JP2005220130A

JP2005220130A - 左糖グルコースリピドａ類縁体

Info

Publication number: JP2005220130A
Application number: JP2005002028A
Authority: JP
Inventors: Masao Shiosaki; 正生汐崎; Ryuichi Shimozato; 隆一下里
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 2004-01-08
Filing date: 2005-01-07
Publication date: 2005-08-18

Abstract

【課題】優れたマクロファージ活性抑制作用を有し、有用な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式

［Ｑは、酸素原子、Ｃ₁−Ｃ₃アルキレン基、基-O-Alk-又は基-O-Alk-O-（AlkはＣ₁−Ｃ₃アルキレン基。）、Ｒ¹は、Ｃ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基、Ｃ₃−Ｃ₂₀アルケノイル基又はＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイル基、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキル基、Ｃ₂−Ｃ₂₀アルケニル基、Ｃ₂−Ｃ₂₀アルキニル基、Ｃ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基、Ｃ₃−Ｃ₂₀アルケノイル基又はＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイル基、Ｒ⁵は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニルオキシ基又はＣ₂−Ｃ₆アルキニルオキシ基、Ｗは、酸素原子又は基-NH-。］で表される化合物、その薬理上許容しうる塩。
【選択図】なし

Description

本発明は、優れたマクロファージ活性抑制作用を有し、抗炎症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤、抗敗血症剤又は冠動脈バイパス形成術後の予後改善剤として有用な新規リピドＡ類縁体に関する。

腸内細菌から得られたグラム陰性菌の細胞壁の最表層には菌体外に分泌されない毒成分（内毒素）が含まれており、この内毒素は、内毒素活性以外にも、生体の自己防衛にかかわる免疫アジュバント活性作用、マクロファ−ジ活性化作用、マイトジェン活性作用、発熱作用、腫瘍壊死作用、抗体産生増強作用、ＴＮＦ誘導作用等の多様な生物活性を示す。

かかる内毒素はリポ多糖よりなり、いわゆるリピドＡと称される部分が内毒素活性の活性中心であることが確認されている（非特許文献１）。

一方、細菌リピドＡ関連化合物としてRhdobacter sphaeroidesより見出された化合物（Ｒｓ−ＤＰＬＡ）（非特許文献２及び非特許文献３）は、ヒトマクロファージに対してＬＰＳアンタゴニストの活性を示し抗自己免疫患剤又は抗敗血症剤として有用である可能性が出てきており、マクロファージ活性化作用とは逆の抑制作用を示す薬剤の開発が行われるようになってきた。

これらの結果から、上記の多様な活性のうち、有用な活性を有する化合物の誘導体合成の試みが頻繁に行われるようになり、例えば、非特許文献４、特許文献１、特許文献２、特許文献３又は特許文献４に記載された誘導体が知られている。
井本等、テトラヘドロン・レタ−ズ、１９８５年、２６巻、Ｐ．１５４５キュレシ等、ジャーナル・オブ・バイオロジカル・ケミストリー、１９８８年、２６３巻、Ｐ．５５０２インフェクション・イミュニティー、５７巻、Ｐ．１３３６クリスト等、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ、１１６巻、Ｐ．３６３７特開平１０−３２４６９４号公報特開平５−１９４４７０号公報特開２００１−３４８３９６号公報米国特許５９３５９３８号公報

本発明者等の課題は、優れたマクロファージ活性抑制作用を有し、抗炎症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤、抗敗血症剤又は冠動脈バイパス形成術後の予後改善剤として有用な新規リピドＡ類縁体を見出すことである。

本発明者等は、上記課題を解決するため、鋭意努力した結果、１位にホスホノ基又はホスホノオキシエチル基を有するグリコシルリピドＡ類縁体のある系統の化合物に、優れたマクロファ−ジ活性抑制作用を見出し、本発明を完成した。

本発明の化合物は、
１）一般式

［式中、
Ｑは、酸素原子、Ｃ₁−Ｃ₃アルキレン基、基−Ｏ−Ａｌｋ−又は基−Ｏ−Ａｌｋ−Ｏ−（但し、ＡｌｋはＣ₁−Ｃ₃アルキレン基を示す。）であり、
Ｗは、酸素原子又は基−ＮＨ−を示し、
Ｒ¹（Ｗが基−ＮＨ−である場合）は、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルケノイル基又は下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイル基を示し、
Ｒ¹（Ｗが酸素原子である場合）、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水素原子、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルキル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルケニル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルキニル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルケノイル基又は下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイル基を示し、
Ｒ⁵は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルケニルオキシ基又はオキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルキニルオキシ基を示し、
置換基群Ａは、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基、オキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、（Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、｛（Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ｝Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルケニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルキニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルケノイルオキシ基及びオキソ基を有していてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイルオキシ基からなる群である。］
で表される化合物、その薬理上許容しうる塩である。

本発明の化合物（I）のうち、好適なものは、
２）Ｗが基−ＮＨ−であり、かつ、Ｒ¹が置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₈−Ｃ₁₈アルケノイル基である化合物、
３）Ｗが基−ＮＨ−であり、かつ、Ｒ¹が置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₁₀−Ｃ₁₈アルケノイル基である化合物、
４）Ｗが基−ＮＨ−であり、かつ、Ｒ¹が置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルカノイル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケノイル基である化合物、
５）Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルキル基、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルケニル基、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₄−Ｃ₁₈アルケノル基である化合物、
６）Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルキル基、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルケニル基、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₈−Ｃ₁₈アルケノル基である化合物、
７）Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルキル基、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルケニル基、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₁₀−Ｃ₁₈アルケノル基である化合物、
８）Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルキル基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルケニル基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルカノイル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケノル基である化合物、
９）Ｗが酸素原子であり、Ｒ¹及びＲ³が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルカノイル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケノル基であり、かつ、Ｒ²及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルキル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケニル基である化合物、
１０）Ｗが酸素原子であり、Ｒ¹及びＲ³が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、デカノイル基、ドデカノイル基、テトラデカノイル基、ドデセノイル基、テトラデセノイル基又はオクタデセノイル基であり、かつ、Ｒ²及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ドデセニル基、テトラデセニル基又はオクタデセニル基である化合物、
１１）置換基群Ａから選択された置換基が、フッ素原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₄アルケニルオキシ基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₄アルカノイルオキシ基又はＣ₁₂−Ｃ₁₄アルケノイルオキシ基である化合物、
１２）置換基群Ａから選択された置換基が、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ドデセニルオキシ基、テトラデセニルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、テトラデカノイルオキシ基、ドデセノイルオキシ基、テトラデセノイルオキシ基又はオクタデセノイル基である化合物、
１３）Ｒ⁵が、ハロゲン原子、水酸基又は無置換のＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基である化合物、
１４）Ｒ⁵が、フッ素原子、水酸基又はメトキシ基である化合物、
１５）Ｑが、酸素原子である化合物、
１６）Ｑが、ホスホノエチル基である化合物、
１７）右側グルコース又はグルコサミンの１位がα位である化合物である。

これらのうち、更に好適な化合物は、
１８）ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１番）、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号２番）、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号３番）、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号４番）、
２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号５番）、
２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号６番）、
２−（ホスホノオキシ）エチル６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号７番）、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号８番）、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号９番）、
２−（ホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル]−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１０番）又は
ホスホノ６−Ｏ−｛４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−[（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル]−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１３番）であり、
特に好適な化合物は、
１９）化合物番号８番又は９番の化合物である。

また、本発明は、上記化合物（I）を有効成分として含有する医薬であり、特に、炎症の予防剤又は治療剤、自己免疫疾患の予防剤又は治療剤、免疫抑制剤、敗血症の予防剤又は治療剤、あるいは、冠動脈バイパス形成術後の予後改善剤である。

なお、上記式（I）中、Ｑにおいては並び順は特に限定がなく、例えば、基−Ｏ−Ａｌｋ−は−Ｏ−Ａｌｋ−であっても−Ａｌｋ−Ｏ−であってもよい。

本発明における「Ｃ₁−Ｃ₃アルキレン基」は、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン基のような直鎖又は分枝鎖のＣ₁−Ｃ₃アルキレン基であり、好適には、メチレン、エチレン又はトリメチレン基であり、より好適には、エチレン基である。

本発明における「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基」、及び、「オキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイルオキシ基」の「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルカノイル」部分は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、イソプロピオニル、ブチリル、イソブチリル、sec−ブチリル、tert-ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、イソヘキサノイル、ヘプタノイル、イソヘプタノイル、オクタノイル、イソオクタノイル、ノナノイル、イソノナノイル、デカノイル、イソデカノイル、ウンデカノイル、イソウンデカノイル、ラウロイル、イソラウロイル、トリデカノイル、イソトリデカノイル、ミリストイル、ペンタデカノイル、パルミトイル、ヘプタデカノイル、ステアロイル、イソステアロイル、ノナデカノイル、イコサノイル基のような直鎖又は分枝鎖のＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基であり、好適には、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルカノイル基であり、より好適には、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルカノイル基であり、更により好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルカノイル基であり、特に好適には、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルカノイル基である。

本発明における「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルケノイル基」、及び、「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルケノイルオキシ基」の「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルケノイル」部分は、上記であげたＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基のうち、炭素数３乃至２０個のものであって、１乃至３個の二重結合を有する基であり、好適には、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルケノイル基であり、より好適には、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルケノイル基であり、更により好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルケノイル基であり、特に好適には、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルケノイル基である。

本発明における「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルキノイル基」、及び、「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルキノイルオキシ基」の「Ｃ₃−Ｃ₂₀アルキノイル」部分は、上記であげたＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基のうち、炭素数３乃至２０個のものであって、１乃至３個の三重結合を有する基であり、好適には、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルキノイル基であり、より好適には、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルキノイル基であり、更により好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルキノイル基であり、特に好適には、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルキノイル基である。

本発明における「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキル基」、及び、「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基」の「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルキル」部分は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、５−メチルヘキシル、１−プロピルブチル、４，４−ジメチルペンチル、オクチル、１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘプチル、６−メチルヘプチル、１−プロピルペンチル、２−エチルヘキシル、５，５−ジメチルヘキシル、ノニル、３−メチルオクチル、４−メチルオクチル、５−メチルオクチル、６−メチルオクチル、１−プロピルヘキシル、２−エチルヘプチル、６，６−ジメチルヘプチル、デシル、１−メチルノニル、３−メチルノニル、８−メチルノニル、３−エチルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、７，７−ジメチルオクチル、ウンデシル、４，８−ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、３，７，１１−トリメチルドデシル、ヘキサデシル、４，８，１２−トリメチルトリデシル、１−メチルペンタデシル、１４−メチルペンタデシル、１３，１３−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、１５−メチルヘキサデシル、オクタデシル、１−メチルヘプタデシル、ノナデシル、イコシル又は３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基のような炭素数１乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、好適には、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルキル基であり、より好適には、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルキル基であり、更により好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルキル基であり、特に好適には、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルキル基である。

本発明における「Ｃ₂−Ｃ₂₀アルケニル基」は、上記であげたＣ₁−Ｃ₂₀アルキル基のうち、炭素数２乃至２０個のものであって、１乃至３個の二重結合を有する基であり、好適には、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルケニル基であり、より好適には、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルケニル基であり、更により好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルケニル基であり、特に好適には、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルケニル基である。

本発明における「Ｃ₂−Ｃ₂₀アルキニル基」は、上記であげたＣ₁−Ｃ₂₀アルキル基のうち、炭素数２乃至２０個のものであって、１乃至３個の三重結合を有する基であり、好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルキニル基であり、より好適には、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルキニル基であり、更により好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルキニル基であり、特に好適には、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルキニル基である。

本発明における「ハロゲン原子」は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子であり、好適には、フッ素、塩素又は臭素原子であり、より好適には、フッ素原子である。

本発明のＲ⁵における「Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基」は、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、２−メチルブチルオキシ、ネオペンチルオキシ、１−エチルプロピルオキシ、ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、４−メチルペンチルオキシ、３−メチルペンチルオキシ、２−メチルペンチルオキシ、１−メチルペンチルオキシ、３，３−ジメチルブチルオキシ、２，２−ジメチルブチルオキシ、１，１−ジメチルブチルオキシ、１，２−ジメチルブチルオキシ、１，３−ジメチルブチルオキシ、２，３−ジメチルブチルオキシ又は２−エチルブチルオキシ基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、好適には、炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、より好適には、メトキシ基である。

本発明のＲ⁵における「Ｃ₂−Ｃ₆アルケニルオキシ基」は、上記であげたＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基のうち、炭素数２乃至６個のものであって、１個の二重結合を有する基であり、好適には、Ｃ₂−Ｃ₄アルケニルオキシ基である。

本発明のＲ⁵における「Ｃ₂−Ｃ₆アルキニルオキシ基」としては、上記であげたＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基のうち、炭素数２乃至６個のものであって、１個の三重結合を有する基であり、好適には、Ｃ₂−Ｃ₄アルキニルオキシ基である。

本発明における「（Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基」は、上記であげた「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基」が１個置換した上記であげた「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基」であり、好適には、（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基である。

本発明における「｛（Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ｝Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基」は、上記であげた「（Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基」が１個置換した上記であげた「Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基」であり、好適には、｛（Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基｝Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ基である。

本発明において、オキソ基が、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ又はアルキニルオキシ基に置換する場合、オキソ基が１位の炭素原子に置換する場合を除く。すなわち、オキソ基に置換された、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ又はアルキニルオキシは、それぞれ、アルカノイル、アルケノイル、アルキノイル、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシ又はアルキノイルオキシを含まない。

本発明の「置換基群Ａ」は、好適には、フッ素原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₄アルケニルオキシ基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₄アルカノイルオキシ基及びＣ₁₂−Ｃ₁₄アルケノイルオキシ基からなる群であり、より好適には、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ドデセニルオキシ基、テトラデセニルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、テトラデカノイルオキシ基、ドデセノイルオキシ基、テトラデセノイルオキシ基及びオクタデセノイル基からなる群である。

上記式（I）中、置換基群Ａの置換位置は、好適には、３位である。

上記式（I）の化合物は、塩にすることができるが、そのような塩としては、好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩又はカルシウム塩のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩；トリエチルアミン塩、トリメチルアミン塩のような有機塩基の塩を挙げることができる。

また、本発明の化合物（I）は、大気中に放置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明に包含される。

さらに、本発明の化合物（I）は、他のある種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があるが、そのような塩も本発明に包含される。

上記式（I）の化合物は、分子中に不斉炭素を有し、各々がＳ配位、Ｒ配位である立体異性体が存在するが、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包含される。

本発明の左糖グルコースリピドＡ類縁体は、優れたマクロファ−ジ活性抑制作用を示し、抗炎症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤、抗敗血症剤又は冠動脈バイパス形成術後の予後改善剤として有用である。

本発明の一般式（I）を有する化合物は、以下の方法により、公知化合物（II）を出発原料として用いて、製造することができる。

上記工程中、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは前述したものと同意義を示す。

Ｒ^2aは、水素原子を除くほかはＲ²と同意義を示す。

Ｒ^4aは、p-メトキシベンジル基である。

Ｒ^4bは、Ｃ₁−Ｃ₁₇アルキル基、Ｃ₂−Ｃ₁₇アルケニル基又はＣ₂−Ｃ₁₇アルキニル基である。

Ｒ^5aは、保護されない水酸基を除くほかはＲ⁵と同意義を示す。

Ｒ^5bは、水酸基の保護基であり、好適には、ベンジルオキシカルボニル基又はアリルオキシカルボニル基である。

Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及びＲ¹²は、同一又は異なって、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基又はＣ₆−Ｃ₁₀アリール基を示す。

Ｒ⁹及びＲ¹⁵は、同一又は異なって、アリル基、置換基を有してもよいＣ₆−Ｃ₁₀アリール基又は置換基を有してもよいＣ₇−Ｃ₁₁アラルキル基を示し、好適には、アリル基、フェニル基又はベンジル基を示す。

Ｒ¹³は、アリルオキシカルボニル基を示す。

Ｒ¹⁴は、水素原子又はトリ（Ｃ₁−Ｃ₆アルキル）ケイ素基を示す。

Ｒ¹⁶は、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル基を示す。

本願発明の化合物（I）を製造する工程はＡ〜Ｃ法からなる。
（１）Ａ法は、中間体（XIVa）又は（XVIII）を製造する方法である。
（２）Ｂ法は、中間体（XXVII）、（XXIX）、（XXXIII）、（XXXV）、（XXXVIII）、（XLIII）、（XLIX）、（LII）、（LVI）、（LXX）又は（LXXIV）を製造する工程である。
（３）Ｃ法は、Ａ法により製造できる中間体とＢ法により製造できる中間体とを縮合し、目的化合物（Ia）、（Ib）、（I）又は（Ic）を製造する工程である。

以下、各工程につき、説明する。

（１）Ａ法
（１−１）ａ法
本方法は、Ｒ⁵が水素原子以外の基である化合物（I）の製造に用いる中間体（XIVa）の製法である
（第Ａａ１工程）
本工程は、ジアセトン−Ｄ−グルコース化合物（II）の３位水酸基がアルキル化（アルケニル基、アルキニル基を導入する場合も含む。以下、製造工程の説明において、同様の定義とする。）又はアシル化された化合物（III）を製造する工程であり、アルキル化は下記(a)の方法、アシル化は下記(b)の方法により達成される。

(a)アルキル化
本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物（II）にアルキル化剤を反応させることによって達成される。

使用される溶剤としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類があげられるが、好適には、ジメチルホルムアミドである。

使用される塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属；n-ブチルリチウム、t-ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類；水素化カリウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属等があげられるが、好適には、水素化ナトリウムである。

使用されるアルキル化剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素類、スルホン酸エステル類が挙げられるが、好適には、臭化物（Ｒ⁴Ｂｒ）、ヨウ化物（Ｒ⁴Ｉ）又はメタンスルホン酸エステル（Ｒ⁴ＯＳＯ₂Ｍｅ）である。

反応温度は、通常０℃乃至１００℃で行われるが、好適には、２０℃乃至６０℃である。

反応時間は、反応温度、原料、試薬または使用される溶剤等によって異なるが、通常、２０分間乃至４８時間であり、好適には、２乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。

(b)アシル化
本工程は、不活性溶剤中、縮合剤及び塩基の存在又は非存在下、化合物（II）に、カルボン酸又は酸塩化物のようなアシル化剤を反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；N,N−ジメチルホルムアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、メチレンクロリドである。

カルボン酸との反応において使用される縮合剤としては、1,3-ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,3-ジイソプロピルカルボジイミド、1-[3-(ジメチルアミノ)プロピル]-3-エチルカルボジイミドハイドロクロライド（ＷＳＣＩ）などのカルボジイミド類をあげることができるが、好適には、1,3-ジシクロヘキシルカルボジイミド又はＷＳＣＩである。

酸塩化物との反応において使用される塩基としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類をあげることができるが、好適には、4-ジメチルアミノピリジン又はトリエチルアミンである。

使用されるアシル化剤としては、式：Ｒ²'ＯＨで表されるカルボン酸、または、式：Ｒ⁴'Ｃｌ（式中、Ｒ⁴'は、Ｒ⁴の定義のうちアルカノイル基、アルケノイル基又はアルキノイル基を示す。）で表される酸クロライドがあげられる。これらのアシル化剤が、水酸基又はオキソ基を有する場合、かかる基は保護されていてもよく、例えば、オキソ基は、ケタール基として保護される。

反応温度は、通常０℃乃至１００℃であり、好適には、１５℃乃至２５℃（室温）である。

反応時間は、通常２０分間乃至２４時間であり、好適には１乃至５時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物をろ過し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａａ２工程）
本工程は、化合物（III）を、アリルアルコール溶媒中、塩酸ガス存在下で加熱することにより化合物（IV）を得る工程である。

反応温度は、通常室温乃至溶媒の還流加熱温度で行われるが、好適には、室温乃至８０℃である。

反応時間は、通常２０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至５時間である。

（第Ａａ３工程）
本工程は、化合物（IV）の４位及び６位の水酸基にイソプロピリデンを架け化合物（V）を得る工程である。本工程は、化合物（IV）に、不活性溶剤中、酸触媒存在下で２，２−ジメトキシプロパンを反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、ジメチルホルムアミドなどのアミド類があげられる。

使用される酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸などがあげられる。

反応温度は、通常室温乃至５０℃である。

反応時間は、通常２０分間乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（V）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａａ４工程）
本工程は、化合物（V）のアリル基の二重結合をエノールエーテル型に移し、化合物（VI）を製造する工程である。本工程は、化合物（V）を、不活性溶媒中、塩基又はイリジウム錯体と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類をあげることができ、塩基を用いる場合は、好適にはジメチルスルホキシドであり、イリジウム錯体を用いる場合は、好適にはテトラヒドロフランである。

使用される塩基としては、例えば、tert-ブトキシカリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシドがあげられるが、好適には、tert-ブトキシカリウムである。

使用されるイリジウム錯体としては、例えば、（1,5-シクロオクタジエン）ビス（メチルジフェニルホスフィン）イリジウム（Ｉ）ヘキサフルオロホスフェートがあげられる。

反応温度は、塩基を用いた場合は、通常室温乃至溶媒の還流加熱温度であり、イリジウム錯体を用いた場合は、通常０℃乃至８０℃であり、好適には室温である。

反応時間は、塩基を用いた場合は、通常１時間乃至２４時間であり、好適には１６時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（VI）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａａ５工程）
本工程は、化合物（VI）の２位の水酸基をアルキル化又はアシル化して化合物（VII）を得る工程であり、第Ａａ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ａａ６工程）
本工程は、化合物（VII）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（VIII）を製造する工程である。本工程は、化合物（VII）を、80%酢酸水又はアルコール溶媒中、酸触媒又はＮＢＳを反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類があげられる。

使用される酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸などの有機酸；塩酸、硫酸などの無機酸があげられる。

反応温度は、酢酸水溶媒中では通常室温乃至１００℃であり、アルコール中では通常０℃乃至５０℃であり、好適には、室温である。

反応時間は、通常６分間乃至２４時間であり、好適には、６分間乃至３時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（VIII）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａａ７工程）
本工程は、化合物（VIII）のジオールの一級水酸基をシリル基で保護し、化合物（IX）を製造する工程である。本工程は、化合物（VIII）を、不活性溶媒下、塩基存在下、シリル化剤と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類があげられ、好適には、メチレンクロリド又はテトラヒドロフランである。

