JP2005240104A - 冷却方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 中心部と外層との温度差に起因する処理対象物の歪み等の発生を抑止する。
【解決手段】 加熱処理後の処理対象物Ｘを冷却ガス２によって冷却処理する冷却方法であって、上記処理対象物Ｘの所定部位に所定流量の冷却ガス２を吹付ける冷却時間帯と、上記処理対象物Ｘの上記所定部位に上記所定流量以下の流量の上記冷却ガス２を吹付けるあるいは上記冷却ガス２の吹付けを停止する冷却緩和時間帯とを設け、冷却処理中に上記冷却時間帯と上記冷却緩和時間帯との相対関係を変化させることによって上記処理対象物Ｘの上記所定部位の冷却速度を変化させる
【選択図】 図１

Description

本発明は、加熱処理後の処理対象物を冷却ガスによって冷却する冷却方法に関するものである。

従来から、金属材等の処理対象物を焼入れするための方法としてソルトバス法が知られている。このソルトバス法は、周知のように、急速な冷却速度を得ることができ、焼戻しを行わなくとも処理対象物に対し硬さと靭性を与えられる方法である。これらの硬さと靭性は、処理対象物の中心部と外層がほぼ等温で冷却されることによって得られるものであり、焼入れの方法としては極めて効果的な方法である。ところが、このソルトバス法は大気中で行われるため、その処理工程において処理対象物の表面処理（光輝処理等）を同時に行うことができない。また、ソルトバス法は、高温化した処理対象物を直接液体中に入れるために高温な水蒸気等が発生し、その処理作業には充分な注意が必要とされている。

このため、近年は、真空引きされた熱処理室の内部で処理対象物を加熱し、その後、冷却油や不活性の冷却ガスによって処理対象物を冷却する方法が提案されている。この方法によれば、処理対象物を不活性雰囲気の熱処理室内部において熱処理するために処理対象物の表面に酸化膜等が生成されず、優れた表面処理の効果が得られる。また、処理作業に充分な注意が必要とされるソルトバス法を用いることなく処理対象物を冷却することができる。
特許第２７３１１２７号公報

しかしながら、この冷却ガスや冷却油によって処理対象物を冷却する方法の場合、上述のソルトバス法のように、処理対象物の中心部と外層とをほぼ等温にして冷却することが難しい。このため、冷却処理中に処理対象物の中心部と外層との温度差が大きくなり、処理対象物に歪み等が生じることが懸念されている。

本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、中心部と外層との温度差に起因する処理対象物の歪み等の発生を抑止することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明では、第１の手段として、加熱処理後の処理対象物を冷却ガスによって冷却処理する冷却方法であって、上記処理対象物の所定部位に所定流量の冷却ガスを吹付ける冷却時間帯と、上記処理対象物の上記所定部位に上記所定流量以下の流量の上記冷却ガスを吹付けるあるいは上記冷却ガスの吹付けを停止する冷却緩和時間帯とを設け、冷却処理中に上記冷却時間帯と上記冷却緩和時間帯との相対関係を変化させることによって上記処理対象物の上記所定部位の冷却速度を変化させるという構成を採用する。

第２の手段として、上記第１の手段において、上記処理対象物の上記所定部位を急速冷却する場合には、上記冷却時間帯を上記冷却緩和時間帯に対して相対的に長くし、上記処理対象物の上記所定部位を上記急速冷却より遅く冷却する場合には、上記冷却時間帯を上記冷却緩和時間帯に対して相対的に短くするという構成を採用する。

第３の手段として、上記第１または第２の手段において、上記冷却時間帯及び上記冷却緩和時間帯とを繰り返すことによって、上記処理対象物の上記所定部位を目標温度にまで冷却するという構成を採用する。

第４の手段として、上記第１〜第３いずれかの手段において、上記処理対象物のパーライト変態域及びベーナイト変態域において上記処理対象物を急速冷却するという構成を採用する。

第５の手段として、上記処理対象物の上記所定部位と他の部位とを繰り返し、上記第１〜第４いずれかの冷却方法を用いて冷却することによって、上記処理対象物全体を均一に冷却するという構成を採用する。

