JP2005256094A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板の撓みを抑止し、より確実に均一な膜厚の膜部材を成膜する。
【解決手段】 基板Xの下面に膜部材を成膜する成膜装置であって、上記基板Xの端部を上記基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持する基板保持機構5を有する。
【選択図】 図5
【解決手段】 基板Xの下面に膜部材を成膜する成膜装置であって、上記基板Xの端部を上記基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持する基板保持機構5を有する。
【選択図】 図5
Description
本発明は、基板に成膜する成膜装置に関するものである。
一般的に、有機EL表示装置等のフラットパネルディスプレイに用いられる基板に対しては、真空蒸着法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、スパッタリング法あるいはイオンプレーディング法等を用いる成膜装置によって有機材料や無機材料の薄膜を成膜している。
このような成膜装置においては、基板の成膜面を下面として成膜室内に配置し、成膜材料を成膜室の低部に配置された蒸着源やスパッタリングターゲットから蒸発または昇華等させることによって基板の下面に堆積させ、これによって成膜を行っている。
しかしながら、このような成膜装置では、成膜面が下向きとなるように基板が配置されるため、基板を保持するのは、成膜領域から外れた基板周辺部(基板端部)に限られてしまう。このため、基板の面積が大きくなればなるほど、自重によって基板が下向きに大きく撓み、蒸着源やスパッタリングターゲットから成膜面までの距離を一定に保つことが困難となる。このように、蒸着源やスパッタリングターゲットから成膜面の距離が一定に保たれない場合には、成膜面に堆積される材料量を一定とすることができないため、成膜された膜部材の膜厚が不均一となる。
このような課題を解決するために、特開2002−343563号公報には、基板の非成膜面側の略全面を基板保持部材によって接触状態で保持すると共に、成膜面が上方あるいは側方に向くように基板を配置し、基板の上部位置または側方位置に配置された蒸着源やスパッタリングターゲット等から基板へ向けて成膜を行う技術が開示されている。
このような技術によれば、常に基板の非成膜面が基板保持部材によって支えられると共に、基板が成膜面を上方あるいは側方に向けるように水平あるいは鉛直に配置されているため、基板が自重によって撓むことを防止でき、均一な膜厚に膜部材を成膜することができる。
特開2002−343563号公報
このような技術によれば、常に基板の非成膜面が基板保持部材によって支えられると共に、基板が成膜面を上方あるいは側方に向けるように水平あるいは鉛直に配置されているため、基板が自重によって撓むことを防止でき、均一な膜厚に膜部材を成膜することができる。
しかしながら、上述の技術では、基板の成膜面が上方あるいは側方を向いているため、成膜室の側壁面や天井に付着した材料が落下した場合に成膜面に付着し易くなる。このように落下した材料が成膜面に付着した場合には、膜部材の欠陥の原因となる。
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、基板の撓みを抑止し、より確実に均一な膜厚の膜部材を成膜することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係る成膜装置は、基板の下面に膜部材を成膜する成膜装置であって、上記基板の端部を上記基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持する基板保持機構を有することを特徴とする。
このような特徴を有する本発明に係る成膜装置によれば、基板保持機構によって上記基板の端部を上記基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持している。このため、基板の中央部に上向きの力を加えることができ、基板の中央部が自重によって下向きに撓むのを抑止することができる。このため、基板の成膜面である下面の平坦性を確保し、蒸着源あるいはスパッタリングゲートから一定の距離とすることができ、基板の成膜面に均一な膜厚で成膜することが可能となる。したがって、本発明に係る成膜装置によれば、基板の撓みを抑止し、より確実に均一な膜厚の膜部材を成膜することが可能となる。
また、本発明に係る成膜装置は、上記基板保持機構が、上記角度を調節する角度調節機構を有することが好ましい。
このような角度調節機構を基板保持機構が有していることによって、基板端部を保持する角度を調節でき、これによって基板の中央部に上向きに働く力を調節することができる。このため、成膜前に成膜面の平坦性を再度調節することが可能となるため、より確実に均一な膜厚に成膜することが可能となる。また、このよう角度調節機構を備えることによって、例えば、基板の仕様(例えば厚みや重さ)が変更された場合であっても、即座に対応することが可能となる。
