JP2005246113A - ガントリー移動型ステージおよび塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 ダイヘッドの荷重による走行レールの撓みをなくし、ダイヘッドの高さを一定に維持することが可能な走行レールを有する塗布装置を提供する。
【解決手段】 ダイヘッドの荷重を支持する荷重ガイドレールと、ダイヘッドの高さを維持する基準ガイドレール、および、ダイヘッドの荷重を基準ガイドレールにはかけずに荷重ガイドレールのみにかけるための機構を設け、ダイヘッドを一定の高さで両レールに沿って走行させるようにする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、ダイコート法による基板の塗布装置に関するものである。

液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造工程においては、ガラス基板の表面上に、ブラックマトリクスやＲ、Ｇ、Ｂ（Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅ）の着色パターンなどを、それぞれ所定の塗布液をガラス基板上に塗布することにより形成する。

上述の塗布処理は、通常、基板を載置する載置台と、塗布液を吐出するダイヘッドとを有する塗布装置を用いて行われる。ダイヘッドは、ガラス基板の一辺程度の長さの直方体形状で、下面にスリット状の吐出口を備えている。このダイヘッドを、所定の塗布液を吐出口から吐出させながら、基板の一端部から他端部まで載置台に沿って移動させることによって塗布処理が行なわれる。

このような塗布装置において、ダイヘッドを移動させる機構として、載置台の下方に、載置台を挿むように２本の走行用レールを敷設し、それら２本の走行用レール上を移動する移動部材にダイヘッドを固定し、載置台上に載置されたガラス基板に塗布する塗布装置が提案されている（特許文献１参照）。
特開２００１−３１０１５２号

しかしながら、この塗布装置では、ロボットアーム等を用いてガラス基板を載置台上に載置しなければならず、載置に時間がかかるという問題があった。ガラス基板の塗布装置への供給と搬出を高速化するためには、載置台の両側に基板搬送用コンベアを設け、ダイヘッドの走行方向に対して側面から基板を搬入出する方法が適しており、そのためには、ダイヘッドの走行用レールを載置台よりも高い位置に設置し、搬入出するガラス基板とダイヘッドとが干渉しないようにする必要がある。

しかしながら、走行用レールを高い位置に設置すると、ダイヘッドの荷重により走行用レールが撓み、ダイヘッドの先端とガラス基板の距離を一定に保つことができない。すなわち、一辺２ｍのガラス基板に塗布処理を施す塗布装置の場合、走行レールの長さは約３６００ｍｍとなり、重量約１５０ｋｇのダイヘッドを支える走行レールの撓みは、許容範囲の１０μｍ以上と無視できない大きさになる。この撓みを許容範囲に抑えるために、走行レールの剛性を大きくすることも考えられるが、走行レールの高さが４００ｍｍ以上になり、現実的ではない。

本発明は、このような問題を鑑みてなされたもので、解決しようとする課題は、ダイヘッドの荷重による走行レールの撓みを許容範囲内に抑え、ダイヘッドの高さを一定に維持することが可能な走行レールを有する塗布装置を提供することである。

前述する課題を解決するための第１の発明は、ダイヘッドを載置台上で移動させるガントリー移動型ステージであって、ダイヘッドの荷重を支持する荷重ガイドレールと、ダイヘッドの高さを一定に保つ基準ガイドレールとを備え、ダイヘッドは、荷重ガイドレールと基準ガイドレールに沿って移動することを特徴とするガントリー移動型ステージである。

荷重ガイドレールと前記基準ガイドレールの間には、荷重ガイドレールと基準ガイドレールに沿って移動する前記ダイヘッドの荷重を相殺する機構を備える。この機構は、例えば、エアシリンダまたはバネで構成される。荷重ガイドレールが基準ガイドレールよりも高い位置にあってもよいし、基準ガイドレールが荷重ガイドレールよりも高い位置にあってもよい。また、ダイヘッドを基準ガイドレールに沿って移動させ、基準ガイドレールと荷重ガイドレールとの間に、ダイヘッドの荷重を相殺し、基準ガイドレールの撓みを所定の範囲内に抑える機構を備えても良い。

