JP2005278401A - 光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンの製造方法 - Google Patents

光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】医薬品の中間体、例えば抗HIV薬として有用なことが知られている薬剤(WO01/40227)の中間体である光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン若しくはそのBoc体を簡単かつ効率よく取得する方法を提供する。
【解決手段】一般式(1):
【化1】
Figure 2005278401

(式(1)中、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を表し、R2はフェニル基もしくはシクロヘキシル基を意味する。)
で示されるDL−エリスロ−3−置換セリンのN−アシル体をL−アミノアシラーゼもしくは同酵素を固定化したものにより不斉加水分解することを特徴とする、一般式(2):
【化2】
Figure 2005278401

(式(2)中、R1、R2は、式(1)と同じ意味を表す。)
で示されるN−アシル−D−エリスロ−3−置換セリンの製造方法。

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬品の中間体、例えば抗HIV薬として有用なことが知られている薬剤(WO01/40227)の中間体であるD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン若しくはそのN−t−ブトキシカルボニル体(以下、Boc体という)を製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ(J.Am.Chem.Soc.)1953,75,3417.,1953,75,3421.(非特許文献1)には、ベンズアルデヒドとグリシンを強アルカリ存在下で縮合させることによりDL−スレオ/エリスロ−3−フェニルセリンを得、スレオ/エリスロ体の相互分離処理を行う方法が開示されている。そこで、光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得る方法としては、シクロヘキシルアルデヒドとグリシンを強アルカリ存在下で縮合させることによりDL−スレオ/エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得た後、スレオ/エリスロ体の相互分離処理を行う方法が採用されることが考えられる。
【0003】
しかし、上記方法では、シクロヘキシルアルデヒドとグリシンを縮合して3−シクロヘキシルセリンを合成すると、反応の立体選択性が低いために、スレオ/エリスロ、D/Lの組み合わせで4種類の異性体が不可逆的に生成する上に、スレオ体の方がエリスロ体よりも優先的に生成する。それ故L−またはD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンの合成に当たっては、これら異性体を分離するための繁雑な工程を必要とし、工業的製造法を開発する上で大きな問題となっていた。特に、エリスロ体はスレオ体よりも生成比が少ないことが問題となり、また、従来のD/L体の光学分割法は試用する光学分割剤が高価であるだけでなく、工程及びその制御が複雑で収率も低いという問題があった。
【0004】
上記以外の方法として、不斉合成法を用いる方法が知られている(ジャーナルオブ・オーガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)1998,63,3631−3646;非特許文献2)。即ち、L−セリンを出発物質としカルボン酸部分を保護基により保護した後、水酸基をアルデヒドへ酸化し、さらにグリニャール不斉付加反応により光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得る方法である。しかし、この方法は工程が非常に長く、収率も低いので、工業的製造法とは言い難い。一方、D−スレオニンアルドラーゼを用いる酵素的分割法が知られている(特開平06−125787;特許文献1)。即ち、D−スレオニンアルドラーゼにより一方の3−シクロヘキシルセリンをグリシンとシクロヘキシルアルデヒドに分解し、もう一方の必要な3−シクロヘキシルセリンを得る方法である。しかし、この方法は反応の基質の濃度が限定される上、得られる生成物の単離が難しく、これも工業的製造法とは言い難い。
【0005】
【特許文献1】
特開平06−125787号公報(第2、5−14頁)
【非特許文献1】
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ(J.Am.Chem.Soc.)1953年,75巻,p3417.,1953年,75巻,p3421.