本発明に係る冷却方法によれば、冷却処理中に冷却時間帯と冷却緩和時間帯との相対関係を変化させることによって、処理対象物の冷却速度を変化させることができる。そのため、処理対象物に対して急速冷却が必要でない場合には、冷却速度を緩めることで、処理対象物の中心部の温度が外層に伝達されるのを待ちながら処理対象物を冷却することができる。したがって、本発明に係る冷却方法によれば、中心部と外層との温度差に起因する処理対象物の歪み等の発生を抑止することが可能となる。

以下、図面を参照して、本発明に係る冷却方法の一実施形態について説明する。
図１は、本実施形態に係る冷却方法を実施するための多室型熱処理装置１の概略構成図である。この図に示すように、本実施形態における多室型熱処理装置１は、真空加熱炉１０、ガス冷却炉２０及び移動装置３０を備えている。

真空加熱炉１０は、処理対象物Ｘを減圧下で加熱する機能を有するものであり、内部が真空排気される真空容器１１、処理対象物Ｘを内部に収容する加熱室１２、当該加熱室１２に処理対象物Ｘを出し入れするための前扉１３、加熱室内の処理対象物Ｘを移動させるための開口を閉じる後扉１４、処理対象物Ｘを前後に水平に移動可能に載せる載置台１５及び処理対象物Ｘを加熱するためのヒータ１６等によって構成されている。そして、このような構成によって、真空加熱炉１０は、真空容器１１の内部を真空に減圧し、ヒータ１６によって処理対象物Ｘを所定の温度まで加熱処理することができる。

移動装置３０は、処理対象物Ｘを真空加熱炉１０とガス冷却室２０との間で移動する機能を有するものであり、処理対象物Ｘを真空加熱炉１０とガス冷却炉２０との間で水平に移動させる搬送棒３２、後扉１４を昇降させて開閉する後扉昇降装置３３、前扉１３を昇降させて開閉する前扉昇降装置３４及び後述のガス冷却炉２０の中間断熱扉２１ａを昇降させて開閉する中間扉昇降装置３５を備えて構成されている。なお、本実施形態においては、図示するように、後扉昇降装置３３として直動シリンダ、前扉昇降装置３４及び中間扉昇降装置３５として巻上げ機が用いられているが、その他の駆動機構を後扉昇降装置３３、前扉昇降装置３４及び中間扉昇降装置３５として用いても良い。また、搬送棒３４は、ラックピニオン駆動により駆動することができるが、その他の駆動方法によって駆動しても良い。

ガス冷却炉２０は、加熱処理後の処理対処物Ｘを加圧した循環ガス２（冷却ガス）によって冷却する機能を有するものである。ここで、図１〜図５を参照してガス冷却炉２０の構成を詳細に説明する。なお、図２はガス冷却炉２０の拡大断面図であり、図３は図２におけるＡ−Ａ線断面図である。

図１〜図３に示すように、ガス冷却炉２０は、真空容器２１、冷却室２２、ガス冷却循環装置２４、冷却ガス風路切替え装置４０及び整流器２８を備えて構成されている。
真空容器２１は、真空加熱炉１０の前扉１３に対向して設けられた中間断熱扉２１ａ、処理対象物Ｘを内部に収容する円筒形の容器胴部２１ｂ、ガス冷却循環装置２４を腫瘍する循環部２１ｃ、気密性を確保できるクラッチリング２１ｅ及びクランプ２１ｄを備えて構成されている。このような構成によって、クラッチリング２１ｅを開放し循環部２１ｃを容器胴部２１ｂから図１における右方向に後退させることによって、処理対象物Ｘを容器胴部２１ｂの内部に直接収容することができる。また、クラッチリング２１ｅ及びクランプ２１ｄによって中間断熱扉２１ａと循環部２１ｃとを容器胴部２１ｂに対して気密性を確保した状態で連結し、その後、循環ガス２としてアルゴン、ヘリウム、窒素等の冷却ガスを内部に加圧供給することによって、加圧ガスを処理対象物Ｘの冷却処理に用いることができる。