使用される塩基としては、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類をあげることができる。

使用されるシリル化剤としては、例えば、塩化tert-ブチルジメチルシリル基のようなハロゲン化トリアルキルシリル基があげられる。

反応温度は、通常０℃乃至８０℃であり、好適には室温である。

反応時間は、通常６分間乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（IX）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａａ８工程）
本工程は、化合物（IX）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（X）を製造する工程である。本工程は、化合物（IX）を、不活性溶媒下、弱酸である1H-テトラゾール存在下、ジイソプロピルホスホルアミダイトと反応させ、更に、不活性溶媒下、酸化剤と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類があげられる。

使用される酸化剤としては、例えば、過酸化水素、m-クロロ過安息香酸、オキソンのような過酸化物があげられる。

反応温度は、通常０℃乃至１００℃であり、好適には室温である。

反応時間は、通常６分間乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（X）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａａ９工程）
本工程は、化合物（X）のシリル保護基を脱保護し、一級アルコールである化合物（XI）を製造する工程である。本工程は、化合物（X）を、不活性溶媒下、酸触媒と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；アセトニトリルのようなニトリル類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類があげられる。

使用される酸触媒としては、例えば、塩酸、フッ化水素酸のような無機酸；p-トルエンスルホン酸のような有機酸があげられる。

反応温度は、通常２０℃乃至５０℃であり、好適には室温である。

反応時間は、通常６分間乃至２時間であり、好適には１５分間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XI）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａａ１０工程）
本工程は、化合物（XI）の６位水酸基が変換された化合物（XII）を製造する工程であり、Ｒ^5aがオキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルケニルオキシ基又はオキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルキニルオキシ基である場合は1)の方法で、特にメトキシ基の場合には2)の方法で達成され、Ｒ^5aがハロゲン原子の場合は3)の方法で達成される。

1)Ｒ^5aがオキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルケニルオキシ基又はオキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルキニルオキシ基である場合
本工程は、不活性溶剤中、塩基又は酸化銀(II)(AgO)の存在下、化合物（XI）をアルキル化剤等と反応させることによって達成される。

使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度以上溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、エーテル類である。

使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N-メチルピペリジン、ピリジン、ピコリン、４−（N,N-ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン（ＤＡＢＣＯ）、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類をあげることができる。好適には、有機塩基類であり、更に好適には、ＤＢＮ又はＤＢＵである。

使用されるアルキル化剤等としては、式：Ｒ^5a'Ｚ（式中、Ｒ^5a'はハロゲン原子を除くほか前記Ｒ^5aと同意義を示し、Ｚはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、パラトルエンスルホニルオキシ基又はメタンスルホニルオキシ基である。）をあげることができる。

反応温度は、通常０℃乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至３０℃である。

反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、１乃至１８時間である。

2)Ｒ^5aが、メトキシ基である場合
本工程は、不活性溶剤中、塩基存在下、化合物（XI）をトリメチルオキソニウムテトラフルオロボレートと反応させることによって達成される。

使用される溶剤としては、例えば、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；メチレンクロリド、クルルホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素；ホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、メチレンクロリドである。

使用される塩基としては、好適には、2,6−ジ−tert-ブチル−４−メチルピリジンをあげることができる。

反応温度は、通常−５０℃乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至３０℃である。

反応時間は、通常１乃至２４時間であり、好適には、２乃至５時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XII）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等によって更に精製できる。

3)Ｒ^5aがハロゲン原子の場合
3-1)Ｒ^5aが、フッ素原子である場合
本工程は、不活性溶剤中、化合物（XI）をフッ素化剤と反応させることによって達成される。

使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、フルオロトリクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、1,2−ジメトキシエタンのようなエーテル類をあげることができるが、好適には、メチレンクロリドである。

使用されるフッ素化剤としては、例えば、ジエチルアミノサルファートリフルオリド(DAST)をあげることができる。

反応温度は、通常−７８℃乃至２５℃で行われるが、好適には、０℃乃至２５℃である。

反応時間は、通常１乃至１８時間であるが、好適には、１乃至５時間である。

3-2)Ｒ^5aが、塩素原子又は臭素原子である場合
本工程は、不活性溶剤中、化合物（XI）に三塩化リン、三臭化リン、三塩化ホスホリル、三臭化ホスホリル、塩化チオニル又は臭化チオニルを反応させることによって達成される。

使用される溶剤としては、好適には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類である。

反応温度は、通常−５０℃乃至５０℃で行われるが、好適には、−１０℃乃至３０℃である。

3-3)Ｒ^5aが、ヨウ素原子である場合
本工程は、不活性溶剤中、化合物（XI）にヨウ素及びトリフェニルホスフィンを反応させることによって達成される。

使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度以上溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メタノール、エタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、エーテル類である。

反応温度は、通常−５０乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至３０℃である。

（第Ａａ１１工程）
本工程は、化合物（XII）の１位水酸基の保護基を脱保護し、化合物（XIII）を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸触媒と反応させることにより達成される。

用いられる溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類があげられる。

用いられる酸触媒としては、48%フッ化水素酸水溶液があげられる。

反応時間は、通常６分間乃至２４時間であり、好適には１６時間である。

（第Ａａ１２工程）
本工程は、トリクロロアセトイミデート体（XIVa）を製造する工程であり、化合物（XIII）の１位水酸基に、不活性溶剤中、塩基存在下、トリクロロアセトニトリルを作用させることにより達成される。

使用される溶剤は、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類；アセトニトリルのようなニトリル類が挙げられるが、好適には、ハロゲン化炭化水素類（メチレンクロリド）である。

使用される塩基としては、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン（DBU）などの有機塩基；又はナトリウムヒドリド、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基があげられ、好適には、DBU又は炭酸セシウムである。

反応温度は、通常−２５℃乃至５０℃であり、好適には、０℃乃至２５℃である。

反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至２時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XIVa）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（１−２）ｂ法
本方法は、Ｒ⁵が保護された水酸基である化合物（I）の製造に用いる中間体（XVIII）の製法である
（第Ａｂ１工程）
本工程は、所望により化合物（VIII）の６位水酸基が選択的に保護された化合物（XV）を製造する工程である。

Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ^5bに不飽和結合が存在する場合は、還元反応を用いないで除去することのできるアリル基又はアリルオキシカルボニル基を使用する。Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ^5bに不飽和結合が存在しない場合は、直ちに保護化反応を行ってよい。

本反応は、不活性溶剤中、塩基存在下、保護化剤を反応させることによって達成される。

使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類があげられるが、好適には、メチレンクロリドである。

使用される塩基としては、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリンのような有機塩基類があげられるが、好適には、ピリジンである。

使用される保護化剤としては、脱保護処理を行うことによって６位水酸基が収率良く回復できるものであればよく、例えば、tert-ブトキシカルボニルクロリドのようなアルキルオキシカルボニルハライド、ベンジルオキシカルボニルクロリドのようなアラルキルオキシカルボニルハライド、アリルオキシカルボニルクロリドのようなアルケニルオキシカルボニルハライドがあげられるが、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ^5bに不飽和結合が存在しない場合は、好適には、ベンジルオキシカルボニルクロリドであり、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ^5bに不飽和結合が存在する場合は、好適には、アリルオキシカルボニルクロリドである。

反応温度は、通常−５０℃乃至５０℃であり、好適には、−１０℃乃至３０℃である。

反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至５時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XV）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ａｂ２工程）
本工程は、化合物（XV）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（XVI）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ａｂ３工程）
本工程は、化合物（XVI）の１位水酸基の保護基を脱保護し、化合物（XVII）を製造する工程であり、第Ａａ１１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ａｂ４工程）
本工程は、トリクロロアセトイミデート体（XVIII）を製造する工程であり、第Ａａ１２工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（２）Ｂ法
（２−１）ａ法
本方法は、ＷがＮＨ基である化合物（I）の製造に用いる中間体（XXVII）の製法である。

（第Ｂａ１工程）
本工程は、化合物（XIX）の３位水酸基がアルキル化又はアシル化された化合物（XX）を製造する工程であり、第Ａａ１工程と同様の条件で反応させることによって達成される。

（第Ｂａ２工程）
本工程は、化合物（XX）の２位を脱保護し、化合物（XXI）を製造する工程である。

本工程は、不活性溶剤中、アルカリ条件下、化合物（XIX）の２位トリフルオロアセトアミドを脱保護する工程である。

使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類；アセトニトリルのようなニトリル類があげられるが、好適にはアルコール類（エタノール）である。

使用されるアルカリとしては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような水酸化アルカリ金属；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシドがあげられるが、好適には、水酸化アルカリ金属である。

反応温度は、通常０℃乃至１００℃であるが、好適には、２５℃乃至還流温度である。

反応時間は、通常３０分間乃至２４時間であり、好適には、１乃至１６時間である。

（第Ｂａ３工程）
本工程は、化合物（XXI）のアミノ基をカルボン酸、その酸ハライド又はその酸無水物とアミド化させることにより、化合物（XXII）を製造する工程である。

カルボン酸との縮合反応に用いられる縮合剤としては、例えば、ＤＣＣ、ＷＳＣＩなどのカルボジイミドがあげられる。

酸ハライドとのアミド生成反応に用いられる塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基があげられる。

縮合反応に用いられる溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；水及びそれらの混合溶媒があげられる。

縮合反応の場合の反応時間は、通常０℃乃至１００℃である。

縮合反応の場合の反応温度は、通常６分間乃至２４時間である。

（第Ｂａ４工程）
本工程は、化合物（XXII）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（XXIII）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で反応させることによって達成される。

（第Ｂａ５工程）
本工程は、化合物（XXIII）のジオールの一級水酸基をシリル基で保護し、化合物（XXIV）を製造する工程であり、第Ａａ７工程と同様の条件で反応させることによって達成される。

（第Ｂａ６工程）
本工程は、化合物（XXIV）のアリル基の二重結合をエノールエーテル型に移し、化合物（XXV）を製造する工程であり、第Ａａ４工程と同様の条件で反応させることによって達成される。

（第Ｂａ７工程）
本工程は、化合物（XXV）の二級水酸基をアリルオキシカルボニル基で保護し、化合物（XXVI）を製造する工程である。本工程は、化合物（XXV）を、不活性溶媒下、塩基存在下、カルボネート化剤と反応させ、更にアルコール類と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類があげらる。

使用される塩基としては、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類があげられる。

使用されるカルボネート化剤としては、トリホスゲンがあげられる。

使用されるアルコール類としては、アリルアルコールがあげられる。

反応温度は、通常−２０℃乃至５０℃であり、好適には０℃である。

反応時間は、カルボネート化剤を加えた後アルコール類を加える前までが、通常１０分間乃至１時間であり、好適には１０分間であり、アルコール類を加えた後が、通常１０分間乃至１時間であり、好適には１時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XXVI）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ｂａ８工程）
本工程は、化合物（XXVI）の１位水酸基の保護基を脱保護し、化合物（XXVII）を製造する工程であり、第Ａａ１１工程と同様の条件で反応させることによって達成される。

（２−２）ｂ法
本方法は、Ｗが酸素原子である化合物（I）の製造に用いる中間体（XXXIII）の製法である。

（第Ｂｂ１工程）
本工程は、化合物（XXVIII）のシリル保護基を脱保護し、更にアノマー位のエノールエーテルを同時に脱保護することにより、一級アルコールである化合物（XXIX）を製造する工程である。本工程は、第Ａａ９工程の反応条件をより厳しくし、例えば反応時間を長くすることにより達成される。

反応時間は、通常４時間乃至２４時間であり、好適には１０時間乃至１６時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XXIX）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（２−３）ｃ法
本方法は、Ｗが酸素原子であり、Ｑが−ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−で表される基である化合物（I）の製造に用いる中間体（XXXIX）の製法である。

（第Ｂｃ１工程）
本工程は、化合物（XXX）のアリル二重結合を酸化切断しアルデヒドとした後、還元することにより、化合物（XXXI）を製造する工程である。本工程は、化合物（XXX）を、不活性溶媒下、酸化剤と反応させ、更に、不活性溶媒下、還元剤と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、酸化においては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類と水との混合溶媒があげられ、還元においては、例えば、メタノール、エタノールのようなアルコール類があげられる。

使用される酸化剤としては、例えば、四酸化オスミウムと過ヨウ素酸ナトリウムの組み合わせがあげられる。

使用される還元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどの金属水素化物類があげられ、好適には水素化ホウ素ナトリウムである。

反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には室温である。

反応時間は、通常６分間乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XXXI）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ｂｃ２工程）
本工程は、化合物（XXXI）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（XXXII）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｃ３工程）
本工程は、化合物（XXXII）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（XXXIII）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（２−４）ｄ法
本方法は、Ｗが酸素原子であり、２位及び３位の水酸基を同じ保護基で保護した化合物（XXXV）の製法である。

（第Ｂｄ１工程）
本工程は、公知化合物（XXXIV）の２個の水酸基をアルキル化又はアシル化して化合物（XXXV）を得る工程であり、第Ａａ１工程と類似の条件で反応させることにより達成される。

（２−５）ｅ法
本方法は、Ｗが酸素原子であり、Ｑが−ＯＣＨ_２ＣＨ_２−で表される基である化合物（I）の製造に用いる中間体（XXXVIII）の製法である。

（第Ｂｅ１工程）
本工程は、化合物（XXXI）の１級水酸基を臭素原子に変換し、化合物（XXXVI）を製造する工程であり、不活性溶媒中、四臭化炭素−トリフェニルホスフィンと反応させることにより達成することができる。

使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；ベンゼンなどの芳香族炭化水素等があげられる。

反応温度は、通常０℃乃至溶媒の還流加熱温度であり、好適には室温である。

反応時間は、通常６分間乃至１６時間であり、好適には１時間乃至３時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XXXVI）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

得られた化合物（XXXVI）は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。

（第Ｂｅ２工程）
本工程は、化合物（XXXVI）の臭素原子をトリアリルホスファイトと反応させ、ジアリルホスフェート（XXXVII）を製造する工程であり、通常無溶媒下で行う。

反応温度は、通常１５０℃乃至２００℃である。

（第Ｂｅ３工程）
本工程は、化合物（XXXVII）の４位及び６位の水酸基の保護基を脱保護することにより、ジオール（XXXVIII）を製造する工程であり、不活性溶媒中、酸と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類；酢酸水溶液（例えば、80%酢酸水溶液）等があげられる。

使用される酸としては、例えば、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸；塩化水素のような無機酸があげられる。

反応温度は、通常５０℃乃至８０℃である。

反応時間は、通常１時間乃至６時間である。

（２−６）ｆ法
本方法は、Ｗが酸素原子であり、Ｑが−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−で表される基である化合物（I）の製造に用いる中間体（XLIII）の製法である。

（第Ｂｆ１工程）
本工程は、化合物（XXXIX）の２位及び３位の水酸基をアルキル化又はアシル化して化合物（XL）を得る工程であり、第Ａａ５工程と類似の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｆ２工程）
本工程は、化合物（XL）のアリル二重結合を酸化切断しアルデヒドとした後、還元することにより、化合物（XLI）を製造する工程であり、第Ｂｃ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｆ３工程）
本工程は、化合物（XLI）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（XLII）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｆ４工程）
本工程は、化合物（XLII）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（XLIII）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（２−７）ｇ法
本方法は、Ｗが酸素原子であり、Ｑが−ＣＨ_２Ｏ−で表される基である化合物（I）の製造に用いる中間体（XLIX）の製法である。

（第Ｂｇ１工程）
本工程は、公知化合物（XLIV）の４つのベンジル基を除去し、更に４位及び６位の水酸基にイソプロピリデンを架けることにより化合物（XLV）を得る工程であり、ベンジル基の除去工程は通常の水添反応により達成され、イソプロピリデンを架ける工程は第Ａａ３工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｇ２工程）
本工程は、(a)化合物（XLV）の２個の水酸基をアルキル化又はアシル化し、(b)更にフラン環を酸化的に開裂させ、(c)更に生成したカルボキシル基をエステル化することにより化合物（LV）を得る工程である。

(a)アルキル化又はアシル化の工程は、第Ｂｄ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

(b)フラン環開裂の工程は、不活性溶媒中、フラン化合物を過ヨウ素酸ナトリウムと反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；水；及び、これらの混合溶媒が挙げられ、好適には四塩化炭素、アセトニトリル及び水の混合溶媒である。

反応温度は、通常０℃乃至１００℃であり、好適には４０℃乃至８０℃である。

反応時間は、通常２時間乃至２０時間であり、好適には１０時間乃至１５時間である。

(c)エステル化の工程は、常法により達成することができる。すなわち、例えばメチルエステル化の場合は、不活性溶媒中、カルボン酸化合物にジアゾメタン又はトリメチルシリルジアゾメタンを反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類が挙げられる。

反応温度は、通常０℃乃至室温である。

（第Ｂｇ３工程）
本工程は、化合物（XLVI）のエステル基を還元することにより化合物（XLVII）を得る工程である。本工程は、不活性溶媒下、還元剤と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールのようなアルコール類；及び、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類があげられる。

使用される還元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどの金属水素化物類があげられ、好適には水素化リチウムアルミニウムである。

反応時間は、通常６分間乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（XLVII）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

（第Ｂｇ４工程）
本工程は、化合物（XLVII）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（XLVIII）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｇ５工程）
本工程は、化合物（XLVIII）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（XLIX）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（２−８）ｈ法
本方法は、Ｗが酸素原子であり、Ｑが−Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｏ−で表される基である化合物（I）の製造に用いる中間体（LII）の製法である。

（第Ｂｈ１工程）
本工程は、化合物（XXX）のアリル二重結合を酸化切断しアルデヒドとした後、還元することにより、化合物（L）を製造する工程であり、第Ｂｃ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｈ２工程）
本工程は、化合物（L）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（LI）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｈ３工程）
本工程は、化合物（LI）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（LII）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（２−９）ｉ法
本方法は、Ｗが酸素原子であり、Ｑが−ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−で表される基である化合物（I）の製造に用いる中間体（LVI）の製法である。

（第Ｂｉ１工程）
本工程は、化合物（LIII）のアリル二重結合を酸化切断しアルデヒドとした後、還元することにより、化合物（LIV）を製造する工程であり、第Ｂｃ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｉ２工程）
本工程は、化合物（LIV）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（LV）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｉ３工程）
本工程は、化合物（LV）の二級水酸基をアシル基で保護し、化合物（LVI）を製造する工程であり、第Ｂａ１（ｂ）工程と同様の条件で反応させ、更に４，６位イソプロピリデン基を酸性条件下第Ａａ６工程と同様の条件で脱保護することにより達成される。

（２−１０）ｊ法
本方法は、Ｗが酸素原子である化合物（I）の製造に用いる中間体（LXX）の製法である。

（第Ｂｊ１工程）
本工程は、化合物（LXIV）の２位の水酸基をアルキル化又はアシル化して化合物（LXV）を得る工程であり、第Ａａ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｊ２工程）
本工程は、化合物（LXV）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（LXVI）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｊ３工程）
本工程は、化合物（LXVI）のアリル基の二重結合をエノールエーテル型に移し、化合物（LXVII）を製造する工程であり、第Ａａ４工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｊ４工程）
本工程は、化合物（LXVII）のジオールの一級水酸基をシリル基で保護し、化合物（LXVIII）を製造する工程であり、第Ａａ７工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｊ５工程）
本工程は、化合物（LXVIII）の二級水酸基をアリルオキシカルボニル基で保護し、化合物（LXIX）を製造する工程であり、第Ｂａ７工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｊ６工程）
本工程は、化合物（LXIX）の１位水酸基の保護基を脱保護し、化合物（LXX）を製造する工程であり、第Ａａ１１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（２−１１）ｋ法
本方法は、ＷがＮＨ基である化合物（I）の製造に用いる中間体（LXXIV）の製法である。

（第Ｂｋ１工程）
本工程は、化合物（LXXI）のアリル二重結合を酸化切断しアルデヒドとした後、還元し、更に２位を脱保護することにより、化合物（LXXII）を製造する工程であり、第Ｂｃ１工程及び第Ｂａ２工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｋ２工程）
本工程は、化合物（LXXII）をホスファイトに変換し、酸化し、更にアミノ基をアミド化することにより、化合物（LXXIII）を製造する工程であり、第Ａａ８工程及び第Ｂａ３工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｂｋ３工程）
本工程は、化合物（LXXIII）の４位及び６位の水酸基に架けたイソプロピリデンを脱保護して、化合物（LXXIV）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（３）Ｃ法
（３−１）ａ法
本方法は、Ｑが酸素原子である本発明化合物（Ia）の製法である。

（第Ｃａ１工程）
本工程は、化合物（XXVII）、（XXIX）又は（LXX）を、前記化合物（XIV）とグリコシル化反応させ、化合物（LVII）を製造する工程である。本工程は、不活性溶媒中、触媒存在下で行われる。

使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類があげられる。

使用される触媒としては、四塩化スズ、トリフルオロボロン／エーテラート、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、トリメチルシリルトリフレート、銀トリフラート等のルイス酸；モレキュラーシーブス４Ａがあげられる。

反応温度は、通常−５０℃乃至４０℃である。

反応時間は、通常１時間乃至２４時間であり、好適には４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（LVII）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

得られた化合物（LVII）は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。

（第Ｃａ２工程）
本工程は、化合物（LVII）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（LXIII）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｃａ３工程）
本工程は、化合物（LVIII）の保護基（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に二重結合がある場合は、当該保護基は、好適にはアリル基又はアリルオキシカルボニル基である。）を脱保護することにより本発明化合物（Ia）を製造する工程であり、文献（例えば、T. W. Greene, Protective Groups in Organic Synthesis）に記載の方法に従って、又は、以下の方法を用いて達成される。また、化合物（LXVI）に数種類の保護基が存在する場合は、保護基に応じた方法を組み合わせて順次行うことができる。

1)保護基がアラルキル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に二重結合のない場合は、不活性溶剤中、触媒存在下、水素雰囲気下の加水素分解によって脱保護することができる。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどのエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類；メタノール、エタノールのようなアルコール類；ぎ酸、酢酸のような有機酸類があげられるが、好適には、エタノールである。

使用される触媒としては、例えば、パラジウム／カーボン、水酸化パラジウム、水酸化パラジウム／カーボン、パラジウムブラックがあげられるが、好適には、水酸化パラジウム／カーボンである。

反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には、１５℃乃至２５℃である。

反応時間は、通常１乃至４８時間であり、好適には、３乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（Ia）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物より触媒類を濾別し、得られた濾液を濃縮することによって得られる。

2)保護基がフェニル基であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴に二重結合のない場合は、不活性溶剤中、触媒存在下、接触還元することにより、脱保護することができる。

使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどのエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類；メタノール、エタノールのようなアルコール類；ぎ酸、酢酸のような有機酸類があげられるが、好適には、テトラヒドロフランである。

使用される触媒は、好適には、酸化白金である。

反応時間は、通常１乃至４８時間であり、好適には、１乃至２４時間である。

得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、セルロースクロマトグラフィー等により、精製することもできる。

