JP2004075670A - グルコシルリピッドａ１位カルボキシメチル類縁体 - Google Patents

Abstract

【課題】優れたマクロファージ活性抑制作用を有し、免疫抑制剤又は炎症性疾患、自己免疫疾患若しくは敗血症の予防剤及び／又は治療剤として有用な化合物を提供することを課題とする。
【解決手段】下記一般式
【化１】

［式中、Ｒ^１は、水素原子、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキル基、Ｃ_２−Ｃ_２０アルケニル基、Ｃ_２−Ｃ_２０アルキニル基等、
Ｒ^２及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキル基、Ｃ_２−Ｃ_２０アルケニル基、Ｃ_２−Ｃ_２０アルキニル基等、
Ｒ^３は、Ｃ_１−Ｃ_２０アルカノイル基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルケノイル基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルキノイル基等、
Ｒ^５は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、Ｃ_１−Ｃ_６アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_６アルケニルオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_６アルキニルオキシ基等。］で表される化合物、その薬理上許容しうる塩又はそのエステル。
【選択図】なし。

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れたマクロファージ活性抑制作用を有し、免疫抑制剤又は炎症性疾患、自己免疫疾患若しくは敗血症の予防剤及び／又は治療剤として有用な新規リピッドＡ類縁体、その薬理上許容される塩又はそのエステル及びそれらを有効成分として含有する医薬に関する。
【０００２】
【従来の技術】
腸内細菌から得られたグラム陰性菌の細胞壁の最表層には菌体外に分泌されない毒成分（内毒素）が含まれており、この内毒素は、内毒素活性以外にも、生体の自己防衛にかかわる免疫アジュバント活性作用、マクロファ−ジ活性化作用、マイトジェン活性作用、発熱作用、腫瘍壊死作用、抗体産生増強作用、ＴＮＦ誘導作用等の多様な生物活性を示す。
【０００３】
かかる内毒素はリポ多糖よりなり、いわゆるリピッドＡと称される部分が内毒素活性の活性中心であることが確認されている（非特許文献１）。
【０００４】
また、リピッドＡ生合成前駆体として、モノサッカライドであるリピッドＸ及びリピッドＹが、Ｅ．ｃｏｌｉ変異株より分離され、これらもリピッドＡと同様の活性を示すことが明らかとなっている。
【０００５】
これらの結果から、上記の多様な活性のうち、有用な活性を有するリピッドＡ、Ｘ又はＹの誘導体合成の試みが頻繁に行われるようになり、例えば、特許文献１、特許文献２又は特許文献３に記載された誘導体が知られている。
【０００６】
【非特許文献１】
テトラヘドロン・レタ−ズ，２６巻，１５４５（１９８５年）
【特許文献１】
特開平１０−３２４６９４号公報
【特許文献２】
特開平５−１９４４７０号公報
【特許文献３】
特開２００１−３４８３９６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者等の課題は、優れたマクロファージ活性抑制作用を有し、抗炎症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤又は抗敗血症剤として有用な新規リピッドＡ類縁体を見出すことである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記課題を解決するため、鋭意研究を行った結果、１位にカルボキシメチル基を有するグリコシルリピッドＡ類縁体のある系統の化合物が、優れたマクロファ−ジ活性抑制作用を有し、免疫抑制剤又は炎症性疾患、自己免疫疾患若しくは敗血症の予防剤及び／又は治療剤として有用であることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
本発明の化合物は、
（１）一般式
【００１０】
【化２】

【００１１】
［式中、
Ｒ^１は、水素原子、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルキル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニル基を示し、
Ｒ^２及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルキル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニル基を示し、
Ｒ^３は、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルカノイル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルケノイル基又は下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルキノイル基を示し、
Ｒ^５は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_６アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルケニルオキシ基又はオキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルキニルオキシ基を示し、
置換基群Ａは、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニルオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基及びＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基からなる群である。］
で表される化合物、その薬理上許容しうる塩又はそのエステルである。
【００１２】
本発明の化合物（Ｉ）のうち、好適なものは、
（２）　（１）において、
Ｒ^１が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（３）　（１）において、
Ｒ^１が、無置換又は水酸基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（４）　（１）において、
Ｒ^１が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（５）　（１）において、
Ｒ^１が、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（６）　（１）乃至（５）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^２が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（７）　（１）乃至（５）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^２が、無置換又は水酸基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（８）　（１）乃至（５）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^２が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（９）　（１）乃至（５）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^２が、ドデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１０）　（１）乃至（９）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^３が、Ｃ_１−Ｃ_２０アルカノイル基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルケノイル基又はＣ_３−Ｃ_２０アルキノイル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１１）　（１）乃至（９）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^３が、ホルミル基、アセチル基、Ｃ_１１−Ｃ_２０アルケノイル基又はＣ_１１−Ｃ_２０アルキノイル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１２）　（１）乃至（９）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基、９−オクタデシノイル基、ホルミル基又はアセチル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１３）　