冷却室２２は、真空加熱炉１０に隣接して容器胴部２１ｂの中央部に設けられる。冷却室２２の真空加熱炉側は中間断熱扉２１ａによって仕切られており、ガス冷却循環装置２４側と両側側面は、気密性を有する断熱壁２２ａ，２２ｂによって仕切られている。また、冷却室２２の上下端は開口しており、その内側に上下方向に断面一定のガス流路を形成している。そして、この冷却室２２の内部が冷却領域とされている。処理対象物Ｘは、例えばジェットエンジンの動翼や静翼、あるいはボルト等の小型金属部品であり、トレーやバスケット内に収容された状態で、冷却室２２中央の通気性が確保された載置台２３上に静置される。

載置台２３は真空加熱炉１０の載置台１５と同一の高さに設置され、自らが有するフリーローラによって処理対象物Ｘが収容されたトレーやバスケットを水平方向に移動自在に支持する。また、図３に示すように、容器胴部２１ｂと断熱壁２２ｂとの間には、冷却室２２の外部領域を上下に分離する水平仕切板２２ｃが設置されている。

ガス冷却循環装置２４は、冷却室２２に隣接して設置され冷却室２２を通過した循環ガス２を吸引して加圧する冷却ファン２４ａと、当該冷却ファン２４ａから排出される循環ガス２と間接冷却する熱交換器２５とを備えて構成されている。冷却ファン２４ａは、真空容器２１の循環部２１ｃに取り付けられた冷却ファンモータ２４ｂによって回転駆動され、その中央部から循環ガス２を吸引し、外周部から排気する。熱交換器２５は、例えば内部が水冷された冷却フィンチューブである。このような構成によって、冷却ファンモータ２４ｂの外周部から排気され、さらに熱交換器２５冷却された循環ガス２を冷却室２２内において循環させることができる。

整流器２８は、冷却室２２の上端及び下端を塞いで上下に設けられ、冷却室２２を通過する循環ガス２の速度分布を均一化させるものである。

また、本実施形態における多室型熱処理装置１は、冷却室２２の上下に冷却室２２から流出入する循環ガス２の流れ方向を案内する補助分配機構２９を備えており、冷却室２２の上下面積が大きい場合であっても、複数箇所に向かう循環ガス２の流れ方向を最適化し、流れの均一化を高めるようになっている。

図４は、図２のＢ部拡大図である。この図に示すように、本実施形態における多室型熱処理装置１の冷却ガス風路切替え装置４０は、固定仕切板４２、回転仕切板４４及び回転駆動装置４６を備えて構成されている。
固定仕切板４２は、冷却室２２とガス冷却循環装置２４との間を仕切り、その間を遮断している。回転仕切板４４は、回転駆動装置４６によって、固定仕切板４２の表面に沿って回転駆動され、本実施形態においては、冷却ファン２４ａと同軸の回転軸を中心として回転駆動される。回転駆動装置４６は、本実施形態においては、ラックとピニオンを備えて構成されており、回転仕切板４４を１／２回転させることによって回転仕切板４４の上下を逆にすることができる。なお、ラックの直動には、ピニオンでなく、例えば回転シリンダ、モータ等の周知の駆動装置を用いても良い。

固定仕切板４２の中央部には軸受４３ａを内蔵する軸受箱４３が設けられている。この軸受箱４３は、支持フレーム４３ｂによって真空容器２１の循環部２１ｃから支持されている。回転仕切板４４は、中心に回転軸４５が設置されており、この回転軸４５が軸受４３ａによって冷却ファン２４ａと同軸に支持されている。また、回転軸４５の先端部には支持板４５ａが設置されており、圧縮バネ４７が、支持板４５ａと回転仕切板４４との間に圧縮状態で狭持されている。この圧縮バネ４７を設置することによって、圧縮バネ４７が回転仕切板４４を常に固定仕切板４２に向けて付勢し、その間の隙間を低減させることができる。

また、固定仕切板４２の端面には、シール材４８が張付けられており、このシール材４８によって回転仕切板４４と固定仕切板４２との間がシールされている。シール材４８としては、例えば摩擦の少ない鉛黄銅、グラファイト等を用いることが好ましく、これらの材料を用いることによって循環ガス２のリークを減少させ、さらに固定仕切板４２に対する回転仕切板４４の動きを滑らかとすることができる。

図５は、図２におけるＣ−Ｃ線断面図であり、（ａ）がＣ−Ｃ線断面図、すなわち回転仕切板４４の正面図であり、（ｂ）が回転仕切板４４を除去した断面図、すなわち固定仕切板４２の正面図である。