ダイヘッドは、塗布液を載置台上に載置されたガラス基板に吐出する機構であり、荷重ガイドレールおよび基準ガイドレール、あるいは基準ガイドレールに取り付けられて載置台上を移動するガントリー移動型のダイヘッドである。荷重ガイドレールと基準ガイドレールの間にある、例えばエアシリンダ等のダイヘッドの荷重を相殺する機構により、ダイヘッド移動時の、基準ガイドレールの撓みを一定範囲以内に抑え、載置台上のガラス基板とダイヘッドの距離を一定に保ち、安定した塗布が可能にする。

また、前述する課題を解決するための第２の発明は、塗布液吐出用のダイヘッドを用いて、載置台上に置かれた基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、ダイヘッドの荷重を支持する荷重ガイドレールと、ダイヘッドの高さを一定に保つ基準ガイドレールとを備え、ダイヘッドが荷重ガイドレールと基準ガイドレールに沿って移動することを特徴とする塗布装置である。

荷重ガイドレールと基準ガイドレールの間には、ダイヘッドの荷重を相殺し、ダイヘッドによる基準ガイドレールの撓みを所定の範囲以内に抑える機構を備える。この機構は、例えば、エアシリンダ、バネ等で構成される。荷重ガイドレールを基準ガイドレールよりも高い位置に設けても良いし、基準ガイドレールを荷重ガイドレールよりも高い位置に設けてもよい。また、ダイヘッドを基準ガイドレールに沿って移動させ、基準ガイドレールと荷重ガイドレールとの間に、ダイヘッドの荷重を相殺し、基準ガイドレールの撓みを所定の範囲内に抑える機構を備えても良い。

本発明の塗布装置は、ダイヘッドを移動させる走行レールの撓みを許容範囲内に抑え、ダイヘッドとガラス基板との距離を一定に保つことにより、ガラス基板への塗布処理を安定して行うことが可能である。

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明の１実施の形態にかかる塗布装置１の構成を示す斜視図、図２は、塗布装置１の構成の概略を示す平面図、図３は、塗布装置１の構造上の仕組みを示す図である。

図１に示すように、塗布装置１のＸ方向の両側には搬入装置２１と搬出装置２３が設置されており、塗布装置１は搬入装置２１と搬出装置２３の搬送路上の位置に配置される。搬入装置２１および搬出装置２３は、例えば、Ｘ方向に並列に設置された多数のガラス基板搬送用ローラ２０で構成され、各搬送用ローラ２０は、例えば、所定の回転速度で回転するＹ方向に沿った回転軸を持ち、ガラス基板ＧをＸ方向に搬送する。

塗布装置１は、基台３、載置台５、ダイヘッド１３、ダイヘッド１３を移動させる基準ガイドレール９および荷重ガイドレール１１等を有する。基台３上の中央部に、ガラス基板Ｇを載置する載置台５が設置され、搬入装置２１から搬入されるガラス基板Ｇが載置台５上に搬送され、載置台５上に載置される。

基台３の四隅にはそれぞれ直方柱状の支持部材７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄが設けられ、基準ガイドレール９ａ、９ｂおよび荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂを支持する。すなわち、搬入装置２１側の２本の支持部材７ａ、７ｂが、両支持部材７ａ、７ｂ間に水平に渡した基準ガイドレール９ａおよび荷重ガイドレール１１ａを支持し、同様に、搬出装置２３側の２本の支持部材７ｃ、７ｄが、両支持部材７ａ、７ｂ間に水平に渡した基準ガイドレール９ｂおよび荷重ガイドレール１１ｂを支持する。

基準ガイドレール９ａ、９ｂおよび荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂは、例えば、経時変化の少ないセラミックス等を素材とし、長さが基台３のＹ方向の長さとほぼ等しい直方体形状を有し、その長手方向の両端は支持部材７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄによって支持される。搬入装置２１側および搬出装置２３側の２本の基板ガイドレール９ａ、９ｂは基台３上の同一水平面上に位置し、同様に、搬入装置２１側および搬出装置２３側の２本の荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂは、基準ガイドレール９ａ、９ｂよりも上部の同一水平面上に位置する。