このような角度調節機構を基板保持機構が有していることによって、基板端部を保持する角度を調節でき、これによって基板の中央部に上向きに働く力を調節することができる。このため、成膜前に成膜面の平坦性を再度調節することが可能となるため、より確実に均一な膜厚に成膜することが可能となる。また、このよう角度調節機構を備えることによって、例えば、基板の仕様(例えば厚みや重さ)が変更された場合であっても、即座に対応することが可能となる。
また、本発明に係る成膜装置は、上記基板保持機構が、上記基板を水平方向に押圧する押圧機構を有していることが好ましい。
本発明に係る成膜装置によれば、上述のように基板の中央部に上向きの力を加えることができる。このため、基板を水平方向に押圧する押圧機構を基板保持機構が備えることによって、基板が水平方向に押圧され、基板の中央部に加えられる上向きの力を効率的に働かせることができる。
本発明に係る成膜装置によれば、上述のように基板の中央部に上向きの力を加えることができる。このため、基板を水平方向に押圧する押圧機構を基板保持機構が備えることによって、基板が水平方向に押圧され、基板の中央部に加えられる上向きの力を効率的に働かせることができる。
また、本発明に係る成膜装置においては、上記基板保持機構と上記基板とが、面接触されていることが好ましい。
このように基板保持機構と基板とを面接触することによって、より確実に基板の端部を基板中央に向けて上向きとなるように姿勢維持することができると共に、点接触と比較して基板に対する局所的な負荷を軽減することができる。
このように基板保持機構と基板とを面接触することによって、より確実に基板の端部を基板中央に向けて上向きとなるように姿勢維持することができると共に、点接触と比較して基板に対する局所的な負荷を軽減することができる。
また、本発明に係る成膜装置においては、上記基板保持機構の上記基板と接触する部位に滑り止め処理がなされていることが好ましい。
このような滑り止め処理を行うことによって、基板が基板保持機構に対して滑ることを防止することが可能となる。
このような滑り止め処理を行うことによって、基板が基板保持機構に対して滑ることを防止することが可能となる。
また、本発明に係る成膜装置は、上記基板保持機構を水平方向に移動する移動機構を備えるという構成を採用することができる。
このような移動機構によって基板保持機構を水平方向に移動させることによって、基板の中央部に上向きに加えられる力を調節することができる。このため、成膜前に成膜面の平坦性を再度調節することが可能となるため、より確実に均一な膜厚に成膜することが可能となる。また、例えば、基板の仕様(例えば厚みや重さ)が変更された場合であっても、即座に対応することが可能となる。
このような移動機構によって基板保持機構を水平方向に移動させることによって、基板の中央部に上向きに加えられる力を調節することができる。このため、成膜前に成膜面の平坦性を再度調節することが可能となるため、より確実に均一な膜厚に成膜することが可能となる。また、例えば、基板の仕様(例えば厚みや重さ)が変更された場合であっても、即座に対応することが可能となる。
以下、図面を参照して、本発明に係る成膜装置の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
(第1実施形態)
図1は、本第1実施形態に係る成膜装置1の概略構成図であり、(a)が断面図、(b)が平面図である。本実施形態に係る成膜装置1は、ガラス等によって形成された基板Xの成膜面(下面)に膜部材を成膜する装置であり、この図に示すように、成膜室2、前室3、後室4及び基板保持機構5を備えて構成されている。
図1は、本第1実施形態に係る成膜装置1の概略構成図であり、(a)が断面図、(b)が平面図である。本実施形態に係る成膜装置1は、ガラス等によって形成された基板Xの成膜面(下面)に膜部材を成膜する装置であり、この図に示すように、成膜室2、前室3、後室4及び基板保持機構5を備えて構成されている。
成膜室2は、下方に向けられた基板Xの成膜面に対して真空蒸着法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、スパッタリング法あるいはイオンプレーディング法等の成膜方法を用いて有機材料あるいは無機材料からなる膜部材を成膜する場所である。この成膜室2内の底部には材料源21が配置されており、例えば、真空蒸着法を用いる場合には材料源21として蒸着源が、スパッタリング法及びイオンプレーディング法を用いる場合には材料源21としてスパッタリングターゲットが、CVD法を用いる場合には材料源21として材料ガス噴出装置が配置されている。なお、成膜室2には、各成膜方法に対応する成膜室内部の環境を形成する装置(例えば、真空ポンプやプラズマ発生装置等)が併設されている。
