JP2005251176A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005251176A5
JP2005251176A5 JP2005018817A JP2005018817A JP2005251176A5 JP 2005251176 A5 JP2005251176 A5 JP 2005251176A5 JP 2005018817 A JP2005018817 A JP 2005018817A JP 2005018817 A JP2005018817 A JP 2005018817A JP 2005251176 A5 JP2005251176 A5 JP 2005251176A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filler
antenna
thin film
integrated circuit
thermal expansion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005018817A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005251176A (ja
JP4939757B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005018817A priority Critical patent/JP4939757B2/ja
Priority claimed from JP2005018817A external-priority patent/JP4939757B2/ja
Publication of JP2005251176A publication Critical patent/JP2005251176A/ja
Publication of JP2005251176A5 publication Critical patent/JP2005251176A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4939757B2 publication Critical patent/JP4939757B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (6)

  1. アンテナと、
    前記アンテナに接続された薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置と、
    前記アンテナの周囲に設けられたフィラーを含む充填層と、
    接着剤層と、
    セパレータと、を有し、
    前記フィラーを含む充填層の熱膨張率は、前記アンテナを構成する導電材料の熱膨張率の2倍以下であり、
    前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又はSiOxNy若しくはSiNxOy(x>y)を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするIDラベル。
  2. 請求項1において、前記フィラーは、酸化珪素を含むことを特徴とするIDラベル。
  3. アンテナと、
    前記アンテナに接続された薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置と、
    前記アンテナの周囲に設けられたフィラーを含む充填層と、を有し、
    前記フィラーを含む充填層の熱膨張率は、前記アンテナを構成する導電材料の熱膨張率の2倍以下であり、
    前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又はSiOxNy若しくはSiNxOy(x>y)を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするIDタグ。
  4. 請求項3において、前記フィラーは、酸化珪素を含むことを特徴とするIDタグ。
  5. アンテナと、
    前記アンテナに接続された薄膜トランジスタを含む薄膜集積回路装置と、
    前記アンテナの周囲に設けられたフィラーを含む充填層と、を有し、
    前記フィラーを含む充填層の熱膨張率は、前記アンテナを構成する導電材料の熱膨張率の2倍以下であり、
    前記薄膜集積回路装置の上方及び下方の少なくとも一方には、酸化珪素、窒化珪素又はSiOxNy若しくはSiNxOy(x>y)を含む単層又は積層からなる保護層が形成されていることを特徴とするIDカード。
  6. 請求項5において、前記フィラーは、酸化珪素を含むことを特徴とするIDカード。
JP2005018817A 2004-02-04 2005-01-26 Idラベル、idタグ及びidカード Expired - Fee Related JP4939757B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005018817A JP4939757B2 (ja) 2004-02-04 2005-01-26 Idラベル、idタグ及びidカード

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004027699 2004-02-04
JP2004027699 2004-02-04
JP2005018817A JP4939757B2 (ja) 2004-02-04 2005-01-26 Idラベル、idタグ及びidカード

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005251176A JP2005251176A (ja) 2005-09-15
JP2005251176A5 true JP2005251176A5 (ja) 2008-02-14
JP4939757B2 JP4939757B2 (ja) 2012-05-30

Family

ID=35031549

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005018817A Expired - Fee Related JP4939757B2 (ja) 2004-02-04 2005-01-26 Idラベル、idタグ及びidカード

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4939757B2 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5127167B2 (ja) * 2005-06-30 2013-01-23 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置及びその作製方法
US7727859B2 (en) 2005-06-30 2010-06-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP4640221B2 (ja) 2006-03-10 2011-03-02 セイコーエプソン株式会社 インクカートリッジ及びプリンタ
JP4661643B2 (ja) 2006-03-13 2011-03-30 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、インクカートリッジ及び電子機器
JP5196389B2 (ja) * 2006-03-23 2013-05-15 大阪シーリング印刷株式会社 Rfidラベル及びrfidラベルの製造方法
JP2008236705A (ja) * 2006-08-09 2008-10-02 Daido Steel Co Ltd 超広帯域通信用アンテナ
EP1970951A3 (en) * 2007-03-13 2009-05-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
KR101596698B1 (ko) * 2008-04-25 2016-02-24 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치 제조 방법
JP5351201B2 (ja) * 2011-03-25 2013-11-27 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法
US10977540B2 (en) 2016-07-27 2021-04-13 Composecure, Llc RFID device
US10762412B2 (en) 2018-01-30 2020-09-01 Composecure, Llc DI capacitive embedded metal card
CA3079539A1 (en) 2017-10-18 2019-04-25 Composecure, Llc Metal, ceramic, or ceramic-coated transaction card with window or window pattern and optional backlighting
JP7136448B2 (ja) * 2018-11-22 2022-09-13 パイクリスタル株式会社 プロセスユニット並びに電子タグ及びその製造方法
BR112021024122A2 (pt) * 2019-05-31 2022-01-11 Composecure Llc Dispositivo de rfid
CN115427313A (zh) * 2020-02-26 2022-12-02 艾利丹尼森零售信息服务有限公司 用于包装的射频识别安全标签

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2970411B2 (ja) * 1993-08-04 1999-11-02 株式会社日立製作所 半導体装置
JPH1044655A (ja) * 1996-07-30 1998-02-17 Toppan Printing Co Ltd Icカードおよびicカードの製造方法
JP2001175829A (ja) * 1999-10-08 2001-06-29 Dainippon Printing Co Ltd 非接触式データキャリアおよびicチップ
JP4620237B2 (ja) * 2000-10-18 2011-01-26 大日本印刷株式会社 防湿耐水性仕様非接触データキャリア
JP2002366917A (ja) * 2001-06-07 2002-12-20 Hitachi Ltd アンテナを内蔵するicカード
JP2003069238A (ja) * 2001-08-29 2003-03-07 Kyocera Corp 絶縁フィルムおよびこれを用いた多層配線基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005251176A5 (ja)
SG149062A1 (en) Dicing die-bonding film
CN104025289B (zh) 包括集成散热器的无凸块构建层封装
EP1583148A4 (en) SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
TW200802736A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP4528239B2 (ja) 無線icタグ
EP1249871A3 (en) Radiation detector
JP4807302B2 (ja) 放熱部品
EP1901123A4 (en) PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE FILM, ADHESIVE SHEET, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC PART OBTAINED BY USING THE SAME
TW200511409A (en) Re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet
TWI318782B (en) Method for manufacturing a semiconductor device
WO2004111659A3 (en) Methods and apparatus for packaging integrated circuit devices
WO2003088371A3 (en) Protected organic electronic devices and methods for making the same
MY147687A (en) Wafer-processing tape
JP2010272621A5 (ja) 半導体装置
EP0979852A3 (en) A dicing tape and a method of dicing a semiconductor wafer
TW200628304A (en) Non-contact IC label, manufacturing method therefor, manufacturing apparatus therefor
MY142246A (en) Adhesive film and process for preparing the same as well as adhesive sheet and semiconductor device
WO2009066561A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス装置およびその製造方法
WO2006081315A3 (en) Method of eliminating curl for devices on thin flexible substrates, and devices made thereby
TW200620443A (en) Film for protecting semiconductor wafer surface and protection method of semiconductor wafer by using the same
US20140204535A1 (en) Heat discharging sheet and display device including the same
TW200845329A (en) Heat-dissipating type semiconductor package
TW200737010A (en) Semiconductor device
JP2005252242A5 (ja)