KR20160001886A - 기판 틸팅이 가능한 얼라이너 - Google Patents

기판 틸팅이 가능한 얼라이너 Download PDF

Info

Publication number
KR20160001886A
KR20160001886A KR1020140079869A KR20140079869A KR20160001886A KR 20160001886 A KR20160001886 A KR 20160001886A KR 1020140079869 A KR1020140079869 A KR 1020140079869A KR 20140079869 A KR20140079869 A KR 20140079869A KR 20160001886 A KR20160001886 A KR 20160001886A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
substrate
holder
substrate holder
lever
Prior art date
Application number
KR1020140079869A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102200693B1 (ko
Inventor
박영신
성기현
강순석
이영종
Original Assignee
주식회사 선익시스템
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 선익시스템 filed Critical 주식회사 선익시스템
Priority to KR1020140079869A priority Critical patent/KR102200693B1/ko
Publication of KR20160001886A publication Critical patent/KR20160001886A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102200693B1 publication Critical patent/KR102200693B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682Mask-wafer alignment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68735Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by edge profile or support profile

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것으로서, 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너는 챔버의 천장에 설치되는 회전부와, 상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트와, 기판이 장착되는 기판 홀더와, 상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부와, 마스크가 장착되는 마스크 홀더와, 상기 기판 홀더의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부를 포함하여 구성된다. 이에 의해 본 발명은 마스크가 마스크 홀더에 경사지게 안착되고, 마스크에 놓이는 기판 또한 경사진 상태에서 마스크와 기판을 회전시키며 증착물질을 증착시킬 수 있어 기판 패턴에 형성되는 굴곡이나 구멍에도 증착이 되는 효과가 있다. 또한, 증착물질을 증착시키는 공정 중에 두께가 두꺼운 마스크를 사용하는 발생하는 쉐도우(shadow)를 작게 할 수 있으며, 증착 패턴의 간격이 좁은 경우 발생하는 쉐도우(shadow) 또한 작게 할 수 있는 이점이 있다.

