JPH09279331A - 医療・衛生用具の表面処理方法及び装置 - Google Patents

医療・衛生用具の表面処理方法及び装置

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JPH09279331A
JPH09279331A JP8091165A JP9116596A JPH09279331A JP H09279331 A JPH09279331 A JP H09279331A JP 8091165 A JP8091165 A JP 8091165A JP 9116596 A JP9116596 A JP 9116596A JP H09279331 A JPH09279331 A JP H09279331A
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JP
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medical
hygiene
sanitary
surface treatment
tool
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JP8091165A
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English (en)
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Hiromoto Ito
弘基 伊藤
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 医療・衛生用具の表面に被覆膜をコーティン
グしなくても生体との摩擦抵抗を小さくして生体へ与え
る苦痛を低減することができ、生体との接触時に侵食さ
れない医療・衛生用具の表面処理方法及び装置を得る。 【解決手段】 医療・衛生用具の生体との接触表面を直
接イオンビーム・プラズマを用いてスパッタ研磨する。
スパッタ研磨は、真空雰囲気中でガスイオンを電界によ
り加速して表面に直接イオンビームを照射してスパッタ
研磨したり、ガスが導入された真空雰囲気中で医療・衛
生用具と電極間に電圧を印加してプラズマを発生させて
表面に直接ガスイオンを照射してスパッタ研磨する。ま
たは、医療・衛生用具の表面を直接酸もしくはアルカリ
溶液からなる電解溶液中に浸し直接電解研磨する。さら
に、直接研磨された医療・衛生用具の生体との接触表面
にハードコーティング膜を蒸着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、病気の治療、予
防、検査、手術等に用いられる医療用具、もしくは、衛
生用具の生体との摩擦抵抗を小さくして生体の苦痛を低
減させるための医療・衛生用具の表面処理方法及び装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、生体を切開したり、生体に差
し込むために使用されている注射針、メス等の医療用具
及びカミソリ等の衛生用具において、生体との摩擦抵抗
を小さくすることにより生体の苦痛を低減する工夫とし
て、注射針、メス等の医療用具及びカミソリ等の衛生用
具の生体との接触表面を処理することが行われている。
また、これらの用具材料及び表面処理は、生体との接触
時に侵食されないことも要求される。
【０００３】例えば、図６は特公平６−２０４６４号公
報で開示された医療用メスの断面図を示し、医療用メス
の表面をダイヤモンドで直接被膜されている。図６にお
いて、６は医療用メス、６ｂはその表面にコーティング
されたダイヤモンド膜である。この先行技術では、医療
用メス６の生体との接触表面に直接ダイヤモンド膜（ま
たはダイヤモンド状炭素膜）６ｂを被覆した後、そのダ
イヤモンド膜６ｂに水素プラズマを照射することによ
り、ダイヤモンド膜６ｂをスパッタ研磨して表面粗度を
向上させるもので、切開時の摩擦抵抗が小さくなる効果
があるとしている。
【０００４】また、図７と図８は従来の注射針とその表
面拡大断面図を示したものである。図７において、１は
注射針、１ｂは注射針１の表面状態を示すものである。
図７に示すように、注射針１の表面状態１ｂは、１０μ
ｍ〜最大数十μｍの凹凸が観察され、これが生体への注
入時に苦痛を与える原因とされている。生体への苦痛を
低減させるために、ここでは、図８に示すように、注射
針１の表面１ｂにシリコン膜２ｂを直接コーティングし
ている。このように、注射針１の表面１ｂにシリコン膜
２ｂを設けると、図８に示すように、表面の凹凸状態が
改善され、注射針１の生体への圧入時に生体との摩擦抵
抗が小さくなるため、生体の苦痛を低減する方法として
ほぼ全数の注射針に使われてきた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように、医療用メス６の生体との接触表面に直接ダイ
ヤモンド膜６ｂを被覆した場合、被覆されたダイヤモン
