ
    る電流を検出し、前記イネーブル信号が無効の場合に、前記第1絶縁ゲート電界効果トラ
    ンジスタに流れる電流の検出をおこなわないようにしたことを特徴とする電流検出回路。
  3. 請求項1または請求項2記載の電流検出回路を有する半導体集積装置において、前記第
    2および第3絶縁ゲート電界効果トランジスタが、同一チップ上に集積して形成されてい
    ることを特徴とする半導体集積装置。
  4. 請求項1または請求項2記載の電流検出回路を有する半導体集積装置において、前記第
    2絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート幅W2とゲート長L2の比(W2/L2)と
    前記第3絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート幅W3とゲート長L3の比(W3/L
    3)の比を変えて、前記第1絶縁ゲート電界効果トランジスタのドレインソース間電圧の
    分割比を調整することを特徴とする半導体集積装置。
  5. 第1絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
    前記第1絶縁ゲート電界効果トランジスタに流れる電流を検出する請求項1乃至請求項4
    のいずれか1項に記載の電流検出回路と、
    前記電流検出回路の出力電圧を所定の第2基準電圧と比較し、その比較結果に応じた出力
    を前記第1絶縁ゲート電界効果トランジスタに入力する帰還制御手段とを、
    具備し、
    前記電流検出回路の出力電圧が前記所定の第2基準電圧より大きい場合に、前記第1絶縁
    ゲート電界効果トランジスタのドレイン電流を制限することを特徴とするレギュレータ装
    置。
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