Description

기판 틸팅이 가능한 얼라이너{Substrate Tiltable Aligner}
본 발명은 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부에 의해 마스크 홀더를 경사지게 설치하여, 마스크와 기판이 경사지게 안착된 상태에서 증착물질을 증착하는 공정에서 굴곡이나 구멍이 형성되어 있는 기판에도 굴곡이나 구멍에 증착물질이 증착될 수 있는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것이다.
일반적으로 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 박막증착 공정은 유기물질을 증발시키고, 증발된 유기물질을 기판에 증착시키게 된다. 이러한 증착 공정은 글래스 등의 기판을 진공챔버 내에 배치하고, 유기물질이 담긴 증발원을 기판에 대향하도록 배치한다. 이후, 유기물질이 담긴 증발원을 가열하여 증발되는 유기물질의 기체나 액체 상태를 기판에 증착시키면서 유기 박막을 형성하게 된다.
챔버 내부로는 지면에 대하여 평행한 방향으로 배치된 글래스 등의 기판이 로딩되는데 이때 글래스 등의 기판이 휘어져 장착되는 문제점이 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 한국등록특허 제10-1307153호에서 개시하고 있는 '대면적 글라스의 얼라이너 구동장치 및 방법'은 대면적 글라스(glass)와 마스크(mask)를 수직상태에서 얼라인(align)할 수 있는 것으로, 대면적 글라스를 수직형 얼라이너에 고정 지지하면서 진공증착하기 위해 마련된 진공공간부 및 상기 진공공간부에서 수직형 얼라이너 전면으로 소정이격되어 위치하는 자성이 있는 금속계열의 물질로 이루어진 마스크와, 상기 진공공간부 타측에 분할된 공간으로 수직형 얼라이너를 구동하는 구동수단들로 구성된 대기공간부, 로 마련되어, 직사각 형태로 대면적 글라스를 내부프레임에 안착하면서 가장자리를 전용 고정부 등으로 고정하여 이송하도록하는 대면적 글라스 이송용 트레이와, 상기 트레이에 의해 수직 상태로 이송되는 글라스가 안착하도록 진공공간부에 있는 수직형 얼라이너 전면에 수직상태로 마련된 쿨 플레이트와, 상기 글라스를 수직형 얼라이너에 로딩 및 고정할 수 있도록 쿨 플레이트에 상하좌우 서로 대향 형성되어 글라스를 수직으로 고정되도록 파지하기 위한 클램핑부와, 상기 진공공간부 분할벽에 위치하여 글라스가 쿨 플레이트에 안착될 때 이미지 촬영수단에 의해 틀어진 정도를 파악하여 이에 대응하는 정보를 발생하는 CCD카메라와, 상기 틀어진 정보에 따라 수직형 얼라이너를 X, Y, θ 방향으로 이동할 수 있도록 구동력을 전달하는 대기공간부에 위치한 UVW 구동축과, 진공공간부에 위치한 쿨 플레이트를 Z축으로 이동시켜 글라스가 마스크에 밀착되도록 구동하는 쿨 플레이트 구동부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 구성에 의하면, 대면적 글라스(Glass)와 마스크(Mask)를 수직상태에서 얼라인(Align)할 수 있는 것으로 쿨 플레이트측에 형성되어 글라스를 파지하는 클램핑부에 의해 글라스의 처짐현상을 방지할 수 있어 글라스와 마스크간의 얼라인먼트 정밀도를 향상시킬 수 있으며, 진공공간부에서 증착공정을 수행하는 글라스의 상면에 자성력을 갖는 마그네틱를 부착시키고 자석에서 발생되는 자력을 이용하여 글라스를 고정시켜 글라스의 평판도가 균일하게 유지된 상태로 증착공정을 수행하게 되므로 제품의 불량을 방지할 수 있다.
하지만, 기판의 패턴(pattern)에 굴곡이나 구멍 등이 형성되어 있는 경우 굴곡이나 구멍 등에 증착물질이 균일하게 증착되지 않고, 마스크(mask)의 두께가 두껍거나 증착 패턴(pattern)의 간격이 좁은 경우 쉐도우(shadow)가 크게 발생할 수 있는 문제점이 있어서 본 발명을 제안하게 되었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로, 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 마스크 홀더의 상단에 경사 형성부를 형성하여 마스크가 경사지게 놓이고 마스크 위에 기판가 장착될 수 있는 기판 티팅장치가 구비된 얼라이너를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 챔버의 천장에 설치되는 회전부와, 상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트와, 기판이 장착되는 기판 홀더와, 상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부와, 마스크가 장착되는 마스크 홀더와, 상기 기판 홀더의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부를 포함하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 제공한다.
본 발명에서, 상기 기판 홀더 이동부는 상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과, 상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과, 상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 상기 이동수단의 이동거리는 일측과 타측이 다르게 제어될 수 있다.
또한, 상기 지지축에는 탄성부재가 형성되며, 상기 탄성부재는 스프링으로 형성되는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 마스크 홀더에는 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성될 수 있고, 상기 고정수단은 실린더 구동될 수 있으며, 상기 고정수단은 각각 다른 길이로 제어될 수 있다.
한편, 상기 경사 형성부는 길이가 각각 다르게 형성될 수 있다.
그리고, 상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 챔버의 천장에 설치되는 회전부와, 상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트와 기판이 장착되는 기판 홀더와, 상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부와, 상기 기판이 경사지게 안착되도록 경사가 형성된 마스크가 장착되는 마스크 홀더를 포함하여 구성되는 것을 기술적 요지로 한다.
본 발명에서 상기 기판 홀더 이동부는 상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과, 상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과, 상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 지지축에는 탄성부재가 형성되는데 상기 탄성부재는 스프링으로 형성될 수 있다.