3)保護基がアリル基又はアリルオキシカルボニル基である場合は、不活性溶剤中、パラジウム触媒下、ギ酸−トリエチルアミン混合物で、酢酸−トリエチルアミンで又はロジウム触媒下95%エタノール水中還流することにより、化合物（LVIII）のアリル基又はアリルオキシカルボニル基を脱保護することができる。

（３−２）ｂ法
本方法は、Ｑが酸素原子でありＲ⁵が水酸基である本発明化合物（Ib）の製法である。

（第Ｃｂ１工程）
本工程は、化合物（XXVII）、（XXIX）又は（LXX）を、前記化合物（XVIII）とグリコシル化反応させ、化合物（LIX）を製造する工程であり、第Ｃａ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｃｂ２工程）
本工程は、化合物（LIX）をホスファイトに変換し、更に酸化することにより、化合物（LX）を製造する工程であり、第Ａａ８工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｃｂ３工程）
本工程は、化合物（LX）の保護基を脱保護することにより本発明化合物（Ib）を製造する工程であり、第Ｃａ３工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（３−３）ｃ法
本方法は、本発明化合物（I）の製法である。

（第Ｃｃ１工程）
本工程は、化合物（XXXIII）、（XXXVIII）、（XLIII）、（XLIX）、（LII）、（LVI）又は（LXXIV）を、前記化合物（XIV）とグリコシル化反応させ、化合物（LXI）を製造する工程であり、第Ｃａ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｃｃ２工程）
本工程は、化合物（LXI）の保護基を脱保護することにより本発明化合物（I）を製造する工程であり、第Ｃａ３工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（３−４）ｄ法
本方法は、化合物（LXII）のうちＲ⁴が式

（式中、Ｒ^4a及びＲ^4bは前記と同意義を示す。）で表される基であるとき、基Ｒ^4aを脱離させ、更にその他の保護基を脱保護することにより、本発明化合物（Ic）を製造する工程である。

（第Ｃｄ１工程）
本工程は、化合物（LXII）を保護基Ｒ^4aを脱保護し、化合物（LXIII）を製造する工程であり、化合物（LXII）を不活性溶媒中、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）と反応させることにより達成される。

使用される溶剤としては、例えば、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素があげられる。

反応温度は、通常室温乃至５０℃である。

反応時間は、通常５分間乃至２４時間である。

反応終了後、本発明の目的化合物（LXIII）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を不活性溶媒で希釈し、アルカリ水溶液及び水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することにより得られる。

（第Ｃｄ２工程）
本工程は、化合物（LXIII）の保護基を脱保護することにより本発明化合物（Ic）を製造する工程であり、第Ｃａ３工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（３−４）ｅ法
本方法は、Ｒ⁵が水酸基である本発明化合物（Id）の製法である。

（第Ｃｅ１工程）
本工程は、化合物（LXXV）の保護基を脱保護することによりＲ⁵が水酸基である本発明化合物（Id）を製造する工程であり、第Ｃａ３工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（３−５）ｆ法
本方法は、Ｑが酸素原子である本発明化合物の製造中間体である化合物（LXXVIII）の製法である。

（第Ｃｆ１工程）
本工程は、化合物（LXXVI）を、化合物（XIV）とグリコシル化反応させ、化合物（LXXVII）を製造する工程であり、第Ｃａ１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

（第Ｃｆ２工程）
本工程は、化合物（LXXVII）の１位水酸基の保護基を脱保護し、化合物（LXXVIII）を製造する工程であり、第Ａａ１１工程と同様の条件で反応させることにより達成される。

本発明の化合物（I）の投与形態としては、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等により非経口投与を挙げることができる。これらの製剤は、賦型剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用いて、周知の方法で製造される。

その使用量は、症状、年齢等により異なるが、１日０．０１乃至１０ｍｇ／ｋｇ体重を、通常成人に対して、１日１回又は数回に分けて投与することができる。

以下、実施例、参考例及び試験例をあげて、本発明を、さらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

［参考例１］
１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−α−Ｄ−グルコフラノース（第Ａａ１工程）
１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース(14.80 g, 56.857 mmol)及び（Ｒ）−３−メトキシデシルｐ−トルエンスルホネート(16.50 g, 48.175 mmol)をジメチルホルムアミド(DMF, 60 mL)に溶かし、この溶液に水素化ナトリウム(55%分散油, 3.72 g, 85.286 mmol）を氷冷下加えた。０℃で１５分間攪拌した後、室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応液に氷冷下メタノールを加え、水素化ナトリウムを分解し、酢酸エチルで希釈した。この溶液を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶液：シクロヘキサン／酢酸エチル＝１５／１、更に２／１）で精製することにより、油状の標記化合物(15.20 g, 収率98%)を得た。
IR ν_max(film) 2987, 2932, 2960 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.28 (10H, bs), 1.37 (3H, s), 1.35 (3H, s), 1.43-1.52 (8H, m, containing two 3H, s, at 1.43 and 1.50 ppm), 1.68-1.74 (2H, m), 3.30 (1H, m), 3.32 (3H, s), 3.57 (1H, m), 3.73 (1H, m), 3.86 (1H, d, J=2.9 Hz), 3.99 (1H, m), 4.08 (1H, m), 4.12 (1H, dd, J=2.9, 7.3 Hz), 4.30 (1H, dd, J=5.9, 13.9 Hz), 4.55 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.87 (1H, d, J=3.7 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 431 [M+H]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₂₃H₄₃O₇: 431.3009. Found: 431.3018。

［参考例２］
アリル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ２工程及び第Ａａ３工程）
参考例１で得られた１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−α−Ｄ−グルコフラノース(5.79 g, 13.446 mmol)を2%の塩酸を含むアリルアルコール(80mL)に溶解し、30分間還流した。反応溶液を減圧濃縮し、DMF(12 mL)及び2,2-ジメトキシプロパン(15 mL)に溶解した。この溶液にp-トルエンスルホン酸(200 mg)を加え、室温で16時間撹拌した。反応溶液を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製することにより、油状の標記化合物のアノマー混合物(4.12 g, 収率71%)を得た。
α−アノマーの物理恒数:
IR ν_max(film) 3461 (br), 2994, 2929, 2874, 2859 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.28 (10H, bs), 1.41 (3H, s), 1.42-1.48 (2H, m), 1.49 (3H, s), 1.72-1.76 (2H, m), 3.04 (1H, d, J=6.6 Hz, OH), 3.33 (3H, s), 3.38 (1H, m), 3.47-3.93 (8H, m), 4.05 (1H, m), 4.21 (1H, m), 4.93 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.22-5.35 (2H, m), 5.95 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 431 [M+H]⁺, 453 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₂₃H₄₃O₇: 431.3009. Found: 431.2985。

［参考例３］
（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ４工程）
参考例２で得られたアリル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル]−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(4.10 g, 9.522 mmol)をテトラヒドロフラン(THF, 100 mL)に溶かし、この溶液に水素で活性化したIr[C₈H₁₂(MePh₂P)₂]PF₆(50 mg)を加え、室温で6時間攪拌した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、標記化合物のアノマー混合物を分離した。すなわちα−アノマー(1.24 g, 収率30%, Rf=0.511)及びβ−アノマー(2.49 g, 収率61%, Rf=0.413)を得た。
α−アノマーの物理恒数:
IR ν_max(film) 3441 (br), 2928, 2859, 1679 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.28 (10H, bs), 1.40-1.60 (11H, m, containing two 3H, s, at 1.41 and 1.49 ppm, and 3H, dd, J=1.5 and 6.6 Hz, at 1.56 ppm), 1.72-1.77 (2H, m), 1.85 (1H, br, OH), 3.26 (1H, m), 3.33 (3H, s), 3.39 (1H, m), 3.51-3.95 (7H, m), 5.08 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.20 (1H, m), 6.15 (1H, J=1.9, 12.1 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 431 [M+H]⁺, 453 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₂₃H₄₃O₇: 431.3009. Found: 431.3012。

［参考例４］
（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ５工程）
参考例３で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(1.70 g, 3.948 mmol)を塩化メチレン(25 mL)に溶かし、この溶液に（Ｚ）−１１−オクタデセノイン酸(1.67g, 5.922 mmol)、ジメチルアミノピリジン(DMAP, 727mg, 5.946 mmol)及びWSCI塩酸塩(1.14g, 5.946mmol)を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製することにより、標記化合物(1.81 g, 収率66%)を得た。
IR ν_max(film) 2927, 2856, 1743, 1680 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (28H, bs), 1.41 (3H, s), 1.42-1.46 (2H, m), 1.49 (3H, s), 1.53 (3H, dd, J=1.5, 6.6 Hz), 1.59-1.69 (6H, m), 1.99-2.03 (4H, m), 2.33-2.37 (2H, m), 3.30 (1H, m), 3.31 (3H, s), 3.60-3.86 (7H, m), 4.77 (1H, m), 5.16-5.18 (2H, m, containing 1H, d, J=3.7 Hz, at 5.17 ppm), 5.33-5.36 (2H, m), 6.07 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 637, 695 [M+H]⁺, 717 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₁H₇₄O₈Na: 717.5282. Found: 717.5275。

［参考例５］
（Ｅ）−１−プロペニル３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ６工程）
参考例４で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(250 mg, 0.360 mmol)を80酢酸水(10 mL)に溶かし、この溶液を６０℃で1.5時間撹拌した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝２／１、その後１／１）で精製することにより標記化合物(234 mg, 収率99%)を得た。
IR ν_max(film) 3407 (br), 2927, 2856, 1741, 1680 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.41-1.49 (2H, m), 1.55 (3H, dd, J=1.5, 6.6 Hz), 1.57-1.77 (4H, m), 1.98-2.05 (4H, m), 2.32-2.41 (2H, m), 3.31 (1H, s), 3.35 (3H, m), 3.60 (1H, m), 3.65-3.74 (3H, m), 3.76-3.85 (2H, m), 3.87 (1H, d, J=1.5 Hz, OH), 4.97 (1H, m), 4.71 (1H, m, C2-H), 5.15 (1H, dd, J=7.3, 12.5 Hz), 5.21 (1H, d, J=3.7 Hz, anomeric H), 5.33-5.37 (2H, m), 5.33-5.36 (2H, m), 6.10 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 655 [M+H]⁺, 677 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₈H₇₁O₈: 655.5149. Found: 655.5153。

［参考例６］
（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ７工程）
参考例５で得られた（Ｅ）−１−プロペニル３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(1.729 g, 2.640 mmol)を塩化メチレン(20 mL)に溶かし、この溶液にｔ−ブチルジメチルシリルクロリド(437 mg, 2.904 mmol)及びDMAP(362 mg, 2.962 mmol)を加え、室温で16時間撹拌した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製することにより標記化合物(1.784 g, 収率88%)を得た。
IR ν_max(film) 3510-3430, 2928, 2857, 1744, 1680 (w), 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.08 (6H, s), 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 0.90 (9H, s), 1.27 (30H, bs), 1.43-1.50 (2H, m), 1.54 (3H, dd, J=1.5, 6.6 Hz), 1.59-1.65 (2H, m), 1.72-1.76 (2H, m), 1.99-2.05 (4H, m), 2.33-2.38 (2H, m), 3.30 (3H, s), 3.35 (1H, m), 3.56-3.93 (7H, m), 4.70 (1H, dd, J=3.7, 9.5 Hz), 5.14 (1H, m), 5.18 (1H, d, J=3.7 Hz, anomeric H), 5.33-5.36 (2H, m), 6.12 (1H, dd, J=2.2, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 769 [M+H]⁺, 791 [M+Na]⁺。

［参考例７］
（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ８工程）
参考例６で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(1.784 g, 2.319 mmol)及び１Ｈ−テトラゾール(325 mg, 4.639 mmol)を塩化メチレン(30 mL)に溶かし、この溶液にジアリルジイソプロピルホスホルイミダイト(853 mg, 3.479 mmol)を加え、室温で15分間撹拌した。この反応液にTHF(30 mL)を加え、更に30%過酸化水素水(1.20 mL)を加え、室温で10分間撹拌した。反応液を10%ハイポ水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製することにより標記化合物(2.100 g, 収率97%)を得た。
IR ν_max(film) 2928, 2857, 1745, 1680 (w), 1463 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.05 (6H, s), 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 0.89 (9H, s), 1.27 (28H, bs), 1.40-1.43 (2H, m), 1.53 (3H, dd, J=1.5, 7.3 Hz), 1.59-1.75 (6H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.34-2.39 (2H, m), 3.24 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.73-3.93 (7H, m), 4.26 (1H, m), 4.55-4.58 (4H, m), 4.71 (1H, m), 5.13-5.38 (7H, m), 5.90-5.97 (2H, m), 6.12 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 929 [M+H]⁺, 951 [M+Na]⁺。

［参考例８］
（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ９工程）
参考例７で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(2.100 g, 2.260 mmol)をアセトン(20 mL)及び5%硫酸水(2 mL)に溶かし、この溶液を室温下5時間攪拌し、半量まで濃縮した。濃縮物を酢酸エチルで希釈し、その溶液を水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝３／２）で精製することにより標記化合物(1.670 g, 収率91%)を得た。
IR ν_max(film) 3439, 2927, 2856, 1744, 1679 (w), 1461 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (28H, bs), 1.39-1.45 (4H, m), 1.54 (3H, dd, J=1.5, 7.3 Hz), 1.61-1.75 (4H, m), 1.99-2.03 (4H, m), 2.31-2.41 (2H, m), 3.23 (1H, m), 3.27 (3H, s), 3.65-3.96 (7H, m), 4.40 (1H, m), 4.57-4.66 (4H, m), 4.77 (1H, dd, J=3.7, 9.5 Hz), 5.16 (1H, m), 5.41 (1H, dd, J=1.5, 3.7 Hz), 5.26-5.38 (5H, m), 5.89-5.99 (2H, m), 6.11 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 815 [M+H]⁺, 837 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₄H₈₀O₁₁P: 815.5438. Found: 815.5444。

［参考例９］
（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ１０工程）
参考例８で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(167 mg, 0.205 mmol)を塩化メチレン(5 mL)に溶かし、この溶液に2,6−ジ−ｔ−ブチル−4−メチルピリジン(210 mg, 1.024 mmol)及びトリメチルオキソニウムテトラフルオロボレート(152 mg, 1.027 mmol)を加え、室温で5時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、その溶液を飽和重曹水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝３／１）により精製することにより標記化合物(161 mg, 収率95%)を得た。
IR ν_max(film) 2927, 2856, 1745, 1680 (w), 1460 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.39-1.43 (2H, m), 1.54 (3H, dd, J=1.5, 7.3 Hz), 1.58-1.78 (4H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.31-2.40 (2H, m), 3.24 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.39 (3H, s), 3.60-3.90 (6H, m), 4.39 (1H, m), 4.44-4.61 (4H, m), 4.78 (1H, m), 5.14-5.40 (8H, m), 5.90-5.98 (2H, m), 6.12 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 829 [M+H]⁺, 851 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₅H₈₂O₁₁P: 829.5595. Found: 829.5551。

［参考例１０］
（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ５工程乃至第Ａａ１０工程）
参考例３で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシドを出発原料として、参考例４乃至９と同様に反応させることにより、標記化合物を６工程で52%の収率で得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.40-1.45 (2H, m), 1.51-1.72 (7H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.31-2.35 (2H, m), 3.22 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.39 (3H, s), 3.49-3.77 (6H, m), 4.34 (1H, m), 4.55-4.60 (4H, m), 4.96-5.10 (2H, m), 5.24-5.40 (6H, m), 5.89-5.98 (2H, m), 6.17 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz)。

［実施例１］
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１番）
（１）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ５工程乃至第Ａａ１０工程）
参考例３で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド及びそのβ−アノマーの混合物（２：１）を出発原料として、参考例４乃至９と同様に反応させることにより、標記化合物を６工程で50%の収率で得た。

（２）４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ１１工程）
（１）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(α−アノマーとβ−アノマーの混合比＝2：1, 1.290 g, 1.556 mmol)をアセトン−水(15 mL)に溶かし、この溶液にＮ−ブロムサクシンイミド(420mg, 2.360mmol)を加え、氷冷下、２時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、その溶液を10%ハイポ水及び飽和重曹水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製することにより標記化合物(980 mg, 収率80%)を得た。
IR ν_max(film) 3327 (br), 2927, 2856, 1742, 1461 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.41-1.46 (2H, m), 1.60-1.76 (4H, m), 1.99-2.03 (4H, m), 2.35-2.40 (2H, m), 3.23 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.39 (3H, s), 3.58-3.78 (5H, m), 3.86 (1H, t, J=9.5 Hz), 4.12 (1H, m), 4.27 (1H, m), 4.57-4.61 (4H, m), 4.76 (1H, m), 5.23-5.40 (6H, m), 5.90-6.00 (2H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 789 [M+H]⁺, 811 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₂H₇₈O₁₁P: 789.5282. Found: 789.5286。

（３）トリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ１２工程）
（２）で得られた４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(368 mg, 0.466 mmol)及びCCl₃CN(673 mg, 4.664 mmol)を塩化メチレン(7 mL)に溶かし、この溶液に炭酸セシウム(76 mg, 0.233 mmol)を加え、室温で1.5時間攪拌した。反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製することにより、標記化合物(415 mg, 収率95%)を得た。
IR ν_max(film) 3349 (w), 2927, 2856, 1750, 1675, 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.40-1.44 (2H, m), 1.65-1.80 (4H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.23 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.24-3.28 (4H, m, containing 3H, s, at 3.27 ppm), 3.38 (3H, s), 3.64-3.80 (4H, m), 3.91 (1H, t, J=9.5 Hz), 4.03 (1H, m), 4.50 (1H, q, J=9.5 Hz), 4.57-4.61 (4H, m), 5.00 (1H, dd, J=3.7, 10.3 Hz), 5.25-5.40 (6H, m), 5.90-6.00 (2H, m), 6.50 (1H, d, J=3.7 Hz), 8.61 (1H, s).
FABMS (positive-ion) m/z; 771, 954 [³⁵Cl, M+Na]⁺, 956 [M+Na]⁺。

（４）アリル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセトアミド−β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ１工程）
アリル２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセトアミド−β−Ｄ−グルコピラノシド(10.660 g, 30.000 mmol)をDMF(40 mL)に溶かし、この溶液にデシルメタンスルホネート(17.735 g, 75.000 mmol)及び水素化ナトリウム(55%分散油, 3.49 g, 80.000 mmol)を氷冷下加え、30分間撹拌した後、室温で一夜撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、氷水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製することにより、標記化合物(9.516 g, 収率64%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3318 (w), 2925, 2854, 1705, 1561 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.25 (14H, bs), 1.41 (3H, s), 1.42-1.53 (5H, m, containing 3H, s, at 1.49 ppm), 3.29-3.41 (2H, m), 3.47 (1H, m), 3.61 (1H, m), 3.74-3.80 (2H, m), 3.81-3.95 (2H, m), 4.05 (1H, m), 4.31 (1H, m), 4.92 (1H, d, J=8.1 Hz), 5.19-5.28 (2H, m), 5.78-5.86 (1H, m), 6.43 (1H, d, J=8.1 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 496 [M+H]⁺。

（５）アリル２−アミノ−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ２工程）
（４）で得られたアリル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセトアミド−β−Ｄ−グルコピラノシド(1.76 g, 2.018 mmol)をエタノール(20mL)に溶かし、この溶液に1 mol/L水酸化カリウム(20mL)を加え、一夜還流し、更に室温で一夜撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、エーテルにて抽出し、エーテル層を水及び飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝１：４）で精製することにより標記化合物(870 mg, 収率61%)を得た。
IR ν_max(film) 3395 (w), 2926, 2857 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (14H, bs), 1.41 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.50-1.59 (4H, m, containing NH₂), 2.83 (1H, dd, J=7.3, 9.5 Hz), 3.19-3.28 (2H, m), 3.56 (1H, m), 3.67 (1H, dd, J=8.8, 9.5 Hz), 3.77-3.92 (3H, m), 4.11 (1H, m), 4.32 (1H, d, J=8.1 Hz), 4.35 (1H, m), 5.20-5.33 (2H, m), 5.92 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 400 [M+H]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₂₂H₄₂NO₅: 400.3063. Found: 400.3056。

（６）アリル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ３工程）
（５）で得られたアリル２−アミノ−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−グルコピラノシド(974 mg, 2.437 mmol)及び３−オキソテトラデカン酸(886 mg, 3.655 mmol)を塩化メチレン(5mL)に溶かし、この溶液に１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド(800 mg, 4.173 mmol)を加え、30分間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水及び飽和食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製することにより標記化合物(1.320 g, 収率87%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3265, 3097, 2921, 2851, 1724, 1716, 1648, 1565, 1447 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.40 (3H, s), 1.44-1.48 (5H, m, containing 3H, s, at 1.48 ppm), 2.52 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.29 (1H, m), 3.39 (2H, s), 3.43-3.59 (2H, m), 3.61 (1H, m), 3.68-3.80 (2H, m), 3.91 (1H, dd, J=5.1, 11.0 Hz), 4.05 (1H, m), 4.30 (1H, m), 4.79 (1H, d, J=8.8 Hz), 5.14-5.26 (2H, m), 5.82 (1H, m), 7.11 (1H, d, J=8.1 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 624 [M+H]⁺, 646 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₆H₆₆NO₇: 624.4839. Found: 624.4844。

（７）アリル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ４工程）
（６）で得られたアリル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド(1.310 g, 2.100 mmol)を80%酢酸水(100 mL)に溶かし、この溶液を60℃で1時間撹拌し、反応液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル、次に5%メタノール含有する酢酸エチル）で精製することにより標記化合物(1.100 g, 収率90%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3270, 3094 (w), 2955, 2921, 2851, 1726, 1716, 1648, 1559 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.50-1.60 (4H, m), 2.16 (1H, bs, OH), 2.50-2.54 (3H, m, containing OH), 3.40-3.41 (3H, m, containing 2H, s, at 3.40 ppm), 3.58-3.64 (5H, m), 3.81 (1H, dd, J=4.4, 11.7 Hz), 3.91 (1H, dd, J=3.3, 11.7 Hz), 4.06 (1H, dd, J=5.9, 13.2 Hz), 4.06 (1H, d, J=5.5 Hz), 4.73 (1H, d, J=7.3 Hz), 5.15-5.27 (2H, m), 5.84 (1H, m), 7.22 (1H, d, J=7.3 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 584 [M+H]⁺, 606 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₃H₆₂NO₇: 584.4526. Found: 584.4537。