【非特許文献2】
ジャーナルオブ・オーガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)1998年,63巻,p3631−3646
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン若しくはそのBoc体の効率的、且つ工業的な製法の開発が望まれている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得る方法に関し鋭意検討を行った結果、L/D−アミノアシラーゼがN−アシル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンに作用し、目的とする光学活性−エリスロ−3−フェニルセリンを高効率かつ高光学活性で得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、
【0008】
(1)一般式(1):
【0009】
【化12】
Figure 2005278401
【0010】
(式(1)中、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を表し、R2はフェニル基もしくはシクロヘキシル基を意味する。)
で示されるDL−エリスロ−3−置換セリンのN−アシル体をL−アミノアシラーゼもしくは同酵素を固定化したものにより不斉加水分解することを特徴とする、一般式(2):
【0011】
【化13】
Figure 2005278401
【0012】
(式(2)中、R1、R2は、式(1)と同じ意味を表す。)
で示されるN−アシル−D−エリスロ−3−置換セリンの製造方法、
(2)R1が炭素数1ないし5のアルカノイル基である前項(1)記載の製造方法、
(3)R1がアセチル基である前項(1)又は(2)記載の製造方法、
(4)一般式(1)
【0013】
【化14】
Figure 2005278401
【0014】
(式(1)中、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を表し、R2はフェニル基もしくはシクロヘキシル基を意味する。)
で示されるDL−エリスロ−3−置換セリンのN−アシル体をD−アミノアシラーゼもしくは同酵素を固定化したものを作用させて加水分解することを特徴とする、一般式(3):
【0015】
【化15】
Figure 2005278401
【0016】
(式(3)中、R2はフェニル基もしくはシクロヘキシル基を意味する。)
で示されるD−エリスロ−3−置換セリンの製造方法、
(5)R1が炭素数1ないし5のアルカノイル基である前項(4)記載の製造方法、
(6)R1がアセチル基である前項(4)又は(5)に記載の製造方法、
(7)前項(1)ないし(3)のいずれか一項に記載の製造方法で得られた下記式(C):
【0017】
【化16】
Figure 2005278401
【0018】
(式(C)中、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を表す。)
で示されるN−アシル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを、ロジウム−カーボンにより接触水素還元して下記式(D):
【0019】
【化17】
Figure 2005278401
【0020】
(式(D)中、R1は、式(C)と同じ意味を示す。)
で示されるN−アシル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンとし、さらに上記式(D)を加水分解することを特徴とする、下記式(E):
【0021】
【化18】
Figure 2005278401
【0022】
で示されるD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンの製造方法、
(8)前項(4)ないし(6)のいずれか一項に記載の方法で得られた下記式(G):
【0023】
【化19】
Figure 2005278401
【0024】
で示されるD−エリスロ−3−フェニルセリンを、ジ−t−ブチルジカルボナートによりBoc化して下記式(H):
【0025】
【化20】
Figure 2005278401
【0026】
で示されるN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−フェニルセリンとし、さらに上記式(H)をロジウム−カーボンにより接触水素還元することを特徴とする、下記式(F):
【0027】
【化21】
Figure 2005278401
【0028】
で示されるN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンの製造方法、
(9)下記式(D)':
【0029】
【化22】
Figure 2005278401
【0030】
で示されるN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン、
に関する。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の製造方法において用いられる前記一般式(1)は、たとえばジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ(J.Am.Chem.Soc.)1953,75,238.,1953,75,89.に記載の方法に準じて得ることが出来る。
【0032】
本発明の製造方法で用いられるL/Dアミノアシラーゼとは、動物由来、微生物由来、及び菌体由来のものがあり、特に規制はなく使用できるが、例えばアシラーゼアマノ(商品名、天野エンザイム株式会社製)等が挙げられ、これら容易に市場にて購入する事ができる。
また固定化とは酵素や菌体等を高分子担体等に保持し回収再利用できるように加工することであり、担体結合法や架橋重合法、ゲル包括法などあるが、特に規制はなく、利用できる。
【0033】
本発明の製造方法において、前記一般式(1)、(2)、(3)及び前記式(C)、(D)において、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を意味する。
1としての炭素数1ないし10のアルカノイル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、i−ブチリル基、n−ペンタノイル基、i−ペンタノイル基等が挙げられる。また、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基におけるハロゲン原子としては塩素、臭素原子等が挙げられ、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基の具体例としてはクロロアセチル基、クロロプロピオニル基、クロロブチリル基等が挙げられる。そして、ハロゲン原子により置換されたベンゾイル基におけるハロゲン原子としては塩素、臭素原子等が挙げられ、ハロゲン原子により置換されたベンゾイル基の具体例としてはクロロベンゾイル基、ブロモベンゾイル基等が挙げられる。しかしながら、R1は、本酵素で離脱されてDL−エリスロ−3−置換セリンを生成し得る置換カルボニル基であればどのような基であってもよい。