また、搬入装置２１側の基準ガイドレール９ａおよび荷重ガイドレール１１ａは、２本の支持部材７ａ、７ｂによってＸ軸上の同一の位置に支持され、同様に、搬出装置２３側の基準ガイドレール９ｂおよび荷重ガイドレール１１ｂは、２本の支持部材７ｃ、７ｄによってＸ軸上の同一の位置に支持される。

ダイヘッド１３は、Ｘ方向を長手方向とする略直方体形状で、ガラス基板Ｇに対向する下面に塗布液を吐出するためのスリットが設けられている。このダイヘッド１３の長手方向の両端は、ダイヘッド支持部１５ａ、１５ｂにより、それぞれ基準ガイドレール９ａ、９ｂに取り付けられ、両ダイヘッド支持部１５ａ、１５ｂは、それぞれエアシリンダ１７ａ、１７ｂを介して支持部１９ａ、１９ｂと接続され、支持部１９ａ、１９ｂは、それぞれ、荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂに取り付けられている。ここで、エアシリンダ１７ａ、１７ｂに代えて、例えば、バネを用いてもよい。

両ダイヘッド支持部１５ａ、１５ｂおよび両支持部１９ａ、１９ｂは、エアスライダー機構を備え、図示していない例えばリニアモータ等の駆動部により駆動され、ダイヘッド支持部１５ａ、１５ｂは基準ガイドレール９ａ、９ｂ上を、また、支持部１９ａ、１９ｂは荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂ上をスライドする。これにより、ダイヘッド１３は、両基準ガイドレール９ａ、９ｂおよび両荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂに沿ってＹ方向に滑らかに移動し、載置台３上に載置されたガラス基板Ｇ上に塗布液を吐出しながら移動し、塗布処理を行う。

このとき、基準ガイドレール９ａ、９ｂは、エアシリンダ１７により撓みを抑えるように制御され、ダイヘッド１３の先端と、載置台５上のガラス基板Ｇとの距離が許容範囲内に保たれる。一方、荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂはダイヘッド１３の荷重を受けて撓む。すなわち、基準ガイドレール９ａ、９ｂがダイヘッド１３の高さ精度を保ち、荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂがダイヘッド１３の荷重を受ける役割をする。

以上に説明したように、基準ガイドレール９ａ、９ｂと荷重ガイドレール１１ａ、１１ｂを２段構成に設置し、その間をエアシリンダ１７で接続することにより、ダイヘッド１３の高さが一定に保たれ、ガラス基板Ｇへの塗布処理を安定して行うことが可能になる。

次に、基準ガイドレール９ａおよび荷重ガイドレール１１ａの仕組みについて説明する。図２に示すように、ダイヘッド１３は基準ガイドレール９ａおよび荷重ガイドレール１１ａに沿って、載置台５上に載置したガラス基板Ｇ上をＹ方向に移動する。

この際、仮に、ダイヘッド１３を基準ガイドレール９ａだけで支持すると考えると、ダイヘッド１３の荷重はダイヘッド支持部１５ａを介して基準ガイドレール９ａにかかり、ダイヘッド１３の位置に応じて撓みを生じる。この撓みは、基準ガイドレール９ａの両端付近、すなわち、支持部材７ａ、７ｂとの接続部近くでは小さく、基準ガイドレール９の中央で最大になる。

したがって、基準ガイドレール９ａが受けるダイヘッド１３の荷重を相殺する力Ａで基準ガイドレール９ａを引き上げれば、基準ガイドレール９ａは殆んど撓まず、ダイヘッド１３の先端の高さを一定に保つことが可能になる。基準ガイドレール９ａの力Ａによる引き上げをエアシリンダ１７ａで行う。

図３に示すように、エアシリンダ１７ａはダイヘッド支持部１５ａと支持部１９ａの間に設けられる。エアシリンダ１７ａは、ダイヘッド支持部１５ａに接続されたピストン２８ａと開放口２９ａを有する。尚、図３上で、ダイヘッド１３ｔ等の「ｔ」は、中央部付近に移動した状態を示す。

