JP2008522021A5 - - Google Patents
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- ＭがＴｉ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａの群から選択される少なくとも一つの金属であり；ＡがＳｉ、Ａｌ、Ｇｅ及び／またはＳｎからなる群から選択される少なくとも一つの元素であり；及びＸが少なくとも一つの非金属Ｃ及び／またはＮであり、ｎが０．８〜３．２の範囲内にあると共に、ｚが０．８〜１．２の範囲内にある組成Ｍｎ＋１ＡｚＸｎを有し、基材表面上に被覆される被膜による金属基材の被覆の方法であって、
被膜が気相蒸着技術の使用により連続的に提供されることを特徴とする、
基材表面上に被覆される被膜による金属基材の被覆の方法。 - 前記気相蒸着技術が、マグネトロンスパッタリングであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記気相蒸着技術が、電子ビーム蒸発法であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 前記電子ビーム蒸発法が、プラズマ活性化及び／または反応性であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
- 被覆する工程が、ロールツーロール法において行われることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
- 前記基材が、少なくとも１０ｍの長さで提供されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- Ｍが、Ｔｉ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａの群から選択される少なくとも一つの遷移金属であり；ＡがＳｉ、Ａｌ、Ｇｅ及び／またはＳｎからなる群から選択される少なくとも一つの元素であり；及びＸが少なくとも一つの非金属Ｃ及び／またはＮであると共に、ｎが０．８〜３．２の範囲内にあり、ｚが０．８〜１．２の範囲内にある以下の組成Ｍｎ＋１ＡｚＸｎを有する蒸着源が、生成され、少なくとも一つの成膜チャンバー内に挿入され、その後少なくとも被膜の一部を製造するために蒸発されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- 結合層が、被覆により被覆工程の前に基材上に提供されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
- 金属基材、及び
ＭがＴｉ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａの群から選択される少なくとも一つの遷移金属であり；ＡがＳｉ、Ａｌ、Ｇｅ及び／またはＳｎからなる群から選択される少なくとも一つの元素であり；及びＸが少なくとも一つの非金属Ｃ及び／またはＮであると共に、ｎが０．８〜３．２の範囲内にあり、ｚが０．８〜１．２の範囲内にある組成Ｍｎ＋１ＡｚＸｎを有する被膜、
からなる被覆製品であって、
金属基材が少なくとも１０メートル長さであることを特徴とする、
金属基材、及び被膜からなる被覆製品。 - 前記被膜が、実質的に単相化されることを特徴とする請求項９に記載の被覆製品。
- 前記被膜が、実質的に非晶質であることを特徴とする請求項９に記載の被覆製品。
- 前記被膜が、実質的に結晶性であることを特徴とする請求項９に記載の被覆製品。
- 結合層が、基材と被膜間に位置付けられることを特徴とする請求項９に記載の被覆製品。
- 電子装置において用いる構成要素の製造のために用いる請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
- 前記構成要素が、腐食性環境及び／または高温で用いる燃料電池相互接続、バネ要素、すり接点または電気接点である請求項１４に記載の方法。
- 体液、体内組織または皮膚の近くで、またはそれらと接触して用いる構成要素の製造のために用いる請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
- 構成要素が、メス、針またはカテーテルなどである請求項１６に記載の方法。
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