JP2005281865A5

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Info

Publication number: JP2005281865A5
Application number: JP2005093544A
Authority: JP
Filing date: 2005-03-29
Publication date: 2008-05-08

Description

イオンプラズマ蒸着（ＩＰＤ）プロセスは、ＣＶＤ及びＥＢ‐ＰＶＤに代わる高温被覆膜蒸着の方法として、魅力ある技法であり、従来の方法と比較して、組成制御及び製造機器コストの双方において、利点を提供する。しかし、蒸着膜を形成するＮｉＡｌ系ターゲット材料は、非常にもろいため、製造環境におけるＩＰＤの適用は制限される。
欧州特許出願公開第１３９１５３３号明細書

Claims

物品を高温酸化環境から保護する方法において、
基板（１１０）を提供することと；
２原子％〜２５原子％のクロム、及び
少なくとも７０原子％のアルミニウムを含むイオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８を提供することと；
前記イオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）を使用して、イオンプラズマ蒸着プロセスにより、前記基板（１１０）上に保護被覆膜を蒸着することとから成る方法。
前記イオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）を提供することは、ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、ケイ素、イットリウム、チタン、ランタン、セリウム、炭素及びホウ素のうちの少なくとも１つを更に含むターゲット（１０８）を提供することを含む請求項１記載の方法。
前記イオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）を提供することは、ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、ケイ素、イットリウム、チタン、ランタン、セリウム及びそれらの組み合わせより成る群から選択される４原子％までの材料と、炭素、ホウ素及びそれらの組み合わせより成る群から選択される０．２原子％までの材料とを更に含むターゲット（１０８）を提供することを含む請求項２記載の方法。
前記保護被覆膜を蒸着する前に、前記基板（１１０）を金属層によって被覆することを更に含む請求項１記載の方法。
前記保護被覆膜を蒸着した後、前記基板（１１０）を熱処理することを更に含む請求項１記載の方法。
前記基板（１１０）を提供することは、ニッケル合金、鉄合金及びコバルト合金のうちの少なくとも１つを提供することを含む請求項１記載の方法。
前記保護被覆膜を蒸着することは、少なくとも８０体積％の単一相から成る保護被覆膜を形成することを含む請求項１記載の方法。
物品を高温酸化環境から保護する方法において、
ニッケル系超合金から成る基板（１１０）を提供することと；
２原子％〜２５原子％のクロム、
ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、ケイ素、イットリウム、チタン、ランタン、セリウム及びそれらの組み合わせより成る群から選択される４原子％までの材料、
炭素、ホウ素及びそれらの組み合わせより成る群から選択される０．２原子％までの材料、及び
少なくとも７０原子％のアルミニウムを含むイオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）を提供することと；
保護被覆膜の蒸着中に、前記基板（１１０）に負電位バイアスを印加しつつ、前記イオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）を使用して、イオンプラズマ蒸着プロセスにより、前記基板（１１０）上に、保護被覆膜を蒸着することと；
前記保護被覆膜を蒸着した後、前記基板（１１０）を熱処理することとから成り、
熱処理後、前記保護被覆膜は、Ｂ２構造化アルミナイド金属間相から成る方法。
２原子％〜２５原子％のクロムと；
ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、ケイ素、イットリウム、チタン、ランタン、セリウム及びそれらの組み合わせより成る群から選択される４原子％までの材料と；
炭素、ホウ素及びそれらの組み合わせより成る群から選択される０．２原子％までの材料と；
少なくとも７０原子％のアルミニウムとを含む合金。
前記合金は、少なくとも８０原子％のアルミニウムを含む請求項９記載の合金。