本発明の製造方法においては、R1としては、上記官能基の中で、好ましくは炭素数1ないし5のアルカノイル基が挙げられ、特に好ましくはアセチル基である。
【0034】
次いで、本発明の製造方法を、つぎに示される反応図式(1)、(2)、(3)および(4)によって具体的に説明する。以下においてはR1=アセチル基の例を用いて説明するが、その他のR1としての官能基についても同様に適用出来る。
【0035】
【化23】
Figure 2005278401
【0036】
本発明の製造方法の1ルートである上記反応図式(1)は、式(A)のDL−エリスロ−3−フェニルセリンをアセチル化する第1工程、ついで式(B)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンをL−アミノアシラーゼにより不用な立体のものを加水分解して除去し、式(C)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを得る第2工程、さらに第3工程では式(C)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリンをロジウム−カーボンにより接触水素還元し、式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得、ついで第4工程では式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを塩酸により加水分解し、式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得、さらに、第5工程では式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンをジ−t−ブチルジカルボナートによりBoc化し式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを製造する方法である。
【0037】
なお第2工程では式(B)の化合物をL−アミノアシラーゼにより不用な立体のものを加水分解して除去し、式(C)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを得て、さらに第3工程で式(C)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリンをロジウム−カーボンにより接触水素還元し、式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンをえているが、この2つの工程は前後入れ替わっても構わない。しかしながら、接触水素還元で用いるロジウム−カーボンの価格が高価であるため、経済的にこの順番が望ましい。
【0038】
尚、上記反応図式(1)においては、第2工程における式(C)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを得た後、加水分解を行い式(G)のD−エリスロ−3−フェニルセリンを得、ついで下記反応図式(2)に示した第3工程へと続くような合成ルートを辿っても構わない。
【0039】
【化24】
Figure 2005278401
【0040】
本発明の製造方法の別ルートである上記反応図式(2)は、式(A)のDL−エリスロ−3−フェニルセリンをアセチル化する第1工程、ついで式(B)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンをD−アミノアシラーゼにより不用な立体のものを加水分解して除去し、式(G)のD−エリスロ−3−フェニルセリンを得る第2工程、さらに第3工程では式(G)のD−エリスロ−3−フェニルセリンをジ−t−ブチルジカルボナートによりBoc化し式(H)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを得ついで第4工程では式(H)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−フェニルセリンをロジウム−カーボンにより接触水素還元し、式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを製造する方法である。
【0041】
【化25】
Figure 2005278401
【0042】
本発明における製造方法の他のルートである上記反応図式(3)は、式(I)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンをL−アミノアシラーゼにより不用な立体のものを加水分解して除去し、式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得る第1工程、さらに第2工程では式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを加水分解し、式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得、続いて第3工程では式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンをジ−t−ブチルジカルボナートによりBoc化し式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを製造する方法である。
【0043】
【化26】
Figure 2005278401
【0044】
本発明における製造方法の他のルートである上記反応図式(4)は、式(I)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンをD−アミノアシラーゼにより不用な立体のものを加水分解して除去し、式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得る第1工程、さらに第2工程では式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンをジ−t−ブチルジカルボナートによりBoc化し式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを製造する方法である。
【0045】
更に各工程を詳しく説明する。
まず、本発明の製造方法における前記反応図式(1)について具体的に説明する。