開放口２９ａはエアシリンダ１７ａ上部に設けられ、ピストン２８ａより上部の空間を大気開放状態にする。一方、エアシリンダ１７ａ下部はピストン２８ａで閉鎖されており、図示していない配管がエアシリンダ１７ａ下部に接続され、外部のポンプ２５ａにより、エアシリンダ１７ａ下部の空間に常時一定の圧力がかけられる。実際には、工場圧空を使用してエアシリンダ１７ａ下部空間を一定圧力で加圧する。

ダイヘッド１３が基準ガイドレール９ａの中央付近に移動すると（例えば１３ｔの位置）、基準ガイドレール９ａはダイヘッド１３ｔの荷重により撓もうとするがポンプ２５ｔでエアシリンダ１７ｔの下部空間に常時一定の圧力をかけられているので、ピストン２８ｔが上方に押し上げられ、基準ガイドレール９ａは吊り上げられ、撓まない。一方、荷重ガイドレール１１ａは、ピストン２８ｔが上昇し、ダイヘッド支持部１５ｔと支持部１９ｔの距離が短くなるので、下方に引き下げられて撓む。

すなわち、エアシリンダ１７の下部空間を一定圧力で加圧することにより、ダイヘッド１３の荷重が相殺される。荷重ガイドレール１１ａのみが撓み、基準ガイドレール９ａの撓みは抑えられ、ダイヘッド１３ｔの高さ、すなわち、ダイヘッド１３ｔの先端とガラス基板Ｇの距離が保たれる。

尚、以上で説明した下部空間にかける一定圧力は、塗布装置１を稼動する前に事前に調整しておく。

以上に説明したように、エアシリンダ１７の空気圧を一定に保つように制御することにより、荷重ガイドレール１１のみを撓ませて基準ガイドレール９の撓みを一定範囲内に抑え、ダイヘッドの高さを一定に保ち、ダイヘッド１３とガラス基板Ｇ間の距離を許容範囲内に維持する。

次に、塗布装置の他の実施形態について説明する。図４は、本発明の第２の実施の形態にかかる塗布装置３１の構成を示す斜視図、図５は、塗布装置３１の構成の概略を示す平面図、図６は、塗布装置３１の構造上の仕組みを示す図である。

第１の実施形態では、図１〜３に示したように荷重ガイドレール１１が基準ガイドレール９の上部に位置するが、第２の実施形態では、図４に示すように、基準ガイドレール３９が荷重ガイドレール４１の上部に位置する。その他の、主な構成部材、すなわち、基台３３、ガラス基板Ｇを載置する載置台３５、および、支持部材３７は、第１の実施形態と同様である。また、図４では、図１で示した搬入措置２１および搬出装置２３は図示していないが、第１の実施形態と同様に、塗布装置３１のＸ軸上の両側に設置される。

Ｘ軸上の同位置にある２つの支持部材３７ａ、３７ｂが、一組の基準ガイドレール３９ａと荷重ガイドレール４１ａを、同様に、Ｘ軸上の同位置にある２つの支持部材３７ｃ、３７ｄが、一組の基準ガイドレール３９ｂと荷重ガイドレール４１ｂを、上側に基準ガイドレール３９ａ、３９ｂが、下側に荷重ガイドレール４１ａ、４１ｂが位置するように支持する。ダイヘッド４３は、これらの２組のガイドレールによって支持されるが、支持方法が第一の実施例とは異なる。

すなわち、２本の基準ガイドレール３９ａ、３９ｂには、基準ガイドレール３９ａ、３９ｂに沿ってレールを移動する支持部４９ａ、４９ｂが備えられており、ダイヘッド４３は、その両端を、支持部４９ａ、４９ｂに固定されたダイヘッド支持部４５ａ、４５ｂにより支持され、基準ガイドレール３９ａ、３９ｂに沿って移動する。

支持部４９ａ、４９ｂには、図４に示すように、ダイヘッド支持部４５ａ、４５ｂと隣接してエアシリンダ４７ａ、４７ｂが取り付けられており、このエアシリンダ４７ａ、４７ｂの他端には、それぞれ、加圧板５１ａ、５１ｂが取り付けられ、加圧板５１ａ、５１ｂは、それぞれ、荷重ガイドレール４１ａ、４１ｂに接している。第１の実施形態と同様に、エアシリンダ４７ａ、４７ｂに代えてバネを使用することも可能である。