한편, 상기 마스크 홀더에는 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성되는 것이 바람직하다.
아울러, 상기 고정수단은 실린더 구동될 수 있다.
또한, 상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 마스크 홀더의 상단에 경사 형성부를 형성하여 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 함으로써 마스크가 마스크 홀더에 경사지게 안착되고, 마스크에 놓이는 기판 또한 경사진 상태에서 마스크와 기판을 회전시키며 증착물질을 증착시킬 수 있어 기판 패턴에 형성되는 굴곡이나 구멍에도 증착이 되는 효과가 있다.
또한, 증착물질을 증착시키는 공정 중에 두께가 두꺼운 마스크를 사용하는 발생하는 쉐도우(shadow)를 작게 할 수 있으며, 증착 패턴의 간격이 좁은 경우 발생하는 쉐도우(shadow) 또한 작게 할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이다.
도 2 (a)와 (b)는 본 발명의 제1실시예로 마스크 홀더가 경사지도록 설치된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너가 작동하는 것을 나타내는 정면도이다.
도 3 (a)와 (b)는 본 발명의 제2실시예로 경사지게 형성된 마스크가 마스크 홀더에 장착된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이고, 도 2 (a)와 (b)는 본 발명의 제1실시예로 마스크 홀더가 경사지도록 설치된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너가 작동하는 것을 나타내는 정면도이며, 도 3 (a)와 (b)는 본 발명의 제2실시예로 경사지게 형성된 마스크가 마스크 홀더에 장착된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이다.
본 발명은 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부에 의해 마스크 홀더를 경사지게 설치하여, 마스크와 기판이 경사지게 안착된 상태에서 증착물질을 증착하는 공정에서 굴곡이나 구멍이 형성되어 있는 기판에도 굴곡이나 구멍에 증착물질이 증착될 수 있는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너는 챔버의 천장에 설치되는 회전부(100)와, 상기 회전부(100)가 관통하여 형성되는 지지플레이트(200)와, 기판이 장착되는 기판 홀더(300)와, 상기 지지플레이트(200)에 설치되어 상기 기판 홀더(300)를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)와, 마스크가 장착되는 마스크 홀더(500)와, 상기 기판 홀더(300)의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더(500)가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 형성되는 경사 형성부(600)를 포함하여 구성된다.
도 2 (a)와 (b)를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에서 기판에 박막을 증착하는 챔버의 천장에 회전부(100)가 설치된다.
또한, 상기 챔버의 천장에는 상기 회전부(100)가 관통하는 지지플레이트(200)가 형성되는데, 상기 지지플레이트(200)는 상기 회전부(100)를 고정시켜 줄 뿐만 아니라 상기 지지플레이트(200)의 하면 가장자리 양측에는 기판(S)가 장착되는 기판(S) 홀더를 상하로 이동시켜 주고 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)가 설치된다.
여기서, 상기 기판 홀더 이동부(400)는 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과, 상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 구비되는 지지축(440)과, 상기 지지축(440)의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 레버(460)를 포함하여 구성된다.
상기 기판 홀더 이동부(400)의 작동을 살펴보면 다음과 같다.
상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 상기 지지축(440)이 구비되는데 상기 지지축(440)의 끝단에는 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 상기 레버(460)의 일단이 맞닿는다.
그리고, 상기 레버(460)의 타단은 상기 지지플레이트(200)에 형성되는 이동수단의 끝단이 맞닿게 된다.
이때, 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되는 상기 이동수단이 실린더 구동하여 상기 레버(460)를 가압하게 되면 상기 지지축(440)을 따라 상기 기판 홀더(300)가 상부로 이동하게 된다.
여기서, 상기 지지축(440)에는 탄성부재가 형성되는데 상기 탄성부재는 스프링(442)으로 형성된다.
한편, 후술할 마스크 홀더(500)가 경사지게 형성되었을 때 경사진 마스크 홀더(500)에 안착된 마스크(M) 위에 기판(S)가 놓일 수 있어야 하는데 상기 기판 홀더(300)가 상기 마스크 홀더(500)와 같은 경사가 형성되도록 상기 이동수단의 이동거리는 일측과 타측이 다르게 제어된다.
아울러, 상기 이동수단에 의해 상기 레버(460)가 이동되었을 때 상기 레버(460)의 하단에서 레버(460)의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단(700)이 상기 마스크 홀더(500)의 가장자리에 더 형성된다.
그리고, 상기 고정수단(700)은 실린더 구동되는데, 상기 기판 홀더(300)가 기울어진 각도에 따라 양측의 경사가 다르게 형성되는 상기 레버(460)의 기울기에 맞게 상기 고정수단(700)은 각각 다른 길이로 제어된다.
한편, 상기 이동수단은 상기 마스크 홀더(500)에 안착된 상기 마스크(M)에 상기 기판 홀더(300)로 기판(S)가 놓인 뒤에 가장 짧은 길이로 고정되고, 상기 마스크 홀더(500)가 상기 회전부(100)에 의해 회전된다.
본 발명의 제1실시예에서 상기 기판 홀더(300)의 하부에는 마스크(M)가 장착되는 마스크 홀더(500)가 형성되는데 상기 마스크 홀더(500)가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 경사 형성부(600)가 형성된다.
그리고, 상기 경사 형성부(600)는 상기 기판 홀더(300)의 하단 모서리에 연결되어 상기 기판 홀더(300)와 상기 마스크 홀더(500)가 상기 회전부(100)에 의해 동시에 회전하게 된다.