前記反応図式(1)の式(A)のDL−エリスロ−3−フェニルセリンは次のようにして調製できる。たとえば(ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ(J.Am.Chem.Soc.)1953,75,238.,1953,75,89.)に記載の方法により、エチルベンゾイルアセテートからエチルベンゾイルオキシイミノアセテートを経てこれをパラジウム−カーボンにより接触水素還元し得られたDL−エリスロ−3−フェニルセリンエチルエステルを加水分解することにより得ることが出来る。
【0046】
前記反応図式(1)の第1工程におけるアセチル化は一般的な手法により調整できる。たとえば、セオドア ダブリュー グリーン(Theodor W.Green)著、「プロテクティブ・グループ・イン・オーガニック・シンセシス(“Protective Group in Organic Synthesis”)」(ジョーン ウィリー アンド サンズ(John Willey& Sons)出版、(1981))の550項から563項に記載されているような各種の手法が挙げられる。すなわち式(A)のDL−エリスロ−3−フェニルセリンを水など一般的に用いられる溶媒に溶解し水酸化ナトリウムと無水酢酸を同時に滴下することにより、目的とする式(B)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンを得ることが出来る。
【0047】
前記反応図式(1)の第2工程におけるエステル加水分解酵素としてはL−アミノアシラーゼを挙げることができ、これを用い式(B)で示されるN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンを不斉加水分解すると、式(C)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを得ることが出来る。
アセチル加水分解酵素を用い、本発明の方法を実施する場合には、式(B)で示されるN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンをpH4〜10、好ましくはpH6〜10に調整した水溶液または緩衝溶液に懸濁するか溶解し、式(B)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンに対して酵素を好ましくは0.001〜0.1重量比添加し、0〜80℃、好ましくは20〜60℃で撹拌することにより反応を進行せしめる。反応は通常1時間〜数日間で完了する。反応が完了するまでの間、反応液をpH6〜10に保つことが好ましい。
上記の水溶液としては硫酸、塩酸、リン酸等の鉱酸、酢酸、クエン酸等の有機酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、酢酸ナトリウム、塩化ナトリウム等の塩を添加した水溶液を用いる事が出来る。緩衝溶液としてはリン酸二水素カリウム−水酸化ナトリウム、リン酸二水素カリウム−リン酸二水素ナトリウム、フタル酸水素カリウム−塩酸、グリシン−塩化ナトリウム−水酸化ナトリウム等の一般的緩衝溶液が用いられるが、反応を妨げるもの以外は特に制限はない。また、本発明を実施する場合、必要に応じてメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、t−ブタノールの如きアルコール系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの如きエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶媒、トリエチルアミン、ピリジン等のアミン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒またはソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノラウレート等の如き界面活性剤を添加することもできる。
【0048】
前記反応図式(1)の第3工程における接触水素還元は一般的な手法により調整できる。たとえば日本化学会編「新実験化学講座15[II]」(丸善株式会社出版、1977年)の333項から448項に記載されているような接触水素添加の方法を用いれば良い。すなわち式(C)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリンをメタノールなどのアルコール系溶媒に溶解し、水素添加触媒として、たとえばロジウム−カーボンなどの触媒を用い接触水素還元を行うと目的とする式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。さらに式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンは新規な化学物質であり、目的とする式(E)を得るための重要な化合物である。
【0049】
前記反応図式(1)の第4工程における加水分解反応は一般的な手法により調整できる。たとえば、セオドア ダブリュー グリーン(Theodor W.Green)著、「プロテクティブ・グループ・イン・オーガニック・シンセシス(“Protective Group in Organic Synthesis”)」(ジョーン ウィリー アンド サンズ(John Willey & Sons)出版、(1981))の550項から563に記載されているような各種の手法が挙げられる。すなわち式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを水など一般的に用いられる溶媒に溶解し、酸としてたとえば塩酸などを加え加熱還流させることにより目的とする式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
【0050】
前記反応図式(1)の第5工程におけるN−t−ブトキシ化は一般的な手法により調整できる。たとえば、セオドア ダブリュー グリーン(TheodorW.Green)著、「プロテクティブ・グループ・イン・オーガニック・シンセシス(“Protective Group in Organic Synthesis”)」(ジョーン ウィリー アンド サンズ(John Willey & Sons)出版、(1981))の503項から549項に記載されているような各種の手法が挙げられる。すなわち式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンにたとえばジ−t−ブチルカルバマートを作用させることにより、目的とする式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
【0051】
ついで、本発明の製造方法における前記反応図式(2)について具体的に説明する。
【0052】
本発明の製造方法における前記反応図式(2)の式(A)のDL−エリスロ−3−フェニルセリンは、前記の反応図式(1)における式(A)の合成法と同様な方法で目的とするDL−エリスロ−3−フェニルセリンを得ることが出来る。
【0053】