この成膜室2の両側には、前室3及び後室4が対向配置されており、成膜室2と前室3との出入口及び成膜室2と後室4との出入口には、開閉自在なゲートバルブ6が設置されている。また、成膜室2の内部の上方には、基板Xを図1(a)における左側から右側に搬送する搬送装置7が配置されており、この搬送装置7は、複数のローラ71と各ローラ71を駆動するモータ72とを備えて構成されている。また、図1(b)に示すように、ローラ71及びモータ72は、成膜室2の両側壁に複数平行配列されており、一方側の側壁側に配置されたローラ71と、他方側の側壁側に配置されたローラ71とは、所定距離分だけ離間されている。なお、各モータ72は、不図示の制御装置と接続されており、各ローラ71が独立駆動可能とされている。また、前室3及び後室4内にも、成膜室2と同じ高さに搬送装置7が配置されており、基板Xを前室3から成膜室2を介して後室4に搬送することができる。
基板保持機構5は、基板Xの端部を保持するものであり、当該基板保持機構5が搬送装置7のローラ71の回転に伴って搬送されることによって、基板Xが搬送される。
図2は、基板保持機構5の概略構成図である。この図に示すように、基板保持機構5は、枠体状に形状設定されている。そして、基板Xの端部を把持することによって基板Xを保持する。図3は、基板保持機構5が基板Xを保持した状態における断面図である。この図に示すように、基板保持機構5は、基板Xの端部を基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて基板Xを保持している。
このように、基板Xの端部を基板Xの端部を基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持することによって、基板Xが撓むことを抑止することができる。具体的には、基板Xの端部を基板Xの端部を基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持することによって、図3に示すように、基板Xの中央部に上向きの力F1を加えることができる。この上向きの力F1を基板の自重によって加わる下向きの力F2と釣り合わせることによって、基板Xが撓むことを抑止でき、基板Xの成膜面を平坦化することが可能となる。
図2は、基板保持機構5の概略構成図である。この図に示すように、基板保持機構5は、枠体状に形状設定されている。そして、基板Xの端部を把持することによって基板Xを保持する。図3は、基板保持機構5が基板Xを保持した状態における断面図である。この図に示すように、基板保持機構5は、基板Xの端部を基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて基板Xを保持している。
このように、基板Xの端部を基板Xの端部を基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持することによって、基板Xが撓むことを抑止することができる。具体的には、基板Xの端部を基板Xの端部を基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持することによって、図3に示すように、基板Xの中央部に上向きの力F1を加えることができる。この上向きの力F1を基板の自重によって加わる下向きの力F2と釣り合わせることによって、基板Xが撓むことを抑止でき、基板Xの成膜面を平坦化することが可能となる。
図4は、図3におけるAの詳細図であり、基板保持機構5の基板Xを保持する部位の拡大断面図である。この図に示すように、基板保持機構5は、ベース部51と、下受板52と、角度調節ネジ53(角度調節機構)と、押圧バネ54(押圧機構)と、カバー部55と、固定部56とを備えて構成されている。
ベース部51は、平面視でその中央部が開口された枠体状に形状設定されており、基板保持機構5の土台となるものである。このベース部51上には、下受板52が形成されており、この下受板52は、基板保持機構5の外側(図4における左側)から内側(図4における右側)にかけて所定の角度に傾斜されている。この下受板52の内側端部とベース部51との間には、角度調節ネジ53が配置されており、この角度調節ネジ53を調節することによって、下受板52の角度を調節することができる。
カバー部55は、平面視でその中央部がベース部52と同様に開口された枠体状に形状設定されており、この下面52aは下受板52の傾斜角度と略平行となるように傾斜されている。このカバー部55は、ベース部51に対して着脱可能とされており、固定部56によって、下受板52との間に基板Xの厚み分だけ離間するようにベース部51に対して装着されている。また、下受板52とカバー部55との間に形成された空間には、基板Xを水平方向に押圧するための押圧バネ54が配置されており、この押圧バネ54は、ベース部51に対して固着されている。
そして、基板Xの4辺(端部)が上述のように構成された基板保持機構5の下受板52とカバー部55との間に挟まれ、保持されることによって、基板Xの中央部に上向きの力F1が加わり、基板Xの自重による下向きの力F2と打ち消しあうことによって、基板Xの撓みが抑止される。