固定仕切板４２は、ほぼ全面を貫通する開口４２ａを有する。すなわち、本実施形態においては、支持フレーム４３ｂと同位置で半径方向に伸びる細長い放射部４２ｂと、最外周、中央部及び中間部の細いリング状の円形部４２ｃとからなる。なお、図５においては中央の円形部４２ｃに、上述した軸受箱４３が取り付けられている。また、開口４２ａの位置は、図５に示すものに限定されるものではなく、可能な範囲で広く設定することが好ましい。

回転仕切板４４は、ガス冷却循環装置２４の吸込口と排出口とに部分的に連通する吸引開口４４ａと排出開口４４ｂとを有する。
そして、冷却室２２内において循環ガス２を上方から下方に流す場合には、吸引開口４４ａが冷却室２２の下部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の上部のみと連通される。また、冷却室２２内において循環ガス２を下方から上方に流す場合には、吸引開口４４ａが冷却室２２の上部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の下部のみと連通される。

このような構成を有する多室型熱処理装置１によれば、冷却室２２とガス冷却循環装置２４との間を仕切る固定仕切板４２の表面に沿って回転仕切板４４を回転駆動するだけで、冷却室２２内を通過する循環ガス２の流れ方向を上下自在に変更することができる。

次に、上述の多室型熱処理装置１を用いた本実施形態に係る冷却方法について説明する。

上述のように、本実施形態における多室型熱処理装置１は、回転仕切板４４を回転駆動することによって、循環ガス２の流れを上下方向に切り替えることができる。そして、真空加熱炉１０において加熱処理された処理対象物Ｘは、冷却室２２内に移送されて、上下方向から循環ガス２を受けることによって冷却される。

図６は、本実施形態に係る冷却方法について説明するための図であり、上段が循環ガス２の流れ方向とその流れ方向に対する流量を時間軸（横軸）上に表したものであり、下段が回転仕切板４４の回転位置を時間軸（横軸）上に表したものである。なお、本実施形態においては、ガス冷却循環装置２４は、常に一定の駆動をしているものとする。また、図６においては、全ての循環ガス２が冷却室２２の上方から下方に流れている状態を＋１００とし、全ての循環ガス２が冷却室２２の下方から上方に流れている状態を−１００としている。

この図６に示すように、回転仕切板４４の吸引開口４４ａが冷却室２２の下部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の上部のみと連通される状態においては、循環ガス２は、常に＋１００となり、全ての循環ガス２が冷却室２２の上方から下方に向けて流れている。また、回転仕切板４４の吸引開口４４ａが冷却室２２の上部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の下部のみと連通される状態においては、循環ガス２は、常に−１００となり、全ての循環ガス２が冷却室２２の下方から上方に向けて流れている。
このような循環ガス２が＋１００あるいは−１００の場合には、処理対象物Ｘは、急速に冷却されるものの、その中心部と外層との温度差が大きくなる。

これに対して、回転仕切板４４が回転している場合、すなわち、循環ガス２の流れ方向を変える場合には、図６に示すように、回転仕切板４４の回転に伴って循環ガス２の流量が徐々に変化する。例えば、循環ガス２の流れ方向を上方からの流れから下方からの流れに変える場合には、循環ガス２が＋１００から徐々に減少し、０となった後に−１００への徐々に変化する。これは、回転仕切板４４の回転時には、冷却室２２の上方と下方との両側から循環ガス２が流れるため、これらの流れが打ち消しあうことによって流量が減少するためである。
このような場合には、処理対象物Ｘに吹付けられる循環ガス２の流量が減少する、あるいは、処理対象物Ｘに循環ガス２が吹付けられない状態となる。このため、処理対象物Ｘの冷却速度が緩やかとなり、処理対象物Ｘの中心部の熱量が外層に移動するため、中心部と外層との温度差が小さくなる。