（１）乃至（９）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基又は９−オクタデシノイル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１４）　（１）乃至（１３）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^４が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルケニルオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_１−Ｃ_２０アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１５）　（１）乃至（１３）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^４が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基若しくはＣ_１１−Ｃ_２０アルケニルオキシ基を置換基として有するＣ_１−Ｃ_２０アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１６）　（１）乃至（１３）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^４が、３位に水酸基、メトキシ基又はＣ_１１−Ｃ_２０アルケニルオキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１７）　（１）乃至（１３）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基、３−メトキシデシル基又は（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１８）　（１）乃至（１３）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基又は３−メトキシデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（１９）　（１）乃至（１８）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^５が、ハロゲン原子、水酸基又はＣ_１−Ｃ_４アルコキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２０）　（１）乃至（１８）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^５が、フッ素原子、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２１）　（１）乃至（１８）から選択されるいずれか一つにおいて、
Ｒ^５が、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２２）　（１）において、
Ｒ^１が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、ドデシル基又はテトラデシル基であり、Ｒ^２が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基であり、Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基、９−オクタデシノイル基、ホルミル基又はアセチル基であり、Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基、３−メトキシデシル基又は（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル基であり、Ｒ^５が、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２３）　（１）において、
Ｒ^１が、ドデシル基又はテトラデシル基であり、Ｒ^２が、ドデシル基であり、Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基又は９−オクタデシノイル基であり、Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基又は３−メトキシデシル基であり、Ｒ^５が、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩、
（２４）　（１）において、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル｝−６−Ｏ−メチル−２−｛（Ｚ）−１１−（オクタデセノイルアミノ）｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、カルボキシメチル　３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジテトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−オクタデカノイルアミノ−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ，Ｚ）−９，１２−オクタデカジエニルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［１１−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシドデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−ヘプチルオキシエチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−ノニルオキシエチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ビス［（Ｒ）−３−メトキシドデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−ドデシル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシドデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ビス（ノニルオキシエチル）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ビス［（Ｒ）−３−ヒドロキシドデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ドデシルオキシテトラデシル｝−６−Ｏ−メチル−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ドデシルオキシテトラデシル｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２，６−ジデオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ドデシルオキシテトラデシル｝−６−フルオロ−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセナミド］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−２−ホルムアミド−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−［（Ｚ）−７−テトラデセニルオキシ］テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−［（Ｚ）−７−テトラデセニルオキシ］テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−（３−ヒドロキシテトラデシル）−α−Ｄ−グルコピラノシド及び
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−６−Ｏ−メチル−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−［（Ｚ）−７−テトラデセニルオキシ］テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−（３−ヒドロキシテトラデシル）−α−Ｄ−グルコピラノシド
からなる群から選択される化合物又はその薬理上許容される塩、
（２５）　（１）において、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル｝−６−Ｏ−メチル−２−｛（Ｚ）−１１−（オクタデセノイルアミノ）｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド及び
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
からなる群から選択される化合物又はその薬理上許容される塩、
（２６）　（１）乃至（２５）から選択されるいずれか一つに記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有する医薬組成物である。
【００１３】
また、本発明は、上記化合物（Ｉ）を有効成分として含有する医薬であり、特に、マクロファージ活性を抑制する医薬であり、炎症の予防剤又は治療剤、自己免疫疾患の予防剤又は治療剤、免疫抑制剤、あるいは、敗血症の予防剤又は治療剤である。