ド膜６ｂが切開時に剥離する等の問題点があると考えら
れる。これは、表面粗度が悪く、表面が酸化されている
医療用具の表面に、直接ダイヤモンド膜を被覆している
ことにある。一般に、表面粗度が悪い基材の表面に直接
被覆した膜の表面粗度は、被覆膜の表面粗度がさらに悪
くなったり、被覆膜に空洞が形成されて膜に欠陥が生じ
たり、また、基材と被覆膜の付着力が非常に弱くなり剥
離しやすいという問題点がある。また、アルコール等で
洗浄しても除去されにくい。
【０００６】さらに、上述したダイヤモンド膜６ｂの被
覆工程は、基材を５００〜１３００℃に加熱して行われ
るため、特に、ステンレスや超硬合金等の基材に被覆し
た場合、基材と被覆膜との熱膨張度が大きく異なるため
常温に戻したときに、被覆膜に大きな熱応力が働き、結
果として、被覆膜がさらに剥離しやすいという問題点も
ある。一方、表面粗度が悪い表面に被覆した膜をスパッ
タ研磨しても、表面粗度の向上に限界があり、また、逆
に、スパッタ研磨することにより、空洞が表面に露出し
て表面粗度が悪化することもあるので、さらに人体に苦
痛を与えることになる。
【０００７】また、注射針１の表面１ｂにシリコン膜２
ｂを直接コーティングする方法は、シリコンが生体中に
注入されやすく、注入されたシリコンの発癌性等の問題
点が指摘されたことから、１９９５年にシリコンコート
された注射針の製造が中止された。
【０００８】この発明は以上のような問題点を解決する
ためになされたもので、医療・衛生用具の表面に被覆膜
をコーティングしなくても生体との摩擦抵抗を小さくし
て生体へ与える苦痛を低減することができ、生体との接
触時に侵食されない医療・衛生用具の表面処理方法及び
装置を得ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明に係る医療・衛
生用具の表面処理方法は、医療・衛生用具の生体との接
触表面を直接イオンビームもしくはプラズマを用いてス
パッタ研磨するスパッタ研磨工程を有するものである。
【００１０】また、上記スパッタ研磨工程は、真空雰囲
気中でガスイオンを電界により加速することにより、医
療・衛生用具の表面に直接イオンビームを照射してスパ
ッタ研磨することを特徴とするものである。
【００１１】また、上記スパッタ研磨工程は、ガスが導
入された真空雰囲気中で医療・衛生用具と電極との間に
電圧を印加してプラズマを発生させることにより、該医
療・衛生用具の表面に直接ガスイオンを照射してスパッ
タ研磨するようにしたことを特徴とするものである。
【００１２】また、他の発明に係る医療・衛生用具の表
面処理方法は、医療・衛生用具の生体との接触表面を直
接酸もしくはアルカリ溶液からなる電解溶液を用いて直
接電解研磨する電解研磨工程を有するものである。
【００１３】また、上記電解研磨工程は、医療・衛生用
具を電解溶液中に浸し該電解溶液中の電極と該医療・衛
生用具との間に電圧を印加して医療・衛生用具の表面を
直接電解研磨することを特徴とするものである。
【００１４】また、上記電解研磨工程は、電解溶液とし
て、フッ酸及び硝酸の混合水溶液、硫酸及びメタノール
の混合水溶液、リン酸及び無水クロム酸の混合水溶液、
もしくは、硫酸及び塩酸の混合水溶液を用いることを特
徴とするものである。
【００１５】また、上記研磨工程を経て直接研磨された
医療・衛生用具の生体との接触表面にハードコーティン
グ膜を蒸着する膜蒸着工程をさらに有することを特徴と
するものである。
【００１６】また、上記膜蒸着工程は、真空雰囲気中で
金属イオンを電界により加速することにより、上記研磨
工程を経て直接研磨された医療・衛生用具の表面に注入
もしくは照射してハードコーティング膜を形成すること
を特徴とするものである。
【００１７】また、上記膜蒸着工程は、真空雰囲気中で
医療・衛生用具の表面に金属イオンと共にガスイオンを
同時に注入もしくは照射して、その金属イオンとガスイ
オンとの割合を変えることにより、ハードコーティング
膜の組成を制御することを特徴とするものである。
【００１８】また、上記膜蒸着工程は、ハードコーティ
ング膜として、チタン、窒化チタン、もしくは、チタン
と窒化チタンの二層膜を形成することを特徴とするもの
である。
【００１９】また、上記膜蒸着工程は、医療・衛生用具
の表面からハードコーティング膜表面に向かって窒素組
成（Ｘ：０＜Ｘ＜１）が変化する窒化チタン（ＴｉＮ
ｘ）であって、ＴｉからＴｉとＴｉ2 Ｎの混晶、Ｔｉと
Ｔｉ2 Ｎの混晶からＴｉ2 Ｎ、Ｔｉ2ＮからＴｉ2 Ｎと
ＴｉＮの混晶、Ｔｉ2 ＮとＴｉＮの混晶からＴｉＮへと
窒素組成が連続的に増加するハードコーティング膜を形
成することを特徴とするものである。
【００２０】また、この発明に係る医療・衛生用具の表
面処理装置は、真空槽と、この真空槽内で医療・衛生用
具と対向配置されてガスイオンのイオンビームを電界に
より加速することにより上記医療・衛生用具の表面に直
接ガスイオンを照射してガスイオンによりスパッタ研磨
するためのガスイオン発生手段とを備えてなるものであ