또한, 기판(S)에 형성되는 굴곡이나 구멍의 크기나 깊이에 따라 기판(S)와 마스크(M)의 경사도가 결정되므로 상기 마스크(M)의 경사도에 따라 상기 경사 형성부(600)의 길이는 각각 다르게 형성된다.
아울러, 경사진 마스크 홀더(500)에 안착되는 상기 마스크(M)가 밀리지 않도록 고정시켜 주는 밀림방지수단(520)이 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 형성된다.
본 발명의 제1실시예에서 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)가 상기 마스크 홀더(500)에 놓였을 때 상기 마스크(M)의 가장자리를 따라 상기 마스크(M)의 두께보다 얇은 두께를 가지도록 상기 마스크 홀더(500)의 상면에 볼록하게 선형으로 형성된다. 하지만, 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)를 고정해 줄 수 있는 구조라면 어떠한 형태로 형성되어도 상관없다.
도 3 (a)와 (b)에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에서는 챔버의 천장에 설치되는 회전부(100)와, 상기 회전부(100)가 관통하여 형성되는 지지플레이트(200)와, 기판이 장착되는 기판 홀더(300)와, 상기 지지플레이트(200)에 설치되어 상기 기판 홀더(300)를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)와, 상기 기판(S)가 경사지게 안착되도록 경사가 형성된 마스크(M)가 장착되는 마스크 홀더(500)를 포함하여 구성된다.
우선, 기판에 박막을 증착하는 챔버의 천장에 회전부(100)가 설치된다.
그리고, 상기 챔버의 천장에는 상기 회전부(100)가 관통하는 지지플레이트(200)가 형성되는데, 상기 지지플레이트(200)는 상기 회전부(100)를 고정시켜 줄 뿐만 아니라 상기 지지플레이트(200)의 하면 가장자리 양측에는 기판(S)가 장착되는 기판 홀더(300)를 상하로 이동시켜 주고 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)가 설치된다.
여기서, 상기 기판 홀더(300) 이동부(400)는 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과, 상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 구비되는 지지축(440)과, 상기 지지축(440)의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 레버(460)를 포함하여 구성된다.
상기 기판 홀더(300) 이동부(400)의 작동을 살펴보면 다음과 같다.
상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 상기 지지축(440)이 구비되는데 상기 지지축(440)의 끝단에는 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 상기 레버(460)의 일단이 맞닿는다.
그리고, 상기 레버(460)의 타단은 상기 지지플레이트(200)에 형성되는 이동수단의 끝단이 맞닿게 된다.
이때, 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되는 상기 이동수단이 실린더 구동하여 상기 레버(460)를 가압하게 되면 상기 지지축(440)을 따라 상기 기판 홀더(300)가 상부로 이동하게 된다.
여기서, 상기 지지축(440)에는 탄성부재가 형성되는데 상기 탄성부재는 스프링(442)으로 형성된다.
한편, 후술할 상면이 경사진 마스크(M) 위에 기판(S)가 놓일 수 있어야 하는데 상기 기판 홀더(300)가 상기 마스크(M)의 상면과 같은 경사가 형성되도록 상기 이동수단의 이동거리는 일측과 타측이 다르게 제어된다.
아울러, 상기 이동수단에 의해 상기 레버(460)가 이동되었을 때 상기 레버(460)의 하단에서 레버(460)의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단(700)이 상기 마스크 홀더(500)의 가장자리에 더 형성된다.
그리고, 상기 고정수단(700)은 실린더 구동되어 상기 레버(460)의 기울기에 맞게 상기 고정수단(700)이 길이가 조절되어 상기 레버(460)의 하단을 지지해 준다.
한편, 상기 이동수단은 상기 마스크 홀더(500)에 안착된 상기 마스크(M)에 상기 기판 홀더(300)로 기판(S)가 놓인 뒤에 가장 짧은 길이로 고정되고, 상기 마스크 홀더(500)가 상기 회전부(100)에 의해 회전된다.
본 발명의 제2실시예에서 상기 기판 홀더(300)의 하부에는 마스크(M)가 장착되는 마스크 홀더(500)가 형성되고, 상기 마스크 홀더(500)에는 상면에 경사가 형성된 마스크(M)가 안착된다.
여기서, 기판(S)에 형성되는 굴곡이나 구멍의 크기나 깊이에 따라 기판(S)와 마스크(M)의 경사도가 결정되어야 하므로 필요한 경사도에 따라 경사도가 다르게 제작된 상기 마스크(M)로 교체하게 된다.
아울러, 상기 마스크 홀더(500)에 안착되는 상기 마스크(M)가 밀리지 않도록 고정시켜 주는 밀림방지수단(520)이 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 형성된다.
본 발명의 제2실시예에서 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)가 상기 마스크 홀더(500)에 놓였을 때 상기 마스크(M)의 가장자리를 따라 상기 마스크(M)의 두께보다 얇은 두께를 가지도록 상기 마스크 홀더(500)의 상면에 볼록하게 선형으로 형성된다. 하지만, 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)를 고정해 줄 수 있는 구조라면 어떠한 형태로 형성되어도 상관없다.
상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 마스크 홀더의 상단에 경사 형성부를 형성하여 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 함으로써 마스크가 마스크 홀더에 경사지게 안착되고, 마스크에 놓이는 기판 또한 경사진 상태에서 마스크와 기판을 회전시키며 증착물질을 증착시킬 수 있어 기판 패턴에 형성되는 굴곡이나 구멍에도 증착이 되는 효과가 있다.
또한, 증착물질을 증착시키는 공정 중에 두께가 두꺼운 마스크를 사용하는 발생하는 쉐도우(shadow)를 작게 할 수 있으며, 증착 패턴의 간격이 좁은 경우 발생하는 쉐도우(shadow) 또한 작게 할 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
100 : 회전부 200 : 지지플레이트
300 : 기판 홀더 400 : 기판 홀더 이동부
420 : 이동수단 440 : 지지축
442 : 스프링 460 : 레버
500 : 마스크 홀더 520 : 밀림방지수단
600 : 경사 형성부 700 : 고정수단
S : 기판 M : 마스크