両支持部４９ａ、４９ｂおよび両加圧板５１ａ、５１ｂは、エアスライダー機構を備え、支持部４９ａ、４９ｂが図示していない例えばリニアモータ等により駆動されることにより、支持部４９ａ、４９ｂは基準ガイドレール３９ａ、３９ｂ上を、また、加圧板５１ａ、５１ｂは荷重ガイドレール４１ａ、４１ｂ上を滑らかにスライドする。これにより、ダイヘッド４３は、両基準ガイドレール３９ａ、３９ｂおよび両荷重ガイドレール４１ａ、４１ｂに沿ってＹ方向に滑らかに移動し、載置台３５上に載置されたガラス基板Ｇ上に塗布液を吐出しながら移動し、塗布処理を行う。

ダイヘッド４３が基準ガイドレール３９ａ、３９ｂおよび両荷重ガイドレール４１ａ、４１ｂに沿って移動する際、ダイヘッド４３の荷重で基準ガイドレール３９ａ、３９ｂが撓まないようにエアシリンダ４７ａ、４７ｂが制御される。ずなわち、図５に示すように、エアシリンダ４７ａにより矢印Ｂ方向の力をかけ、加圧板５１ａを介して荷重ガイドレール４１ａに対して矢印Ｂ方向の力で突っ張ることにより、基準ガイドレール３９ａが撓まないようにする。

ダイヘッド４３はダイヘッド支持部４５ａによって支持部４９ａに固定されており、ダイヘッド４３の先端部から支持部４９ａまでの距離は一定なので、基準ガイドレール３９ａが撓まなければ、載置台３５上に置かれたガラス基板Ｇとダイヘッド４３の先端部との距離は一定に保たれる。

図６に示すように、エアシリンダ４７ａは支持部４９ａの下部に取り付けられ、エアシリンダ４７ａの他端には加圧版５１ａが取り付けられている。エアシリンダ４７ａは、加圧板５１ａに固定されたピストン４８ａと開放口５５ａを有する。エアシリンダ４７ａ上部はピストン４８ａで閉鎖されており、図示していない配管がエアシリンダ４７ａ上部に接続され、外部のポンプ５３ａにより、エアシリンダ４７ａ上部の空間に常時一定の圧力がかけられる。実際には、工場圧空を使用してエアシリンダ４７ａ下部空間を一定圧力で加圧する。

ダイヘッド４３が基準ガイドレール３９ａの中央付近に移動すると（例えば４３ｔの位置）、基準ガイドレール３９ａがダイヘッド４３の荷重により撓もうとする。しかし、エアシリンダ４７ａ上部が一定圧力で加圧されているので、ピストン４８ｔを下方に押し下げ、ピストン４８ｔが下降することにより、支持部４９ｔと加圧版５１ｔ間の距離が長くなり、荷重ガイドレール４１ａが下方に押し下げられ撓み、基準ガイドレール３９ａの撓みは抑えられる。

すなわち、エアシリンダ４７ａ上部が一定圧力で加圧されることによりダイヘッド４３の荷重が相殺され、荷重ガイドレール４１ａのみが撓み、基準ガイドレール３９ａの撓みは一定範囲内に抑えられ、ダイヘッド４３ｔの高さ、すなわち、ダイヘッド４３ｔの先端とガラス基板Ｇの距離が保たれる。

尚、以上で説明したエアシリンダ４７上部空間にかける一定圧力は、塗布装置３１を稼動する前に事前に調整しておく。

次に、本発明の塗布装置の更に他の実施形態について説明する。図７は、第３の実施の形態にかかる塗布装置８１の概略を示す平面図（Ｘ方向の断面図）、図８は、第３の実施の形態にかかる塗布装置８１の概略を示す平面図（Ｙ方向の断面図）、図９は、荷重相殺ユニット７５の仕組みを示す図である。

第３の実施形態は、第２の実施の形態と同様に、基準ガイドレール５９ａ、５９ｂがそれぞれ、荷重ガイドレール６１ａ、６１ｂの上部に位置する。その他の、主な構成部材、すなわち、基台６３、ガラス基板Ｇを載置する載置台６５、および、支持部材５７（５７ａ、５７ｂ、５７ｃ、５７ｄ）は、第１、第２の実施形態と同様である。ただし、第３の実施形態では、ダイヘッド６７の荷重による基準ガイドレール５９ａ、５９ｂの撓みを一定範囲内に抑える機構として、荷重相殺ユニット７５ａ、７５ｂを用いる。