る。
【００２１】また、他の発明に係る医療・衛生用具の表
面処理装置は、真空槽と、この真空槽内で医療・衛生用
具と対向配置された電極と、上記真空槽内へガスを導入
するためのガス導入手段と、上記医療・衛生用具と上記
電極との間に電圧を印加してプラズマを発生させること
により上記医療・衛生用具の表面に直接ガスイオンを照
射してスパッタ研磨するための電源とを備えてなるもの
である。
【００２２】また、上記真空槽内に、研磨された医療・
衛生用具の表面に金属イオンを注入もしくは照射するこ
とによりハードコーティング膜を形成するための金属イ
オン発生手段をさらに備えたことを特徴とするものであ
る。
【００２３】また、上記真空槽内で上記医療・衛生用具
の表面に照射するガスイオンまたは金属イオンの割合を
制御する制御手段をさらに備えたことを特徴とするもの
である。
【００２４】さらに、他の発明に係る医療・衛生用具の
表面処理装置は、酸もしくはアルカリ溶液からなる電解
溶液が注がれていて医療・衛生用具を浸してなる電解槽
と、この電解槽内で上記医療・衛生用具と対向配置され
た電極と、上記医療・衛生用具と上記電極との間に電圧
を印加して医療・衛生用具の表面を直接電解研磨するた
めの電源とを備えてなるものである。
【００２５】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．以下、この発明を図について説明する。
図１及び図２はこの発明の実施の形態１による医療・衛
生用具の表面処理方法により処理された注射針を示す概
念図である。図１及び図２において、１はこの方法で研
磨された注射針、１ａは注射針１の表面を示すものであ
る。また、３ａは注射針１の表面１ａにコーティングさ
れたハードコーティング膜である。
【００２６】実施の形態１による医療・衛生用具の表面
処理方法では、１０μｍ〜最大数十μｍの凹凸を有する
注射針１の表面を、直接、イオンビームもしくはプラズ
マを用いてスパッタ研磨したり、酸もしくはアルカリ溶
液を用いて電解研磨することにより、図１に示すよう
に、非常に清浄な環境で用具表面１ａの粗度つまり凹凸
状態を１μｍ〜２０μｍ程度に改善するもので、これに
より、生体との摩擦抵抗が小さくなり、生体への圧入時
に生体へ与える苦痛を低減することができる。
【００２７】このように、医療・衛生用具の表面を直接
スパッタ研磨または電解研磨すると、基材表面に吸着し
たり、酸化層に取り込まれている汚染物質がスパッタ時
に除去されたり、表面に露出するので、これをアルコー
ル等で洗浄することで簡単に取り除くことができる。ま
た、表面を加速したイオンビームを照射することによ
り、表面に付着している細菌のＤＮＡを破壊することが
できるので、殺菌の効果がある。もちろん、基材の表面
粗度がスパッタ研磨することで向上することにより、被
覆膜を蒸着せずに、このまま使用しても人体の苦痛を低
減することができる。
【００２８】また、医療・衛生用具の生体との接触表面
を直接スパッタ研磨もしくは電解研磨した後、ハードコ
ーティング膜３ａを蒸着するようにすると、図２に示す
ように、用具表面の凹凸状態がさらに改善され、生体と
の摩擦抵抗が小さくなるばかりではなく、表面が生体か
ら侵食されにくくなる。
【００２９】実施の形態２．次に、図３はこの発明の実
施の形態２による医療・衛生用具の表面処理方法及び装
置を説明する概念図である。図５において、１は真空槽
３０内に置かれた注射針、１０は真空槽３０内に注射針
１に対向させて置かれた少なくとも１個のガスイオン
源、１１は同じく真空槽３０内に注射針１に対向させて
置かれた少なくとも１個の金属イオン源である。なお、
ガスイオン源１０のガス導入系にはガスイオンの導入量
を調整するための調整弁１０ａが設けられている。
【００３０】次に動作について説明する。まず、真空槽
３０内を排気した後、ガス導入系によってガスイオン源
１０に、アルゴンガス、キセノンガス、酸素、窒素ガス
等のガスを導入して、ガスイオン源１０を稼働させる。
ガスイオン源１０では、放電等のイオン化手段によりガ
スをイオン化及び分解して、さらに、電界でガスイオン
に運動エネルギーを与えて、注射針１等の医療・衛生用
具の表面にガスイオンを照射すると、注射針１等の医療
・衛生用具の表面は、ガスイオンによりスパッタされ
て、表面突起部分が優先的に研磨され、表面の凹凸状態
が滑らかになる。
【００３１】また、研磨後、金属イオン源１１を稼働さ
せ、イオン化手段によりチタン、金等の金属をイオン化
して、さらに、電界で金属イオンに運動エネルギーを与
えて、研磨された注射針１等の医療・衛生用具の表面に
金属イオンを注入もしくは照射すると、表面が生体から
侵食されにくい強固なハードコーティング膜を付着させ
ることができる。このとき、金属イオンとガスイオンを
同時に照射しながら、調整弁１０ａの弁開度を調整して
注射針１に照射する窒素ガスイオンと金属イオンの比を
変えることで、形成される窒化チタン系の膜組成を、例
えば、研磨された注射針１等の医療・衛生用具の表面か