【００１４】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^３における「下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルカノイル基」の「Ｃ_１−Ｃ_２０アルカノイル基」としては、例えば、ホルミル（但し、オキソ基が置換基である場合は除く）、アセチル、プロピオニル、イソプロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ｓｅｃ−ブチリル、ｔｅｒｔ−ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、イソヘキサノイル、ヘプタノイル、イソヘプタノイル、オクタノイル、イソオクタノイル、ノナノイル、イソノナノイル、デカノイル、イソデカノイル、ウンデカノイル、イソウンデカノイル、ラウロイル、イソラウロイル、トリデカノイル、イソトリデカノイル、ミリストイル、ペンタデカノイル、パルミトイル、ヘプタデカノイル、ステアロイル、イソステアロイル、ノナデカノイル、イコサノイル基のような直鎖又は分枝鎖のＣ_１−Ｃ_２０アルカノイル基があげられ、好適には、Ｃ_１−Ｃ_１８アルカノイル基であり、より好適には、Ｃ_１−Ｃ_８アルカノイル基であり、更に好適には、Ｃ_１−Ｃ_４アルカノイル基であり、特に好適には、ホルミル基、アセチル基又はプロピオニル基であり、最適には、ホルミル基又はアセチル基である。
【００１５】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^３における「下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルケノイル基」の「Ｃ_３−Ｃ_２０アルケノイル基」としては、上記であげたＣ_１−Ｃ_２０アルカノイル基のうち、炭素数３乃至２０個のものであって、１乃至３個の二重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_１２−Ｃ_１８アルケノイル基であり、更に好適には、Ｃ_１８アルケノイル基であり、特に好適には、（Ｚ，Ｚ）−９，１２−オクタデカジエニル基、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基又は（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基であり、最適には、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基又は（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基である。
【００１６】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^３における「下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルキノイル基」の「Ｃ_３−Ｃ_２０アルキノイル基」としては、上記であげたＣ_１−Ｃ_２０アルカノイル基のうち、炭素数３乃至２０個のものであって、１乃至３個の三重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_１２−Ｃ_１８アルキノイル基であり、更に好適には、Ｃ_１８アルキノイル基であり、特に好適には、１１−オクタデシノイル基又は９−オクタデシノイル基であり、最適には、９−オクタデシノイル基である。
【００１７】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４における「下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルキル基」の「Ｃ_１−Ｃ_２０アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチル、１−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、５−メチルヘキシル、１−プロピルブチル、４，４−ジメチルペンチル、オクチル、１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘプチル、６−メチルヘプチル、１−プロピルペンチル、２−エチルヘキシル、５，５−ジメチルヘキシル、ノニル、３−メチルオクチル、４−メチルオクチル、５−メチルオクチル、６−メチルオクチル、１−プロピルヘキシル、２−エチルヘプチル、６，６−ジメチルヘプチル、デシル、１−メチルノニル、３−メチルノニル、８−メチルノニル、３−エチルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、７，７−ジメチルオクチル、ウンデシル、４，８−ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、３，７，１１−トリメチルドデシル、ヘキサデシル、４，８，１２−トリメチルトリデシル、１−メチルペンタデシル、１４−メチルペンタデシル、１３，１３−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、１５−メチルヘキサデシル、オクタデシル、１−メチルヘプタデシル、ノナデシル、イコシル又は３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシル基のような炭素数１乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基があげられ、好適には、Ｃ_２−Ｃ_１８アルキル基であり、より好適には、Ｃ_２−Ｃ_１６アルキル基であり、更に好適には、Ｃ_１０−Ｃ_１４アルキル基であり、特に好適には、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基である。
【００１８】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４における「下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニル基」の「Ｃ_２−Ｃ_２０アルケニル基」としては、上記であげたＣ_１−Ｃ_２０アルキル基のうち、炭素数２乃至２０個のものであって、１乃至３個の二重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_４−Ｃ_１８アルケニル基であり、更に好適には、Ｃ_１２−Ｃ_１４アルケニル基（特に、５−ドデセニル基又は７−テトラデセニル基）である。
【００１９】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^４における「下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニル基」の「Ｃ_２−Ｃ_２０アルキニル基」としては、上記であげたＣ_１−Ｃ_２０アルキル基のうち、炭素数２乃至２０個のものであって、１乃至３個の三重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_４−Ｃ_１８アルキニル基であり、更に好適には、Ｃ_１２−Ｃ_１４アルキニル基（特に、５−ドデシニル基又は７−テトラデシニル基）である。
【００２０】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^５及び置換基群Ａにおける「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素原子があげられ、好適には、フッ素、塩素又は臭素原子であり、更に好適には、フッ素原子である。
【００２１】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^５における「オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_６アルコキシ基」の「Ｃ_１−Ｃ_６アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、２−メチルブチルオキシ、ネオペンチルオキシ、１−エチルプロピルオキシ、ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、４−メチルペンチルオキシ、３−メチルペンチルオキシ、２−メチルペンチルオキシ、１−メチルペンチルオキシ、３，３−ジメチルブチルオキシ、２，２−ジメチルブチルオキシ、１，１−ジメチルブチルオキシ、１，２−ジメチルブチルオキシ、１，３−ジメチルブチルオキシ、２，３−ジメチルブチルオキシ又は２−エチルブチルオキシ基のような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基があげられ、好適には、炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、更に好適には、メトキシ基である。
【００２２】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^５における「オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルケニルオキシ基」の「Ｃ_２−Ｃ_６アルケニルオキシ基」としては、上記であげたＣ_１−Ｃ_６アルコキシ基のうち、炭素数２乃至６個のものであって、１乃至３個の二重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_２−Ｃ_４アルケニルオキシ基（特に、３−ブテニルオキシ基）である。
【００２３】
上記式（Ｉ）中、Ｒ^５における「オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルキニルオキシ基」の「Ｃ_２−Ｃ_６アルキニルオキシ基」としては、上記であげたＣ_１−Ｃ_６アルコキシ基のうち、炭素数２乃至６個のものであって、１乃至３個の三重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_２−Ｃ_４アルキニルオキシ基（特に、３−ブチニルオキシ基）である。
【００２４】
上記式（Ｉ）中、置換基群Ａにおける「オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基」の「Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基」としては、上記であげた「Ｃ_１−Ｃ_２０アルキル基」に酸素原子が結合している基があげられ、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、２−メチルブチルオキシ、ネオペンチルオキシ、１−エチルプロピルオキシ、ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、４−メチルペンチルオキシ、３−メチルペンチルオキシ、２−メチルペンチルオキシ、１−メチルペンチルオキシ、３，３−ジメチルブチルオキシ、２，２−ジメチルブチルオキシ、１，１−ジメチルブチルオキシ、１，２−ジメチルブチルオキシ、１，３−ジメチルブチルオキシ、２，３−ジメチルブチルオキシ、２−エチルブチルオキシ、ヘプチルオキシ、４−メチルヘキシルオキシ、１−プロピルブチルオキシ、４，４−ジメチルペンチルオキシ、オクチルオキシ、６−メチルヘプチルオキシ、５，５−ジメチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、１−メチルノニルオキシ、３−メチルノニルオキシ、８−メチルノニルオキシ、３−エチルオクチルオキシ、３，７−ジメチルオクチルオキシ、７，７−ジメチルオクチルオキシ、ウンデシルオキシ、４，８−ジメチルノニルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、３，７，１１−トリメチルドデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、４，８，１２−トリメチルトリデシルオキシ、１−メチルペンタデシルオキシ、１４−メチルペンタデシルオキシ、１３，１３−ジメチルテトラデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、１−メチルヘプタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシ又は３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシルオキシ基のような炭素数１乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基があげられ、好適には、Ｃ_１−Ｃ_１８アルコキシ基であり、より好適には、Ｃ_１−Ｃ_１４アルコキシ基であり、更に好適には、メトキシ基、ヘプチルオキシ基、ノニルオキシ基又はドデシルオキシ基である。
【００２５】
上記式（Ｉ）中、置換基群Ａにおける「オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニルオキシ基」の「Ｃ_２−Ｃ_２０アルケニルオキシ基」としては、上記であげた「Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基」のうち、炭素数２乃至２０個のものであって、１乃至３個の二重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_４−Ｃ_１８アルケニルオキシ基であり、更に好適には、Ｃ_１２−Ｃ_１４アルケニルオキシ基（特に、５−ドデセニルオキシ基又は７−テトラデセニルオキシ基）である。
【００２６】
上記式（Ｉ）中、置換基群Ａにおける「オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニルオキシ基」の「Ｃ_２−Ｃ_２０アルキニルオキシ基」としては、上記であげた「Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基」のうち、炭素数２乃至２０個のものであって、１乃至３個の三重結合を有する基があげられ、好適には、Ｃ_４−Ｃ_１８アルキニルオキシ基であり、更に好適には、Ｃ_１２−Ｃ_１４アルキニルオキシ基（特に、５−ドデシニルオキシ基又は７−テトラデシニルオキシ基）である。
【００２７】
上記式（Ｉ）中、置換基群Ａにおける「Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基」としては、上記であげたＣ_１−Ｃ_２０アルキル基にカルボニル基が結合している基があげられ、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓ−ブチルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、２−メチルブチルカルボニル、ネオペンチルカルボニル、１−エチルプロピルカルボニル、ヘキシルカルボニル、イソヘキシルカルボニル、４−メチルペンチルカルボニル、３−メチルペンチルカルボニル、２−メチルペンチルカルボニル、１−メチルペンチルカルボニル、３，３−ジメチルブチルカルボニル、２，２−ジメチルブチルカルボニル、１，１−ジメチルブチルカルボニル、１，２−ジメチルブチルカルボニル、１，３−ジメチルブチルカルボニル、２，３−ジメチルブチルカルボニル、２−エチルブチルカルボニル、ヘプチルカルボニル、１−メチルヘキシルカルボニル、２−メチルヘキシルカルボニル、３−メチルヘキシルカルボニル、４−メチルヘキシルカルボニル、５−メチルヘキシルカルボニル、１−プロピルブチルカルボニル、４，４−ジメチルペンチルカルボニル、オクチルカルボニル、１−メチルヘプチルカルボニル、２−メチルヘプチルカルボニル、３−メチルヘプチルカルボニル、４−メチルヘプチルカルボニル、５−メチルヘプチルカルボニル、６−メチルヘプチルカルボニル、１−プロピルペンチルカルボニル、２−エチルヘキシルカルボニル、５，５−ジメチルヘキシルカルボニル、ノニルカルボニル、３−メチルオクチルカルボニル、４−メチルオクチルカルボニル、５−メチルオクチルカルボニル、６−メチルオクチルカルボニル、１−プロピルヘキシルカルボニル、２−エチルヘプチルカルボニル、６，６−ジメチルヘプチルカルボニル、デシルカルボニル、１−メチルノニルカルボニル、３−メチルノニルカルボニル、８−メチルノニルカルボニル、３−エチルオクチルカルボニル、３，７−ジメチルオクチルカルボニル、７，７−ジメチルオクチルカルボニル、ウンデシルカルボニル、４，８−ジメチルノニルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデシルカルボニル、３，７，１１−トリメチルドデシルカルボニル、ヘキサデシルカルボニル、４，８，１２−トリメチルトリデシルカルボニル、１−メチルペンタデシルカルボニル、１４−メチルペンタデシルカルボニル、１３，１３−ジメチルテトラデシルカルボニル、ヘプタデシルカルボニル、１５−メチルヘキサデシルカルボニル、オクタデシルカルボニル、１−メチルヘプタデシルカルボニル、ノナデシルカルボニル、イコシルカルボニル又は３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシルカルボニル基のような炭素数１乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基にカルボニル基が結合している基があげられ、好適には、Ｃ_６−Ｃ_１７アルキルカルボニル基であり、より好適には、Ｃ_８−Ｃ_１２アルキルカルボニル基であり、更に好適には、ヘプチルカルボニル基、ノニルカルボニル基又はウンデカニルカルボニル基である。
【００２８】