前記反応図式(2)の第1工程は、前記反応図式(1)の第1工程と同様な方法で目的とする式(B)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンを得ることが出来る。
【0054】
前記反応図式(2)の第2工程におけるエステル加水分解酵素としてはD−アミノアシラーゼを挙げることができ、これを用い、式(B)で示されるN−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリンを不斉加水分解すると、式(G)のD−エリスロ−3−フェニルセリンを得ることが出来る。
アセチル加水分解酵素を用いる条件としては、前記反応図式(1)の第2工程と同様である。
【0055】
前記反応図式(2)の第3工程におけるN−t−ブトキシ化は、前記反応図式(1)の第5工程で示した方法により、目的とする式(H)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを得ることが出来る。
【0056】
前記反応図式(2)の第4工程における接触水素還元は、前記反応図式(1)の第3工程で示した方法により、目的とする式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
【0057】
ついで、本発明の製造方法における反応図式(3)について、具体的に説明する。
【0058】
本発明の製造方法における反応図式(3)の式(N)のDL−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンは次のようにして調製できる。たとえば(ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ(J.Am.Chem.Soc.)1953,75,238.,1953,75,89.)に記載の方法により、エチルベンゾイルアセテートからエチルベンゾイルオキシイミノアセテートを経てこれをパラジウム−カーボンにより接触水素還元し得られたDL−エリスロ−3−フェニルセリンエチルエステルを加水分解することにより得、さらにこれを前記反応図式(1)の第1工程と同様の合成法によりアセチル化し、前記反応図式(1)の第3工程と同様の方法により接触水素還元することにより、目的とする式(I)のDL−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
【0059】
前記反応図式(3)の第1工程におけるエステル加水分解酵素としてはL−アミノアシラーゼを挙げることができ、これを用い式(I)で示されるN−アセチル−DL−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを不斉加水分解すると、式(D)'のN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
アセチル加水分解酵素を用いる条件としては、前記反応図式(1)の第2工程と同様である。
【0060】
前記反応図式(3)の第2工程における加水分解は、前記反応図式(1)の第4工程で示した方法により、目的とする式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
【0061】
前記反応図式(3)の第3工程におけるN−t−ブトキシ化は、前記反応図式(1)の第5工程と同様の方法により、目的とする式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
【0062】
ついで、本発明の製造方法における反応図式(4)について、具体的に説明する。
【0063】
本発明の製造方法における反応図式(4)の式(I)のN−アセチル−DL−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンは、前記反応図式(3)と同様な方法により得ることが出来る。
【0064】
前記反応図式(4)の第1工程におけるエステル加水分解酵素としてはD−アミノアシラーゼを挙げることができ、これを用い、式(I)で示されるN−アセチル−DL−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを不斉加水分解すると、式(E)のD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
アセチル加水分解酵素を用いる条件としては、前記反応図式(1)の第2工程と同様である。
【0065】
前記反応図式(4)の第2工程におけるN−t−ブトキシ化は、前記反応図式(1)の第5工程に記載の方法により、目的とする式(F)のN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンを得ることが出来る。
【0066】
なお、本願発明の方法で得られた光学活性−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン若しくはそのBoc体を用いてWO01/40227の実施例45,46等に記載の方法で抗HIV薬として有用な薬剤が得られる。
【0067】
【実施例】
以下、実施例により本発明の方法をさらに詳しく説明するが、本発明は実施例により限定されるものではない。例中%は重量%を示す。
【0068】
参考例1
N−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリン(式(B))の製造
DL−エリスロ−3−フェニルセリンエチルエステル11.0gを水30mlに懸濁させ40℃に加温させたのち、10%水酸化ナトリウム水溶液42mlを滴下後、さらに65℃に加温し2時間撹拌した。この溶液を5℃に冷却したのち、無水酢酸4.6gと1N−水酸化ナトリウム水溶液を同時にpH10〜13、10℃以下を保ちながら滴下し、その後室温で一晩撹拌した。
この溶液を塩酸によりpH1とした後、酢酸エチルにより抽出を行い、得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥後、減圧濃縮し、酢酸エチルとn−ヘキサンにより晶析し得られた結晶を濾過後、真空乾燥し、N−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリン(式(B))5.79gを得た。
1H−NMR(200MHz,CD3OD:δ7.42−7.28(m,5H),δ4.97(d,1H)δ4.76(d,1H)δ1.86(s,3H)
【0069】
実施例1
N−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリン(式(C)')の製造
N−アセチル−DL−エリスロ−3−フェニルセリン(式(B))2.23gに水100mlを加え懸濁しアンモニア水にてpH8に調整し、水浴バスにより内温を37℃±5℃に設定した。これにL−アミノアシラーゼ(アミノアシラーゼ「アマノ」、天野エンザイム株式会社製)200mgを加え37℃±5℃にて68時間撹拌した後、さらにL−アミノアシラーゼ100mgを加えアンモニア水にてpH8に調整し24時間反応した。