らハードコーティング膜表面に向かって、ＴｉからＴｉ
とＴｉ2 Ｎの混晶、ＴｉとＴｉ2 Ｎの混晶からＴｉ2
Ｎ、Ｔｉ2 ＮからＴｉ2 ＮとＴｉＮの混晶、Ｔｉ2 Ｎと
ＴｉＮの混晶からＴｉＮへと窒素組成を連続的に変える
ことができる。
【００３２】このように組成が連続的に変化している窒
化チタン系の硬化層では、表面ではＴｉリッチの層とな
っているので基材との密着力が向上する。また、表面層
に硬度が高いＴｉ2 ＮとＴｉＮ混合層が形成されるの
で、従来のＴｉＮより硬度を高くすることができる。ま
た、ハードコーティング膜として、チタン、窒化チタ
ン、もしくは、チタンと窒化チタンの二層膜を形成する
ようにしたため、生体の金属アレルギーを低減すること
ができる。さらに、組成を連続的に変化させるので、膜
歪が小さく切削中の剥離が起こりにくい。
【００３３】実施の形態３．次に、図４はこの発明の実
施の形態３による医療・衛生用具の表面処理方法及び装
置を説明する概念図である。図４において、１は医療・
衛生用具としての注射針、２０はフッ酸及び硝酸の混合
水溶液、硫酸及びメタノールの混合水溶液、リン酸及び
無水クロム酸の混合水溶液、もしくは、硫酸及び塩酸の
混合水溶液等の酸もしくはアルカリ溶液からなる電解溶
液２１を注いだ電解槽、２２は医療・衛生用具１等に対
向して配置された電極、２３はこの医療・衛生用具１と
電極２２間に電圧を印加する電源である。
【００３４】次に動作について説明する。電源２３によ
り、電解溶液２１を注いだ電解槽２０に浸されている注
射針１と電極２２との間に電圧を印加すると、注射針１
表面の金属が、電解溶液２１に解け出す。このとき、注
射針１表面の突起部の電界が強いために優先的に解け、
これにより、表面の凹凸状態が滑らかになる。また、こ
の方法では、電解溶液２１として、フッ酸及び硝酸の混
合水溶液、硫酸及びメタノールの混合水溶液、リン酸及
び無水クロム酸の混合水溶液、もしくは、硫酸及び塩酸
の混合水溶液を用いるようにしたので、処理コストが安
くなる。さらに、電解溶液２１中に医療・衛生用具を浸
して医療・衛生用具の表面を電解研磨するようにしたの
で、一度に多くの医療・衛生用具の表面粗度を改善する
ことができ、多くの用具の表面処理ができる。
【００３５】実施の形態４．次に、図５はこの発明の実
施の形態４による医療・衛生用具の表面処理方法及び装
置を説明する概念図である。図５において、１は注射
針、３１は真空槽３０にガスを導入するガス導入系、３
２は真空槽３０中に注射針１等に対向して配置された電
極、３３は注射針１と電極３２との間に電圧を印加する
電源である。
【００３６】次に動作について説明する。まず、真空槽
３０内を排気した後、ガス導入系３１によって真空槽３
０内に、アルゴンガス、キセノンガス、酸素、窒素ガス
等のガスを導入する。このようにして、注射針１と電極
３２との間に電圧を印加すると、プラズマ放電が電極間
で発生し、注射針１等の医療・衛生用具の表面は、ガス
イオンによりスパッタされて、突起部分が優先的に研磨
され、表面の凹凸状態が滑らかになる。
【００３７】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る医療・衛
生用具の表面処理方法によれば、医療・衛生用具の生体
との接触表面を直接イオンビームもしくはプラズマを用
いてスパッタ研磨するスパッタ研磨工程を有するので、
医療・衛生用具表面の粗度が改善され、医療・衛生用具
表面に吸着したり、酸化層に取り込まれている汚染物質
がスパッタ時に除去されて表面に露出するのでアルコー
ル等で洗浄することにより簡単に除去でき、医療・衛生
用具の表面に被覆膜をコーティングしなくても生体との
摩擦抵抗が小さくなるため、生体の苦痛が低減されると
いう効果がある。
【００３８】また、上記スパッタ研磨工程は、真空雰囲
気中でガスイオンを電界により加速することにより、医
療・衛生用具の表面に直接イオンビームを照射してスパ
ッタ研磨するようにしたので、殺菌効果を有し非常に清
浄な環境で、医療・衛生用具表面の粗度を改善すること
ができ、被覆膜を蒸着せずにこのまま使用しても人体に
与える苦痛を低減できる。
【００３９】また、上記スパッタ研磨工程は、ガスが導
入された真空雰囲気中で医療・衛生用具と電極との間に
電圧を印加してプラズマを発生させることにより、該医
療・衛生用具の表面に直接ガスイオンを照射してスパッ
タ研磨するようにしたので、非常に清浄な環境で医療・
衛生用具表面の粗度を改善することができ、被覆膜を蒸
着せずにこのまま使用しても人体に与える苦痛を低減で
きる。
【００４０】また、他の発明に係る医療・衛生用具の表
面処理方法によれば、医療・衛生用具の生体との接触表
面を酸もしくはアルカリ溶液からなる電解溶液を用いて
直接電解研磨する電解研磨工程を有するので、医療・衛
生用具表面を酸もしくはアルカリ溶液に浸すことで、殺
菌効果を有し非常に清浄な環境で医療・衛生用具表面の
粗度が改善され、医療・衛生用具表面に吸着したり、酸
化層に取り込まれている汚染物質がスパッタ時に除去さ