Claims (17)

  1. 챔버의 천장에 설치되는 회전부;
    상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트;
    기판이 장착되는 기판 홀더;
    상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부;
    마스크가 장착되는 마스크 홀더; 및
    상기 기판 홀더의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부;
    를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판 홀더 이동부는
    상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과,
    상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과,
    상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 이동수단의 이동거리는 일측과 타측이 다르게 제어될 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 지지축에는 탄성부재가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 탄성부재는 스프링으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  6. 청구항 2에 있어서,
    상기 마스크 홀더에는 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 고정수단은 실린더 구동되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 고정수단은 각각 다른 길이로 제어될 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 경사 형성부는 길이가 각각 다르게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  11. 챔버의 천장에 설치되는 회전부;
    상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트;
    기판이 장착되는 기판 홀더;
    상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부; 및
    상기 기판이 경사지게 안착되도록 경사가 형성된 마스크가 장착되는 마스크 홀더;
    를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 기판 홀더 이동부는
    상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과,
    상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과,
    상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 지지축에는 탄성부재가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 탄성부재는 스프링으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  15. 청구항 12에 있어서,
    상기 마스크 홀더에는 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 고정수단은 실린더 구동되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
  17. 청구항 11에 있어서,
    상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.
KR1020140079869A 2014-06-27 2014-06-27 기판 틸팅이 가능한 얼라이너 KR102200693B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140079869A KR102200693B1 (ko) 2014-06-27 2014-06-27 기판 틸팅이 가능한 얼라이너

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140079869A KR102200693B1 (ko) 2014-06-27 2014-06-27 기판 틸팅이 가능한 얼라이너

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160001886A true KR20160001886A (ko) 2016-01-07
KR102200693B1 KR102200693B1 (ko) 2021-01-12

Family

ID=55168637

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140079869A KR102200693B1 (ko) 2014-06-27 2014-06-27 기판 틸팅이 가능한 얼라이너