そして、本実施形態に係る冷却方法においては、循環ガス２が＋７５〜＋１００，−１００〜−７５の場合を処理対象物Ｘが急速に冷却される冷却帯とし、その冷却帯の時間（冷却時間帯）をＴ１とし、また、循環ガス２が−７５〜＋７５の場合を処理対象物Ｘが徐々に冷却される冷却緩和帯とし、その冷却緩和帯の時間（冷却緩和時間帯）をＴ２としている。なお、ここで、循環ガス２が＋７５〜＋１００，−１００〜−７５の場合を冷却帯とし、循環ガス２が−７５〜＋７５の場合を冷却緩和帯としたのは、＋７５〜＋９９，−９９〜−７５の範囲においても、ある程度の流量の循環ガス２が処理対象物Ｘに吹付けられているため、処理対象物Ｘの冷却速度がそれほど緩和されないためである。しかしながら、冷却帯及び冷却緩和帯の範囲は、任意のものであり、処理対象物Ｘの形状等によって自由に変更できる。

ここで、（Ｔ１／Ｔ２）をＫとした場合には、このＫの値を変化、すなわち冷却時間帯Ｔ１と冷却緩和時間帯Ｔ２との相対関係を変化させることによって、処理対象物Ｘの冷却速度を自由に変更することができる。より詳しくは、Ｋの値を大きくする、すなわち冷却時間帯Ｔ１を冷却緩和時間帯Ｔ２に対して相対的長くすることによって、冷却時間帯Ｔ１と冷却緩和時間帯Ｔ２とを足した総和時間帯Ｔ３における処理対象物Ｘの冷却速度を速めることができる。また、Ｋの値を小さくする、すなわち冷却時間帯Ｔ１を冷却時間帯Ｔ２に対して相対的に短くすることによって、総和時間帯Ｔ３における処理対象物Ｘの冷却速度を遅くすることができる。

なお、冷却時間帯Ｔ１を冷却緩和時間帯Ｔ２に対して相対的に長くする場合には、冷却時間帯Ｔ１を長くする場合と、冷却緩和時間帯Ｔ２を短くする場合とが考えられる。具体的に冷却時間帯Ｔ１を長くするためには、回転仕切板４４の吸引開口４４ａが冷却室２２の下部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の上部のみと連通される状態、及び、回転仕切板４４の吸引開口４４ａが冷却室２２の上部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の下部のみと連通される状態を長く維持することによって実現することができる。これに対して、冷却緩和時間帯Ｔ２を短くするためには、回転仕切板４４の回転速度を速くすることによって実現できる。

また、冷却時間帯Ｔ１を冷却緩和時間帯Ｔ２に対して相対的に短くする場合には、冷却時間帯Ｔ１を短くする場合と、冷却緩和時間帯Ｔ２を長くする場合とが考えられる。具体的に冷却時間帯Ｔ１を短くするためには、回転仕切板４４の吸引開口４４ａが冷却室２２の下部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の上部のみと連通される状態、及び、回転仕切板４４の吸引開口４４ａが冷却室２２の上部のみと連通され、排出開口４４ｂが冷却室２２の下部のみと連通される状態を短くすることによって実現することができる。これに対して、冷却緩和時間帯Ｔ２を長くするためには、回転仕切板４４の回転速度を遅くすることによって実現できる。

例えば、処理対象物Ｘとして、７００度近傍にパーライト変態域を有し、３００度近傍にベーナイト変態域を有する金属材料を用いた場合には、これらの変態域においては、処理対象物Ｘを急速冷却することが望まれる。このため、これらの変態域においては、上述のＫの値を大きくすることによって処理対象物Ｘを急速冷却し、変態域以外では、Ｋの値を小さくすることによって処理対象物Ｘを緩やかに冷却することが好ましい。このように、変態域においてＫの値を大きくし、変態域以外でＫの値を小さくすることによって、変態域においては処理対象物Ｘの変態を抑止でき、変態域以外においては中心部と外層との温度差に起因する処理対象物Ｘの歪み等の発生を抑止することが可能となる。

