JP2005276954A - 半導体可変抵抗素子、受光用半導体集積回路装置、光ディスク記録装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る半導体可変抵抗素子10は、基板1と、基板1上に形成され第1導電型を有する半導体層2と、その半導体層2中に形成され第2導電型を有する複数の拡散抵抗3と、その半導体層2上に形成された絶縁膜4と、その絶縁膜4上に形成された制御電極5とを備える。複数の拡散抵抗3のそれぞれは、絶縁膜4に接するように形成される。また、制御電極5は、複数の拡散抵抗3をまたぐように形成される。
【選択図】 図3
Description
最初に、本発明に係る半導体可変抵抗素子の構成及び動作について説明する。図3は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体可変抵抗素子10の構造を示す平面図である。また、図4A及び図4Bは、図3における鎖線A−Aに沿った半導体可変抵抗素子10の断面図である。
動作例1において、エピタキシャル層2の導電型はn型であり、拡散抵抗3の導電型はp型であり(図4A参照)、電流Ipが第1端子11から第2端子12へ流れているとする。この時、半導体可変抵抗素子10における抵抗率Rvは、1/Rv=1/Raにより与えられる。また、この場合、拡散抵抗3aにおいて、端部E1の電位の方が端部E2の電位より高い。拡散抵抗3a〜3dは、端部E2において接続されているので、拡散抵抗3b〜3dの電位は、拡散抵抗3aの端部E2における電位と略等しくなる。つまり、チャネル領域C1付近(図4A参照)において、拡散抵抗3aの電位は、拡散抵抗3bの電位より高くなる。
動作例2において、エピタキシャル層2の導電型はn型であり、拡散抵抗3の導電型はp型であり(図4A参照)、電流Ipが第2端子12から第1端子11へ流れているとする。この時、拡散抵抗3aにおいて、端部E2の電位の方が端部E1の電位より高い。つまり、チャネル領域C1付近において、拡散抵抗3bの電位は、拡散抵抗3aの電位より高くなる。ここで、動作例2によれば、制御電極5には、絶対値が徐々に増加するように「負」の制御電圧Vcgが印加される。この時、拡散抵抗3bからの正孔が、チャネル領域C1の絶縁膜4との界面付近に集まり始める。
動作例3において、エピタキシャル層2の導電型はp型であり、拡散抵抗3の導電型はn型であり(図4B参照)、電流Ipが第1端子11から第2端子12へ流れているとする。この時、拡散抵抗3aにおいて、端部E1の電位の方が端部E2の電位より高い。つまり、チャネル領域C1付近において、拡散抵抗3aの電位は、拡散抵抗3bの電位より高くなる。ここで、動作例3によれば、制御電極5には、絶対値が徐々に増加するように「正」の制御電圧Vcgが印加される。この時、拡散抵抗3bからの電子が、チャネル領域C1の絶縁膜4との界面付近に集まり始める。
動作例3において、エピタキシャル層2の導電型はp型であり、拡散抵抗3の導電型はn型であり(図4B参照)、電流Ipが第2端子12から第1端子11へ流れているとする。この時、拡散抵抗3aにおいて、端部E2の電位の方が端部E1の電位より高い。つまり、チャネル領域C1付近において、拡散抵抗3bの電位は、拡散抵抗3aの電位より高くなる。ここで、動作例4によれば、制御電極5には、絶対値が徐々に増加するように「正」の制御電圧Vcgが印加される。この時、拡散抵抗3aからの電子が、チャネル領域C1の絶縁膜4との界面付近に集まり始める。
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体可変抵抗素子10の構造を示す平面図である。図6において、図3に示された構成と同様の構成には同一の符号が付され、その説明は適宜省略される。本実施の形態において、複数の拡散抵抗3a〜3eのそれぞれは、コンタクト6a〜6eを介して第2端子12に接続される。また、第1端子11は、コンタクト6fを介して、拡散抵抗3cの端部E1近傍に接続される。このように、本発明に係る半導体可変抵抗素子10において、第1端子11に接続される1つの拡散抵抗3は、複数の拡散抵抗3(3a〜3e)のうちいずれでもよい。
図7は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体可変抵抗素子10の構造を示す平面図である。図7において、図3に示された構成と同様の構成には同一の符号が付され、その説明は適宜省略される。本実施の形態によれば、第1の実施の形態の場合と同様に、制御電極5は、複数の拡散抵抗3(3a〜3d)をまたぐように形成される。但し、その制御電極5は直線的な形状に限られない。図7に示されるように、制御電極5は、屈曲部を有するように形成されてもよい。
次に、図8A〜図8Cを参照して、本発明に係る半導体可変抵抗素子10の製造方法を説明する。まず、図8Aに示されるように、シリコン等の基板1上に、エピタキシャル成長によってエピタキシャル層2が形成される。例えば、基板1の導電型はp型であり、エピタキシャル層2の導電型はn型である。また、エピタキシャル層2の膜厚は、1〜10μmである。
2 エピタキシャル層
3 拡散抵抗
4 絶縁膜
5 制御電極
6 コンタクト
10 半導体可変抵抗素子
11 第1端子
12 第2端子
20 レーザー光モニターIC
21 ICチップ
22 フォトダイオード
25 出力端子
30 アンプ
31 内蔵抵抗
40 レーザー光
50 外部可変電源
60 受光装置
70 レーザー
80 光ディスク記録装置
Claims (17)
- 基板と、
前記基板上に形成され第1導電型を有する半導体層と、
前記半導体層中に形成され第2導電型を有する複数の拡散抵抗と、
前記半導体層上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成された制御電極と
を具備し、
前記複数の拡散抵抗のそれぞれは、前記絶縁膜に接するように形成され、