上記式（Ｉ）中、置換基群Ａにおける「Ｃ_１−Ｃ_２０アルキニルスルホニル基」としては、上記であげた「Ｃ_１−Ｃ_２０アルキル基」にスルホニル基が結合している基があげられ、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、２−メチルブチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、１−エチルプロピルスルホニル、ヘキシルスルホニル、イソヘキシルスルホニル、４−メチルペンチルスルホニル、３−メチルペンチルスルホニル、２−メチルペンチルスルホニル、１−メチルペンチルスルホニル、３，３−ジメチルブチルスルホニル、２，２−ジメチルブチルスルホニル、１，１−ジメチルブチルスルホニル、１，２−ジメチルブチルスルホニル、１，３−ジメチルブチルスルホニル、２，３−ジメチルブチルスルホニル、２−エチルブチルスルホニル、ヘプチルスルホニル、１−メチルヘキシルスルホニル、２−メチルヘキシルスルホニル、３−メチルヘキシルスルホニル、４−メチルヘキシルスルホニル、５−メチルヘキシルスルホニル、１−プロピルブチルスルホニル、４，４−ジメチルペンチルスルホニル、オクチルスルホニル、１−メチルヘプチルスルホニル、２−メチルヘプチルスルホニル、３−メチルヘプチルスルホニル、４−メチルヘプチルスルホニル、５−メチルヘプチルスルホニル、６−メチルヘプチルスルホニル、１−プロピルペンチルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、５，５−ジメチルヘキシルスルホニル、ノニルスルホニル、３−メチルオクチルスルホニル、４−メチルオクチルスルホニル、５−メチルオクチルスルホニル、６−メチルオクチルスルホニル、１−プロピルヘキシルスルホニル、２−エチルヘプチルスルホニル、６，６−ジメチルヘプチルスルホニル、デシルスルホニル、１−メチルノニルスルホニル、３−メチルノニルスルホニル、８−メチルノニルスルホニル、３−エチルオクチルスルホニル、３，７−ジメチルオクチルスルホニル、７，７−ジメチルオクチルスルホニル、ウンデシルスルホニル、４，８−ジメチルノニルスルホニル、ドデシルスルホニル、トリデシルスルホニル、テトラデシルスルホニル、ペンタデシルスルホニル、３，７，１１−トリメチルドデシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、４，８，１２−トリメチルトリデシルスルホニル、１−メチルペンタデシルスルホニル、１４−メチルペンタデシルスルホニル、１３，１３−ジメチルテトラデシルスルホニル、ヘプタデシルスルホニル、１５−メチルヘキサデシルスルホニル、オクタデシルスルホニル、１−メチルヘプタデシルスルホニル、ノナデシルスルホニル、イコシルスルホニル又は３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシルスルホニル基のような炭素数１乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基にスルホニル基が結合している基があげられ、好適には、Ｃ_５−Ｃ_１６アルキルスルホニル基であり、より好適には、Ｃ_７−Ｃ_１１アルキルスルホニル基であり、更に好適には、ヘプチルスルホニル基、ノニルスルホニル基又はウンデカニルスルホニル基である。
【００２９】
上記式（Ｉ）中、置換基群Ａにおける「Ｃ_１−Ｃ_２０アルキニルスルフィニル基」としては、上記であげた「Ｃ_１−Ｃ_２０アルキル基」にスルフィニル基が結合している基があげられ、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、イソブチルスルフィニル、ｓ−ブチルスルフィニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル、ペンチルスルフィニル、イソペンチルスルフィニル、２−メチルブチルスルフィニル、ネオペンチルスルフィニル、１−エチルプロピルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル、イソヘキシルスルフィニル、４−メチルペンチルスルフィニル、３−メチルペンチルスルフィニル、２−メチルペンチルスルフィニル、１−メチルペンチルスルフィニル、３，３−ジメチルブチルスルフィニル、２，２−ジメチルブチルスルフィニル、１，１−ジメチルブチルスルフィニル、１，２−ジメチルブチルスルフィニル、１，３−ジメチルブチルスルフィニル、２，３−ジメチルブチルスルフィニル、２−エチルブチルスルフィニル、ヘプチルスルフィニル、１−メチルヘキシルスルフィニル、２−メチルヘキシルスルフィニル、３−メチルヘキシルスルフィニル、４−メチルヘキシルスルフィニル、５−メチルヘキシルスルフィニル、１−プロピルブチルスルフィニル、４，４−ジメチルペンチルスルフィニル、オクチルスルフィニル、１−メチルヘプチルスルフィニル、２−メチルヘプチルスルフィニル、３−メチルヘプチルスルフィニル、４−メチルヘプチルスルフィニル、５−メチルヘプチルスルフィニル、６−メチルヘプチルスルフィニル、１−プロピルペンチルスルフィニル、２−エチルヘキシルスルフィニル、５，５−ジメチルヘキシルスルフィニル、ノニルスルフィニル、３−メチルオクチルスルフィニル、４−メチルオクチルスルフィニル、５−メチルオクチルスルフィニル、６−メチルオクチルスルフィニル、１−プロピルヘキシルスルフィニル、２−エチルヘプチルスルフィニル、６，６−ジメチルヘプチルスルフィニル、デシルスルフィニル、１−メチルノニルスルフィニル、３−メチルノニルスルフィニル、８−メチルノニルスルフィニル、３−エチルオクチルスルフィニル、３，７−ジメチルオクチルスルフィニル、７，７−ジメチルオクチルスルフィニル、ウンデシルスルフィニル、４，８−ジメチルノニルスルフィニル、ドデシルスルフィニル、トリデシルスルフィニル、テトラデシルスルフィニル、ペンタデシルスルフィニル、３，７，１１−トリメチルドデシルスルフィニル、ヘキサデシルスルフィニル、４，８，１２−トリメチルトリデシルスルフィニル、１−メチルペンタデシルスルフィニル、１４−メチルペンタデシルスルフィニル、１３，１３−ジメチルテトラデシルスルフィニル、ヘプタデシルスルフィニル、１５−メチルヘキサデシルスルフィニル、オクタデシルスルフィニル、１−メチルヘプタデシルスルフィニル、ノナデシルスルフィニル、イコシルスルフィニル又は３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデシルスルフィニル基のような炭素数１乃至２０個の直鎖又は分枝鎖アルキル基にスルフィニル基が結合している基があげられ、好適には、Ｃ_５−Ｃ_１６アルキルスルフィニル基であり、より好適には、Ｃ_７−Ｃ_１１アルキルスルフィニル基であり、更に好適には、ヘプチルスルフィニル基、ノニルスルフィニル基又はウンデカニルスルフィニル基である。
【００３０】
上記式（Ｉ）中、「置換基群Ａ」から選択される任意の基は、好適には、独立に１乃至３個置換していてもよく、より好適には、１個置換していてもよい。
【００３１】
上記式（Ｉ）中、「置換基群Ａ」から選択される任意の基は、好適には、水酸基、オキソ基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２０アルケニルオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２０アルキニルオキシ基、Ｃ_８−Ｃ_１２アルキルカルボニル基、Ｃ_７−Ｃ_１１アルキルスルホニル基又はＣ_７−Ｃ_１１アルキルスルフィニル基であり、より好適には、水酸基、オキソ基、メトキシ基、Ｃ_７−Ｃ_１４アルコキシ基又はＣ_７−Ｃ_１４アルケニルオキシ基であり、更に好適には、水酸基、オキソ基、メトキシ基又は（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシであり、特に好適には、水酸基、オキソ基又はメトキシ基である。
【００３２】
上記式（Ｉ）中、「置換基群Ａ」の置換位置は、オキソ基においては、好適には、１位であり、他の基においては、好適には、３位である。
【００３３】
上記式（Ｉ）中、「オキソ基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルキル基」には、上記であげた「Ｃ_１−Ｃ_２０アルカノイル基」を含む。
【００３４】
上記式（Ｉ）中、「オキソ基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルケニル基」には、上記であげた「Ｃ_３−Ｃ_２０アルケノイル基」を含む。
【００３５】
上記式（Ｉ）中、「オキソ基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルキニル基」には、上記であげた「Ｃ_３−Ｃ_２０アルキノイル基」を含む。
【００３６】
上記式（Ｉ）中、好適なＲ^１は、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基であり、より好適には、無置換又は水酸基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基であり、更に好適には、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、ドデシル基又はテトラデシル基であり、特に好適には、ドデシル基又はテトラデシル基である。
【００３７】
上記式（Ｉ）中、好適なＲ^２は、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基であり、より好適には、無置換又は水酸基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基であり、更に好適には、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基であり、特に好適には、ドデシル基である。
【００３８】