すなわち、図８に示すように、ダイヘッド６７は、ダイヘッド支持部６９ａ、６９ｂによって、それぞれ支持部７１ａ、７１ｂと接続しており、例えばリニアモータにより基準ガイドレール５９ａ、５９ｂ上を走行し、荷重ガイドレール６１ａと基準ガイドレール５９ａ間に設置された荷重相殺ユニット７５ａが、ダイヘッド６７と同時に走行しながら、ダイヘッド６７の荷重を支持する。

第２の実施形態では、基準ガイドレール３９ａの撓みを一定範囲内に抑える機構であるエアシリンダ４７ａと加圧板５１ａが、基準ガイドレール３９ａに沿ってスライドする支持部４９ａに接続されていたが、第３の実施形態の荷重相殺ユニット７５ａ、７５ｂは独立して設置される。

すなわち、基準ガイドレール５９ａ、５９ｂの下側部分と、荷重ガイドレール６１ａ、６１ｂの上側部分にリニアモータ・ガイドレール７３ａ、７３ｂが設置され、これに、それぞれ荷重相殺ユニット７５ａ、７５ｂが取り付けられ、荷重相殺ユニット７５ａ、７５ｂは、リニアモータ等により駆動され、例えば、図示していないリニアモータ制御機構によりダイヘッド６７の動きに追随して走行する。

一方、ダイヘッド支持部６９ａ、６９ｂを介してダイヘッド６７を支持している支持部７１ａ、７１ｂもエアスライダー機構を備えており、図示していない例えばリニアモータ等により駆動される。

図９に示すように、荷重相殺ユニット７５は、エアシリンダ７７、加圧走行部７９、伸縮部８１等で構成される。エアシリンダ７７は、ダイヘッド６７の荷重を相殺するように伸縮する。加圧走行部７９は、エアシリンダ７７の上下に接続されており、エアシリンダ７７で生成されるダイヘッド６７の荷重を相殺する力を基準ガイドレール５９と荷重ガイドレール６１に伝達しながら、基準ガイドレール５９および荷重ガイドレール６１に設置されたリニアモータ・ガイドレール７３上を走行する。エアシリンダ７７の例えば周りに設置された伸縮部８１は、エアシリンダ７７の伸縮を吸収する。

以上のように、本実施の形態では、基準ガイドレール５９ａ、５９ｂと、荷重ガイドレール６１ａ、６１ｂの間に設置された荷重相殺ユニット７５ａ、７５ｂが、ダイヘッド６７の荷重を支持する。すなわち、ダイヘッド６７の荷重はダイヘッド支持部６９ａ、６９ｂおよび支持部７１ａ、７１ｂを介して基準ガイドレール５９ａ、５９ｂに伝達され、基準ガイドレール５９ａ、５９ｂは撓もうとするが、荷重相殺ユニット７５ａ、７５ｂが、基準ガイドレール５９ａ、５９ｂを水平に保つように基準ガイドレール５９ａ、５９ｂを押し上げる力を加える。これにより、基準ガイドレール５９ａ、５９ｂの撓みは一定範囲内に抑えられる。

このように、ダイヘッド６７の支持部７１ａ、７１ｂと独立して荷重相殺ユニット７５ａ、７５ｂを設けた場合でも、基準ガイドレール５９ａ、５９ｂの撓みを一定範囲内に抑えることが可能であり、ダイヘッド６７の高さを一定に保ち、ダイヘッド６７とガラス基板Ｇ間の距離を許容範囲内に維持し、安定した塗布が可能である。

尚、本発明は、前述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の改変が可能であり、それらも、本発明の技術範囲に含まれる。例えば、ダイヘッドの荷重による負荷を荷重ガイドレールのみにかける仕組みとしてエアシリンダの代わりに、バネを用いてもよい。