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102200693B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200058765A (ko) * 2018-11-20 2020-05-28 (주)유니더스 박막 증착장치
EP4324956A1 (en) * 2022-08-03 2024-02-21 Samsung Display Co., Ltd. Deposition apparatus

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102291689B1 (ko) * 2021-06-29 2021-08-20 인터테크 주식회사 파티클이 없는 대면적 기판 진공증착을 위한 밀폐형 구동장치
KR20240035659A (ko) * 2022-09-08 2024-03-18 삼성디스플레이 주식회사 스테이지 유닛, 이를 포함하는 증착 설비, 및 표시 패널 제조 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060075110A (ko) * 2004-12-28 2006-07-04 두산디앤디 주식회사 기판얼라인장치
KR20120004071A (ko) * 2010-07-06 2012-01-12 주식회사 에스에프에이 Oled 제조용 박막 증착 장치
KR20130009601A (ko) * 2011-07-13 2013-01-23 주식회사 원익아이피에스 기판처리장치 및 기판처리방법
KR101331714B1 (ko) * 2012-06-14 2013-11-20 삼성전기주식회사 기판제조공정용 기판 고정장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060075110A (ko) * 2004-12-28 2006-07-04 두산디앤디 주식회사 기판얼라인장치
KR20120004071A (ko) * 2010-07-06 2012-01-12 주식회사 에스에프에이 Oled 제조용 박막 증착 장치
KR20130009601A (ko) * 2011-07-13 2013-01-23 주식회사 원익아이피에스 기판처리장치 및 기판처리방법
KR101331714B1 (ko) * 2012-06-14 2013-11-20 삼성전기주식회사 기판제조공정용 기판 고정장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200058765A (ko) * 2018-11-20 2020-05-28 (주)유니더스 박막 증착장치
EP4324956A1 (en) * 2022-08-03 2024-02-21 Samsung Display Co., Ltd. Deposition apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR102200693B1 (ko) 2021-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100696550B1 (ko) 증착 장치
KR102123335B1 (ko) 프로세싱 챔버에서 층 증착 동안에 기판 캐리어 및 마스크 캐리어를 지지하기 위한 홀딩 어레인지먼트, 기판 상에 층을 증착하기 위한 장치, 및 기판을 지지하는 기판 캐리어와 마스크 캐리어를 정렬시키기 위한 방법
KR101569796B1 (ko) 기판 정렬 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 정렬 방법
KR100964224B1 (ko) 증착 장치 및 박막 형성 방법
KR20170103089A (ko) 유기발광소자의 증착장치
US20060150910A1 (en) Alignment system, vertical tray transporting assembly, and deposition apparatus with the same
KR20160001886A (ko) 기판 틸팅이 가능한 얼라이너
WO2012173692A1 (en) Cvd mask alignment for oled processing
JP2014065959A (ja) 蒸着装置、および、蒸着装置における基板設置方法
JP2017538864A (ja) 処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成、基板上に層を堆積させるための装置、及び、処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成の位置を合わせる方法
WO2016080235A1 (ja) 蒸着装置、蒸着方法、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
TW201918571A (zh) 用於真空腔內處理基板之設備與系統及用於使基板載體相對遮罩載體對準之方法
KR101856110B1 (ko) 기판처리장치 및 기판처리방법
TWI678421B (zh) 真空腔室內加工基板之設備和系統及真空腔室內運輸載體之方法
KR102371101B1 (ko) 증착 장치
KR102136788B1 (ko) 증착용 마스크 어셈블리 및 이를 포함하는 증착 장치
KR100639003B1 (ko) 기판트레이홀더용 정렬장치
US8123863B2 (en) Evaporation apparatus
KR101741217B1 (ko) 기판의 얼라인 방법
KR102217879B1 (ko) 기판을 프로세싱하기 위한 방법, 진공 프로세싱을 위한 장치, 및 진공 프로세싱 시스템
KR102130114B1 (ko) 기판 얼라인 기구와 이를 구비한 증착장치
KR20080002238A (ko) 기판이송시스템
JP2018525814A (ja) 基板用セルフロックホルダ
KR20210057117A (ko) 재료 증착 장치, 진공 증착 시스템, 및 대면적 기판을 프로세싱하는 방법
KR20190074651A (ko) 기판 얼라인 장치 및 이를 포함하는 증착장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant