JP2005234514A

JP2005234514A - ディスプレイ装置

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Publication number: JP2005234514A
Application number: JP2004090348A
Authority: JP
Inventors: Shih-Hsien Tseng; 世憲曽
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2004-02-23
Filing date: 2004-03-25
Publication date: 2005-09-02
Also published as: US20050206827A1; TW200528891A

Abstract

【課題】アクティブマトリックス型ディスプレイ板の特性を活かしつつ、コストを上げずにディスプレイ効果を高めるべく、ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】液晶モジュール２４、リレー基板２０、及び一つ以上の駆動回路と複数の導電ポイント２０５を設け、該液晶モジュール２４には一つ以上の液晶層２４１及び透明電極２４７を設け、該リレー基板２０上表面の複数の画素電極２０１によってディスプレイし、各該画素電極２０１を一つ以上の導電ルート２０３により該リレー基板下表面２０７と連結し、更に導電ポイント２０５によって該駆動回路中の駆動トランジスタ５２１と連結し、アクティブマトリックス型ディスプレイ板の特性を活かしつつ、発光面積を増加させる。
【選択図】図３

Description

本発明はディスプレイ装置に係り、特にリレー基板を駆動回路と液晶モジュール或いは有機モジュールと連結することにより、コストを抑えつつアクティブマトリックス型ディスプレイ板の特性を保持しながらディスプレイの性能を高めたディスプレイ装置に関わる。

インフォメーション産業の高度発展に伴い各種製品が開発されており、特にディスプレイ装置においては液晶ディスプレイ装置の軽量化と薄型化が進められている。
図１に示すように公知のTFT液晶ディスプレイ板の構造では、ガラス基板１０上に複数のフィルムトランジスタ１４とストレージコンデンサ１５が形成されており、且つ該フィルムトランジスタ１４とストレージコンデンサ１５上は絶縁フィルム１１で被覆され、更に複数の画素電極１２が形成されている。各画素電極１２はそれぞれ接触孔１１３により、該フィルムトランジスタ１４とストレージコンデンサ１５とが電気的に連結され、該画素電極１２上には順に液晶層１３，透明電極１２３及び透明基板１７が設けられている。
画素の構造は、例えば特許文献１に開示され、図２に示すように、該フィルムトランジスタ１４のソース電極１４３が縦向きのデータライン１６と連結され、ゲート電極１４１は横向きのゲート導線（スキャニングライン）１８と連結され、ドレイン電極１４５は該ストレージコンデンサ１５と画素電極１２に連結される。該データライン１６は該ゲート導線１８と相互に交叉して画素エリアを形成し、該フィルムトランジスタ１４の範囲外を除いては、該画素電極１２が該画素エリア全体を被覆しており、液晶層と透明電極を合わせることによって図形がディスプレイされるようになっている。
特開平０５−２０４３３７号公報

しかし、上述のような公知におけるディスプレイ装置においては、以下のような欠点がある。
先ずガラス基板上でフィルムトランジスタのマトリックス回路を製造する点が半導体IC製造プロセスと類似しており複雑であること。つまり製造プロセスにおけるコストが高く、非晶質であるフィルムトランジスタの電流駆動能力並びに電気的特性は、半導体製造プロセス並びにシングルクリスタル製造プロセス、並びにポリシリコン製造プロセスにより製造されたトランジスタには遥かに及ばないことである。また上述の画素エリア中のフィルムトランジスタが占める区域にはディスプレイ能力がないことが言える。
そこで上述の欠点に鑑み、アクティブマトリックス型ディスプレイ板の特性を活かしつつ、コストを上げずにディスプレイ効果を高めるべく、本発明のディスプレイ装置を提供する。

前記課題を解決するために、請求項１の発明は、液晶モジュールと、リレー基板と、駆動回路と、複数の導電ポイントとより構成されるディスプレイ装置において、少なくとも一つの液晶層と透明電極とを具有する該液晶モジュールと、上表面には複数の画素電極が設けられており、該液晶モジュールを合わせることで図形をディスプレイし、且つ各画素電極がそれぞれ導電ルートによって下表面のある一定の位置に連結される該リレー基板と、少なくとも一つ以上設けられ、且つそれぞれに複数の駆動トランジスタを含み、且つ各該駆動トランジスタがそれぞれ導電材質によって上表面に連結されている該駆動回路と、該リレー基板下表面のある一定の位置と各該駆動回路上表面の導電材質との間に設置され、該駆動トランジスタをそれぞれ対応する導電ルートにより、画素電極と連結する該複数の導電ポイントとを具有することを特徴とするディスプレイ装置である。

請求項２の発明は、前記駆動回路には、更に複数のストレージコンデンサを含み、それぞれ対応する駆動トランジスタと連結されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。
請求項３の発明は、前記リレー基板と前記導電ルートとは、半導体製造プロセスによって製造されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。
請求項４の発明は、前記導電ルートは、前記画素電極によって前記リレー基板下表面に直通しており、該リレー基板下表面にはプリント回路が形成され、ある一定の位置に設けられた導電ポイントと連結されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。
請求項５の発明は、前記プリント回路は、保護層によって被覆されていることを特徴とする請求項４記載のディスプレイ装置である。
請求項６の発明は、前記リレー基板は、撓性を具有する材質によるものであることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。
請求項７の発明は、前記リレー基板中の前記導電ルートは、導電性高分子、或いは透明導電材質、或いは金属材質、及びこれらの組み合わせからなるもの、より選択されることを特徴とする請求項６記載のディスプレイ装置である。

請求項８の発明は、前記リレー基板は透明材質によって製造されており、該基板の下表面は拡散表面となっており、光線が均等に拡散されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。
請求項９の発明は、前記リレー基板上の画素電極は透明導電材質によるものであることを特徴とする請求項８記載のディスプレイ装置である。
請求項１０の発明は、前記駆動回路は、半導体製造プロセス、或いはシングルクリスタル製造プロセス、或いはポリシリコン製造プロセスにより製造されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。
請求項１１の発明は、前記駆動回路は、スキャナ駆動回路、データ駆動回路、デジタルシグナル処理機、マイクロプロセッサ、メモリ、その他のコントロール回路、並びにこれらの組み合わせからなるもの、より選択されたものであることを特徴とする請求項１０記載のディスプレイ装置である。
請求項１２の発明は、前記導電ポイントは、導電ルート、或いは駆動回路上表面の導電材質の何れかより外向きに延伸して形成されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。
請求項１３の発明は、前記リレー基板の面積は該駆動回路よりも大きいことを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置である。

請求項１４の発明は、リレー基板と、有機モジュールと、駆動回路と、複数の導電ポイントとより構成されるディスプレイ装置において、上表面には複数の画素電極が設けられ、且つ各該画素電極がそれぞれ導電ルートによって下表面のある一定の位置に連結される該リレー基板と、少なくとも複数の有機画素と透明電極とを含み、且つ各該有機画素はそれぞれ画素電極上に形成され、該透明電極が各該有機画素の上表面に連結され、該画素電極を合わせて図形をディスプレイする該有機モジュールと、一つ以上設けられ、複数の駆動トランジスタを含み、各該駆動トランジスタがそれぞれ導電材質によって上表面に連結される該駆動回路と、複数且つ該リレー基板下表面のある一定の位置と各該駆動回路との間に設けられており、該駆動トランジスタをそれぞれ対応する該導電ルートにより該画素電極に連結する該複数の導電ポイントと、を具有することを特徴とするディスプレイ装置である。

請求項１５の発明は、前記導電ルートは該リレー基板中に埋設されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項１６の発明は、前記リレー基板と導電ルートは、半導体製造プロセスによって製造されることを特徴とする請求項１５記載のディスプレイ装置である。
請求項１７の発明は、前記導電ルートは、前記画素電極から前記リレー基板下表面に直通しており、該リレー基板下表面にはプリント回路が形成され、ある一定の位置に設けられた導電ポイントと連結されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項１８の発明は、前記プリント回路は保護層により被覆されていることを特徴とする請求項１７記載のディスプレイ装置である。

請求項１９の発明は、前記リレー基板は、撓性を具有する材質によるもので製造されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項２０の発明は、前記導電ルートは、導電高分子、透明導電材質、並びにこれらの組み合わせからなるものより選択されることを特徴とする請求項１９記載のディスプレイ装置である。
請求項２１の発明は、前記画素電極は、金属材質によるものであることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項２２の発明は、前記駆動回路は、半導体製造プロセス、或いはシングルクリスタル製造プロセス、或いはポリシリコン製造プロセス、により製造されることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項２３の発明は、前記駆動回路中の各駆動トランジスタは、ディスプレイの効能を増加させるべく、少なくとも一つのトランジスタ、及び少なくとも一つのコンデンサと連結されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項２４の発明は、前記駆動回路には、スキャナ駆動回路、或いはデータ駆動回路、或いはデジタルシグナル処理機、或いはマイクロプロセッサ、或いはメモリ、或いはその他のコントロール回路、或いはこれらの組み合わせからなるもの、が設けられていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項２５の発明は、前記導電ポイントは、導電ルート、或いは駆動回路上表面の導電材質より、外側に延伸して形成されることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。
請求項２６の発明は、前記リレー基板の面積は該駆動回路より大きいことを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置である。

すなわち、前記各本発明は、リレー基板を駆動回路と液晶モジュールに連結させることにより、ディスプレイ装置の駆動回路と液晶モジュールとを別々に分けて製造し、これらを一体にすることで生産の効率を上げると同時にコストを抑え、また、画素電極と駆動トランジスタとを別々に分けて設置し、導電ルートで連結することにより、アクティブマトリックス型ディスプレイ板のメリットを保持しながら大画面を提供し、また、該リレー基板と導電ルートに透明の材質を採用することで、該リレー基板下表面を拡散表面として導光し、更に発光エレメントを合わせることでバックライトモジュールを形成する、或いは該リレー基板と導電ルートに撓性を具有する材質を採用することにより、撓性を具有するディスプレイ画面を提供するものである。
更に、該導電ルートはプリント回路で画素電極を該リレー基板下表面の一定の位置に連結し、更に駆動チップで連結することにより、サイズの大型化を図り、或いは、有機発光素子ディスプレイ装置に運用することにより、コストを抑えると同時に製造プロセスの簡単化を実現することができる。

本発明によると、画素電極と駆動トランジスタとを独立させて別々に設けることにより、画素電極の面積を最大化し、有効発光面積を増大することでディスプレイ効果が強化され、別々に分けられて設けられた駆動回路においては既に技術が成熟した半導体製造プロセスやシングルクリスタル製造プロセスによって製造されるため、製造コストを抑えつつアクティブマトリックス型ディスプレイ装置のメリットを提供すると同時に駆動回路の効率を上げることができるという効果が得られる。

本発明の好適な実施例を図面に参照して説明すれば、図３から図５に示すように、本発明の実施例には液晶モジュール２４とリレー基板２０と駆動回路とから構成される。該リレー基板２０の上表面には複数の画素電極２０１が設けられており、該画素電極２０１上には順に保護層２４６，第一配向膜２４３，液晶層２４１，第二配向膜２４５，透明電極２４７，透明基板２４９並びに偏光層２４８が設けられており、これらにより一組の液晶モジュール２４が構成される。該リレー基板２０には複数の導電ルート２０３が設けられており、該画素電極２０１をそれぞれ該導電ルート２０３により該リレー基板の下表面２０７のある一定の位置に連結する。該リレー基板２０は一般的な半導体の製造プロセスにより製造されるものとし、各該導電ルート２０３を基板内部に形成し、一端を該基板下表面２０７より突起させて導電ポイント２０５を形成する。

前記駆動回路は、半導体の製造プロセスにより駆動チップ３０の中に整合されているものとするが、先ずシリコン基板３２上に複数の駆動トランジスタ３４及びストレージコンデンサ３６を形成し、次に各該エレメント上を絶縁層３８により被覆する。該絶縁層３８の表面上は金属などによる導電材質で導電回路が規則的に形成される（例えば金属線３８３，３８５など）ものとし、該金属線はそれぞれ接触孔３８１によって駆動トランジスタ３４のドレイン３４１，ソース３４５及びストレージコンデンサ３６上に連結される。該金属線上には更に絶縁層３８７が被覆され、該金属線３８５のある一定の位置に溝を残すことにより、該導電ポイント２０５と電気的に連結できるようにする。該ドレイン３４１と連結する金属線３８３はデータラインであり、またゲート３４３においてはゲート導線（図中無し）に連結されるものとする。該駆動回路中において、該駆動トランジスタ３４は画素電極２０１を駆動するためストレージコンデンサを設置せず、こうすることでもう一つの形態の液晶ディスプレイ装置とすることができる。

前記駆動トランジスタ３４と該ストレージコンデンサ３６は金属線３８５により、該導電ポイント２０５と導電ルート２０３を通して各該画素電極２０１に連結することで、アクティブマトリックス型の画素電極配列とする。更に液晶モジュール２４及びデータラインとゲートラインの駆動及びその他の光学モジュールを合わせる（例えばバックライトモジュールやその他の光学フィルムなど）ことにより、視角が広く照度が高い、またレスポンス時間が短いといった、機能の優れたディスプレイ機能を提供する。

上述の構造中において、光反射性を具有する金属などの材質で画素電極２０１を製造する場合にも性能の優れた反射式液晶ディスプレイ装置を形成することができる。例えば透明導電材質を利用し、画素電極２０１と導電ルート２０３を製造し、またリレー基板２０にも透明材質を用い、該基板下表面２０７に対しても光学或いは金属によるコーティング、若しくはその他の表面処理を施すことでは拡散表面を形成し、これに合わせて発光エレメントを合わせて導光すると、トランスミッション型液晶ディスプレイ装置とすることができる。

図６に示すように、本発明のリレー基板のもう一つの実施例としては、該リレー基板４０は各画素電極２０１の位置に穿孔を設け、各該穿孔中に導電材質を充填して導電ルート４０３を形成する。次に該リレー基板下表面４０７にプリント回路４０９を形成し、各該導電ルート４０３をリレー基板下表面４０７のある一定の位置に連結し、それぞれに対応する該導電ポイント２０５と連結する。また保護層４０８を増設することによって該プリント回路４０９を被覆し、保護するものとしてもよい。

本発明のリレー基板に可撓性を具有する材質としてもよく、導電ルートは導電高分子や透明導電材質（ITOなど）、或いは金属などの材質としてもよく、こうすることで可撓性を具有するディスプレイを提供することができるようになる。また各実施例中における該導電ポイント２０５は、導電ルートを形成する際、その一端を該リレー基板の下表面のある一定の位置に突起して形成させるが、該駆動チップを製造する際において、該駆動トランジスタ３４のソース３４５とストレージコンデンサ３６を連結する金属線２０５を、該駆動チップ上表面より突出させる方法としてもよい。

更に、前記駆動回路においては該駆動トランジスタ３４と該ストレージコンデンサ３６を設ける以外にも、駆動ゲート導線を含むスキャナ駆動回路，データラインを駆動するデータ駆動回路，並びにデジタルシグナル処理機，マイクロプロセッサ，メモリ及びその他のコントロール回路など（図中無し）を含み、これらの全ての回路がトランジスタ中に整合されているのであり、こうすることによりディスプレイ機能を高めると同時に生産時に生ずるコストを抑える。また導電ルートのリレーにより、面積の小さい駆動チップ中の駆動トランジスタとストレージコンデンサが大きな面積を具有するリレー基板上の画素電極と連結され、おおきなサイズのディスプレイ装置を提供する目的を達成する。

図７，８，９に示すように、本発明における更に別の第二実施例においては、有機発光素子ディスプレイ装置の製造プロセスに運用されるものとする。各図に示すように、主な構造においては有機フィルム５０，リレー基板２０と駆動回路とを含む。該有機フィルム５０は各画素電極２０１上にて、それぞれ電子伝送層，発光層，スポット伝送層を具有する有機画素５４を形成し、各該有機画素５４間には絶縁材質５４１が設けられて隔離される。また透明電極５４３を設けて各該有機画素５４の表面上に連結し、最上層は透明基板５６とする。リレー基板は図４，６に示すような構造とすればよい。駆動回路においては半導体製造プロセスにより、駆動チップ５２中に整合されるものとする。該駆動チップにおいては複数の駆動トランジスタ５２１を含み、金属などによる導電材質（図中無し）で駆動チップ５２の上表面に連結させ、それぞれ対応する導電ポイント２０５と導電ルート２０３を通じて該画素電極２０１と連結する。

上述の第二実施例のリレー基板にも撓性を具有する材質を採用した場合、具体的には該導電ルートにおいては導電高分子，透明導電材質（ITOなど），或いは金属などから選択した場合、上述第一実施例同様に、撓性を具有するディスプレイを提供する目的を達成する。該導電ポイント２０５においては該導電ルートを製造する際にその一端より突起した状態で該リレー基板２０下表面のある一定の位置に形成する、或いは該駆動チップ５２を製造するプロセスにおいて、該駆動トランジスタの金属線を該駆動チップ上表面より突出した状態に形成してもよい。

該駆動チップ５２中には、複数の駆動トランジスタ５２１を設ける以外にも、駆動トランジスタ５２１に少なくとも一つのトランジスタ５２３及び少なくとも一つのコンデンサ５２５を設け、該有機画素５４に対して各種異なる駆動態様を形成し、駆動トランジスタ５２１のゲート電圧を提供し、該有機画素５４の電流を安定した状態で通過させ、ディスプレイの反応スピード等を高める、つまり有機発光素子ディスプレイ装置のディスプレイ能力を高めるものとする。

また駆動チップ５２中には更にゲート導線５８のスキャナ駆動回路及び駆動データライン５７を駆動するデータ駆動回路、並びにデジタルシグナル処理機、マイクロプロセッサ、メモリ、及びその他のコントロール回路（図中無し）などを含み、全ての回路は該チップ中に整合されており、こうすることでディスプレイの機能を高めると同時に生産コストを効果的に抑える。また導電ルートをリレーすることにより、小さな面積の駆動チップ中の駆動トランジスタが大きな面積を具有するリレー基板の画素電極と連結され、大きなサイズによるディスプレイを行う装置を提供する目的を達成する。

公知におけるTFT液晶ディスプレイ板の局部断面構造説明図である。公知におけるTFTディスプレイ板の画素構造平面図である。本発明における第一実施例の局部断面図である。本発明におけるリレー基板の局部断面図である。図３における駆動チップの局部断面図である。本発明におけるリレー基板のもう一つの実施例を示す局部断面図である。本発明における第二実施例の局部断面図である。図７の実施例における電子回路の異なる実施例を示す図である。図７の実施例における電子回路の異なる実施例を示す図である。

符号の説明

１０ガラス基板
１１層間絶縁フィルム
１１３接触孔
１２画素電極
１２３透明電極
１３液晶層
１４フィルムトランジスタ
１４１ゲート電極
１４３ソース電極
１４５ドレイン電極
１５ストレージコンデンサ
１６データライン
１７透明基板
１８ゲート導線
２０リレー基板
２０１画素電極
２０３導電ルート
２０５導電ポイント
２０７基板下表面
２４液晶モジュール
２４１液晶層
２４３第一配向膜
２４５第二配向膜
２４６保護層
２４７透明電極
２４８偏光層
２４９透明基板
３０駆動チップ
３２シリコン基板
３４駆動トランジスタ
３４１ドレイン
３４３ゲート
３４５ソース
３６ストレージコンデンサ
３８絶縁層
３８１接触孔
３８３金属線
３８５金属線
３８７絶縁層
４０リレー基板
４０３導電ルート
４０７基板下表面
４０８保護層
４０９プリント回路
５０有機モジュール
５２駆動チップ
５２１駆動トランジスタ
５２３トランジスタ
５２５コンデンサ
５４有機画素
５４１絶縁材質
５４３透明電極
５４５保護層
５６透明基板
５７データライン
５８ゲートライン