また、本実施形態に係る冷却方法においては、１回の冷却時間帯Ｔ１及び冷却緩和時間帯Ｔ２によって、処理対象物Ｘを一気に目標温度まで冷却するのではなく、複数回の冷却時間帯Ｔ１及び冷却緩和時間帯Ｔ２によって、処理対象物Ｘを目標温度まで冷却することが好ましい。例えば、１回の冷却時間帯Ｔ１及び冷却緩和時間帯Ｔ２によって、処理対象物Ｘを一気に目標温度まで冷却すると、循環ガス２が処理対象物Ｘの一方側のみ長時間吹付けられることとなるため、処理対象物Ｘの一方側の温度と他方側の温度とに差が生じ、処理対象物Ｘが歪む原因となる。このため、処理対象物Ｘの一方側と他方側とに交互に繰り返しで循環ガス２が吹付けられるように、すなわち、複数回の冷却時間帯Ｔ１及び冷却緩和時間帯Ｔ２に分けて処理対象物Ｘを目標温度まで冷却することが好ましい。これによって、処理対象物Ｘの一方側の温度と他方側の温度とに大きな差が生じ難くなり、処理対象物Ｘ全体を均一に冷却することが可能となる。なお、ここで言う目標温度とは、冷却処理が終了した場合の処理対象物Ｘの温度とは異なり、冷却時間帯Ｔ１と冷却緩和時間帯Ｔ２とが同じ相対関係を維持した状態での冷却が終了した場合の処理対象物Ｘの温度であり、最終的に処理対象物Ｘの冷却処理が終了するまでの間に複数設定されるものである。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る冷却方法の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。

例えば、上記実施形態においては、処理対象物Ｘに対して上下方向から循環ガス２を吹付けることによって、処理対象物Ｘを冷却処理した。しかしながら、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば、冷却室２２の外部領域を上下左右の４領域に分割し、さらに、回転仕切板４４を９０度づつ回転させることによって、処理対象物Ｘの上下左右方向から循環ガス２を吹付けて冷却処理しても良い。

また、上記実施形態においては、回転仕切板４４を有する冷却ガス風路切替え装置４０を用いて循環ガス２の風路を変更した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、ガス冷却炉２０内に複数のダンパ装置を配置し、このダンパ装置を用いて循環ガス２の風路を変更しても良い。

また、上記実施形態に加え、循環ガス２全体の流量を変化させたり、循環ガス２の風圧を変化させることによって、効率的な処理対象物Ｘの冷却処理を行っても良い。

本発明の一実施形態に係る冷却方法を行うための多室型熱処理装置の概略構成図である。 ガス冷却炉２０の拡大断面図である。 図２におけるＡ−Ａ線断面図である。 図１におけるＢ部拡大図である。 図２におけるＣ−Ｃ線断面図である。 本発明の一実施形態に係る冷却方法について説明するための図である。

符号の説明

１……多室型熱処理装置
２……循環ガス（冷却ガス）
Ｘ……処理対象物
Ｔ１……冷却時間帯
Ｔ２……冷却緩和時間帯

Claims (5)

1. 加熱処理後の処理対象物を冷却ガスによって冷却処理する冷却方法であって、
   前記処理対象物の所定部位に所定流量の冷却ガスを吹付ける冷却時間帯と、前記処理対象物の前記所定部位に前記所定流量以下の流量の前記冷却ガスを吹付けるあるいは前記冷却ガスの吹付けを停止する冷却緩和時間帯とを設け、冷却処理中に前記冷却時間帯と前記冷却緩和時間帯との相対関係を変化させることによって前記処理対象物の前記所定部位の冷却速度を変化させることを特徴とする冷却方法。
2. 前記処理対象物の前記所定部位を急速冷却する場合には、前記冷却時間帯を前記冷却緩和時間帯に対して相対的に長くし、
   前記処理対象物の前記所定部位を前記急速冷却より遅く冷却する場合には、前記冷却時間帯を前記冷却緩和時間帯に対して相対的に短くすることを特徴とする請求項１記載の冷却方法。
3. 前記冷却時間帯及び前記冷却緩和時間帯とを繰り返すことによって、前記処理対象物の前記所定部位を目標温度にまで冷却することを特徴とする請求項１または２記載の冷却方法。
4. 前記処理対象物のパーライト変態域及びベーナイト変態域において前記処理対象物を急速冷却することを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の冷却方法。
5. 前記処理対象物の前記所定部位と他の部位とを繰り返し、請求項１〜４いずれかに記載の冷却方法を用いて冷却することによって、前記処理対象物全体を均一に冷却することを特徴とする冷却方法。
   
   
   

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