また、このような基板保持機構5によれば、角度調節ネジ53によって下受板52の角度を調節することによって、下受板52とカバー部55との間に挟まれる基板Xの端部の角度を調節することができる。このため、基板Xの中央部に働く上向きの力F1を調節することができ、成膜前に基板Xの成膜面の平坦性を再度調節することが可能となる。また、基板の厚みや重さ等が変更された場合であっても、角度調節ネジ53を調節することによって、基板の中央部に上向きに働く力F1を調節することができるため、即座にその基板に適した力F1に調節することが可能となる。
また、このような基板保持機構5によれば、基板Xを水平方向に押圧する押圧バネ54を有しているため、基板Xが水平方向に押圧され、基板Xの中央部に加えられる上向きの力F1を効率的に働かせることができる。また、押圧バネ54を設置することによって、基板Xの端部が下受板52とカバー部55との間に入り込む量を確実に規定することができる。これによって、基板Xの端部が所定量以上に下受板52とカバー部55との間に入り込み、基板Xの成膜面積が減少することを防止することができる。
また、このような基板保持機構5によれば、基板Xの端部が下受板52とカバー部55との間に挟まれることによって、基板Xが保持される。このため、基板Xと基板保持機構5とが面接触となる。このため、基板Xの端部の角度を容易に維持することができ、基板Xの姿勢維持が容易となる。また、点接触による支持と比較して、面接触による支持は基板に対する局所的な負荷を軽減することが可能となる。
なお、下受板52の上面とカバー部55の下面55a、すなわち基板保持機構5の基板Xと接触する部位に滑り止め処理を行うことが好ましい。このような滑り止め処理を行うことによって、基板Xが基板保持機構5に対して滑ることを防止することが可能となる。
そして、このような基板保持機構5を有する本第1実施形態に係る成膜装置1において、基板Xの成膜面に膜部材を成膜する場合には、まず、成膜装置1の外部あるいは前室3内において、基板保持機構5に基板Xを装着する。
具体的には、固定部56によるカバー部55のベース部51に対する固定を解き、カバー部55をベース部51に対して脱離した状態で基板Xを下受板52上に載置する。その後、カバー部55を固定部56によってベース部51に対して固定することによって、基板Xが基板保持機構5に保持される。なお、ここで、基板Xの成膜面の平坦性が良好でない場合には、角度調節ネジ53によって、基板Xの端部の角度を調節し、基板Xの成膜面の平坦性を良好な状態とする。
具体的には、固定部56によるカバー部55のベース部51に対する固定を解き、カバー部55をベース部51に対して脱離した状態で基板Xを下受板52上に載置する。その後、カバー部55を固定部56によってベース部51に対して固定することによって、基板Xが基板保持機構5に保持される。なお、ここで、基板Xの成膜面の平坦性が良好でない場合には、角度調節ネジ53によって、基板Xの端部の角度を調節し、基板Xの成膜面の平坦性を良好な状態とする。
そして、前室3と成膜室2との間のゲートバルブ6を開放状態とし、基板Xを保持した基板保持機構5を前室3を介して搬送装置7によって成膜室2内に搬送する。続いて、ゲートバルブ6を閉鎖し、成膜室2内が各成膜方法に対応する環境とされた後に、各成膜方法に対応した成膜が基板Xの成膜面である下面に対して行われる。
ここで、基板Xが基板保持機構5によって撓みを抑止されており、これによって成膜面の平坦性が確保されているため、基板Xの成膜面は、材料源21(蒸着源、スパッタリングターゲットあるいは材料ガス噴出装置)から一定の距離に保たれる。したがって、成膜面に全体に均一な量の材料が堆積されるため、本実施形態に係る成膜装置1によれば、基板の成膜面に均一な膜厚で成膜することが可能となる。
ここで、基板Xが基板保持機構5によって撓みを抑止されており、これによって成膜面の平坦性が確保されているため、基板Xの成膜面は、材料源21(蒸着源、スパッタリングターゲットあるいは材料ガス噴出装置)から一定の距離に保たれる。したがって、成膜面に全体に均一な量の材料が堆積されるため、本実施形態に係る成膜装置1によれば、基板の成膜面に均一な膜厚で成膜することが可能となる。
このような本第1実施形態に係る成膜装置1によれば、基板の撓みを抑止し、より確実に均一な膜厚の膜部材を成膜することが可能となると共に、基板Xの成膜面が常に下向きとされているため、成膜室2の壁面や天井等の付着した材料が落下した場合であっても落下した材料が成膜面に付着することを防止することが可能となる。
そして、基板Xの成膜面に対する膜部材の成膜が終了すると、成膜室2と後室3との間のゲートバルブ6が開放状態とされ、搬送装置7によって、基板保持機構5ごと基板Xが後室3内に搬送される。
なお、本第1実施形態に係る成膜装置1においては、成膜方法として所定のパターンが形成されたマスクを介して蒸着を行うマスク蒸着法を用いる場合には、基板保持機構5の下受板52とカバー部55との間に基板Xと共にマスクを挟み込むことができる。このように、基板保持機構5の下受板52とカバー部55との間に基板Xと共にマスクを挟み込むことによって、マスクの撓みを抑止すると共に、基板Xとマスクとの距離を一定に保つことが可能となり、良好なマスク蒸着を行うことができる。