れて表面に露出するのでアルコール等で洗浄することに
より簡単に除去でき、医療・衛生用具の表面に被覆膜を
コーティングしなくても生体との摩擦抵抗が小さくなる
ため、生体の苦痛が低減されるという効果がある。
【００４１】また、上記電解研磨工程は、医療・衛生用
具を電解溶液中に浸し該電解溶液中の電極と該医療・衛
生用具との間に電圧を印加して医療・衛生用具の表面を
電解研磨するようにしたので、一度に多くの医療・衛生
用具の表面粗度を改善することができる。
【００４２】また、上記電解研磨工程は、電解溶液とし
て、フッ酸及び硝酸の混合水溶液、硫酸及びメタノール
の混合水溶液、リン酸及び無水クロム酸の混合水溶液、
もしくは、硫酸及び塩酸の混合水溶液を用いるようにし
たので、処理コストが安くなる。
【００４３】また、上記研磨工程を経て直接研磨された
医療・衛生用具の生体との接触表面にハードコーティン
グ膜を蒸着する膜蒸着工程をさらに有するので、生体へ
の苦痛が低減されるばかりではなく、表面が生体から侵
食されにくくなるという効果がある。
【００４４】また、上記膜蒸着工程は、真空雰囲気中で
金属イオンを電界により加速することにより、医療・衛
生用具の表面に注入もしくは照射してハードコーティン
グ膜を形成するようにしたので、表面が生体から侵食さ
れにくいハードコーティング膜を強固に付着させること
ができる。
【００４５】また、上記膜蒸着工程は、真空雰囲気中で
医療・衛生用具の表面に注入もしくは照射する金属イオ
ンと共にガスイオンを同時に注入もしくは照射して、そ
の金属イオンとガスイオンとの割合を変えることによ
り、ハードコーティング膜の組成を制御するようにした
ので、医療・衛生用具表面に注入もしくは照射する金属
イオンとガスイオンの割合を変えることで、ハードコー
ティング膜の組成を自由に制御できる。
【００４６】また、上記膜蒸着工程は、ハードコーティ
ング膜として、チタン、窒化チタン、もしくは、チタン
と窒化チタンの二層膜を形成するようにしたので、生体
への金属アレルギーを低減することができる。
【００４７】また、上記膜蒸着工程は、医療・衛生用具
の表面からハードコーティング膜表面に向かって窒素組
成（Ｘ：０＜Ｘ＜１）が変化する窒化チタン（ＴｉＮ
ｘ）であって、ＴｉからＴｉとＴｉ2 Ｎの混晶、Ｔｉと
Ｔｉ2 Ｎの混晶からＴｉ2 Ｎ、Ｔｉ2ＮからＴｉ2 Ｎと
ＴｉＮの混晶、Ｔｉ2 ＮとＴｉＮの混晶からＴｉＮへと
窒素組成が連続的に増加するハードコーティング膜を形
成するようにしたので、医療・衛生用具の表面ではＴｉ
リッチの層となり、医療・衛生用具の表面との密着力を
向上させることができる。
【００４８】また、この発明に係る医療・衛生用具の表
面処理装置は、真空槽と、この真空槽内で医療・衛生用
具と対向配置されてガスイオンのイオンビームを電界に
より加速することにより上記医療・衛生用具の表面にガ
スイオンを照射してガスイオンによりスパッタ研磨する
ためのガスイオン発生手段とを備えたので、殺菌効果を
有し非常に清浄な環境で、医療・衛生用具表面の粗度を
改善することができ、被覆膜を蒸着せずにこのまま使用
しても生体との摩擦抵抗が小さくなるため人体に与える
苦痛を低減できるという効果がある。
【００４９】また、他の発明に係る医療・衛生用具の表
面処理装置は、真空槽と、この真空槽内で医療・衛生用
具と対向配置された電極と、上記真空槽内へガスを導入
するためのガス導入手段と、上記医療・衛生用具と上記
電極との間に電圧を印加してプラズマを発生させること
により上記医療・衛生用具の表面にガスイオンを照射し
てスパッタ研磨するための電源とを備えたので、非常に
清浄な環境で、医療・衛生用具表面の粗度を改善するこ
とができ、被覆膜を蒸着せずにこのまま使用しても生体
との摩擦抵抗が小さくなるため人体に与える苦痛を低減
できるという効果がある。
【００５０】また、上記真空槽内に、研磨された医療・
衛生用具の表面に金属イオンを注入もしくは照射するこ
とによりハードコーティング膜を形成するための金属イ
オン発生手段をさらに備えたので、スパッタ研磨とハー
ドコーティング膜の形成がひとつの真空槽内で同時にで
きる。
【００５１】また、上記真空槽内で上記医療・衛生用具
の表面に照射するガスイオンまたは金属イオンの割合を
制御する制御手段をさらに備えたので、医療・衛生用具
表面に照射する金属イオンとガスイオンの割合を変える
ことにより、ハードコーティング膜の組成を自由に制御
できる。
【００５２】さらに、他の発明に係る医療・衛生用具の
表面処理装置は、酸もしくはアルカリ溶液からなる電解
溶液が注がれていて医療・衛生用具を浸してなる電解槽
と、この電解槽内で上記医療・衛生用具と対向配置され
た電極と、上記医療・衛生用具と上記電極との間に電圧
を印加して医療・衛生用具の表面を電解研磨するための
電源とを備えたので、医療・衛生用具表面を酸もしくは
アルカリ溶液に浸すことで、殺菌効果を有し非常に清浄
な環境で医療・衛生用具表面の粗度が改善され、医療・
衛生用具表面に吸着したり、酸化層に取り込まれている