本発明によれば、ガイドレールがガラス基板を載置する載置台よりも高い位置にある塗布装置を構成でき、この塗布装置は、ガラス基板をダイヘッドの移動方向と直角の向きに、ガイドレールの下を通して高速に搬入出可能な液晶用カラーフィルタ製造ライン等に用いることができる。

塗布装置１の構成を示す斜視図（第１の実施形態） 塗布装置１の構成の概略を示す平面図 塗布装置１の構造上の仕組みを示す図 塗布装置３１の構成を示す斜視図（第２の実施形態） 塗布装置３１の構成の概略を示す平面図 塗布装置３１の構造上の仕組みを示す図 塗布装置８１の構成の概略を示す平面図（第３の実施形態） 塗布装置８１の構成の概略を示す平面図（Ｙ方向の断面図） 塗布装置８１の構造上の仕組みを示す図

符号の説明

１………塗布装置
３………基台
５………載置台
７………支持部材
９………基準ガイドレール
１１………荷重ガイドレール
１３………ダイヘッド
１５………ダイヘッド支持部
１７………エアシリンダ
１９………支持部
２１………搬入装置
２３………搬出装置

Claims (12)

1. ダイヘッドを載置台上で移動させるガントリー移動型ステージであって、
   前記ダイヘッドの荷重を支持する荷重ガイドレールと、
   前記ダイヘッドの高さを一定に保つ基準ガイドレールと、
   を備え、前記ダイヘッドは、前記荷重ガイドレールと前記基準ガイドレールに沿って移動することを特徴とするガントリー移動型ステージ。
2. 前記荷重ガイドレールと前記基準ガイドレールの間に、荷重ガイドレールと基準ガイドレールに沿って移動する前記ダイヘッドの荷重を相殺する機構を備えることを特徴とする請求項１に記載のガントリー移動型ステージ。
3. 前記機構はエアシリンダまたはバネであることを特徴とする請求項２に記載のガントリー移動型ステージ。
4. 前記荷重ガイドレールは、前記基準ガイドレールよりも高い位置にあることを特徴とする請求項１に記載のガントリー移動型ステージ。
5. 前記基準ガイドレールは、前記荷重ガイドレールよりも高い位置にあることを特徴とする請求項１に記載のガントリー移動型ステージ。
6. 塗布液吐出用のダイヘッドを載置台上で移動させるガントリー移動型ステージであって、
   前記ダイヘッドの荷重を支持する荷重ガイドレールと、
   前記ダイヘッドの高さを一定に保つ基準ガイドレールと、
   を備え、前記ダイヘッドは、前記基準ガイドレールに沿って移動し、
   前記荷重ガイドレールと前記基準ガイドレールの間に、荷重ガイドレールと基準ガイドレールに沿って移動する前記ダイヘッドの荷重を相殺する機構を備えることを特徴とするガントリー移動型ステージ。
7. 塗布液吐出用のダイヘッドを用いて、載置台上に置かれた基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、
   前記ダイヘッドの荷重を支持する荷重ガイドレールと、
   前記ダイヘッドの高さを一定に保つ基準ガイドレールと、
   を備え、前記ダイヘッドは、前記荷重ガイドレールと前記基準ガイドレールに沿って移動することを特徴とする塗布装置。
8. 前記荷重ガイドレールと前記基準ガイドレールの間に、荷重ガイドレールと基準ガイドレールに沿って移動する前記ダイヘッドの荷重を相殺する機構を備えることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。
9. 前記機構はエアシリンダまたはバネであることを特徴とする請求項８に記載の塗布装置。
10. 前記荷重ガイドレールは、前記基準ガイドレールよりも高い位置にあることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。
11. 前記基準ガイドレールは、前記荷重ガイドレールよりも高い位置にあることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。
12. 塗布液吐出用のダイヘッドを載置台上に置かれた基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、
    前記ダイヘッドの荷重を支持する荷重ガイドレールと、
    前記ダイヘッドの高さを一定に保つ基準ガイドレールと、
    を備え、前記ダイヘッドは、前記基準ガイドレールに沿って移動し、
    前記荷重ガイドレールと前記基準ガイドレールの間に、荷重ガイドレールと基準ガイドレールに沿って移動する前記ダイヘッドの荷重を相殺する機構を備えることを特徴とする塗布装置。
    

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