また、上記第1実施形態においては、基板Xの4辺を基板保持機構5によって保持する構成を採用したが、本発明は、これに限定されるものではなく、基板Xの対向する2辺のみを基板保持機構5によって保持する構成を採用することができる。なお、この場合には、下受板51、角度調節ネジ53は、保持する基板Xの2辺に対応して配される。
また、上記第1実施形態において、角度調節ネジ53による下受板51の角度調節を自動化する場合には、角度調節ネジ53を駆動する駆動装置と、基板保持機構5に保持された基板Xの成膜面の平坦性を計測する計測装置と、当該計測装置の計測結果に基づいて駆動装置を制御する制御装置とを備えることによって実現することができる。なお、計測装置としては、例えばレーザ干渉計等を用いることができ、この計測装置は、前室3内や成膜室2内に配置することができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について、図5及び図6を参照して説明する。なお、本第
2実施形態の説明において、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
次に、本発明の第2実施形態について、図5及び図6を参照して説明する。なお、本第
2実施形態の説明において、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
図5は、本第2実施形態に係る成膜装置1が備える基板保持機構8周辺の概略構成図であり、図6は、基板保持機構8の基板Xを保持する部位の拡大断面図である。図5に示すように、本第2実施形態に係る成膜装置1が備える基板保持機構8は、本第2実施形態において、ベース部51は平面視で枠体状に形状設定されておらず、基板Xの対向する短辺に対応して分割されている。そして、この基板保持機構8は、平面視で枠体状の土台部101上に移動可能に配置されている。また、この土台部101には、図6に示すように、基板保持機構8を水平方向に移動する移動機構9が備えられている。そして、この移動機構9によって、基板保持機構8は、基板Xの中央部に向けて水平方向に移動することができる。
このような本第2実施形態に係る成膜装置1によれば、基板保持機構8を水平方向に移動する移動機構9を備えているため、基板保持機構8を水平方向に移動することによって、基板Xの中央部に上向きに加えられる力F1を調節することができる。このため、成膜前に成膜面の平坦性を再度調節することが可能となるため、より確実に均一な膜厚に成膜することが可能となる。また、例えば、基板の厚みや重さが変更された場合であっても、即座に対応することが可能となる。
なお、本第2実施形態においては、基板保持機構8を基板Xの対向する短辺に対応して分割したが、本発明はこれに限定されるものでなく、基板保持機構8を基板Xの対向する長辺に対応して分割しても、また、基板保持機構8を基板Xの4辺に対応して分割しても良い。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る成膜装置の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
1……成膜装置、5,8……基板保持機構、51……ベース部、52……下受板、53……角度調節ネジ(角度調節機構)、54……押圧ネジ(押圧機構)、55……カバー部、56……固定部、X……基板
Claims (6)
- 基板の下面に膜部材を成膜する成膜装置であって、
前記基板の端部を前記基板中央に向けて上向きとなるように角度を持たせて保持する基板保持機構を有することを特徴とする成膜装置。 - 前記基板保持機構は、前記角度を調節する角度調節機構を有することを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記基板保持機構は、前記基板を水平方向に押圧する押圧機構を有することを特徴とする請求項1または2記載の成膜装置。
- 前記基板保持機構と前記基板とは、面接触されていることを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の成膜装置。
- 前記基板保持機構の前記基板と接触する部位に滑り止め処理がなされていることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の成膜装置。
- 前記基板保持機構を水平方向に移動する移動機構を備えることを特徴とする請求項1〜5いずれかに記載の成膜装置。
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2004
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---|---|---|---|
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