汚染物質がスパッタ時に除去されて表面に露出するので
アルコール等で洗浄することにより簡単に除去でき、医
療・衛生用具の表面に被覆膜をコーティングしなくても
生体との摩擦抵抗が小さくなるため、生体の苦痛が低減
されるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の実施の形態１に係る医療・衛生用
具の表面処理方法により処理された注射針を示す概念図
である。
【図２】 図１に示す注射針に対しさらにハードコーテ
ィング膜を形成したことを示す概念図である。
【図３】 この発明の実施の形態２に係る医療・衛生用
具の表面処理方法及び装置を説明する概念図である。
【図４】 この発明の実施の形態３に係る医療・衛生用
具の表面処理方法及び装置を説明する概念図である。
【図５】 この発明の実施の形態４に係る医療・衛生用
具の表面処理方法及び装置を説明する概念図である。
【図６】 従来例による注射針を示す側面図である。
【図７】 他の従来例による注射針とその表面拡大断面
を示す説明図である。
【図８】 図７に示す注射針に対しさらにシリコン膜を
コーティングした説明図である。
【符号の説明】
１ 注射針（医療・衛生用具）、１ａ 研磨された注射
針の表面、３ａ 注射針表面にコーティングされたハー
ドコーティング膜、１０ ガスイオン発生源、１０ａ
調整弁、１１ 金属イオン発生源、２０ 電解槽、２１
電解溶液、２２ 電極、２３ 電源、３０ 真空槽、
３１ ガス導入系、３２ 電極、３３ 電源。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 医療・衛生用具の生体との接触表面を直
    接イオンビームもしくはプラズマを用いてスパッタ研磨
    するスパッタ研磨工程を有する医療・衛生用具の表面処
    理方法。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の医療・衛生用具の表面処
    理方法において、上記スパッタ研磨工程は、真空雰囲気
    中でガスイオンを電界により加速することにより、医療
    ・衛生用具の表面に直接イオンビームを照射してスパッ
    タ研磨することを特徴とする医療・衛生用具の表面処理
    方法。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の医療・衛生用具の表面処
    理方法において、上記スパッタ研磨工程は、ガスが導入
    された真空雰囲気中で医療・衛生用具と電極との間に電
    圧を印加してプラズマを発生させることにより、該医療
    ・衛生用具の表面に直接ガスイオンを照射してスパッタ
    研磨するようにしたことを特徴とする医療・衛生用具の
    表面処理方法。
  4. 【請求項４】 医療・衛生用具の生体との接触表面を直
    接酸もしくはアルカリ溶液からなる電解溶液を用いて直
    接電解研磨する電解研磨工程を有する医療・衛生用具の
    表面処理方法。
  5. 【請求項５】 請求項４記載の医療・衛生用具の表面処
    理方法において、上記電解研磨工程は、医療・衛生用具
    を電解溶液中に浸し該電解溶液中の電極と該医療・衛生
    用具との間に電圧を印加して医療・衛生用具の表面を直
    接電解研磨することを特徴とする医療・衛生用具の表面
    処理方法。
  6. 【請求項６】 請求項４または５記載の医療・衛生用具
    の表面処理方法において、上記電解研磨工程は、電解溶
    液として、フッ酸及び硝酸の混合水溶液、硫酸及びメタ
    ノールの混合水溶液、リン酸及び無水クロム酸の混合水
    溶液、もしくは、硫酸及び塩酸の混合水溶液を用いるこ
    とを特徴とする医療・衛生用具の表面処理方法。
  7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載の医
    療・衛生用具の表面処理方法において、上記研磨工程を
    経て直接研磨された医療・衛生用具の生体との接触表面
    にハードコーティング膜を蒸着する膜蒸着工程をさらに
    有することを特徴とする医療・衛生用具の表面処理方
    法。
  8. 【請求項８】 請求項７記載の医療・衛生用具の表面処
    理方法において、上記膜蒸着工程は、真空雰囲気中で金
    属イオンを電界により加速することにより、上記研磨工
    程を経て直接研磨された医療・衛生用具の表面に注入も
    しくは照射してハードコーティング膜を形成することを
    特徴とする医療・衛生用具の表面処理方法。
  9. 【請求項９】 請求項８記載の医療・衛生用具の表面処
    理方法において、上記膜蒸着工程は、真空雰囲気中で医
    療・衛生用具の表面に金属イオンと共にガスイオンを同
    時に注入もしくは照射して、その金属イオンとガスイオ
    ンとの割合を変えることにより、ハードコーティング膜
    の組成を制御することを特徴とする医療・衛生用具の表