（８）アリル６−Ｏ−（t−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ５工程）
（７）で得られたアリル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド(1.030 g, 1.764 mmol)を塩化メチレン(25 mL)に溶かし、この溶液にt−ブチルジメチルシリルクロライド(293 mg, 1.940 mmol)及びジメチルアミノピリジン(237 mg, 1.940 mmol)を加え、室温で16時間撹拌した。反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝４：１）で精製することにより標記化合物(1.072 g, 収率87%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3516 (w), 3270, 3087 (w), 2956, 2922, 2852, 1715, 1647, 1556, 1467 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.09 (6H, s), 0.88 (6H, m), 0.90 (9H, s), 1.26 (30H, bs), 1.50-1.58 (4H, m), 2.52 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.11 (1H, bs, OH), 3.36 (1H, m), 3.39 (2H, s), 2.52-2.62 (4H, m), 3.72 (1H, m), 3.84 (1H, m), 3.91 (1H, m), 4.04 (1H, m), 4.28 (1H, dd, J=5.1, 13.2 Hz), 4.71 (1H, d, J=8.1 Hz), 5.13-5.25 (2H, m), 5.83 (1H, m), 7.09 (1H, d, J=8.1 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 698 [M+H]⁺, 720 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₉H₇₆NO₇Si: 698.5391. Found: 698.5383。

（９）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ６工程）
（８）で得られたアリル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド(315 mg, 0.451 mmol)をTHF(10 mL)に溶かし、この溶液に水素で活性化したIr[C₈H₁₂(MePh₂P)₂]PF₆(5 mg)を加え、窒素気流下、室温で3時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、標記化合物を定量的に得た。
IR ν_max(KBr) 3509 (w), 3276 (w), 2956, 2922, 2852, 1714, 1642, 1556, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.08 (3H, s), 0.10 (3H, s), 0.86-0.92 (15H, m, containing 9H, s, at 0.90 ppm), 1.26 (30H, bs), 1.50-1.58 (7H, m), 2.51 (2H, t, J=7.7 Hz), 3.19 (1H, bs, OH), 3.39 (2H, s), 3.43 (1H, m), 3.51-3.75 (5H, m), 3.84 (1H, m), 3.91 (1H, m), 4.94 (1H, d, J=8.1 Hz, anomeric H), 5.06 (1H, qd, J=6.6, 12.5 Hz), 6.15 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz), 7.19 (1H, d, J=8.1 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 698 [M+H]⁺, 720 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₉H₇₆NO₇Si: 698.5391. Found: 698.5407。

（１０）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ７工程）
（９）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド(840 mg, 1.203 mmol)をトルエン(10 mL)に溶かし、この溶液にピリジン(381 mg, 0.602 mmol)を加え、更に氷冷下トリホスゲン(179 mg, 0.602 mmol)を加え、10分間激しく撹拌した。反応液に更にアリルアルコール(700 mg, 12.05 mmol)を加え、氷冷下１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、重曹水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝７／１）で精製することにより蝋状の標記化合物(704 mg, 収率75%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3269, 3088 (w), 2926, 2855, 1752, 1717, 1681 (w), 1647, 1558, 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.03 (3H, s), 0.04 (3H, s), 0.87 (15H, m), 1.22-1.26 (30H, bs), 1.40-1.44 (2H, m), 1.51 (3H, dd, J=1.5, 6.6 Hz), 1.52-1.58 (2H, m), 2.50 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.38 (2H, s), 3.49-3.57 (4H, m), 3.68-3.78 (2H, m), 3.93 (1H, t, J=9.2 Hz), 4.62-4.73 (3H, m), 4.99 (1H, d, J=8.1 Hz, anomeric H), 5.08 (1H, m), 5.26-5.39 (2H, m), 5.92 (1H, m), 6.16 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz), 7.22 (1H, d, J=7.3 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 804 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₃H₇₉NO₉SiNa: 804.5422. Found: 804.5413。

（１１）４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ８工程）
（１０）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド(630 mg, 0.805 mmol)を塩化メチレン−アセトニトリル混合溶媒(1:2, 63 mL）に溶かし、この溶液に48%フッ化水素酸水溶液(14 mL)を加え、室温で２時間激しく撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、水及び重曹水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝１／２、次いで酢酸エチル／メタノール＝１９／１）で精製することにより蝋状の標記化合物(336 mg, 収率66%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3546, 3406, 3292, 3085, 2925, 2854, 1758, 1721, 1641, 1555 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.40-1.49 (2H, m), 1.51-1.60 (2H, m), 2.45 (1H, m, OH), 2.52 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.42 (2H, s), 3.46 (1H, m, OH), 3.52-3.80 (5H, m), 4.00 (1H, m), 4.16 (1H, m), 4.66 (2H, d, J=5.9 Hz), 4.80 (1H, t, J=9.5 Hz, anomeric H), 5.28-5.40 (3H, m), 5.94 (1H, m), 7.33 (1H, d, J=8.8 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 610, 628 [M+H]⁺, 650 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₄H₆₁NO₉Na: 650.4244. Found: 650.4254。

（１２）４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ１工程）
（３）で得られたトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(164 mg, 0.175 mmol)及び（１１）で得られた４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド(100 mg, 0.159 mmol)を塩化メチレン(5 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(250 mg)を加え、窒素気流下で15分間撹拌し、更にトリフルオロメタンスルホン酸銀(AgOTf, 100 mg, 0.389 mmol)及びトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル(TMSOTf, 10 mg, 0.045 mmol)を加え、窒素雰囲気下、室温で16時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製することによりガム状の標記化合物(135 mg, 収率61%)を得た。
IR ν_max(film) 3650-3200, 2927, 2855, 1752, 1650, 1546, 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.26 (60H, bs), 1.41-1.44 (4H, m), 1.55-1.74 (6H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.31-2.35 (2H, m), 2.52 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.22 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.40 (5H, m), 3.49-3.79 (11H, m), 4.18 (1H, m), 4.25 (1H, m), 4.41 (1H, m), 4.52-4.67 (9H, m, containing OH), 4.93 (1H, m), 5.24-5.40 (8H, m), 5.89-5.98 (3H, m), 7.13 (1H, d, J=9.5 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1420 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₇₆H₁₃₆NO₁₉PNa: 1420.9342. Found: 1420.9341。

（１３）ジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（１２）で得られた４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド(167 mg, 0.119 mmol)を塩化メチレン(6 mL)に溶かし、この溶液に硫酸ナトリウム(350 mg)、１Ｈ−テトラゾール(121 mg, 1.727 mmol)及びジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト(179 mg, 0.730 mmol)を加え、窒素気流下室温で1時間撹拌した。反応液をそのままシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝２／３）で精製することにより油状のホスファイト(199 mg)を得た。このホスファイトをTHF(7 mL)に溶解し、この溶液に30%過酸化水素水(0.4 mL)を加え、氷冷下1時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、10%ハイポ水、飽和重曹水及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝２／３）で精製することにより油状の標記化合物(108 mg, 収率58%)を得た。
IR ν_max(film) 3290, 3085 (w), 2926, 2855, 1755, 1723 (w), 1678, 1650, 1552 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.25 (60H, bs), 1.42-1.44 (4H, m), 1.55-1.74 (6H, m), 2.00-2.10 (4H, m), 2.33 (1H, m), 2.39 (1H, m), 2.49 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.20 (1H, m), 3.25 (3H, s), 3.38 (3H, s), 3.39 (2H, s), 3.51-3.75 (10H, m), 3.95 (1H, m), 4.08 (1H, m), 4.26-4.34 (2H, m), 4.40 (1H, d, J=7.3 Hz, anomeric H), 4.58-4.64 (10H, m), 4.93 (1H, m), 4.76 (1H, dd, J=9.5, 10.3 Hz), 4.90 (1H, dd, J=8.1, 9.5 Hz), 5.24-5.42 (12H, m), 5.69 (1H, m, anomeric H), 5.89-6.03 (5H, m), 7.40 (1H, d, J=8.8 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; ; 1379, 1580 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₂H₁₄₅NO₂₂PNa: 1580.9631. Found: 1580.9618。

（１４）ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（１３）で得られたジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド(95 mg, 0.061 mmol)を乾燥THF(5 mL)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(11 mg, 0.042 mmol)、トリエチルアミン(43 mg, 0.425 mmol)、ギ酸(36 mg, 0.782 mmol)及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）(Pd(PPh₃)₄, 11 mg, 0.010 mmol)を加え、窒素中55℃で20時間撹拌した。反応液をろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をDEAE-セルロース5ｇを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の0.05mol/L酢酸アンモニウム溶液）で精製することにより目的物の画分を得た。得られた画分を集め全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルム及び0.15mol/L塩酸水を加え(pH 2−3に調整）、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め、減圧濃縮することにより蝋状の標記化合物(67 mg, 収率84%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3537, 3301, 2955, 2923, 2852, 1722, 1655, 1544, 1467 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 4:1) δ 0.87-0.90 (12H, m), 1.26-1.28 (60H, m), 1.42-1.65 (8H, m), 1.71-1.76 (2H, m), 2.00-2.04 (4H, m), 2.30-2.43 (2H, m), 2.56 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.26-3.46 (9H, m, containing two 3H, s, at 3.30 (C₆-OMe) and 3.41 (side chain OMe) ppm), 3.48-4.22 (15H, m), 4.52 (1H, d, J=8.1 Hz, anomeric H), 4.88 (1H, t, J=8.8 Hz, O-C₂-H), 5.34-5.36 (2H, m), 5.50 (1H, m, anomeric H).
FABMS (negative-ion) m/z; 1312 [M-H]^-.
HRFABMS; Calcd. for C₆₆H₁₂₄NO₂₀P₂: 1312.8192. Found: 1312.8104.
Anal. Calcd. for C₆₆H₁₂₅NO₂₀P₂ ^.3H₂O (1368.7): C, 57.92; H, 9.65; N, 1.02; P, 4.53. Found: C, 57.86; H, 9.55; N, 1.22; P, 4.30。

［実施例２］
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号２番）
（１）（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ５工程）
参考例３で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(3.140 g, 7.293 mmol)及び（Ｚ）−１１−オクタデセニルメタンスルホネート(3.040 g, 48.175 mmol)をDMF(20 mL)に溶かし、この溶液に水素化ナトリウム(55%分散油, 400 mg, 9.167 mmol)を氷冷下加えた。反応液を室温で1時間、更に60℃で1.5時間攪拌した後、氷冷下メタノールを加え水素化ナトリウムを分解した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝１９／１、その後９／１）で精製することにより油状の標記化合物(4.000 g, 収率81%)を得た。
IR ν_max(film) 2926, 2856, 1680 (w), 1661 (w), 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (6H, m), 1.29 (30H, bs), 1.40-1.80 (17H, m, containing two 3H, s, at 1.42 and 1.49 ppm), 2.01-2.04 (4H, m), 3.19-3.93 (14H, mcontaining 3H, s, at 3.34 ppm), 4.53 (0.3H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 5.07 (0.7H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 5.11-5.22 (1H, m), 5.34-5.38 (2H, m), 6.14-6.23 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 681 [M+H]⁺, 703 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₁H₇₆O₇Na: 703.5490. Found: 703.5527。

（２）（Ｅ）−１−プロペニル３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ６工程）
（１）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(4.000 g, 5.873 mmol)を80%酢酸水(10 mL)に溶かし、この溶液を６０℃で2.5時間撹拌した後、反応液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝２／１、その後２／３）で精製することにより油状の標記化合物(2.310 g, 収率61%)を得た。
IR ν_max(film) 3423 (br), 2926, 2856, 2525 (br), 1680 (w), 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.45-1.61 (9H, m, containing two 3H, dd, J=1.6, 6.6 Hz at 1.56 ppm), 1.71-1.80 (2H, m), 1.99-2.08 (4H, m), 3.18 (1H, m), 3.23-3.92 (12H, mcontaining 3H, s, at 3.32 ppm), 4.10 (1H, m), 4.52 (0.3H, d, J=7.0 Hz, anomeric H), 5.11 (0.7H, d, J=3.1 Hz, anomeric H), 5.20 (1H, m), 5.34-5.36 (2H, m), 6.16-6.24 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 641 [M+H]⁺, 663 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₈H₇₂O₇Na: 663.5176. Found: 663.5182。

（３）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ７工程）
（２）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、参考例６と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率93%)を得た。
IR ν_max(film) 3432 (br), 2927, 2856, 1681 (w), 1661 (w), 1463 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.07 (6H, s), 0.86-0.92 (15H, m), 1.24-1.40 (30H, m), 1.41-1.60 (9H, m), 1.75-1.79 (2H, m), 1.99-2.05 (4H, m), 3.13-4.03 (14H, m, containing 3H, s, at 3.31 ppm), 4.46 (0.4H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 5.08-5.21 (1.6H, m, containing 0.6H, anomeric H), 5.33-5.38 (2H, m), 6.18-6.23 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 755 [M+H]⁺.
HRFABMS (on addition of NaI), Calcd. for C₄₄H₈₆O₇SiNa : 777.6040. Found: 777.6022。

（４）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ８工程）
（３）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、参考例７と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率92%)を得た。
IR ν_max(film) 2928, 2856, 1681 (w), 1463 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.05 (6H, s), 0.86-0.92 (15H, m), 1.24-1.28 (30H, bs), 1.43-1.50 (2H, m), 1.53-1.62 (7H, m), 1.78-1.81 (2H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 3.18-4.20 (14H, m), 4.46 (0.4H, d, J=7.8 Hz, anomeric H), 4.54-4.58 (4H, m), 5.09-5.39 (8H, m), 5.90-5.98 (2H, m), 6.18-6.23 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 915 [M+H]⁺, 937 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₅₀H₉₆O₁₀Si: 915.6510. Found: 915.6527。

（５）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ９工程）
（４）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、参考例８と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率100%)を得た。
IR ν_max(film) 3431 (br), 2927, 2856, 1680 (w), 1661 (w), 1462 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.8 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.40-1.44 (2H, m), 1.54-1.61 (7H, m), 1.73-1.78 (2H, m), 1.99-2.03 (4H, m), 3.20-3.39 (5H, m, containing 3H, s, at 3.29 ppm), 3.56-3.93 (8H, m), 4.31 (1H, m), 4.47 (0.4H, d, J=7.8 Hz, anomeric H), 4.55-4.58 (2H, m), 4.61-4.65 (2H, m), 5.08-5.21 (1.6H, m, containing 0.6H, d, J=3.9 Hz, at 5.13 ppm, anomeric H), 5.25-5.41 (6H, m), 5.90-5.98 (2H, m), 6.17-6.22 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 801 [M+H]⁺, 823 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₄H₈₁O₁₀PNa: 823.5465. Found: 823.5477。

（６）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａａ１０工程）
（５）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（１）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率87%)を得た。
IR ν_max(film) 2926, 2856, 1681 (w), 1661 (w), 1459 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.40-1.46 (2H, m), 1.51-1.60 (7H, m), 1.74-1.80 (2H, m), 1.98-2.01 (4H, m), 3.19-3.91 (16H, m, containing two 3H, s, at 3.28 and 3.37 ppm), 4.42 (0.6H, q, J=9.4 Hz), 4.34 (0.4H, q, J=9.4 Hz), 4.45 (0.4H, d, J=7.8 Hz), 4.53-4.58 (4H, m), 5.06-5.38 (7.6H, m), 5.88-5.97 (2H, m), 6.16-6.22 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 815 [M+H]⁺, 837 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₅H₈₃O₁₀PNa: 837.5621. Found: 837.5635。

（７）４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノース（第Ａａ１１工程）
（６）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（２）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率75%)を得た。
IR ν_max(film) 3354 (br), 2927, 2856, 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (32H, bs), 1.40-1.45 (2H, m), 1.57-1.61 (2H, m), 1.75-1.81 (2H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 3.09-3.40 (16H, m, containing two 3H, s, at 3.29 and 3.39 ppm), 3.54-3.88 (7H, m), 4.04-4.29 (3H, m), 4.54-4.65 (4H, m), 5.24-5.40 (6H, m), 5.91-5.99 (2H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 775 [M+H]⁺, 797 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₂H₇₉O₁₀PNa: 797.5309. Found: 797.5279。

（８）トリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノース（第Ａａ１２工程）
（７）で得られた４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノースを用い、実施例（３）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率100%)を得た。
IR ν_max(film) 3350-3000, 2927, 2856, 1733, 1674, 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.24-1.55 (34H, m), 1.77-1.80 (2H, m), 1.99-2.05 (4H, m), 3.25-4.00 (16H, m, containing two 3H, s, at 3.30 and 3.38 ppm), 4.37-4.48 (1H, m), 4.56-4.62 (4H, m), 5.24-5.41 (6H, m), 5.67 (0.5H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 5.90-6.00 (2H, m), 6.50 (0.5H, d, J=3.2 Hz, anomeric H), 8.59 (0.5H, s), 8.66 (0.5H, s).
FABMS (positive-ion) m/z; 940 [M+Na]⁺。

（９）４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノース（α−アノマー）及び４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノース（β−アノマー）（第Ｃａ１工程）
（８）で得られたトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（１２）と同様に反応させることにより、油状物として標記化合物のα−アノマー(66 mg, 収率15%)及びβ−アノマー(143 mg, 収率32%)を得た。
α−アノマーの物理恒数：
IR ν_max(film) 3450-3300, 2926, 2854, 1751, 1723 (w), 1646, 1554, 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.26 (62H, bs), 1.40-1.45 (4H, m), 1.55-1.59 (4H, m), 1.70-1.80 (2H, m), 1.99-2.03 (4H, m), 2.52 (2H, t, J=7.2 Hz), 3.20-3.91 (25H, m, containing two 3H, s, and 2H, s, at 3.28, 3.38 and 3.39, respectively), 4.13-4.24 (2H, m), 4.37 (1H, m, OH), 4.52-4.63 (6H, m), 4.87 (1H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 5.13 (1H, t, J=3.1 Hz, changed to a doublet on addition of D₂O, anomeric H), 5.23-5.40 (8H, m), 5.88-5.98 (3H, m), 7.08 (1H, d, J=9.4 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1406 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₇₆H₁₃₈NO₁₈PNa: 1406.9550. Found: 1406.9556.
β−アノマーの物理恒数：
IR ν_max(film) 3307 (w), 2926, 2855, 1754, 1722, 1645, 1555 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (62H, bs), 1.40-1.50 (4H, m), 1.50-1.60 (4H, m), 1.75-1.79 (2H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.52 (2H, t, J=7.4 Hz), 3.16-3.88 (25H, m, containing two 3H, s, and 2H, s, at 3.28, 3.38 and 3.40, respectively), 4.20 (1H, m), 4.31 (1H, m), 4.37 (1H, d, J=7.0 Hz, anomeric H), 4.54-4.64 (6H, m), 5.20 (1H, m, changed to a doublet, J=3.1 Hz, on addition of D₂O, anomeric H), 5.25-5.39 (8H, m), 5.89-5.98 (3H, m), 7.12 (1H, d, J=9.3 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1406 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₇₆H₁₃₈NO₁₈PNa: 1406.9550. Found: 1406.9575。

（１０）ジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（９）で得られた４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノースを用い、実施例１（１３）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率58%)を得た。
IR ν_max(film) 3293, 3086 (w), 2926, 2856, 1757, 1721, 1678, 1650, 1552, 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.25 (62H, bs), 1.40-1.49 (4H, m), 1.52-1.60 (4H, m), 1.74-1.79 (2H, m), 2.00-2.13 (4H, m), 2.48-2.54 (2H, m), 3.11 (1H, dd, J=7.8, 8.6 Hz), 3.23 (1H, m), 3.28 (3H, s), 3.31-3.38 [22H, m, containing 3H, s, 2H, s, and 1H, d, J=7.4 Hz (anomeric H), at 3.37, 3.40, and 4.27 ppm, respectively], 4.54-4.65 (10H, m), 4.84 (1H, m), 5.23-5.42 (12H, m), 5.72 (1H, dd, J=3.1, 6.3 Hz, anomeric H), 5.87-6.01 (5H, m), 7.41 (1H, d, J=8.6 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1366, 1406, 1566 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₂H₁₄₇NO₂₁P₂Na: 1566.9838. Found: 1566.9841。

（１１）ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（１０）で得られたジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（１４）と同様に反応させることにより蝋状の標記化合物(収率60%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3296 (w, br), 2924, 2853, 1717, 1649, 1546, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 4:1) δ 0.86-0.90 (12H, m), 1.26-1.28 (62H, bs), 1.51-1.60 (8H, m), 1.81-1.85 (2H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.54-2.58 (2H, m), 3.14 (1H, m), 3.28-4.11 (26H, m, containing two 3H, s, at 3.34 (C₆-OMe) and 3.40 (side chain OMe) ppm), 4.39 (1H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 5.34-5.39 (2H, m, olefinic H), 5.53 (1H, dd, J=3.1, 6.9 Hz, anomeric H).
FABMS (negative-ion) m/z; 1298 [M-H]^-.
Anal. Calcd. for C₆₆H₁₂₇NO₁₉P₂(1300.7): C, 60.95; H, 9.84; N, 1.08; P, 4.76. Found: C, 60.78; H, 9.61; N, 1.32; P, 4.53。

［実施例３］
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号３番）
（１）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ１工程）
（Ｅ）−１−プロペニル３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(1.49 g, 2.275 mmol)及びピリジン(5 g)を塩化メチレン(90 mL)に溶かし、この溶液にアリルクロロホルメート(5.00 g, 41.48mmol)を０℃で滴下し、３０分間同温度で攪拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製することにより油状の標記化合物のアノマー混合物(1.52 g, 収率90%)を得た。混合物の一部をシリカゲル薄層クロマトグラフィーを用いてα−アノマー及びβ−アノマーに分離することができた。
α−アノマー(Rf=0.353, cyclohexane:EtOAc=4:1)：
IR ν_max(film) 3500-3400, 2927, 2856, 1749, 1680 (w), 1660 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.28 (30H, bs), 1.40-1.48 (4H, m), 1.54 (3H, dd, J=1.6, 7.0 Hz), 1.57-1.65 (2H, m), 1.67-1.76 (2H, m), 1.98-2.03 (4H, m), 2.31-2.40 (2H, m), 3.30 (3H, s), 3.34 (1H, m), 3.55 (1H, m), 3.65-3.74 (3H, m), 3.83 (1H, m), 3.95 (1H, m), 4.40 (1H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 4.63 (1H, td, J=1.2, 5.0 Hz), 4.72 (1H, dd, J=3.5, 10.2 Hz), 5.15 (1H, m), 5.22 (1H, d, J=3.9 Hz), 5.25-5.39 (4H, m), 5.93 (1H, m), 6.11 (1H, dd, J=1.6, 12.1 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 681, 739 [M+H]⁺, 761 [M+Na]⁺.
β−アノマー(Rf=0.265, cyclohexane:EtOAc=4:1)：
IR ν_max(film) 3500-3400, 2927, 2856, 1752, 1682 (w), 1662 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.40-1.48 (4H, m), 1.53 (3H, d, J=7.0 Hz), 1.60-1.64 (2H, m), 1.68-1.72 (2H, m), 1.99-2.10 (4H, m), 2.31-2.34 (2H, m), 3.29 (3H, s), 3.31-3.39 (2H, m), 3.56-3.64 (3H, m), 3.80-3.85 (2H, m), 4.36 (1H, m), 4.50 (1H, d, J=11.7 Hz), 4.56 (1H, d, J=7.8 Hz), 4.64 (1H, dd, J=1.0, 5.7 Hz), 4.98 (1H, t, J=9.0 Hz), 5.08 (1H, m), 5.27-5.39 (4H, m), 5.93 (1H, m), 6.18 (1H, d, J=12.0 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 681, 761 [M+Na]⁺。

（２）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ２工程）
（１）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、参考例７と同様に反応させることにより油状の標記化合物のアノマー混合物(収率95%)を得た。混合物の一部をシリカゲル薄層クロマトグラフィーを用いてα−アノマー及びβ−アノマーに分離することができた。
α−アノマー(Rf=0.395, cyclohexane:EtOAc=3:1)：
IR ν_max(film) 2927, 2856, 1750, 1680 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.40-1.48 (2H, m), 1.54 (3H, d, J=5.8 Hz), 1.61-1.78 (4H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.32-2.40 (2H, m), 3.25 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.77-3.94 (4H, m), 4.31-4.38 (2H, m), 4.46 (1H, dd, J=2.0, 11.7 Hz), 4.56-4.63 (6H, m), 4.76 (1H, dd, J=3.9, 9.8 Hz), 5.17 (1H, m), 5.20 (1H, d, J=3.9 Hz), 5.24-5.39 (8H, m), 5.89-5.98 (3H, m), 6.10 (1H, dd, J=2.0, 12.7 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 899 [M+H]⁺, 921 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₈H₈₃O₈PNa: 921.5469. Found: 921.5450.
β−アノマー(Rf=0.303, cyclohexane:EtOAc=3:1)：
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.88 (6H, m), 1.26 (30H, bs), 1.40-1.48 (2H, m), 1.53 (3H, d, J=8.8 Hz), 1.60-1.76 (4H, m), 1.99-2.08 (4H, m), 2.32-2.39 (2H, m), 3.23 (1H, m), 3.26 (3H, m), 3.58 (1H, t, J=8.8 Hz), 3.66-3.80 (3H, m), 4.32-4.38 (2H, m), 4.53-4.59 (7H, m), 4.62 (1H, d, J=5.9 Hz), 5.01 (1H, t, J=8.3 Hz), 5.08 (1H, m), 5.25-5.39 (8H, m), 5.90-5.97 (3H, m), 6.16 (1H, dd, J=2.0, 12.7 Hz)。

（３）６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ３工程）
（２）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（２）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率81%)を得た。
IR ν_max(film) 3324, 2927, 2856, 1750, 1460 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (30H, bs), 1.42-1.50 (2H, m), 1.58-1.77 (4H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.36-2.40 (2H, m), 2.86 (1H, bs, OH), 3.25 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.76-3.79 (2H, m), 3.87 (1H, t, J=9.2 Hz), 4.20 (1H, m), 4.28-4.37 (3H, m), 4.51-4.64 (7H, m), 4.76 (1H, dd, J=3.5, 9.8 Hz), 5.24-5.39 (8H, m), 5.88-5.99 (3H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 859 [M+H]⁺, 881 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₅H₇₉O₁₃PNa: 881.5156. Found: 881.5153。

（４）トリクロロアセトイミドイル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ４工程）
（３）で得られた６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（３）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率98%、7:3のアノマー混合物)を得た。
IR ν_max(film) 3348 (w), 2928, 2856, 1752, 1677, 1651 (w), 1460 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.90 (6H, m), 1.24-1.28 (30H, m), 1.41-1.45 (2H, m), 1.58-1.77 (4H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.28-2.32 (2H, m), 3.24 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.67-4.15 (5H, m), 4.36-4.62 (8H, m), 4.99 (1H, dd, J=3.5, 8.8 Hz), 5.24-5.40 (8H, m), 5.83 (0.3H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 5.88-5.99 (3H, m), 6.49 (0.7H, d, J=3.9 Hz, anomeric H), 8.63 (0.7H, s), 8.65 (0.3H, s).
FABMS (positive-ion) m/z; 1026, 1024 [M+Na]⁺。

（５）４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノース（第Ｃａ１工程）
（４）で得られたトリクロロアセトイミドイル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（１２）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率54%)を得た。
IR ν_max(film) 3293, 3085 (w), 2924, 2854, 1752, 1729 (shoulder), 1707 (shoulder), 1635, 1557, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.26 (60H, bs), 1.40-1.50 (4H, m), 1.52-1.75 (6H, m), 2.01-2.04 (4H, m), 2.33-2.35 (2H, m), 2.50-2.54 (2H, m), 3.25 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.39 (2H, s), 3.44-3.76 (11H, m), 4.11-4.65 (14H, m), 4.92 (1H, t, J=7.0 Hz), 5.18 (1H, s), 5.24-5.39 (10H, m), 5.90-6.00 (4H, m), 7.13 (1H, d, J=9.4 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1490 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₇₉H₁₃₈NO₂₁PNa: 1490.9397. Found: 1490.9419。

（６）ジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（５）で得られた４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノースを用い、実施例１（１３）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率70%)を得た。
IR ν_max(film) 3289 (w), 3086 (w), 2926, 2856, 1754, 1679, 1650, 1552, 1462 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.25 (60H, bs), 1.40-1.46 (4H, m), 1.50-1.70 (6H, m), 1.99-2.03 (4H, m), 2.34 (1H, m), 2.40 (1H, m), 2.42-2.51 (2H, m), 3.22 (1H, m), 3.25 (3H, s), 3.39 (2H, s), 3.51-3.72 (10H, m), 3.92 (1H, m), 4.08 (1H, m), 4.25-4.35 (2H, m), 4.42 (1H, d, J=8.2 Hz, anomeric H), 4.57-4.65 (12H, m), 4.76 (1H, m), 4.90 (1H, m), 5.24-5.42 (14H, m), 5.70 (1H, m, anomeric H), 5.90-5.99 (6H, m), 7.38 (1H, d, J=8.2 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1450, 1650 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₅H₁₄₇NO₂₄P₂Na: 1650.9686. Found: 1650.9692。

（７）ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（６）で得られたジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（１４）と同様に反応させることにより蝋状の標記化合物(収率57%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3299 (br), 2955, 2924, 2853, 1722, 1650, 1545, 1467 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 5:1) δ 0.87-0.90 (12H, m), 1.26 (60H, bs), 1.42-1.70 (8H, m), 1.70-1.76 (2H, m), 1.98-2.02 (4H, m), 2.35-2.40 (2H, m), 2.54-2.57 (2H, m), 3.26-4.11 (21H, m, containing 3H, s, and 2H, s, at 3.31 and 3.38 ppm, respectively), 4.24 (1H, m), 4.50 (1H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 4.86 (1H, m), 5.35-5.39 (2H, m), 5.49 (1H, m, anomeric H).
FABMS (negative-ion) m/z; 1298 [M-H]^-.
Anal. Calcd. for C₆₅H₁₂₃NO₂₀P₂ ^.3H₂O: C, 57.63; H, 9.60; N, 1.03; P, 4.57. Found: C, 57.59; H, 9.38; N, 1.29; P, 4.49。

［実施例４］
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号４番）
（１）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ１工程）
実施例２（３）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー1:1混合物)を用い、実施例３（１）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率64%)を得た。
IR ν_max(film) 3500-3400, 2927, 2856, 1752, 1681 (w), 1661 (w), 1458 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.24-1.38 (30H, m), 1.42-1.49 (4H, m), 1.54-1.62 (7H, m), 1.71-1.79 (2H, m), 1.99-2.05 (4H, m), 3.18 (1H, m), 3.27-3.82 (11H, m, containing 3H, s, at 3.31 ppm), 4.08 (1H, m), 4.30-4.50 (1.5H, m, containing 0.5H anomeric H), 4.62-4.64 (2H, m), 5.08-5.23 (1.5H, m, containing 0.5H, d, J=3.5 Hz, at 5.12 ppm, anomeric H), 5.25-5.39 (4H, m), 5.88-5.98 (1H, m), 6.13-6.24 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 725 [M+H]⁺, 747 [M+Na]⁺。

（２）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ２工程）
（１）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー1:1混合物)を用い、参考例７と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率85%, アノマー3:2混合物)を得た。
IR ν_max(film) 2927, 2856, 1753, 1680 (w), 1660-1651 (w), 1460 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (32H, bs), 1.40-1.45 (2H, m), 1.54-1.60 (5H, m, containing 3H, dd, J=1.6, 6.6 Hz, at 1.55 ppm), 1.75-1.80 (2H, m), 1.99-2.05 (4H, m), 3.24 (1H, m), 3.29 (3H, s), 3.31-3.38 (1H, m), 3.56-3.92 (7H, m), 4.21-4.52 (2.4H, m, containing 0.4H, d, J=7.8 Hz, at 4.47 ppm, anomeric H), 4.56-4.63 (6H, m), 5.09-5.20 (1.6H, m, containing 0.6H, d, J=3.9 Hz, at 5.10 ppm, anomeric H), 5.23-5.39 (8H, m), 5.87-5.97 (3H, m), 6.16-6.20 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 461, 885 [M+H]⁺, 907 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₈H₈₅O₁₂PNa: 907.5677. Found: 907.5654。

（３）６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ３工程）
（２）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー3:2混合物)を用い、実施例１（２）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率78%、アノマー混合物)を得た。
IR ν_max(film) 3338 (br), 2927, 2856, 1753, 1650 (w), 1460 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.7 Hz), 1.27 (32H, bs), 1.42-1.46 (2H, m), 1.59-1.63 (2H, m), 1.75-1.79 (2H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 3.12-3.42 (6H, m, containing 3H, s, at 3.29 ppm), 3.60-3.69 (2H, m), 3.78-3.87 (2H, m), 4.16-4.53 (4H, m), 4.56-4.63 (6H, m), 5.23-5.39 (9H, m), 5.87-5.97 (3H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 845 [M+H]⁺, 867 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₅H₈₁O₁₂PNa: 867.5363. Found: 867.5362。

（４）トリクロロアセトイミドイル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ａｂ４工程）
（３）で得られた６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（３）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率100%、アノマー1:1混合物)を得た。
IR ν_max(film) 3350-3080, 2928, 2856, 1752, 1675, 1651 (w), 1611 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.7 Hz), 1.22-1.29 (32H, m), 1.43-1.53 (4H, m), 1.74-1.82 (2H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 3.25 (1H, m), 3.30 (3H, s), 3.44-4.11 (7H, m), 4.33-4.51 (3H, m), 4.56-4.62 (6H, m), 5.23-5.40 (8H, m), 5.71 (0.5H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 5.86-5.99 (3H, m), 6.48 (0.5H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 8.61 (0.5H, s), 8.66 (0.5H, s).
FABMS (positive-ion) m/z; 827, 1010 [³⁵Cl, M+H]⁺, 1012 [M+H]⁺。

（５）４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（α−アノマー）及び４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（β−アノマー）（第Ｃａ１工程）
（４）で得られたトリクロロアセトイミドイル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（１２）と同様に反応させることにより油状の標記化合物のα−アノマー(543 mg, 収率53%)及びβ−アノマー(280 mg, 収率28%)を得た。
α−アノマーの物理恒数:
IR ν_max(film) 3380-3080, 2927, 2856, 1752, 1725, 1690-1672 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.90 (12H, m), 1.26 (62H, bs), 1.40-1.46 (4H, m), 1.53-1.80 (4H, m), 1.70-1.80 (2H, m), 1.98-2.05 (4H, m), 2.53 (2H, t, J=7.4 Hz), 3.21-3.93 (19H, m, containing 3H, s, at 3.28 ppm), 4.15-4.41 (4H, m, containing OH), 4.49-4.64 (10H, m), 4.87 (1H, d, J=3.1 Hz, anomeric H), 5.16 (1H, d, J=3.9 Hz, anomeric H), 5.21-5.40 (10H, m), 5.87-5.99 (4H, m), 7.15 (1H, d, J=9.4 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 867, 1476 [M+Na]⁺.
β−アノマーの物理恒数:
IR ν_max(film) 3312 (w, br), 2926, 2855, 1754, 1650, 1547 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (62H, bs), 1.40-1.50 (4H, m), 1.52-1.60 (4H, m), 2.52 (2H, t, J=7.4 Hz), 3.19 (1H, t, J=8.0 Hz), 3.26 (1H, m), 3.29 (3H, s), 3.35 (1H, m), 3.37, 3.42 (2H, AB-q, J=14.3 Hz), 3.50-3.89 (11H, m), 4.20 (1H, dt, J=3.4, 10.0 Hz), 4.27-4.39 (2H, m, containing anomeric H), 4.36 (1H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 4.43 (1H, bs, OH), 4.56-4.66 (10H, m), 5.22-5.40 (11H, m), 5.88-5.98 (4H, m), 7.18 (1H, d, J=9.4 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1476 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₇₉H₁₄₀NO₂₀PNa: 1476.9604. Found: 1476.9606。

（６）ジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（５）で得られた４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシドを用い、実施例１（１３）と同様に反応させることにより油状の標記化合物(収率61%)を得た。
IR ν_max(film) 3294 (w), 3089 (w), 2926, 2856, 1754, 1678 (w), 1650 (w), 1550 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.90 (12H, m), 1.26 (62H, bs), 1.42-1.46 (4H, m), 1.51-1.57 (4H, m), 1.74-1.80 (2H, m), 2.00-2.02 (4H, m), 2.48-2.51 (2H, m), 3.13 (1H, m), 3.23 (1H, m), 3.29 (3H, s), 3.35 (1H, t, J=9.0 Hz), 3.40 (2H, s), 3.50-4.29 (14H, m), 4.50-4.65 (14H, m), 4.84 (1H, t, J=9.5 Hz), 5.22-5.42 (14H, m), 5.72 (1H, dd, J=3.1, 6.3 Hz), 5.89-5.98 (6H, m), 7.42 (1H, d, J=9.0 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 1436, 1636 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₅H₁₄₉NO₂₃P₂Na: 1636.9894. Found: 1636.9932。

（７）ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（６）で得られたジアリルホスホノ４−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシドを用い、反応温度を35℃とした以外は実施例１（１４）と同様に反応させることにより蝋状の標記化合物(収率66%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3700-3000, 2925, 2854, 1717, 1652, 1543, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 5:1) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 0.89 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.22-1.34 (62H, m), 1.50-1.58 (8H, m), 1.78-1.84 (2H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.55 (2H, t, J=7.2 Hz), 3.14 (1H, t, J=8.4 Hz), 3.31-3.38 (6H, m, containing 3H, s, at 3.34 ppm), 3.50 (1H, d, J=9.8 Hz), 3.60-4.15 (16H, m), 4.39 (1H, d, J=7.4 Hz, anomeric H), 5.31-5.39 (2H, m), 5.52 (1H, q, J=3.1 Hz, anomeric H).
FABMS (negative-ion) m/z; 1284 [M-H]^-.
Anal. Calcd. for C₆₅H₁₂₅NO₁₉P₂ ^.2H₂O: C, 59.03; H, 9.83; N, 1.06; P, 4.68. Found: C, 59.10; H, 9.77; N, 1.07; P, 4.29。

［実施例５］
２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号５番）
（１）アリル３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂａ１工程）
アリル２−Ｏ−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド(10.60 g, 29.834 mmol)及びデシルメタンスルホネート(9.04 g, 38.245 mmol)をDMF(40 mL)に溶かし、この溶液に水素化ナトリウム(55%分散油, 3.00 g, 38.750 mmol）を氷冷下加え、０℃で30分間、その後室温で一夜攪拌した。反応終了後、氷冷下反応液にメタノールを加え余分な水素化ナトリウムを分解した。反応液を酢酸エチルで希釈し、この溶液を水及び飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝６／１）で精製することにより油状の標記化合物(13.20 g, 収率89%)を得た。
IR ν_max(film) 3320, 2927, 2857, 1715, 1556-1543, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.24 (14H, bs), 1.41 (3H, s), 1.42-1.50 (2H, m), 1.51 (3H, s), 3.40-3.51 (2H, m), 3.64-3.88 (5H, m), 3.99 (1H, m), 4.15-4.21 (2H, m), 4.88 (1H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 5.24-5.32 (2H, m), 5.87 (1H, m), 6.40 (1H, d, J=9.4 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 496 [M+H]⁺。

（２）２−ヒドロキシエチル２−アミノ−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｋ１工程）
（１）で得られたアリル３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド(13.20 g, 26.634 mmol)をTHF−水の混合溶媒(3:1, 260 mL)に溶かし、この溶液にメタ過ヨウ素酸ナトリウム(NaIO₄, 43 g)及びオスミウム酸(OsO₄, 4.5 mL, 2.5% t-ブタノール溶液)を加え、室温下1.5時間攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、この溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮することにより、粗アルデヒド(16.47 g)を得た。

得られた粗アルデヒドを99.5%エタノール(300 mL)に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH₄, 2.00 g)を加え室温20分攪拌した。反応終了後、氷冷下反応液に酢酸を加えてNaBH₄を分解し、減圧濃縮した。濃縮物を酢酸エチルに溶解し、この溶液を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮することにより、アルコールのアミドとアミンの混合物(約9.0 g)を得た。

この混合物をエタノール(100 mL)及び1mol/L水酸化ナトリウム水溶液(50 mL)に溶かし、反応液を1.5時間還流した。反応終了後、反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をNH-シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／メタノール＝19／1)で精製することにより標記化合物(8.10 g, 収率76%)を得た。
IR ν_max(film) 3700-3000, 2926, 2857, 1682, 1593 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+D₂O) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (14H, bs), 1.40 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.52-1.56 (2H, m), 2.86 (1H, dd, J=3.4, 9.8 Hz, C2-H), 3.40 (1H, t, J=9.3 Hz), 3.53-3.87 (10H, m), 4.94 (1H, d, J=3.4 Hz, anomeric H).
FABMS (positive-ion) m/z; 404 [M+H]⁺, 426 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₂₁H₄₂NO₆: 404.3012. Found: 404.3011。

（３）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｋ２工程）
（２）で得られた２−ヒドロキシエチル２−アミノ−３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド(2.02 g, 5.000 mmol)を塩化メチレン(20 mL)に溶かし、この溶液に１Ｈ−テトラゾール(1.56 g, 22.27 mmol)及びジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト(1.69 g, 6.889 mmol)を加え、室温で0.5時間攪拌し、その後オキソン(4.55 g, 7.401 mmol)のTHF-水(2:1, 37.5 mL)混合溶液を加え、室温で15分間攪拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮し、粗ホスフェートを得た。

得られた粗ホスフェートを塩化メチレン(150 mL)に溶かし、この溶液に、３−オキソテトラデカン酸(1.46 g, 6.000 mmol)、塩酸１−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−３−エチルカルボジイミド(1.44 g, 7.511 mmol)及びDMAP(0.92 g, 7.530 mmol)を加え、室温で３０分間撹拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、水及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／シクロヘキサン＝3／1)で精製することにより標記化合物(1.96 g, ２工程収率50%)を得た。
IR ν_max(film) 3290, 3085 (w), 2926, 2856, 1820, 1673, 1658 (shoulder), 1550, 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.25 (30H, bs), 1.40 (3H, s), 1.42-1.48 (2H, m), 1.49 (3H, s), 1.53-1.58 (2H, m), 2.52-2.56 (2H, m), 3.43-3.50 (4H, m, containing 2H, s, at 3.43), 3.60-3.88 (7H, m), 4.19-4.26 (3H, m), 4.52-4.61 (4H, m), 4.78 (1H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 5.26-5.44 (4H, m), 5.90-6.02 (2H, m). 7.62 (1H, d, J=9.4 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 788 [M+H]⁺, 810 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₁H₇₄NO₁₁PNa: 810.4897. Found: 810.4916。

（４）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｋ３工程）
（３）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド(1.06 g, 1.345 mmol)を80%酢酸水(100 mL)に溶かし、この溶液を85℃で1.5時間攪拌した。反応終了後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル、その後酢酸エチル／メタノール＝19／1)で精製することにより標記化合物(550 mg, 収率55%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3427, 3298, 3081 (w), 2921, 2851, 1708, 1639, 1549 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.8 Hz), 1.25 (28H, bs), 1.50-1.70 (8H, m, containing OHx2), 2.54 (2H, t, J=7.4 Hz), 3.43-3.92 (11H, m, containing 2H, s at 3.45 ppm), 4.19-4.27 (3H, m), 4.52-4.59 (4H, m), 4.78 (1H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 5.62-5.42 (4H, m), 5.89-5.99 (2H, m), 7.71 (1H, d, J=9.4 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; 748 [M+H]⁺,770 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₈H₇₁NO₁₁P: 748.4765. Found: 748.4776。

（５）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイル）アミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｃ１工程）
実施例１（３）で得られたトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(250mg, 0.268 mmol)及び（４）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド(180mg, 0.241 mmol)を塩化メチレン(10 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(0.5 g)を加え30分間攪拌した後、窒素中AgOTf(180 mg, 0.701 mmol)及びTMSOTf(16mg, 0.072 mmol)を加え、一夜室温で攪拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝1／2）で精製することにより標記化合物(165 mg, 収率45%)を得た。
IR ν_max(film) 3302, 2925, 2854, 1747, 1720, 1636, 1549, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+ D₂O) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.25 (60H, bs), 1.40-1.72 (10H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.31-2.35 (2H, m), 2.54 (2H, t, J=7.0-8.2 Hz), 3.21 (1H, m), 3.25 (3H, s), 3.39 (3H, s), 3.43 (2H, s), 3.45-3.78 (12H, m), 3.85 (1H, m), 3.98 (1H, dd, J=2.3, 11.0 Hz), 4.15-4.23 (3H, m), 4.35 (1H, q, J=9.4 Hz), 4.49-4.60 (10H, m), 4.72 (1H, d, J=3.9 Hz), 4.97 (1H, dd, J=8.2, 9.4 Hz), 5.24-5.43 (10H, m), 5.89-6.00 (4H, m), 7.67 (1H, d, J=9.4 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 1518 [M+H]⁺, 1540 [M+Na]⁺。

（６）２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｃ２工程）
（５）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイル）アミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド(160 mg, 0.105 mmol)を乾燥THF(8 mL)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(18 mg, 0.069 mmol)、トリエチルアミン(70 mg, 0.692 mmol)、ギ酸(59 mg, 1.282 mmol)及びPd(PPh₃)₄(18 mg, 0.016 mmol)を加え、窒素中55℃で16時間撹拌した。反応終了後、反応液をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をDEAE-セルロース7 gを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の0.05 mol/L酢酸アンモニウム溶液）にて精製することにより目的物の画分を得た。画分を集め全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルム及び0.15 mol/L塩酸水を加え（pH 2−3に調整）、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め、減圧濃縮することにより、蝋状の標記化合物(118 mg, 収率82%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 5:1) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.20-1.35 (60H, m), 1.38-1.62 (8H, m), 1.71-1.73 (2H, m), 2.00-2.04 (4H, m), 2.31-2.34 (2H, m), 2.55-2.58 (2H, m), 3.29 (3H, s), 3.32-4.18 (25H, m, containing 3H, s, at 3.40 ppm), 4.49 (1H, d, J=7.7 Hz, anomeric H), 4.72 (1H, d, J=3.5 Hz, anomeric H), 4.88 (1H, dd, J=8.2, 9.0 Hz), 5.32-5.35 (2H, m).
FABMS (negative-ion) m/z; 1356 [M-H]^-.
Anal. Calcd. for C₆₈H₁₂₈NO₂₁P₂ ^.1.4 H₂O: C, 59.02; H, 9.60; N, 1.01; P, 4.48. Found: C, 59.10; H, 9.51; N, 1.09; P, 4.37。

［実施例６］
２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号６番）
（１）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｃ１工程）
２，２，２−トリクロロアセトイミドイル６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(223 mg, 0.222 mmol)及び実施例５（４）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド(220 mg, 0.294 mmol)を塩化メチレン(8 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(0.5 g)を加え、30分間攪拌した後、窒素中AgOTf(180 mg, 0.701 mmol)及びTMSOTf(16 mg, 0.072 mmol)を加え、一夜室温で攪拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝1／2）で精製することにより標記化合物(135 mg, 収率38%)を得た。
IR ν_max(film) 3400-3200, 2926, 2855, 1751, 1669, 1651, 1547, 1461 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+ D₂O) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.25 (60H, bs), 1.40-1.78 (10H, m), 2.00-2.02 (4H, m), 2.30-2.34 (2H, m), 2.51-2.55 (2H, m), 3.21 (1H, m), 3.25 (3H, s), 3.43 (2H, s), 3.53-3.74 (12H, m), 3.85 (1H, m), 4.07 (1H, d, J=10.2 Hz), 4.15-4.40 (4H, m), 4.45 (1H, d, J=7.8 Hz), 4.50-4.65 (11H, m), 4.70 (1H, d, J=3.5 Hz), 4.95 (1H, m), 5.25-5.42 (12H, m), 5.90-5.97 (5H, m), 7.72 (1H, d, J=9.8 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 1588 [M+H]⁺, 1610 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₃H₁₄₇NO₂₃P₂:Na: 1610.9736. Found: 1610.9709。

（２）２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｅ１工程）
（１）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド(203 mg, 0.128 mmol)を用い、実施例実施例５（６）と同様に反応させることにより蝋状の標記化合物(95 mg, 収率55%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3600-3200, 2924, 2853, 1723, 1650, 1547, 1467 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 4:1) δ 0.86-0.90 (12H, m), 1.26 (60H, bs), 1.40-1.62 (8H, m), 1.71-1.73 (2H, m), 2.00-2.04 (4H, m), 2.32-2.36 (2H, m), 2.56-2.58 (2H, m), 3.30 (3H, s), 3.31-4.24 (22H, m), 4.48 (1H, d, J=8.2 Hz, anomeric H), 4.73 (1H, d, J=3.4 Hz, anomeric H), 4.87 (1H, t, J=8.2 Hz), 5.33-5.37 (2H, m).
FABMS (negative-ion) m/z; 1342 [M-H]^-.
Anal. Calcd. for C₆₇H₁₂₇NO₂₁P₂ ^.1.4 H₂O: C, 59.85; H, 9.52; N, 1.04; P, 4.61. Found: C, 59.96; H, 9.32; N, 1.19; P, 4.47。

［実施例７］
２−（ホスホノオキシ）エチル６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号７番）
（１）アリル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド
アリル４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド(2.90 g, 11.14 mmol)をDMF(29 mL)に溶かし、この溶液にヨウ化ドデシル(8.00 g, 27.00 mmol)及び水素化ナトリウム(55%分散油, 2.36 g, 54.00 mmol)を氷冷下加え、室温で一夜撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、氷水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝9／1）で精製することにより標記化合物(6.49 g, 収率98%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (36H, bs), 1.41 (3H, s), 1.48 (3H, s), 1.50-1.60 (4H, m), 3.30 (1H, m), 3.49-3.74 (8H, m), 3.83 (1H, m), 4.08 (1H, dd, J=6.6, 13.3 Hz), 4.18 (1H, dd, J=5.1, 13.3 Hz), 4.90 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.22 (1H, m), 5.32 (1H, m), 5.92 (1H, m)。

（２）２−（ヒドロキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｃ１工程）
（１）で得られたアリル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド(2.39 g, 4.00 mmol)及びNaIO₄(4.00 g)をエタノール(30 mL)−水(10 mL)混合溶液に溶かし、この溶液にOsO₄(2.5% t-ブタノ−ル溶液80 mg)を加え、２時間室温で攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮することにより、粗アルデヒドを得た。得られた粗アルデヒドを99%エタノール(50mL)に溶解し、この溶液にNaBH₄(200 mg)を加え、室温で10分間攪拌した。反応終了後反応液に酢酸を加え過剰の還元剤を除き、反応液を酢酸で希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝2／1）で精製することにより、標記化合物(1.66 g, 収率69%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (9H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (36H, bs), 1.40 (3H, s), 1.41-1.43 (4H, m), 1.48 (3H, s), 2.82 (1H, bs, OH), 3.30 (1H, m), 3.51-3.85 (14H, m), 4.89 (1H, d, J=3.7 Hz)。

（３）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｃ２工程）
（２）で得られた２−（ヒドロキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド(1.47 g, 2.45 mmol)を塩化メチレン(30mL)に溶かし、この溶液に１Ｈ−テトラゾール(400 mg, 5.71 mmol)及びジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト(1.20 g, 4.89 mmol)を加え、室温で20分間撹拌した。その後、反応溶液にTHF(30 mL)を加え、次いで30%過酸化水素水(0.5 g)を加え、20分間撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルにて希釈し、10%チオ硫酸ナトリウム水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝2／1）で精製することにより標記化合物(1.62 g, 収率87%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (36H, bs), 1.39 (3H, s), 1.47 (3H, s), 1.50-1.59 (4H, m), 3.29 (1H, m), 3.50-3.88 (11H, m), 4.23-4.27 (2H, m), 4.56-4.59 (4H, m), 4.90 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.25-5.42 (4H, m), 5.90-6.00 (2H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 761 [M+H]⁺, 783 [M+Na]⁺。

（４）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｃ３工程）
（３）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド(6.60 g, 9.10 mmol)をメタノール(60 mL)に溶かし、この溶液にｐ−トルエンスルホン酸/
一水和物(412 mg)を加え、室温で２時間攪拌した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル、その後10%メタノール酢酸エチル溶液）で精製することにより蝋状の標記化合物(6.00 g, 収率96%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (36H, bs), 1.50-1.71 (4H, m), 3.27 (1H, dd, J=3.7, 8.8 Hz), 3.41-3.91 (11H, m), 4.24-4.28 (2H, m), 4.48-4.59 (4H, m), 4.95 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.19-5.40 (4H, m), 5.90-6.00 (2H, m)。

（５）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［(Ｒ)−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［(Ｚ)−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｃ１工程）
実施例１（３）で得られたトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(260 mg, 0.279 mmol)及び（４）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド(197 mg, 0.279 mmol)を塩化メチレン(10 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(500 mg)を加え、窒素気流下で30分間撹拌した。その後、反応液にAgOTf(180 mg, 0.701 mmol)及びTMSOTf(20 mg, 0.090 mmol)を加え、窒素中室温で16時間撹拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝1／2）で精製することによりガム状の標記化合物(215 mg, 収率52%)を得た。
IR ν_max(film) 3412, 2926, 2855, 1750, 1652 (w), 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.10-1.43 (70H, m), 1.55-1.70 (6H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.29-2.36 (2H, m), 2.82 (1H, bs, OH), 3.22 (1H, m), 3.25 (3H, s), 3.39 (3H, s), 3.47-3.84 (18H, m), 3.96 (1H, dd, J=1.0, 8.6 Hz), 4.19-4.25 (2H, m), 4.32 (1H, q, J=9.4 Hz), 4.47 (1H, d, J=7.8 Hz), 4.54-4.59 (8H, m), 4.89 (1H, d, J=3.5 Hz), 4.97 (1H, d, J=8.6 Hz), 5.24-5.40 (10H, m), 5.89-5.99 (4H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 1513 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₀H₁₄₈O₂₀P₂Na: 1513.9937. Found: 1513.9934。

（６）２−（ホスホノオキシ）エチル６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｃ２工程）
（５）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド(140 mg, 0.094 mmol)を乾燥THF(8 mL)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(16 mg, 0.061 mmol)、トリエチルアミン(65 mg, 0.642 mmol)、ギ酸(54 mg, 0.843 mmol)及びPd(PPh₃)₄(16 mg, 0.014 mmol)を加え、窒素中55℃で16時間撹拌した。反応終了後、反応液をろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をDEAE-セルロース6gを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の 0.05 mol/L 酢酸アンモニウム溶液）で精製することにより目的物の画分を得た。画分を集め、全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルム及び0.15 mol/L塩酸水を加え（pH 2−3に調整）、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め、減圧濃縮することにより蝋状の標記化合物(81 mg, 収率65%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3500-2500 (br), 2924, 2853, 1726, 1467 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 5:1) δ 0.86-0.90 (12H, m), 1.26 (66H, bs), 1.40-1.44 (2H, m), 1.54-1.62 (6H, m), 1.71-1.75 (2H, m), 2.00-2.04 (4H, m), 2.32-2.38 (2H, m), 3.24-3.39 (6H, m, containing 3H, s, at 3.30 ppm), 3.41 (3H, s), 3.47-3.82 (15H, m), 4.02 (1H, d, J=10.2 Hz), 4.16-4.21 (3H, m), 4.49 (1H, d, J=7.8 Hz, anomeric H), 4.87 (1H, d, J=3.4 Hz, anomeric H), 4.91 (1H, t, J=8.4 Hz), 5.33-5.37 (2H, m).
FABMS (negative-ion) m/z; 1329 [M-H]^-, 1351 [M-2H+Na]^-.
Anal. Calcd. for C₆₈H₁₃₂O₂₀P₂: C, 61.33; H, 9.99; P, 4.65. Found: C, 61.39; H, 9.70; P, 4.58。

［実施例８］
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号８番）
（１）３−Ｏ−デシル−１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース
１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース(17.00 g, 65.309 mmol)及びデシルｐ−トルエンスルホネート(15.34 g, 64.898 mmol)をDMF(65 mL)に溶かし、この溶液に水素化ナトリウム(55%分散油, 3.40 g, 77.916 mmol)を氷冷下加え、０℃で１５分間撹拌し、更に室温で一夜攪拌した。反応終了後、氷冷下反応液にメタノールを加え残余の水素化ナトリウムを分解し、酢酸エチルで希釈、水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝6／1）で精製することにより油状の標記化合物(22.50 g, 収率98%)を得た。

（２）アリル３−Ｏ−デシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノシド
（１）で得られた３−Ｏ−デシル−１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース(20.60 g, 51.429 mmol)を2%の塩酸を含むアリルアルコール(300 mL)に溶解し、30分間還流した。反応液を減圧濃縮し、得られた濃縮物をDMF(30 mL)及び２，２−ジメトキシプロパン(30 mL)に溶解し、この溶液ｐ−トルエンスルホン酸・一水和物(500 mg)を加え、室温で16時間撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝3／1）で精製することにより油状の標記化合物のアノマー混合物(α−アノマーとβ−アノマーの混合比＝3:1, 16.48 g, 収率80%)を得た。混合物の一部をクロマトグラフィーを用いてα−アノマー及びβ−アノマーに分離することができた。
α−アノマーの物理恒数：
IR ν_max(film) 3470 (br), 2994, 2925, 2856 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (14H, bs), 1.41 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.53-1.60 (2H, m), 2.27 (1H, d, J=7.3 Hz, OH), 3.46-3.86 (8H, m), 4.04 (1H, m), 4.21 (1H, m), 4.93 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.22-5.35 (2H, m), 5.93 (1H, m).
Anal. Calcd. For C₂₂H₄₀O₆: C, 65.97; H, 10.07. Found: C, 65.49; H, 9.79.
β−アノマーの物理恒数：
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (14H, bs), 1.41 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.55-1.60 (2H, m), 2.29 (1H, d, J=2.2 Hz, OH), 3.25 (1H, m), 3.31 (1H, t, J=8.8 Hz), 3.45 (1H, m), 3.59-3.67 (2H, m), 3.75-3.82 (2H, m), 3.91 (1H, dd, J=5.1, 11.0 Hz), 4.14 (1H, dd, J=6.2, 12.8 Hz), 4.35 (1H, dd, J=5.1, 12.5 Hz), 4.40 (1H, d, J=8.1 Hz), 5.20-5.35 (2H, m), 5.93 (1H, m).
Anal. Calcd. For C₂₂H₄₀O₆: C, 65.97; H, 10.07. Found: C, 65.49; H, 9.79。

（３）アリル３−Ｏ−デシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｊ１工程）
（２）で得られたアリル３−Ｏ−デシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー3:1混合物, 300 mg, 0.750 mmol)を塩化メチレン−THF(2:1, 6 mL)に溶かし、この溶液に３−オキソテトラデカン酸(242 mg, 1.00 mmol)及びWSCI塩酸塩(192 mg, 1.000 mmol)を加え、室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、水及び重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝6／1）で精製することにより、標記化合物のアノマー混合物(α−アノマーとβ−アノマーの混合比＝3:1, 375 mg, 収率80%)を得た。混合物の一部からクロマトグラフィーを用いてβ−アノマー及びα−アノマーを分離することができた。
β−アノマーの物理恒数：
IR ν_max(film) 2923, 2853, 1752, 1722, 1636, 1568 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.40 (3H, s), 1.41-1.68 (7H, m, containing 3H, s, at 1.49 ppm), 2.56 (2H, t, J=6.3 Hz), 3.23 (1H, m), 3.38-3.56 (3H, m), 3.92 (1H, m), 4.05 (1H, m), 4.30 (1H, m), 4.47 (1H, d, J=8.1 Hz), 4.95 (1H, m), 5.15-5.27 (2H, m), 5.84 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 623 [M-H]⁺, 647 [M+Na]⁺。
α−アノマーの物理恒数：
IR ν_max(film) 2926, 2856, 1751, 1720, 1649(w), 1624(w), 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.40-1.60 (10H, m ,containing two 3H, s, at 1.41 and 1.50), 2.54 (2H, dt, J=2.2, 7.3 Hz), 3.41-3.60 (3H, m), 3.61-3.79 (5H, m), 3.84 (1H, m), 4.00 (1H, m), 4.17 (1H, m), 4.80 (1H, dd, J=4.4, 9.5 Hz, C2-H), 5.04 (1H, d, J=4.4 Hz, C1-H), 5.18-5.32 (2H, m), 5.89 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 623 [M-H]⁺, 625 [M+H]⁺, 647 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₆H₆₄O₈Na: 647.4499. Found: 647.4490。

（４）アリル３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｊ２工程）
（３）で得られたアリル３−Ｏ−デシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー3:1混合物, 2.37 g, 3.793 mmol)をメタノール(35 mL)に溶かし、この溶液にｐ−トルエンスルホン酸(200 mg)を加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝3／2）で精製することにより標記化合物のアノマー混合物(α−アノマーとβ−アノマーの混合比＝3:1, 1.31 g, 収率59%)を得た。混合物の一部をクロマトグラフィーを用いてα−アノマー及びβ−アノマーに分離することができた。
α−アノマーの物理恒数：
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.51-1.60 (4H, m), 2.05 (2H, m, OH), 2.53 (2H, dt, J=1.5, 6.6 Hz), 3.48 (2H, s), 3.59-3.87 (7H, m), 4.01 (1H, m), 4.18 (1H, m), 4.74 (1H, dd, J=3.7, 10.3 Hz), 5.08 (1H, d, J=3.7 Hz, anomeric H), 5.19-5.32 (2H, m), 5.89 (1H, m).
β−アノマーの物理恒数：
IR ν_max(film) 3284 (br), 2921, 2852, 2596-2400 (w), 1752, 1720, 1649, 1632 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.51-1.63 (4H, m), 2.07 (1H, m, OH), 2.52-2.57 (2H, m), 3.20 (1H, d, J=2.9 Hz), 3.45 (1H, s), 3.35-3.41 (2H, m), 3.58-3.68 (3H, m), 3.80 (1H, m), 3.91 (1H, m), 4.07 (1H, m), 4.31 (1H, m), 4.46 (1H, d, J=8.1 Hz), 4.94 (1H, m), 5.16-5.28 (2H, m), 5.86 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 583 [M-H]⁺. 607 [M+Na]⁺。

（５）（Ｅ）−１−プロペニル３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｊ３工程）
（４）で得られたアリル３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー3:1混合物, 1.15 g, 1.966 mmol)をTHF(40 mL)に溶かし、この溶液に水素で活性化したIr[C₈H₁₂(MePh₂P)₂]PF₆(25 mg)を加え、窒素中室温で６時間攪拌した。反応終了後反応液を減圧濃縮し、標記化合物のアノマー混合物(α−アノマーとβ−アノマーの混合比＝3:1, 1.15 g, 収率100%)を得た。混合物の一部をクロマトグラフィーを用いてα−アノマー及びβ−アノマーに分離することができた。なお、得られた標記化合物は精製せずに次の反応に使用した。
α−アノマーの物理恒数：
Rf=0.459 (cyclohexane/EtOAc=3/2).
IR ν_max(KBr) 3408 (br), 2923, 2853, 1740, 1681 (w), 1659 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.54-1.60 (7H, m, containing 3H, dd, J=1.5, 6.6 Hz, at 1.55 ppm), 2.00 (1H, m, OH), 2.51-2.55 (2H, m), 3.48 (2H, s), 3.60-3.76 (5H, m), 3.80-3.83 (2H, m), 4.76 (1H, dd, J=3.7, 9.5 Hz), 5.16 (1H, dd, J=6.6, 12.5 Hz), 5.23 (1H, d, J=3.7 Hz), 6.11 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz).
β−アノマーの物理恒数：
Rf=0.324 (cyclohexane/EtOAc=3/2).
IR ν_max(film) 3500-3200 (br), 2922, 2853, 1745, 1720, 1682, 1648 (w), 1630 (w) cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=5.9-7.3 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.51-1.62 (7H, m, containing 3H, d, J=5.9 Hz at 1.54 ppm), 2.02 (1H, bs, OH), 2.52-2.58 (2H, m), 3.19 (1H, d, J=10.3 Hz), 3.36-3.48 (3H, m, containing 2H, s, at 3.45 ppm), 3.57-3.70 (3H, m), 3.81 (1H, m), 3.93 (1H, m), 4.62 (1H, d, J=8.1 Hz), 4.99 (1H, m), 5.10 (1H, m), 6.16 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 607 [M+Na]⁺。

（６）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｊ４工程）
（５）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー3:1混合物, 2.89 g, 4.942 mmol)を塩化メチレン(40 mL)に溶かし、この溶液にｔ−ブチルジメチルシリルクロリド(800 mg, 5.315 mmol)及びDMAP(650 mg, 5.315 mmol)を加え、室温で１６時間撹拌した。反応終了後、反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝6／1）で精製することにより標記化合物のアノマー混合物(α−アノマーとβ−アノマーの混合比＝3:1, 3.45 g, 収率100%)を得た。混合物の一部からクロマトグラフィーを用いてβ−アノマーを分離することができた。
β−アノマーの物理恒数：
IR ν_max(film) 3507 (br), 2927, 2856, 1754, 1721, 1682, 1663, 1621, 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.08 (6H, m), 0.86-0.91 (15H, m, containing 9H, s, at 0.90 ppm), 1.25 (30H, bs), 1.50-1.61 (5H, m), 2.55-2.58 (2H, m), 3.12-3.20 (1H, m), 3.36-3.46 (3H, m), 3.54-3.73 (3H, m), 3.83-3.93 (2H, m), 4.57 (1H, d, J=8.8 Hz), 4.98 (1H, m), 5.08 (1H, m), 6.14 (1H, d, J=10.7 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 697 [M-H]⁺, 721 [M+Na]⁺ (on addition of NaI)。

（７）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｂｊ５工程）
（６）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー3:1混合物, 3.45 g, 4.935 mmol)をトルエン(60 mL)に溶かし、この溶液にピリジン(4.00 g, 50.569 mmol)を加え、次いで氷冷下トリホスゲン(2.20 g, 7.414 mmol)を加え、15分間撹拌した後、アリルアルコール(6.90 g, 118.8mmol)を加え、氷冷下1時間攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗い、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝9／1）で精製することにより標記化合物のアノマー混合物(α−アノマーとβ−アノマーの混合比＝3:1, 2.63 g, 収率68%)を得た。混合物の一部からクロマトグラフィーを用いてβ−アノマーを分離することができた。
β−アノマー：
IR ν_max(film) 2927, 2856, 1758, 1722, 1682 (w), 1664 (w), 1628 (w), 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.04 (6H, s), 0.86-0.90 (15H, m, containing 9H, s, at 0.88 ppm), 1.26 (30H, bs), 1.42-1.60 (7H, m, containing 3H, d, J=7.3 Hz, at 1.52 ppm), 2.54 (2H, t, J=7.3 Hz), 3.19 (1H, d, J=8.8 Hz), 3.43 (1H, s), 3.47-3.57 (4H, m), 3.72-3.73 (2H, m), 4.57 (1H, d, J=8.1 Hz), 4.61-4.65 (2H, m), 4.78 (1H, t, J=9.5 Hz), 4.97-5.14 (2H, m), 5.27-5.39 (2H, m), 5.92 (1H, m), 6.16 (1H, dd, J=1.5, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 805 [M+Na]⁺。

（８）４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノース（第Ｂｊ６工程）
（７）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー3:1混合物, 2.20 g, 4.935 mmol)を塩化メチレン(30 mL)及びアセトニトリル(60 mL)に溶かし、この溶液に48%フッ化水素酸水溶液(20 mL)を加え、1.5日間室温で撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、水、重曹水及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝2／3）で精製することにより標記化合物のアノマー混合物(1.02 g, 収率58%)を得た。
IR ν_max(film) 3430, 2925, 2855, 1754, 1719, 1650 (w), 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (30H, bs), 1.45-1.70 (4H, m), 2.50-2.57 (2H, m), 3.47-3.80 (7H, m), 3.90 (1H, t, J=9.5 Hz), 4.02 (1H, m), 4.66 (2H, d, J=5.9 Hz), 4.76-4.88 (1.5H, m), 5.29-5.40 (2H, m), 5.49 (0.5H, bs), 5.93 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 369, 611, 651 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₃₄H₆₀O₁₀Na: 651.4085. Found: 651.4052。

（９）４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノース（第Ｃａ１工程）
実施例１（３）で得られたトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(260 mg, 0.279 mmol)及び（８）で得られた４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノース(175 mg, 0.279 mmol)を塩化メチレン(8 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(500 mg)を加え、窒素気流下30分間撹拌した後、AgOTf(180 mg, 0.701 mmol)及びTMSOTf(20 mg, 0.090 mmol)を加え、窒素中室温で16時間撹拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝1／1）で精製することによりガム状の標記化合物(アノマー混合物, 240 mg, 収率65%)を得た。
IR ν_max(film) 3326 (w), 2926, 2856, 1754, 1720, 1650 (w), 1629 (w), 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (60H, bs), 1.40-1.74 (10H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.19 (0.5H, m), 2.32-2.36 (2H, m), 2.52-2.56 (1.5H, m), 3.21-3.90 (20H, m, containing two 3H, s, at 3.26 and 3.39 ppm, and OH), 4.26 (1H, m), 4.40 (1H, m), 4.51-4.67 (9H, m), 4.77 (1H, dd, J=3.5, 9.8 Hz), 4.85 (1H, m), 4.94 (1H, t, J=7.6 Hz), 5.24-5.40 (8H, m), 5.89-5.97 (3H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 1421 [M+Na]⁺。

（１０）ジアリルホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（９）で得られた４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノース(240 mg, 0.171mmol)を塩化メチレン(8 mL)に溶かし、この溶液に硫酸ナトリウム(0.5 g)、１Ｈ−テトラゾール(173 mg, 2.480 mmol)及びジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト(210 mg, 0.855 mmol)を加え、窒素気流下室温で30分間撹拌した。反応液をそのままシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝3／2）で精製することによりホスファイト(264 mg)を得た。

得られたホスファイトをTHF(8 mL)に溶解し、この溶液に30%過酸化水素水(0.55 mL)を加え、氷冷下30分間攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルにて希釈し、10%チオ硫酸ナトリウム水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝1／1）で精製することにより標記化合物(263 mg, 収率57%)を得た。
IR ν_max(film) 2927, 2856, 1757, 1721, 1650 (w), 1464 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.25 (60H, bs), 1.40-1.71 (10H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.18-2.56 (4H, m), 3.20 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.38 (3H, s), 3.44 (2H, s), 3.45-3.75 (7H, m), 3.80 (1H, t, J=9.6 Hz), 3.96 (1H, m), 4.08 (1H, m), 4.30 (1H, q, J=9.4 Hz), 4.39 (1H, d, J=7.8 Hz, anomeric H), 4.44-4.59 (10H, m), 4.63-4.65 (2H, m), 4.75 (1H, t, J=9.4 Hz), 4.84 (1H, m), 4.91 (1H, m), 5.21-5.42 (12H, m), 5.80 (1H, dd, J=3.5, 6.6 Hz), 5.89-5.99 (5H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 1581 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₂H₁₄₄O₂₃P₂Na: 1581.9471. Found: 1581.9447。

（１１）ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（１０）で得られたジアリルホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド(100 mg, 0.064 mmol)を乾燥THF(5 mL)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(11 mg, 0.042 mmol)、トリエチルアミン(43 mg, 0.425 mmol)、ギ酸(43 mg, 0.782 mmol)及びPd(PPh₃)₄(11 mg, 0.010 mmol)を加え、窒素中50℃で16時間撹拌した。反応終了後、反応液をろ過し、減圧濃縮し、DEAE-セルロース6gを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の0.05 mol/L酢酸アンモニウム溶液）で精製することにより目的物の画分を得た。画分を集め全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルム及び0.15 mol/L塩酸水を加え(pH 2−3に調整)、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め、減圧濃縮することにより、蝋状の標記化合物(46 mg, 収率54%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3505 (w), 2925, 2854, 1747, 1719, 1653 (w), 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 5:1) δ 0.87-0.90 (12H, m), 1.27 (60H, bs), 1.40-1.76 (10H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.19 (0.4H, t, J=7.5 Hz), 2.71 (1.6H, t, J=7.5 Hz), 2.32-2.42 (2H, m), 3.26-3.98 (22H, m, containing two 3H, s, at 3.30 and 3.41 ppm), 4.18 (1H, m), 4.51 (1H, d, J=7.8 Hz, anomeric H), 4.71 (1H, d, J=10.2 Hz), 4.88 (1H, t, J=8.6 Hz), 5.31-5.39 (2H, m), 5.68 (1H, dd, J=3.1, 7.4 Hz).
FABMS (negative-ion) m/z; 1313 [M-H]^-, 1335 [M-2H+Na]^-.
Anal. Calcd. for C₆₆H₁₂₄O₂₁P₂ ^.2.5H₂O: C, 58.27; H, 9.56; P, 4.55. Found: C, 58.43; H, 9.39; P, 4.51。

［実施例９］
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号９番）
（１）４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノース（第Ｃａ１工程）
実施例３（４）で得られたトリクロロアセトイミドイル６−Ｏ−（アリルオキシカルボニル）−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(340 mg, 0.344 mmol)及び実施例８（８）で得られた４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノース(216 mg, 0.344 mmol)を塩化メチレン(10 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(620 mg)を加え、窒素気流下30分間撹拌した後、AgOTf(222 mg, 0.864 mmol)及びTMSOTf(20 mg, 0.090 mmol)を加え、窒素中室温で16時間撹拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝3／2）で精製することによりガム状の標記化合物(436 mg, 収率86%)を得た。
IR ν_max(film) 3500-3200, 2927, 2856, 1754, 1650 (w), 1461 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (60H, bs), 1.40-1.48 (4H, m), 1.56-1.72 (6H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.19 (0.4H, m), 2.32-2.40 (2H, m), 2.52-2.58 (1.6H, m), 3.23 (1H, m), 3.26 (3H, s), 3.46-3.90 (13H, m), 4.21-4.64 (14H, m), 4.77 (1H, dd, J=3.1, 9.8 Hz), 4.93 (1H, m), 5.23-5.41 (10H, m), 5.88-5.98 (4H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 1491 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₇₉H₁₃₇O₂₂PNa: 1491.9237. Found: 1491.9266。

（２）ジアリルホスホノ４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（１）で得られた４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α，β−Ｄ−グルコピラノース(424 mg, 0.288 mmol)を塩化メチレン(12 mL)に溶かし、この溶液に硫酸ナトリウム(0.6 g)、１Ｈ−テトラゾール(101 mg, 1.442 mmol)及びジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト(141 mg, 0.577 mmol)を加え、窒素気流下室温で20分間撹拌した。反応液をそのままシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝3／2）で精製することによりホスファイト(439 mg)を得た。このホスファイトをTHF(10 mL)に溶解し、この溶液に30%過酸化水素水(1 mL)を加え、氷冷下で20分間攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、10%チオ硫酸ナトリウム水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝3／2）で精製することにより油状の標記化合物(355 mg, 収率76%)を得た。
IR ν_max(film) 2927, 2856, 1754, 1721 (w), 1650 (w), 1461 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) d 0.86-0.89 (12H, m), 1.25 (60H, bs), 1.37-1.46 (4H, m), 1.56-1.75 (6H, m), 1.99-2.02 (4H, m), 2.16-2.20 (0.4H, m), 2.28-2.47 (2H, m), 2.51-2.56 (1.6H, m), 3.20 (1H, m), 3.25 (3H, s), 3.38 (3H, s), 3.45-3.82 (12H, m), 3.94 (1H, dd, J=2.0, 11.0 Hz), 4.06 (1H, m), 4.22-4.30 (2H, m), 4.46 (1H, m), 4.53-4.65 (12H, m), 4.67-5.04 (3H, m), 5.22-5.41 (14H, m), 5.80 (1H, m), 5.88-5.99 (6H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 1651 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₅H₁₄₆O₂₅P₂Na: 1651.9526. Found: 1651.9546。

（３）ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（２）で得られたジアリルホスホノ４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド(210 mg, 0.129 mmol)を乾燥THF(10 mL)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(22 mg, 0.084 mmol)、トリエチルアミン(86 mg, 0.850 mmol)、ギ酸(72 mg, 1.564 mmol)及びPd(PPh₃)₄(22 mg, 0.020 mmol)を加え、窒素中55℃で16時間撹拌した。反応終了後、反応液をろ過し、減圧濃縮し、DEAE-セルロース9gを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の 0.05 mol/L酢酸アンモニウム溶液）で精製することにより目的物の画分を得た。画分を集め全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルム及び0.15 mol/L塩酸水を加え(pH 約2に調整)、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め、減圧濃縮することにより、蝋状の標記化合物(80 mg, 収率48%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3500-3000, 2925, 2854, 1743, 1720, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 4:1) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.20-1.28 (60H, m), 1.24-1.75 (10H, m), 1.99-2.04 (4H, m), 2.17-2.19 (0.4H, m), 2.31-2.38 (2H, m), 2.54-2.59 (1.6H, m), 3.30 (3H, s), 3.31-4.01 (19H, m), 4.23 (1H, m), 4.50 (1H, d, J=7.8 Hz, anomeric H), 4.70 (1H, m), 4.87 (1H, t, J=8.2-8.6 Hz), 5.34-5.36 (2H, m), 5.67 (1H, dd, J=3.5, 7.4 Hz).
FABMS (negative-ion) m/z; 1299 [M-H]^-.
Anal. Calcd. for C₆₅H₁₂₂O₂₁P₂: C, 59.98; H, 9.45; P, 4.76. Found: C, 60.10; H, 9.23; P, 4.47。

［実施例１０］
２−（ホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−［６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル]−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１０番）
（１）２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−［６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド及び２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−［６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−α−Ｄ−グルコピラノシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｃ１工程）
実施例１（３）に準じて得られるトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(500mg, 0.552 mmol)及び実施例７（４）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシドを塩化メチレン(7.5 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(630 mg)及びAgOTf(12.5 mg, 0.055 mmol)を加え、窒素中室温で１間撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／塩化メチレン＝1／2）で精製することによりガム状の標記化合物である２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド(180 mg, 収率22%)及び２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド(120 mg, 収率14%)を得た。
２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシドの物理恒数：
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (68H, bs), 1.40-1.79 (10H, m),1.99-2.07 (4H,m), 2.60 (1H, bs, OH), 3.17-3.90 (24H, m, containing two 3H, s, at 3.28 and 3.39 ppm), 4.05 (1H, m), 4.20-4.30 (4H, m), 4.35 (1H,d, J=7.8Hz), 4.53-4.60 (8H, m), 4.92 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.21-5.24 (4H, m), 5.30-5.40 (8H, m), 5.89-6.00 (4H,m).
FABMS m/z; [M+H]⁺,1499 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₀H₁₅₀O₁₉P₂Na: 1500.0144. Found:1500.0145.
２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシドの物理恒数：
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (68H, bs), 1.40-1.79 (10H, m), 1.99-2.07 (4H, m) 3.17-3.90 (24H, m, containing two 3H, s, at 3.28 and 3.39 ppm), 3.99 (1H, m), 4.20-4.30 (4H, m), 4.53-4.58 (8H, m), 4.88 (1H, d, J=3.7 Hz), 4.92 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.20-5.30 (4H, m), 5.89-6.00 (4H,m).
FABMS m/z; 1499 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₀H₁₅₀O₁₉P₂Na:1500.0144. Found:1500.0121。

（２）２−（ホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｃ２工程）
（１）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド(180 mg, 0.12 mmol)を乾燥THF(10 mL)に溶かし、この溶液にトリエチルアミン(150 mg, 1.480 mmol)、ギ酸(120 mg, 2.700 mmol)、Pd(PPh₃)₄(40 mg, 0.255 mmol)及びトリフェニルホスフィン(40 mg, 0.152 mmol)を加え、窒素中36℃で12時間撹拌した。反応終了後、反応液をろ過し、減圧濃縮し、DEAE-セルロース8gを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の0.05 mol/L 酢酸アンモニウム溶液）で精製することにより目的物の画分が得られた。画分を集め全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルム及び0.15 mol/L塩酸水を加え、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め減圧濃縮することにより蝋状の標記化合物(100 mg, 収率67%)を得た。
IR ν_max(KBr) 2954, 2923, 2853, 1654cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD, 5:1) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (68H, bs), 1.39-1.75 (10H, m), 1.75-1.90 (2H, m), 1.98-2.04 (4H, m), 3.23-4.85 (26H, m, containing two 3H, s at 3.28 and 3.39 ppm), 4.00-4.10 (2H, m), 4.10-4.30 (2H, m), 4.40 (1H, d, J=7.8 Hz), 4.94 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.33-5.38 (2H, m).
FABMS (negative-ion) m/z; 1315 [M-H]^-.
Anal Calcd for C₆8H₁₃₄O₁₉P₂.5/2H₂O; C; 60.01,H; 10.31,P; 4.33, Found, C; 59.93, H; 10.28, P; 4.55。

［実施例１１］
２−（ホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル]−４−Ｏ−ホスホノ−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１１番、第Ｃｃ２工程）
実施例１０（１）で得られた２−（ジアリルホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド(120 mg, 0.081 mmol)を用い、実施例１０（２）と同様に反応させることにより蝋状の標記化合物(90 mg, 収率84%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3480, 2955, 2852, 1654cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃+CD₃OD,5:1) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (68H, br s), 1.39-1.70 (10H, m), 1.75-1.90 (2H, m), 1.98-2.04 (4H, m), 3.23-4.85 (26H, m, containing two 3H, s at 3.28 and 3.39 ppm), 4.00-4.25 (4H, m), 4.90 (1H, d, J=3.7 Hz), 4.99 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.33-5.38 (2H, m).
FABMAS (negative ion) m/z; 1315 [M-H]^-.
Anal Calcd for C₆₈H₁₃₄O₁₉P₂.H₂O; C; 60.01,H; 10.31,P; 4.33, Found, C; 59.93, H; 10.28, P; 4.55。

［実施例１２］
ホスホノ６−Ｏ−｛４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−[（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル]−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１２番）
（１）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例１１で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド(840 mg, 0.951 mmol)を塩化メチレン(5 mL)−アセトニトリル(10 mL)混合溶媒に溶解し、この溶液に48%フッ化水素水溶液(200 mg)を加え、室温で30分間撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、これを飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝2／1）で精製することにより標記化合物(467 mg, 収率64%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3527, 2925, 2854, 1747, 1679 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.25 (36H, bs), 1.50-1.65 (7H, m), 1.87-1.92 (2H, m), 2.33 (1H, OH), 3.37 (1H, dd, J=2.9, 9.5 Hz), 3.55-3.81 (8H, m), 4.60-4.67 (4H, m), 4.72 (1H, m), 4.80 (1H, m), 5.13 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.18 (1H, qd, J=6.6, 12.5 Hz), 5.25-5.40 (4H, m), 5.89-5.98 (2H, m), 6.16 (1H, qd, J=1.5, 12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; 711 [M+H]⁺, 791 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₄₃H₇₆O₁₁Na: 791.5286. Found: 791.5281。

（２）４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−[（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル]−３−Ｏ−ドデシル−Ｄ−グルコピラノース（第Ｂｂ１工程）
（１）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−Ｄ−α−グルコピラノシド(500 mg, 0l651 mmol)をアセトニトリル(25 mL)に溶かし、この溶液に48%フッ化水素酸水溶液(1.46 mL)を加え、室温で16時間撹拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：へキサン／酢酸エチル＝2／1）で精製することにより油状の標記化合物(340 mg, 72%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86 (6H,t,J=6.6Hz), 1.25 (360H, bs), 1.49-1.65(4H, m), 1.80-2.00 (2H, m), 2.39 (1H, m), 3.2 (1H, d,d, J= 2.9, 9.5Hz), 3.60-4.00 (8H, m), 4.58-4.72 (5H, m), 4.80-4.90 (1H, m), 5.25-5.40 (4H, m), 5.88-6.00 (2H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 751 [M+Na]⁺。

（３）４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル」−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−Ｄ−グルコピラノ−ス（第Ｃａ１工程）
実施例１（３）で得られたトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(666 mg, 0.700 mmol)及び（２）で得られた４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−[（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル]−３−Ｏ−ドデシル−Ｄ−グルコピラノース(520 mg, 0.700 mmol)を塩化メチレン(20 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(400 mg）を加え、窒素中室温で20分間撹拌した後、AgOTf(20 mg, 0.070 mmol)を加え、窒素中室温で20分間撹拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製することによりガム状の標記化合物(520 mg, 収率52%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.25 (66H, bs), 1.40-1.90 (13H, m), 1.92-2.02 (4H, m), 2.30-2.42 (2H, m), 3.20-3.90 (20H, m , containing 3H, s, at 3.17 ppm and 3H, s, at 3.37 ppm), 4.10-4.70 (14H, m), 4.80-4.99 (2H, m), 5.20-5.4 (11Hm), 5.89-6.00 (4H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 1521 [M+Na]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₂H₁₄₇O₂₁PNa: 1522.007. Found: 1522.0068。

（４）ジアリルホスホノ４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（３）で得られた４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル」−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−Ｄ−グルコピラノ−ス(430 mg, 0.287 mmol)を塩化メチレン(60 mL)に溶かし、この溶液に硫酸ナトリウム(900 mg)、１Ｈ−テトラゾール(84.3 mg, 1.2 mmol)及びジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト(105 mg, 0.43 mmol)を加え、窒素気流下室温で30分間撹拌した。反応終了後、反応液をそのままシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝2／1）で精製することにより油状のホスファイト(500 mg)を得た。

このホスフィトをTHF(25 mL)に溶かし、この溶液に30%過酸化水素(500 mg)を加え、氷冷下30分間攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、10%ハイポ水及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝3／2）で精製することにより油状の標記化合物(430 mg, 収率90%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.80-1.90 (12H, m), 1.26 (66H, bs), 1.40-1.75 (10H, m), 1.80-1.90 (2H, m), 1.99-2.05 (4H, m), 2.25-2.50 (2H, m), 3.18-3.90 (221H, m, containing two 3H, s at 3.27 and 3.38 ppm), 4.00 (1H, m), 4.20-4.405 (21H, m), 4.56-4.63 (11H, m), 4.70-5.05 (2H, m), 5.23-5.43 (2H, m), 5.86-5.98 (5H, m).
FABMS(positive-ion) m/z; 1681 [M+Na]⁺。

（５）ホスホノ６−Ｏ−｛４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（４）で得られたジアリルホスホノ４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(180 mg, 0.090 mmol)を乾燥THF(10 mL)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(30 mg, 0.114 mmol)、トリエチルアミン(111 mg, 1.099 mmol)、ギ酸(93 mg, 2.020 mmol)及びPd(PPh₃)₄(30 mg, 0.026 mmol)を加え、窒素中36℃で12時間撹拌した。反応終了後、反応液をろ過し、減圧濃縮し、DEAE-セルロース8gを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の0.05 mol/L酢酸アンモニウム溶液）で精製することにより目的物の画分が得られた。画分を集め全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルム及び0.15 mol/L塩酸水を加え、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め減圧濃縮すると蝋状の標記化合物(90 mg, 収率75%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3506 (w), 3345 (w), 2923, 2853, 1720, 1465, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃-CD₃OD, 5:1) δ 0.86-0.90 (12H, m), 1.27 (66H, bs), 1.40-1.80 (12H, m), 2.00-2.08 (4H, m), 2.24-2.28 (2H, m), 3.13-4.06 (26H, m, containing two 3H, s at 3.30 and 3.40 ppm), 4.2-4.4 (1H, m), 4.45-4.59 (1H, m), 4.92-4.97 (1H, m),5.34-5.38 (2H, m).
FABMS (negative-ion) m/z; 1329 [M-H]^-, 1322.
Anal. Calcd for C₆₈H₁₃₂O₂₀P₂.3H₂O: C, 58.99; H, 10.00; P, 4.23. Found: C, 58.94; H, 10.04; P4.47。

［実施例１３］
ホスホノ６−Ｏ−｛４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（化合物番号１３番）
（１）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド及び（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃｆ１工程）
実施例１（３）に準じて得られるトリクロロアセトイミドイル４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）１１−オクタデセノイル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(760 mg 0.840 mmol)及び実施例１２（１）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド(645 mg, 0.840 mmol)を塩化メチレン(50 mL)に溶かし、この溶液にモレキュラーシーブス４Ａ(400 mg)及びAgOTf(21 mg, 0.0840 mmol)を加え、窒素中室温で60分間撹拌した。反応終了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝4／1）で精製することによりガム状の標記化合物（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(400 mg, 収率32%)及び（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(460 mg, 収率37%)を得た。
（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシドの物理恒数：
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.25 (66H, bs), 1.40-1.80 (13H, m, containing 3H, dd, J=1.5, 6.6 Hz at 1.55 ppm), 1.82-1.89 (2H, m),1.98-2.02 (4H, m) 3.1-3.2 (2H, m), 3.22-3.79 (20H, m, containing 3H, s, at 3.28ppm, and 3H, s, at 3.37 ppm),3.8-4.0 (4H, m),4.19-4.3 (2h, m),4.53-4.87 (12H, m),5.03-5.4 (12H, m), 5.88-5.97 (4H, m), 6.13 (1H, qd, J=1.5, J=12.5Hz).
FABMS (positive-ion) m/z; [M+Na,] 1547⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₅H₁₅₃O₂₀PNa:1500.0591 Found;1548.0624.
（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−α−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシドの物理恒数：
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (12H, t, J=6.6 Hz), 1.25 (66H, bs), 1.40-1.80 (13H, m, containing 3H, dd, J=1.5, 6.6 Hz at 1.55 ppm), 1.82-2.02 (6H, m), 3.22-4.0 (22H, m, contining 3H, s, at 3.28ppm, and 3H, s, at 3.37ppm), 4.23 (1H, m), 4.53-4.88 (12H, m), 5.03-5.4 (12H, m), 5.89-5.98 (4H, m), 6.13 (1H, qd, J=1.5, 12.5 Hz, NH).
FABMS (positive-ion) m/z; [M+Na,] 1547⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₅H₁₅₃O₂₀PNa: 1548.0590, Found; 1548.0582。

（２）４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−Ｄ−グルコピラノ−ス（第Ｃｆ２工程）
（１）で得られた（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド(370 mg, 0.242 mmol)をTHF(20 mL)及び水(0.5 mL)に溶かし、この溶液にヨウ素(92.5 mg, 0.365 mmol)を加え、室温で４時間撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、チオ硫酸ナトリウム水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝3／1）で精製することによりガム状の標記化合物(250 mg, 収率69%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.86-0.89 (12H, m), 1.25 (66H, bs), 1.40-2.02 (17H, m, containing OH), 3.10-3.90 (20H, m, containing 3H, s, at 3.17 ppm, and 3H, s, at 3.37 ppm4.0-4.70 (14H, m), 4.81 (1H, m), 5.18-5.42 (11H, m), 5.89-6.00 (4H, m).
FABMS (positive-ion) m/z; 1507 [M+Nal]⁺.
HRFABMS; Calcd. for C₈₂H₁₄₉O₂₀PNa;1508.0277. Found; 1508.0294。

（３）ジアリルホスホノ４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ２工程）
（２）で得られた４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−Ｄ−グルコピラノ−ス(250 mg, 0.168 mmol)を塩化メチレン(30 mL)に溶かし、この溶液に硫酸ナトリウム(540 mg)、１Ｈ−テトラゾール(51 mg, 0.700 mmol)及びジアリルジイソプロピルホスホルアミダイト(64 mg, 0.250 mmol)を加え、窒素気流下室温で30分間撹拌した。反応終了後、反応液をそのままシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝3／1）で精製することにより油状のホスファイト(268 mg)を得た。

得られたホスファイトをTHF(25 mL)に溶かし、この溶液に30%過酸化水素(500 mg)を加え、氷冷下30分間攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、10%ハイポ水及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝2／1）で精製することにより油状の標記化合物のアノマー混合物(240 mg, 収率86%)を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.80-1.90 (12H, m), 1.26 (66H, bs), 1.40-1.70 (10H, m), 1.70-1.80 (2H, m), 1.80-1.90 (2H, m), 1.90-205 (4H, m), 3.10 (1H, m), 3.27 (3H, s), 3.33 (1H, m), 3.38 (3H, m), 3.40-390 (14H, m), 4.1-4.2 (1H, m), 4.25 (1H, m), 4.40-4.80 (14H, m), 5.1 (1H, m5.19-5.40 (14H, m), 5.86-5.98 (6H, m).
FABMS(positive-ion) m/z; 1667 [M+Na]⁺.
HRFABMS,C₈₈H₁₅₈O₂₃P₂Calcd. for: 1668.0567. Found: 1668.0590。

（４）ホスホノ６−Ｏ−｛４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−α，β−Ｄ−グルコピラノシド（第Ｃａ３工程）
（３）で得られたジアリルホスホノ４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α，β−Ｄ−グルコピラノシド(アノマー混合物, 150 mg, 0.091 mmol)を乾燥THF(20 mL)に溶かし、この溶液にトリフェニルホスフィン(30 mg, 0.114 mmol)、トリエチルアミン(111 mg, 1.09 mmol)、ギ酸(93 mg, 2.02 mmol)及びPd(PPh₃)₄(30 mg, 0.026 mmol)を加え、窒素中36℃で12時間撹拌した。反応終了後、反応液をろ過し、減圧濃縮し、DEAE-セルロース8gを詰めたカラム（溶出溶媒：クロロホルム-メタノール-水(2:3:1)の0.05 mol/L酢酸アンモニウム溶液）で精製することにより目的物の画分が得られた。画分を集め全体がクロロホルム-メタノール-水(1:1:1)の混合物となるようにクロロホルムと 0.15 mol/L塩酸水を加え、分液ロートで撹拌し、下層のクロロホルム層を集め減圧濃縮すると蝋状の標記化合物のアノマー混合物(88 mg, 収率73%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3291 (w), 3076 (w), 2925, 2853, 1628, 1554, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃-CD₃OD, 5:1) δ 0.86-0.90 (12H, m), 1.27 (62H, bs), 1.40-1.75 (12H, m), 1.99-2.03 (4H, m), 2.20-2.26 (2H, m), 3.23-4.12 (26H, m, containing two 3H, s at 3.30 and 3.40 ppm), 4.76 (1H, d, J=8.1 Hz), 5.33-5.39 (2H, m), 5.71 (1H, dd, J=3.3, 7.0 Hz).
FABMS (negative-ion) m/z; 1315.
Anal. Calcd for C₆₈H₁₃₄O₁₉P₂.3H₂O: C; 59.52,H; 9.93, P; 4.42. Found: C; 59.94, H; 10.29, P; 4.52。

［参考例１１］
（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
（１）１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−デシル−α−Ｄ−グルコフラノース
１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース(17.0 g, 65.31 mmol)及び１−（メタンスルフォニルオキシ）デカン(15.34 g, 64.90 mmol)をDMF(65 mL)に溶解し、その溶液に水素化ナトリウム(55%分散油, 3.40 mg, 77.92 mmol)を氷冷下加えた。０℃で１５分間及びその後室温一夜攪拌した。その後、反応液に氷冷下メタノールを加え水素化ナトリウムを分解し、酢酸エチルで希釈した。この溶液を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝9／1、更に4／1）で精製することにより油状の標記化合物(22.5 g, 収率98%)を得た。
IR ν_max(film) 2987, 2928, 2857 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.27 (14H, bs), 1.32 (3H, s), 1.36 (3H, s), 1.43 (3H, s), 1.50 (3H, s), 1.55-1.58 (2H, m), 3.52 (1H, m), 3.59 (1H, m), 3.86 (1H, d, J=3.7Hz), 3.99 (1H, dd, J=5.9, 8.8 Hz), 4.08 (1H, d, J=5.9 Hz), 4.11 (1H, t, J=6.6 Hz), 4.14 (1H, m), 4.31 (1H, m), 4.53 (1H, d, J=4.4 Hz), 5.88 (1H, d, J=4.4 Hz)。

（２）アリル３−Ｏ−デシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
（１）で得られた化合物(20.6 g)を2%塩酸を含むアリルアルコール(300 mL)に加え１５分間還流した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝1／1、更に1／3）で精製することにより、油状の標記化合物（14.6g, 収率98%, a,b-混合物）を得た。標記化合物を更に精製することなく次の反応に使用した。

（３）アリル３−Ｏ−デシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α，β−Ｄ−グルコピラノシド
（２）で得られた化合物(1.20 g, 3.33 mmol)をＤＭＦ(2.5 mL)に溶かし、この溶液に、２，２−ジメトキシプロパン(2.5 mL)及びp-TsOH(50 mg)を加え、室温で6時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝3／1）で精製することにより、油状の標記化合物であるα体(902 mg, 収率68%)及びβ体(293 mg, 収率22%)を得た。
α体:
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (14H, bs), 1.41 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.53-1.60 (2H, m), 2.27 (1H, d, J=7.3 Hz, OH), 3.46-3.86 (8H, m), 4.04 (1H, m), 4.21 (1H, m), 4.92 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.22-5.35 (2H, m), 5.93 (1H, m).
β体:
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (3H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (14H, bs), 1.41 (3H, s), 1.49 (3H, s), 1.55-1.60 (2H, m), 2.29 (1H, d, J=2.2 Hz, OH), 3.25 (1H, m), 3.31 (1H, t, J=8.8 Hz), 3.45 (1H, m), 3.59-3.67 (2H, m), 3.75-3.82 (2H, m), 3.91 (1H, dd, J=5.1, 11.0 Hz), 4.14 (1H, dd, J=6.2, 12.8 Hz), 4.35 (1H, dd, J=5.1, 12.5 Hz), 4.40 (1H, d, J=8.1 Hz), 4.92 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.20-5.35 (2H, m), 5.93 (1H, m)。

（４）アリル２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−デシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド
（３）で得られたα体(4.58 g, 11.45 mmol)及び（Ｒ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−（メチルスルフォニルオキシ）テトラデカン(4.84 g, 11.45 mmol)をDMF(3 mL)に溶かし、この溶液に水素化ナトリウム(55%分散油, 1.50 g, 34.38 mmol)を加えた。反応液を室温で一夜、更に50℃で2時間攪拌した後、氷冷下反応液にメタノールを加え水素化ナトリウムを分解した後、酢酸エチルで希釈した。この溶液を水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝9／1）で精製することにより油状の標記化合物（5.60 g, 収率67%）を得た。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.04 (6H, s), 0.878 (9H, s), 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (32H, bs), 1.39-1.59 (10H, m, containing 3H, s at d 1.41 ppm and 3H, s at d 1.48 ppm), 1.67-1.77 (2H, m), 3.29 (1H, dd, J=3.7, 8.8 Hz), 3.45-3.85 (10H, m), 4.04 (1H, dd, J=6.6, 12.5 Hz), 4.18 (1H, dd, J=5.1, 12.5 Hz), 4.92 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.20-5.34 (2H, m), 5.92 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z, 727 [M+H]⁺。

（５）アリル２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−３−Ｏ−デシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
（４）で得られた化合物(500 mg, 0.688 mmol)をメタノール(10 mL)に溶かし、この溶液にパラトルエンスルホン酸(24 mg)を加え、40分間室温で攪拌し、減圧濃縮した後酢酸エチルで希釈した。この溶液を重曹水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝1／1）で精製することにより標記化合物(217 mg, 収率58%)を得た。
IR ν_max(KBr) 3358 (broad), 3270 (broad), 2921, 2850, 1466 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (32H, bs), 1.40-1.73 (6H, m), 1.93 (1H, t, J=6.5 Hz, OH), 2.44 (1H, d, J=2.2 Hz, OH), 2;93 (1H, bs, OH), 3.30 (1H, dd, J=3.7, 9.5 Hz), 3.50-3.92 (10H, m), 4.05 (1H, m), 4.20 (1H, m), 5.01 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.22-5.34 (2H, m), 5.95 (1H, m).
FABMS (positive-ion) m/z, 573 [M+H]⁺, 595 [M+Na]⁺.
HRFABMS, Calcd. for C₃₃H₆₄O₇Na: 595.4550. Found: 595.4541。

（６）（Ｅ）−１−プロペニル２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−３−Ｏ−デシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
（５）で得られた化合物(210 mg, 0.367 mmol)をテトラヒドロフラン(THF, 4 mL)に溶かし、この溶液に水素で活性化したIr[C₈H₁₂(MePh₂P)₂]PF₆(5 mg)を加え、室温で一夜攪拌した後、減圧濃縮することにより標記化合物(210 mg, 定量的)を得た。得られた標記化合物は精製せず、次の反応に使用した。
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 1.26 (32H, bs), 1.41-1.73 (9H, m), 1.87 (1H, br, OH), 2.47 (1H, br, OH), 2.74 (1H, bs, OH), 3.32 (1H, m), 3.54-3.92 (10H, m), 5.17 (1H, d, J=3.7 Hz), 5.20 (1H, m), 6.19 (1H, J=1.5, 2.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z, 573 [M+H]⁺, 595 [M+Na]⁺。

（７）（Ｅ）−１−プロペニル６−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−Ｏ−デシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド
（６）で得られた化合物(200 mg, 0.349 mmol)を塩化メチレン(4 mL)に溶かし、この溶液にｔ−ブチルジメチルシリルクロライド(58 mg, 0.384 mmol)及びDMAP(47 mg, 0.384 mmol)を加え、室温で一夜攪拌した後、そのままシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝4／1）で精製することにより油状の標記化合物(217 mg, 収率90%)を得た。
IR ν_max(film) 3456 (broad), 2926, 2855, 1465 cm^-1.
400 MHz ¹H NMR (CDCl₃) δ 0.08 (6H, s), 0.88 (6H, t, J=6.6 Hz), 0.90 (9H, s), 1.26 (32H, bs), 1.40-1.75 (9H, m, containing 3H, d, J=7.3 Hz at 1.55 ppm), 2.75 (1H, bs, OH), 2.84 (1H, bs, OH), 3.30 (1H, m), 3.53-3.87 (10H, m), 5.14 (1H, d, J=2.9 Hz), 5.20 (1H, m6.20 (1H, d, J=12.5 Hz).
FABMS (positive-ion) m/z, 687 [M+H]⁺, 709 [M+Na]⁺.
HRFABMS Calcd. for C₃₉H₇₈O₇SiNa: 709.5414. Found: 709.5393。

（８）（Ｅ）−１−プロペニル４−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（アリルオキシカルボニルオキシ）テトラデシル］−６−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３−Ｏ−デシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
（７）で得られた化合物(203 mg, 0.293 mmol)をトルエン(6 mL)に溶かし、この溶液にピリジン(0.50 g, 6.32 mmol)を加え、更に氷冷下トリホスゲン(200 mg, 0.674 mmol)を加え、10分間激しく撹拌した。この反応液にアリルアルコール(0.60 g, 10.331 mmol)を加え、氷冷下1時間撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：シクロヘキサン／酢酸エチル＝14／1）で精製することにより標記化合物と不明物の混合物(325 mg)を得た。得られた標記化合物は、更に精製することなく次の反応に使用した。

［試験例１］
ヒト全血ＴＮＦα産生に対する抑制試験（in vitro）
本試験は、Hartmanらの方法（D.A.Hartman, S.J.Ochalski and R.P.Carlson; The effects of antiinflammatory and antiallergic drugs on cytokine release after stimulation of human whole blood by lipopolysaccharide and zymosan A: Inflamm. Res., 44, 269 (1995)）に準じて行なった。

健常人のボランティアよりへパリン存在下末梢血を採取した。全血360 μLを、被検化合物のジメチルスルホキシド溶液20 μLを予め添加した９６−ｗｅｌｌブロックに加え、更に刺激剤としてリポ多糖(LPS)（E.coli O26:B6由来、SIGMA社）（終濃度10 ng/mL）20 μLを添加後よく混和し、37℃、5%ＣＯ₂の条件下で６時間培養を行なった。培養終了後、４℃に冷却して反応を止め、直ちに2000 rpmの条件で１５分間遠心し、上清の血漿を分離回収した。血漿中に産生、放出されたＴＮＦαは酵素免疫測定（ELISA）キット（Biosource社）で測定した。被検化合物存在下及び非存在下のサイトカイン産生量より抑制率を求めた。これら平均抑制率に基づいて、最小二乗法によりＩＣ₅₀値を求めた。その結果を表１に示す。なお、比較として、米国特許5935938号公報に記載の化合物を比較化合物として用い、試験化合物と同様にＩＣ₅₀値を求めた。比較化合物の構造式を示す。

［表１］
―――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物ＩＣ₅₀(nM)
―――――――――――――――――――――――――――――
化合物１ 0.49
化合物２ 0.51
化合物３ 0.65
― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―
比較化合物 0.97
―――――――――――――――――――――――――――――
［試験例２］
ヒト全血ＴＮＦα産生に対する抑制試験（in vitro）
本試験は、試験例１と同様に行った。得られた結果を表２〜３に示す。なお、比較化合物についても試験例１と同様の比較化合物を用いた。

［表２］
―――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物ＩＣ₅₀(nM)
―――――――――――――――――――――――――――――
化合物８ 0.06
― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―
比較化合物 2.94
―――――――――――――――――――――――――――――
［表３］
―――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物ＩＣ₅₀(nM)
―――――――――――――――――――――――――――――
化合物９ 0.83
― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―
比較化合物 8.24
―――――――――――――――――――――――――――――
［試験例３］
マウスＴＮＦα産生に対する抑制活性試験（in vivo）
本試験は、Y.Endoらの方法（British Journal of Pharmacology 128, 5-12 (1999)）に準じて行った。

リポポリサッカライド(LPS)に対して感受性が強いことが知られているC3H/HeNマウス（雄、7週齢）を1群5匹で使用した。ガラクトサミン(GalN, 1 g/5mL)及びLPS（0.05 mg/5mL）は生理食塩水でそれぞれ溶解した後、等量で混和してGalN・LPS溶液を調製した。調製したGalN・LPS溶液は10 mL/kgの割合で尾静脈内注射した。試験化合物は0.1%トリエチルアミン水溶液に溶解し、GalN・LPS溶液注射とほぼ同時に10 mL/kgの割合で尾静脈内注射した。GalN・LPS溶液注射1時間後にエーテル麻酔下、マウス下行大静脈より血液を採取し、血漿を分離した。血漿中のTNFα産生量は市販のTNFαELISAキットを用いて測定した。試験化合物のTNFα産生抑制活性は、GalN・LPS注射により産生されたTNFαに対する抑制率として算出した。各個体での抑制率と投与量からの回帰直線を求め、この回帰直線からＩＤ₅₀値（50%の抑制率を示す投与量）を算出した。試験結果を表４〜６に示す。

［表４］
―――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物ＩＤ₅₀(mg/kg)
―――――――――――――――――――――――――――――
化合物１ 0.45
化合物２ <0.2
化合物３ 0.96
― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―
比較化合物 2.12
―――――――――――――――――――――――――――――
［表５］
―――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物ＩＤ₅₀(mg/kg)
―――――――――――――――――――――――――――――
化合物８ 0.55
― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―
比較化合物 3.28
―――――――――――――――――――――――――――――
［表６］
―――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物ＩＤ₅₀(mg/kg)
―――――――――――――――――――――――――――――
化合物９ <0.2
― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ― ―
比較化合物 1.82
―――――――――――――――――――――――――――――
［試験例４］
マウス致死に対する救命試験（in vivo）
本試験は、H.Takadaらの方法（The Journal of Infectious Diseases 162, 428-434 (1990)）に準じて行なった。

GalN・LPS溶液注射72時間後のマウスの生死を観察し、生存率を算出した。使用したマウスの系統、週齢、性別、GalN・LPSおよび化合物投与液の調製法、投与経路とタイミング等は試験例３に準じて行なった。なお、本試験は１群８匹のマウスを使用した。試験結果を表７〜９に示す。

［表７］
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
72時間後のマウスの生存率(%)
――――――――――――――――――――――――――――――
投与量(mg/kg) 試験化合物：化合物２化合物３比較化合物
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
0.3 38 50 25
1 75 100 63
3 100 100 100
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
［表８］
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
72時間後のマウスの生存率(%)
――――――――――――――――――――――――――――――
投与量(mg/kg) 試験化合物：化合物８比較化合物
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
0.3 50 50
1 75 75
3 100 50
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
［表９］
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
72時間後のマウスの生存率(%)
――――――――――――――――――――――――――――――
投与量(mg/kg) 試験化合物：化合物９比較化合物
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
0.3 13 13
1 38 0
3 100 25
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

Claims

下記一般式

［式中、Ｑは、酸素原子、Ｃ₁−Ｃ₃アルキレン基、基-O-Alk-又は基-O-Alk-O-（但し、AlkはＣ₁−Ｃ₃アルキレン基を示す。）であり、
Ｗは、酸素原子又は基-NH-を示し、
Ｒ¹（Ｗが基-NH-である場合）は、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルケノイル基又は下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイル基を示し、
Ｒ¹（Ｗが酸素原子である場合）、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異なって、水素原子、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルキル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルケニル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルキニル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイル基、下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルケノイル基又は下記置換基群Ａから選択された一種以上の基で置換されていてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイル基を示し、
Ｒ⁵は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルケニルオキシ基又はオキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₆アルキニルオキシ基を示し、
置換基群Ａは、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基、オキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、（Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、｛（Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ）Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ｝Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルケニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₂−Ｃ₂₀アルキニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₁−Ｃ₂₀アルカノイルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルケノイルオキシ基及びオキソ基を有していてもよいＣ₃−Ｃ₂₀アルキノイルオキシ基からなる群である。］で表される化合物、その薬理上許容しうる塩。
Ｗが基−ＮＨ−であり、かつ、Ｒ¹が置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₈−Ｃ₁₈アルケノイル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが基−ＮＨ−であり、かつ、Ｒ¹が置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₁₀−Ｃ₁₈アルケノイル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが基−ＮＨ−であり、かつ、Ｒ¹が置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルカノイル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケノイル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルキル基、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルケニル基、Ｃ₄−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₄−Ｃ₁₈アルケノル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルキル基、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルケニル基、Ｃ₈−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₈−Ｃ₁₈アルケノル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルキル基、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルケニル基、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルカノイル基又はＣ₁₀−Ｃ₁₈アルケノル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが酸素原子であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルキル基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルケニル基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルカノイル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケノル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが酸素原子であり、Ｒ¹及びＲ³が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルカノイル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケノル基であり、かつ、Ｒ²及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、Ｃ₁₂−Ｃ₁₆アルキル基又はＣ₁₂−Ｃ₁₆アルケニル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｗが酸素原子であり、Ｒ¹及びＲ³が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、デカノイル基、ドデカノイル基、テトラデカノイル基、ドデセノイル基、テトラデセノイル基又はオクタデセノイル基であり、かつ、Ｒ²及びＲ⁴が、同一又は異なって、置換基群Ａから選択された置換基を有してもよい、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ドデセニル基、テトラデセニル基又はオクタデセニル基である請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
置換基群Ａから選択された置換基が、フッ素原子、水酸基、Ｃ₁−Ｃ₂₀アルコキシ基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₄アルケニルオキシ基、Ｃ₁₂−Ｃ₁₄アルカノイルオキシ基又はＣ₁₂−Ｃ₁₄アルケノイルオキシ基である請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
置換基群Ａから選択された置換基が、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ドデセニルオキシ基、テトラデセニルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、テトラデカノイルオキシ基、ドデセノイルオキシ基、テトラデセノイルオキシ基又はオクタデセノイル基である請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｒ⁵が、ハロゲン原子、水酸基又は無置換のＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基である請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｒ⁵が、フッ素原子、水酸基又はメトキシ基である請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｑが、酸素原子である請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
Ｑが、ホスホノエチル基である請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
右側グルコース又はグルコサミンの１位がα位である請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の化合物又はその薬理上許容しうる塩。
請求項１に記載の、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
２−（ホスホノオキシ）エチル３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−（３−オキソテトラデカノイルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
２−（ホスホノオキシ）エチル６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
２−（ホスホノオキシ）エチル２，３−ジ−Ｏ−ドデシル−６−Ｏ−｛６−Ｏ−メチル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル]−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド若しくは
ホスホノ６−Ｏ−｛４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセニル］−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−[（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル]−α，β−Ｄ−グルコピラノシド、又はその薬理上許容しうる塩。
請求項１に記載の、
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド若しくは
ホスホノ３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−｛３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−Ｏ−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイル］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル｝−２−Ｏ−（３−オキソテトラデカノイル）−α−Ｄ−グルコピラノシド、又はその薬理上許容しうる塩。
請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の化合物を有効成分として含有する医薬。
請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の化合物を有効成分として含有する、炎症の予防剤又は治療剤。
請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の化合物を有効成分として含有する、自己免疫疾患の予防剤又は治療剤。
請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の化合物を有効成分として含有する、敗血症の予防剤又は治療剤。
請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の化合物を有効成分として含有する、免疫抑制剤。
請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の化合物を有効成分として含有する、冠動脈バイパス形成術後の予後改善剤。