上記式（Ｉ）中、好適なＲ^３は、Ｃ_１−Ｃ_２０アルカノイル基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルケノイル基又はＣ_３−Ｃ_２０アルキノイル基であり、より好適には、ホルミル基、アセチル基、Ｃ_１１−Ｃ_２０アルケノイル基又はＣ_１１−Ｃ_２０アルキノイル基であり、更に好適には、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基、９−オクタデシノイル基、ホルミル基又はアセチル基であり、特に好適には、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基又は９−オクタデシノイル基である。
【００３９】
上記式（Ｉ）中、好適なＲ^４は、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルケニルオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_１−Ｃ_２０アルキル基であり、より好適には、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基若しくはＣ_１１−Ｃ_２０アルケニルオキシ基を置換基として有するＣ_１−Ｃ_２０アルキル基であり、更に好適には、３位に水酸基、メトキシ基又はＣ_１１−Ｃ_２０アルケニルオキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基であり、特に好適には、３−ヒドロキシデシル基、３−メトキシデシル基又は（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル基であり、最も好適には、３−ヒドロキシデシル基又は３−メトキシデシル基である。
【００４０】
上記式（Ｉ）中、好適なＲ^５は、ハロゲン原子、水酸基又は無置換のＣ_１−Ｃ_４アルコキシ基であり、より好適には、フッ素原子、水酸基又はメトキシ基であり、特に好適には、水酸基又はメトキシ基である。
【００４１】
上記式（Ｉ）の化合物は、塩にすることができるが、そのような塩としては、好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩又はカルシウム塩のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩；トリエチルアミン塩、トリメチルアミン塩のような有機塩基の塩を挙げることができる。
【００４２】
また、本発明の化合物（Ｉ）は、大気中に放置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そのような水和物も本発明の塩に包含される。
【００４３】
さらに、本発明の化合物（Ｉ）は、他のある種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があるが、そのような溶媒和物も本発明の塩に包含される。
【００４４】
上記式（Ｉ）の化合物は、エステルを形成することができるが、そのエステルを形成する置換基としては、次の（ａ）〜（ｆ）の式を有するものを挙げることができ、「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」や、加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂し得る「反応における保護基」を示す。
（ａ）　−ＣＨＲ^ａＲ^ｂ
（ｂ）　−ＣＨＲ^ｃＲ^ｄ
（ｃ）　−（ＣＨＲ^ｅ）_ｎ−ＯＣＯＲ^ｆ
（ｄ）　−（ＣＨＲ^ｅ）_ｎ−ＯＲ^ｇ
（ｅ）　−ＳｉＲ^ｇＲ^ｈＲ^ｉ
（ｆ）　−ＣＨ_２−Ｐｈ−ＣＯＯＲ^ｊ
上記式中、
ｎは、１又は２を示し、
Ｐｈは、フェニル基を示し、
Ｒ^ａは、水素原子、低級アルキル基、アリール置換された低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、脂肪族アシル基、又は、アリール置換された脂肪族アシル基を示し、好適には、水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルケニル基、又は、低級アルキニル基であり、更に好適には、水素原子、炭素数１乃至３個のアルキル基、ハロゲノ炭素数１乃至３個のアルキル基、炭素数２又は３個の低級アルケニル基、炭素数２又は３個の低級アルキニル基である。
【００４５】
Ｒ^ｂは、水素原子又は低級アルキル基を示し、好適には、水素原子である。
【００４６】
Ｒ^ｃは、アリール基又は置換されたアリール基（該置換基としては、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子及びニトロ基を挙げることができる。）を示し、好適には、低級アルコキシ化アリール基、ハロゲン化アリール基又はニトロ化アリール基であり、更に好適には、低級アルコキシ化フェニル基、ハロゲン化フェニル基又はニトロ化フェニル基である。
【００４７】
Ｒ^ｄは、水素原子又はＲ^ｃで定義した基を示す。
【００４８】
Ｒ^ｅは、水素原子又は低級アルキル基を示し、好適には、水素原子又は炭素数１乃至３個のアルキル基である。
【００４９】
Ｒ^ｆは、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はＲ^ｃで定義した基を示し、好適には、低級アルキル基又は低級アルコキシ基であり、更に好適には、炭素数１乃至３個のアルキル基又は炭素数１乃至３個のアルコキシ基である。
【００５０】
又、Ｒ^ｅ及びＲ^ｆは、一緒になって、フタリジル基又はモノ若しくはジ置換のフタリジル基（該置換基としては、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を挙げることができる。）を示してもよい。
【００５１】
Ｒ^ｇ、Ｒ^ｈ及びＲ^ｉは、同一又は異なって、低級アルキル基又はＲ^ｃで定義した基を示し、好適には、低級アルキル基であり、更に好適には、炭素数１乃至３個のアルキル基である。
【００５２】
Ｒ^ｊは、低級アルキル基を示し、好適には、炭素数１乃至３個のアルキル基である。
【００５３】
上記「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」及び「反応における保護基」としては、具体的には、以下の基があげられる。
【００５４】
すなわち、「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し得る保護基」としては、好適には、メトキシメチル、１−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエチル、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、フェノキシメチル、アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、シクロペンタノイルオキシメチル、１−シクロヘキサノイルオキシブチル、ベンゾイルオキシメチル、メトキシカルボニルオキシメチル、２−プロポキシカルボニルオキシエチルであり、
「反応における保護基」としては、好適には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−ヘキセニル；エチニル、２−プロピニル、２−メチル−２−プロピニル、２−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、２−ヘキシニル；アセチルメチル；ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、６−フェニルヘキシル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチル、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、４−メトキシカルボニルベンジル；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジｔｅｒｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル、メチルジフェニルシリル、イソプロピルジフェニルシリル、ブチルジフェニルシリル、フェニルジイソプロピルシリル基である。
【００５５】
上記式（Ｉ）の化合物は、分子中に不斉炭素を有し、各々がＳ配位、Ｒ配位である立体異性体が存在するが、特に明示していない場合は、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包含される。
【００５６】
上記式（Ｉ）の化合物は、分子中に二重結合を有し、各々がＺ配置、Ｅ配置である幾何異性体が存在するが、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包含される。
【００５７】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物の具体例としては、例えば、下記表１に記載の化合物を挙げることができるが、本発明は、これらの化合物に限定されるものではない。なお、表１の化合物は、式（Ｉ）の構造式を有する。
【００５８】
更に表中の略号は下記の通りである。
Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｒ：プロピル基、ｉＰｒ：イソプロピル基、Ａｃ：アセチル基、Ｆｏｒ：ホルミル基、Ｑ１：３−ヒドロキシデシル基、Ｑ２：３−ヒドロキシドデシル基、Ｑ３：３−ヒドロキシテトラデシル基、Ｑ４：３−メトキシデシル基、Ｑ５：３−メトキシドデシル基、Ｑ６：（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル基、Ｑ７：ヘプチルオキシエチル基、Ｑ８：ノニルオキシエチル基、Ｑ９：ヘプチルカルボニルエチル基、Ｑ１０：ノニルカルボニルエチル基、Ｑ１１：ウンデカニルカルボニルエチル基、Ｑ１２：ヘプチルスルホニルエチル基、Ｑ１３：ノニルスルホニルエチル基、Ｑ１４：ウンデカニルスルホニルエチル基、Ｑ１５：ヘプチルスルフィニルエチル基、Ｑ１６：ノニルスルフィニルエチル基、Ｑ１７：ウンデカニルスルフィニルエチル基、Ｑ１８：オクタデカノイル基、Ｑ１９：１１−ドデセノイル基、Ｑ２０：（Ｚ）−１１−テトラデセノイル基、Ｑ２１：（Ｚ）−１１−ヘキサデセノイル基、Ｑ２２：（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、Ｑ２３：（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、Ｑ２４：（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基、Ｑ２５：（Ｚ，Ｚ）−９，１２−オクタデカジエニル基、Ｑ２６：９−オクタデシノイル基、Ｑ２７：１１−オクタデシノイル基、Ｑ２８：（Ｒ）−３−（ドデシルオキシ）テトラデシル基、（Ｒ）−Ｑ１：（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル基、（Ｓ）−Ｑ２：（Ｓ）−３−ヒドロキシドデシル基。
【００５９】
【表１】
【００６０】
【化３】

【００６１】

【００６２】
表１において、好適な化合物は、
例示化合物番号１：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号７：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１３：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１９：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号４３：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号４９：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル｝−６−Ｏ−メチル−２−｛（Ｚ）−１１−（オクタデセノイルアミノ）｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号５０：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号５１：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号５２：カルボキシメチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号５５：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号６６：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−２−ホルムアミド−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−［（Ｚ）−７−テトラデセニルオキシ］テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１０７：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−６−Ｏ−メチル−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−［（Ｚ）−７−テトラデセニルオキシ］テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−（３−ヒドロキシテトラデシル）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１０８：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−［（Ｚ）−７−テトラデセニルオキシ］テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−（３−ヒドロキシテトラデシル）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１６１：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−オクタデカノイルアミノ−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１６５：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ，Ｚ）−９，１２−オクタデカジエニルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１７３：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［１１−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号２９２：カルボキシメチル　６−Ｏ−［３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号２９３：カルボキシメチル　６−Ｏ−［３−Ｏ−デシル−２−デオキシ−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号２９４：カルボキシメチル　３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号２９５：カルボキシメチル　３−Ｏ−デシル−６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセナミド］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号２９８：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジテトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３０２：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ビス［（Ｒ）−３−メトキシドデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３０６：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシドデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３０８：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−ノニルオキシエチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３１２：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−ドデシル−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシドデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３１７：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ビス（ノニルオキシエチル）−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３２０：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−ヘプチルオキシエチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３２２：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−６−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ビス［（Ｒ）−３−ヒドロキシドデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３２６：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ドデシルオキシテトラデシル｝−６−Ｏ−メチル−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号３２７：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ドデシルオキシテトラデシル｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド又は
