JP2005251176A5 - - Google Patents
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- 239000000945 filler Substances 0.000 claims 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910004286 SiNxOy Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 claims 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N Silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 3
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 claims 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 1
Claims (6)
- アンテナと、
前記アンテナに接続された薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置と、
前記アンテナの周囲に設けられたフィラーを含む充填層と、
接着剤層と、
セパレータと、を有し、
前記フィラーを含む充填層の熱膨張率は、前記アンテナを構成する導電材料の熱膨張率の2倍以下であり、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又はSiOxNy若しくはSiNxOy(x>y)を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするIDラベル。 - 請求項1において、前記フィラーは、酸化珪素を含むことを特徴とするIDラベル。
- アンテナと、
前記アンテナに接続された薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置と、
前記アンテナの周囲に設けられたフィラーを含む充填層と、を有し、
前記フィラーを含む充填層の熱膨張率は、前記アンテナを構成する導電材料の熱膨張率の2倍以下であり、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又はSiOxNy若しくはSiNxOy(x>y)を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするIDタグ。 - 請求項3において、前記フィラーは、酸化珪素を含むことを特徴とするIDタグ。
- アンテナと、
前記アンテナに接続された薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置と、
前記アンテナの周囲に設けられたフィラーを含む充填層と、を有し、
前記フィラーを含む充填層の熱膨張率は、前記アンテナを構成する導電材料の熱膨張率の2倍以下であり、
前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又はSiOxNy若しくはSiNxOy(x>y)を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするIDカード。 - 請求項5において、前記フィラーは、酸化珪素を含むことを特徴とするIDカード。
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