    面処理方法。
  10. 【請求項１０】 請求項９記載の医療・衛生用具の表面
    処理方法において、上記膜蒸着工程は、ハードコーティ
    ング膜として、チタン、窒化チタン、もしくは、チタン
    と窒化チタンの二層膜を形成することを特徴とする医療
    ・衛生用具の表面処理方法。
  11. 【請求項１１】 請求項９記載の医療・衛生用具の表面
    処理方法において、上記膜蒸着工程は、医療・衛生用具
    の表面からハードコーティング膜表面に向かって窒素組
    成（Ｘ：０＜Ｘ＜１）が変化する窒化チタン（ＴｉＮ
    ｘ）であって、ＴｉからＴｉとＴｉ2 Ｎの混晶、Ｔｉと
    Ｔｉ2 Ｎの混晶からＴｉ2 Ｎ、Ｔｉ2ＮからＴｉ2 Ｎと
    ＴｉＮの混晶、Ｔｉ2 ＮとＴｉＮの混晶からＴｉＮへと
    窒素組成が連続的に増加するハードコーティング膜を形
    成することを特徴とする医療・衛生用具の表面処理方
    法。
  12. 【請求項１２】 真空槽と、この真空槽内で医療・衛生
    用具と対向配置されてガスイオンのイオンビームを電界
    により加速することにより上記医療・衛生用具の表面に
    直接ガスイオンを照射してガスイオンによりスパッタ研
    磨するためのガスイオン発生手段とを備えてなる医療・
    衛生用具の表面処理装置。
  13. 【請求項１３】 真空槽と、この真空槽内で医療・衛生
    用具と対向配置された電極と、上記真空槽内へガスを導
    入するためのガス導入手段と、上記医療・衛生用具と上
    記電極との間に電圧を印加してプラズマを発生させるこ
    とにより上記医療・衛生用具の表面に直接ガスイオンを
    照射してスパッタ研磨するための電源とを備えてなる医
    療・衛生用具の表面処理装置。
  14. 【請求項１４】 請求項１２または１３記載の医療・衛
    生用具の表面処理装置において、上記真空槽内に、研磨
    された医療・衛生用具の表面に直接金属イオンを注入も
    しくは照射することによりハードコーティング膜を形成
    するための金属イオン発生手段をさらに備えたことを特
    徴とする医療・衛生用具の表面処理装置。
  15. 【請求項１５】 請求項１４記載の医療・衛生用具の表
    面処理装置において、上記真空槽内で上記医療・衛生用
    具の表面に照射するガスイオンまたは金属イオンの割合
    を制御する制御手段をさらに備えたことを特徴とする医
    療・衛生用具の表面処理装置。
  16. 【請求項１６】 酸もしくはアルカリ溶液からなる電解
    溶液が注がれていて医療・衛生用具を浸してなる電解槽
    と、この電解槽内で上記医療・衛生用具と対向配置され
    た電極と、上記医療・衛生用具と上記電極との間に電圧
    を印加して医療・衛生用具の表面を直接電解研磨するた
    めの電源とを備えてなる医療・衛生用具の表面処理装
    置。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1066721A (ja) * 1996-08-28 1998-03-10 Showa Gomme Kk ガスクラスターイオンビームによる医療用物品の表面 処理方法
WO2003061490A1 (fr) * 2002-01-22 2003-07-31 Kawasaki Steel Corporation Instruments a usage medical revetus de ceramique, instruments revetus de ceramique pour l'etude d'organismes vivants et procede de production
JP2007014428A (ja) * 2005-07-05 2007-01-25 Univ Of Yamanashi 金属製針
JP2007195571A (ja) * 2006-01-23 2007-08-09 Shimane Univ 骨接合用骨製ネジ
JP2008522021A (ja) * 2004-11-04 2008-06-26 サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ 被覆製品及びその製造方法
CN100457210C (zh) * 2005-11-18 2009-02-04 吉林大学 无痛注射器
EP2149383A1 (en) * 2008-08-01 2010-02-03 Wen-Hung Lin Double-side coated syringe needle
WO2013115184A1 (ja) * 2012-01-31 2013-08-08 テルモ株式会社 注射針の製造方法および注射針
WO2013125430A1 (ja) 2012-02-23 2013-08-29 永田精機株式会社 穿刺針、その製造方法およびその製造装置
JP2014064612A (ja) * 2012-09-24 2014-04-17 Nagata Seiki Co Ltd 鋭利部を備える医療用・衛生用器具の製造方法および製造装置
WO2015063910A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 株式会社Ｅｆｒ 針及びその製造方法
WO2015063911A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 株式会社Ｅｆｒ 針及びその製造方法
WO2023048254A1 (ja) * 2021-09-24 2023-03-30 ニプロ株式会社 コニカル中空針の製造方法
WO2023157351A1 (ja) * 2022-02-16 2023-08-24 テルモ株式会社 穿刺針

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1066721A (ja) * 1996-08-28 1998-03-10 Showa Gomme Kk ガスクラスターイオンビームによる医療用物品の表面 処理方法
WO2003061490A1 (fr) * 2002-01-22 2003-07-31 Kawasaki Steel Corporation Instruments a usage medical revetus de ceramique, instruments revetus de ceramique pour l'etude d'organismes vivants et procede de production
CN1292717C (zh) * 2002-01-22 2007-01-03 杰富意钢铁株式会社 涂覆有陶瓷的医疗器械和生物研究器械及其制造方法
JP2008522021A (ja) * 2004-11-04 2008-06-26 サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ 被覆製品及びその製造方法
JP2007014428A (ja) * 2005-07-05 2007-01-25 Univ Of Yamanashi 金属製針
CN100457210C (zh) * 2005-11-18 2009-02-04 吉林大学 无痛注射器
JP2007195571A (ja) * 2006-01-23 2007-08-09 Shimane Univ 骨接合用骨製ネジ
EP2149383A1 (en) * 2008-08-01 2010-02-03 Wen-Hung Lin Double-side coated syringe needle
JPWO2013115184A1 (ja) * 2012-01-31 2015-05-11 テルモ株式会社 注射針の製造方法および注射針
WO2013115184A1 (ja) * 2012-01-31 2013-08-08 テルモ株式会社 注射針の製造方法および注射針
US9265896B2 (en) 2012-02-23 2016-02-23 Shinmaywa Industries, Ltd. Method for manufacturing puncture needle
KR101472367B1 (ko) * 2012-02-23 2014-12-12 신메이와 인더스트리즈,리미티드 천자침, 그의 제조 방법 및 그의 제조 장치
WO2013125430A1 (ja) 2012-02-23 2013-08-29 永田精機株式会社 穿刺針、その製造方法およびその製造装置
JP2014064612A (ja) * 2012-09-24 2014-04-17 Nagata Seiki Co Ltd 鋭利部を備える医療用・衛生用器具の製造方法および製造装置
WO2015063910A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 株式会社Ｅｆｒ 針及びその製造方法
WO2015063911A1 (ja) * 2013-10-31 2015-05-07 株式会社Ｅｆｒ 針及びその製造方法
JPWO2015063910A1 (ja) * 2013-10-31 2017-03-09 株式会社Ｅｆｒ 針及びその製造方法
JPWO2015063911A1 (ja) * 2013-10-31 2017-03-09 株式会社Ｅｆｒ 針及びその製造方法
US10086150B2 (en) 2013-10-31 2018-10-02 Efr Co., Ltd. Needle and method for manufacturing the same
WO2023048254A1 (ja) * 2021-09-24 2023-03-30 ニプロ株式会社 コニカル中空針の製造方法
WO2023157351A1 (ja) * 2022-02-16 2023-08-24 テルモ株式会社 穿刺針

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