前記制御電極は、前記複数の拡散抵抗をまたぐように形成された
半導体可変抵抗素子。 - 請求項1に記載の半導体可変抵抗素子において、
前記複数の拡散抵抗は、第1方向に沿って互いに平行に形成された
半導体可変抵抗素子。 - 請求項2に記載の半導体可変抵抗素子において、
前記制御電極は、第2方向に沿って形成され、
前記第1方向と前記第2方向は交差する
半導体可変抵抗素子。 - 請求項3に記載の半導体可変抵抗素子において、
前記第1方向と前記第2方向は直角である
半導体可変抵抗素子。 - 請求項2に記載の半導体可変抵抗素子において、
前記制御電極は、
隣接する前記拡散抵抗のそれぞれをまたぐように形成される複数の第1制御電極と、
前記複数の第1制御電極の間を接続する複数の第2制御電極と
を備える
半導体可変抵抗素子。 - 請求項5に記載の半導体可変抵抗素子において、
前記複数の第1制御電極は、第2方向に沿って形成され、
前記複数の第2制御電極は、第3方向に沿って形成され、
前記第2方向と前記第1方向は交差する
半導体可変抵抗素子。 - 請求項6に記載の半導体可変抵抗素子において、
前記第2方向と前記第1方向は直角であり、
前記第3方向と前記第1方向は平行である
半導体可変抵抗素子。 - 請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体可変抵抗素子において、
前記半導体層は、エピタキシャル層である
半導体可変抵抗素子。 - 請求項1乃至8のいずれかに記載の半導体可変抵抗素子において、
前記第1導電型はp型であり、
前記第2導電型はn型であり、
前記制御電極には、正の電圧が印加される
半導体可変抵抗素子。 - 請求項1乃至8のいずれかに記載の半導体可変抵抗素子において、
前記第1導電型はn型であり、
前記第2導電型はp型であり、
前記制御電極には、負の電圧が印加される
半導体可変抵抗素子。 - 請求項1乃至10のいずれかに記載の半導体可変抵抗素子において、
前記複数の拡散抵抗の1つに接続される第1端子と、
前記複数の拡散抵抗の全てに接続される第2端子と
を更に具備し、
前記第1端子は、前記1つの拡散抵抗の一端に接続され、
前記第2端子は、前記1つの拡散抵抗の他端に接続される
半導体可変抵抗素子。 - 請求項1乃至11のいずれかに記載の半導体可変抵抗素子と、
前記半導体可変抵抗素子の前記制御電極に接続された可変電圧電源と
を具備し、
前記半導体可変抵抗素子の抵抗率は、前記制御電極に印加される電圧を変化させることによって制御される
可変抵抗装置。 - 請求項11に記載の半導体可変抵抗素子を用いるアンプと、
前記第1端子と前記第2端子のうち一方に接続された半導体受光素子と、
前記第1端子と前記第2端子のうち他方に接続された出力端子と
を具備し、
前記半導体受光素子は、光を検出し、検出された前記光の強度に対応する電流を生成し、
検出された前記光の強度に対応する出力電圧が前記出力端子から出力される
受光用半導体集積回路装置。 - 請求項13に記載の受光用半導体集積回路装置と、
前記半導体可変抵抗素子の前記制御電極に接続された可変電圧電源と
を具備し、
前記受光用半導体集積回路装置の前記アンプの増幅率は、前記制御電極に印加される電圧を変化させることによって制御される
受光装置。 - 請求項14に記載の受光装置と、
前記受光用半導体集積回路装置の前記出力端子に接続された制御装置と、
前記制御装置に接続され光を放射するレーザー装置と
を具備し、
前記レーザー装置によって放射される光は、前記受光用半導体集積回路の前記半導体受光素子によって検出され、
前記出力端子から出力される前記出力電圧は、前記制御装置に入力され、
前記制御装置は、前記出力電圧に基づき、前記レーザー装置が放射する前記光の強度をフィードバック制御する
光ディスク記録装置。 - (a)基板上にエピタキシャル層を形成するステップと、
(b)前記エピタキシャル層の中に、前記エピタキシャル層の表面に到達する複数の拡散抵抗を形成するステップと、
(c)前記エピタキシャル層の上に絶縁膜を形成するステップと、
(d)前記絶縁膜上に、前記複数の拡散抵抗をまたぐように、制御電極を形成するステップと
を具備する
半導体可変抵抗素子の製造方法。 - 半導体可変抵抗素子を用いるアンプと半導体受光素子とを備える受光用半導体集積回路装置の感度調節方法であって、
前記半導体可変抵抗素子は、基板と、前記基板上に形成され第1導電型を有する半導体層と、前記半導体層中に形成され第2導電型を有する複数の拡散抵抗と、前記半導体層上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された制御電極とを備え、前記複数の拡散抵抗のそれぞれは、前記絶縁膜に接するように形成され、前記制御電極は、前記複数の拡散抵抗をまたぐように形成され、
前記感度調節方法は、
(A)前記半導体受光素子が光を検出するステップと、
(B)検出された前記光の強度に応じた信号を前記アンプにより増幅するステップと、
(C)増幅された前記信号を出力するステップと、
(D)前記制御電極に電圧を印加するステップと、
(E)前記制御電極に印加する電圧を変化させることによって、前記アンプの増幅率を変化させるステップと
を具備する
受光用半導体集積回路装置の感度調節方法。
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JPS60244058A (ja) * | 1984-05-18 | 1985-12-03 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体集積回路装置 |
JP2003006905A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-10 | Sony Corp | 光ディスク記録再生装置のレーザダイオード駆動回路及びfpdアンプ回路 |
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