Claims

液晶モジュールと、リレー基板と、駆動回路と、複数の導電ポイントとより構成されるディスプレイ装置において、
少なくとも一つの液晶層と透明電極とを具有する該液晶モジュールと、
上表面には複数の画素電極が設けられており、該液晶モジュールを合わせることで図形をディスプレイし、且つ各画素電極がそれぞれ導電ルートによって下表面のある一定の位置に連結される該リレー基板と、
少なくとも一つ以上設けられ、且つそれぞれに複数の駆動トランジスタを含み、且つ各該駆動トランジスタがそれぞれ導電材質によって上表面に連結されている該駆動回路と、
該リレー基板下表面のある一定の位置と各該駆動回路上表面の導電材質との間に設置され、該駆動トランジスタをそれぞれ対応する導電ルートにより、画素電極と連結する該複数の導電ポイントと、
を具有することを特徴とするディスプレイ装置。
前記駆動回路には、更に複数のストレージコンデンサを含み、それぞれ対応する駆動トランジスタと連結されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板と前記導電ルートとは、半導体製造プロセスによって製造されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
前記導電ルートは、前記画素電極によって前記リレー基板下表面に直通しており、該リレー基板下表面にはプリント回路が形成され、ある一定の位置に設けられた導電ポイントと連結されていることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
前記プリント回路は、保護層によって被覆されていることを特徴とする請求項４記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板は、撓性を具有する材質によるものであることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板中の前記導電ルートは、導電性高分子、或いは透明導電材質、或いは金属材質、及びこれらの組み合わせからなるもの、より選択されることを特徴とする請求項６記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板は透明材質によって製造されており、該基板の下表面は拡散表面となっており、光線が均等に拡散されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板上の画素電極は透明導電材質によるものであることを特徴とする請求項８記載のディスプレイ装置。
前記駆動回路は、半導体製造プロセス、或いはシングルクリスタル製造プロセス、或いはポリシリコン製造プロセスにより製造されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
前記駆動回路は、スキャナ駆動回路、データ駆動回路、デジタルシグナル処理機、マイクロプロセッサ、メモリ、その他のコントロール回路、並びにこれらの組み合わせからなるもの、より選択されたものであることを特徴とする請求項１０記載のディスプレイ装置。
前記導電ポイントは、導電ルート、或いは駆動回路上表面の導電材質の何れかより外向きに延伸して形成されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板の面積は該駆動回路よりも大きいことを特徴とする請求項１記載のディスプレイ装置。
リレー基板と、有機モジュールと、駆動回路と、複数の導電ポイントとより構成されるディスプレイ装置において、
上表面には複数の画素電極が設けられ、且つ各該画素電極がそれぞれ導電ルートによって下表面のある一定の位置に連結される該リレー基板と、
少なくとも複数の有機画素と透明電極とを含み、且つ各該有機画素はそれぞれ画素電極上に形成され、該透明電極が各該有機画素の上表面に連結され、該画素電極を合わせて図形をディスプレイする該有機モジュールと、
一つ以上設けられ、複数の駆動トランジスタを含み、各該駆動トランジスタがそれぞれ導電材質によって上表面に連結される該駆動回路と、
複数且つ該リレー基板下表面のある一定の位置と各該駆動回路との間に設けられており、該駆動トランジスタをそれぞれ対応する該導電ルートにより該画素電極に連結する該複数の導電ポイントと、
を具有することを特徴とするディスプレイ装置。
前記導電ルートは該リレー基板中に埋設されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板と導電ルートは、半導体製造プロセスによって製造されることを特徴とする請求項１５記載のディスプレイ装置。
前記導電ルートは、前記画素電極から前記リレー基板下表面に直通しており、該リレー基板下表面にはプリント回路が形成され、ある一定の位置に設けられた導電ポイントと連結されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記プリント回路は保護層により被覆されていることを特徴とする請求項１７記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板は、撓性を具有する材質によるもので製造されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記導電ルートは、導電高分子、透明導電材質、並びにこれらの組み合わせからなるものより選択されることを特徴とする請求項１９記載のディスプレイ装置。
前記画素電極は、金属材質によるものであることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記駆動回路は、半導体製造プロセス、或いはシングルクリスタル製造プロセス、或いはポリシリコン製造プロセス、により製造されることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記駆動回路中の各駆動トランジスタは、ディスプレイの効能を増加させるべく、少なくとも一つのトランジスタ、及び少なくとも一つのコンデンサと連結されていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記駆動回路には、スキャナ駆動回路、或いはデータ駆動回路、或いはデジタルシグナル処理機、或いはマイクロプロセッサ、或いはメモリ、或いはその他のコントロール回路、或いはこれらの組み合わせからなるもの、が設けられていることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記導電ポイントは、導電ルート、或いは駆動回路上表面の導電材質より、外側に延伸して形成されることを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。
前記リレー基板の面積は該駆動回路より大きいことを特徴とする請求項１４記載のディスプレイ装置。