この反応液に酢酸を加えpH5とした後、60℃に加温し1時間撹拌後、不溶物を濾過・除去した。これを減圧濃縮し後、1N−塩酸水溶液によりpH3とし、食塩を加え酢酸エチルにより抽出を行い、得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥後、減圧濃縮し、N−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリン(式(C)')0.9gを得た。
【0070】
実施例2
(1)N−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン(式(D)')の製造
実施例1で得られたN−アセチル−D−エリスロ−3−フェニルセリン(式(C)')0.9gをメタノール20mlに溶解し5%ロジウム−カーボンを加え、0.9Mpaの水素圧下、50℃で4時間撹拌した。得られた混合物を濾過したのち減圧濃縮し、N−アセチル−D−エリスロ−シクロヘキシルセリン(式(D)')1.0gを得た。
【0071】
(2)D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン(式(E))の製造
N−アセチル−D−3−エリスロ−シクロヘキシルセリン(式(D)')1.0gを水10ml、塩酸3mlに懸濁させ、3時間加熱還流させその後、減圧濃縮し得られた残渣に水40mlを加え、28%アンモニア水によりpH7として晶析させ、結晶を濾過しD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン(式(E))0.46gを得た。
【0072】
(3)N−t−ブトキシカルボニル−D−3−エリスロ−シクロヘキシルセリン(式(F))の製造
D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン(式(E))0.46gを水10mlに懸濁し、水酸化ナトリウム0.11gを加え10℃以下に冷却した。その後、アセトン10mlを加えジ−t−ブチルジカルボナート0.54gをアセトン10mlに溶解したものを滴下し、室温で一晩撹拌した。反応液を塩酸により酸性としたのち、酢酸エチルにより抽出を行い、得られた有機層を飽和食塩水により洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥後、減圧濃縮し、残渣にn−ヘプタンを加え晶析後、濾過しN−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン(式(F))0.65gを得た。
1H−NMR(200MHz,CD3OD:δ4.33(d,1H),δ3.72(dd,1H),δ1.05(s,9H),δ2.07−0.94(m,11H)
【0073】
【発明の効果】
本発明の製造方法は、化学合成法や光学分割剤を用いる方法に比し、安価かつ簡便かつ高効率、さらに有機溶媒の使用量を押さえることが出来るため、低環境負荷で、且つ工業的な製造方法である。

Claims (9)

  1. 一般式(1):
    Figure 2005278401
    (式(1)中、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を表し、R2はフェニル基もしくはシクロヘキシル基を意味する。)
    で示されるDL−エリスロ−3−置換セリンのN−アシル体をL−アミノアシラーゼもしくは同酵素を固定化したものにより不斉加水分解することを特徴とする、一般式(2):
    Figure 2005278401
    (式(2)中、R1、R2は、式(1)と同じ意味を表す。)
    で示されるN−アシル−D−エリスロ−3−置換セリンの製造方法。
  2. 1が炭素数1ないし5のアルカノイル基である請求項1に記載の製造方法。
  3. 1がアセチル基である請求項1又は2に記載の製造方法。
  4. 一般式(1)
    Figure 2005278401
    (式(1)中、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を表し、R2はフェニル基もしくはシクロヘキシル基を意味する。)
    で示されるDL−エリスロ−3−置換セリンのN−アシル体をD−アミノアシラーゼもしくは同酵素を固定化したものを作用させて加水分解することを特徴とする、一般式(3):
    Figure 2005278401
    (式(3)中、R2はフェニル基もしくはシクロヘキシル基を意味する。)
    で示されるD−エリスロ−3−置換セリンの製造方法。
  5. 1が炭素数1ないし5のアルカノイル基である請求項4に記載の製造方法。
  6. 1がアセチル基である請求項4又は5に記載の製造方法。
  7. 請求項1ないし3のいずれか一項に記載の製造方法で得られた下記式(C):
    Figure 2005278401
    (式(C)中、R1は、炭素数1ないし10のアルカノイル基、ベンゾイル基、ハロゲン原子により置換された炭素数1ないし5のアルカノイル基又はハロゲン原子により置換されたベンゾイル基を表す。)
    で示されるN−アシル−D−エリスロ−3−フェニルセリンを、ロジウム−カーボンにより接触水素還元して下記式(D):
    Figure 2005278401
    (式(D)中、R1は、式(C)と同じ意味を示す。)
    で示されるN−アシル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンとし、さらに上記式(D)を加水分解することを特徴とする、下記式(E):
    Figure 2005278401
    で示されるD−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンの製造方法。
  8. 請求項4ないし6のいずれか一項に記載の方法で得られた下記式(G):
    Figure 2005278401
    で示されるD−エリスロ−3−フェニルセリンを、ジ−t−ブチルジカルボナートによりBoc化して下記式(H):
    Figure 2005278401
    で示されるN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−フェニルセリンとし、さらに上記式(H)をロジウム−カーボンにより接触水素還元することを特徴とする、下記式(F):
    Figure 2005278401
    で示されるN−t−ブトキシカルボニル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリンの製造方法。
  9. 下記式(D)':
    Figure 2005278401
    で示されるN−アセチル−D−エリスロ−3−シクロヘキシルセリン。
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