例示化合物番号３２８：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセタミド−２，６−ジデオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ドデシルオキシテトラデシル｝−６−フルオロ−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル｝−α−Ｄ−グルコピラノシド
であり、最も好適な化合物は、
例示化合物番号１：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号７：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１３：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号１９：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号４９：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル｝−６−Ｏ−メチル−２−｛（Ｚ）−１１−（オクタデセノイルアミノ）｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号５０：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
例示化合物番号５１：カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド又は
例示化合物番号５２：カルボキシメチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
である。
【００６３】
【発明の実施の形態】
本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物は、以下の方法により、公知化合物（ＩＩ）（Ａｌｄｒｉｃｈより入手）又は（ＩＶ−３）（カルボハイドレート・リサーチ、第２５４巻、４３頁（１９９４年）に記載の方法に準じて合成）を出発原料として用いて、製造することができる。
【００６４】
【化４】

【００６５】
【化５】

【００６６】
【化６】

【００６７】
【化７】

【００６８】
【化８】

【００６９】
【化９】

【００７０】
【化１０】

【００７１】
上記工程中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は前述したものと同意義を示す。
【００７２】
Ｒ^６及びＲ^７は、同一又は異なって水素原子、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基又はＣ_６−Ｃ_{１ ０}アリール基を示す。
【００７３】
Ｒ^１０は、下記置換基群Ｂから選択された一種以上の基で置換されていてもよい、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキル基、Ｃ_２−Ｃ_２０アルケニル基又はＣ_２−Ｃ_２０アルキニル基であり、置換基群Ｂは、ハロゲン原子、保護された水酸基（該保護基としては、好適には、トリクロロエトキシカルボニル基又はベンジル基である）、オキソ基、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルカノイルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルケノイルオキシ基及びオキソ基を有していてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルキノイルオキシ基からなる群である。
【００７４】
Ｒ^１１は、水酸基の保護基であり、好適には、ベンジルオキシカルボニル基又はアリルオキシカルボニル基である。
【００７５】
Ｒ^１２は、１−プロペニル基である。
【００７６】
Ｒ^１３は、アリル基、置換基を有してもよいＣ_６−Ｃ_１０アリール基又は置換基を有してもよいＣ_７−Ｃ_１１アラルキル基を示し、好適には、アリル基、フェニル基又はベンジル基である。
【００７７】
Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は、同一又は異なって、Ｃ_１−Ｃ_４アルキル基又はＣ_６−Ｃ_１０アリール基を示す。
【００７８】
Ｒ^１７は、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_６アルキル基を示す。
【００７９】
Ｒ^１８は、水素原子又はハロゲン原子を示す。
【００８０】
Ｒ^１９は、水素原子、ハロゲン原子、保護された水酸基（該保護基としては、好適には、ベンジルオキシカルボニル基又はアリルオキシカルボニル基である。）、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_６アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルケニルオキシ基又はオキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルキニルオキシ基を示す。
【００８１】
本願発明の化合物（Ｉ）を製造する工程は３工程からなる。
（１）Ａ工程は、中間体（ＶＩ−２）又は（ＶＩ−４）を製造する工程であり、ａ法及びｂ法の２種類の方法を記載する。
（２）Ｂ工程は、中間体（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＸ）及び（ＸＸＩＩ）を製造する工程である。Ｒ^５の種類に応じて、ａ法、ｂ法及びｃ法の３種類の方法を記載する。
（３）Ｃ工程は、中間体（ＶＩ−２）又は（ＶＩ−４）と中間体（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＸ）及び（ＸＸＩＩ）を縮合し、目的化合物（Ｉ）を製造する工程である。
【００８２】
以下、各工程につき、説明する。
【００８３】
（１）Ａ工程
（１−１）ａ法
本方法は化合物（ＩＩ）を出発原料とし、化合物（ＶＩ−２）を製造する方法である。
【００８４】
（第Ａａ１工程）
本工程は、ジアセトン−Ｄ−グルコース化合物（ＩＩ）の３位水酸基がアルキル化（アルケニル基、アルキニル基を導入する場合も含む。以下、製造工程の説明において、同様の定義とする。）又はアシル化された化合物（ＩＩＩ）を製造する工程であり、アルキル化は下記▲１▼の方法、アシル化は下記▲２▼の方法により達成される。
【００８５】
▲１▼アルキル化
本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物（ＩＩ）にアルキル化剤を反応させることによって達成される。
【００８６】
使用される溶剤としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類があげられるが、好適には、ジメチルホルムアミドである。
【００８７】
使用される塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属；ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類；水素化カリウム、水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属等があげられるが、好適には、水素化ナトリウムである。
【００８８】
使用されるアルキル化剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素類、スルホン酸エステル類が挙げられるが、好適には、臭化物（Ｒ^２Ｂｒ）又はメタンスルホン酸エステル（Ｒ^２ＯＳＯ_２Ｍｅ）である。
【００８９】
反応温度は、通常０℃乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至６０℃である。
【００９０】
反応時間は、反応温度、原料、試薬または使用される溶剤等によって異なるが、通常、２０分間乃至４８時間であり、好適には、２乃至２４時間である。
【００９１】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００９２】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【００９３】
▲２▼アシル化
本工程は、不活性溶剤中、縮合剤及び塩基の存在又は非存在下、化合物（ＩＩ）に、アシル化剤を処理することにより達成される。
【００９４】
使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、メチレンクロリドである。
【００９５】
使用される縮合剤としては、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１，３−ジイソプロピルカルボジイミドなどのカルボジイミド類をあげることができるが、好適には、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミドである。
【００９６】
使用される塩基としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類をあげることができるが、好適には、４−ジメチルアミノピリジンである。
【００９７】
使用されるアシル化剤としては、式：Ｒ^２’ＯＨで表されるカルボン酸、または、式：Ｒ^２’Ｃｌ（式中、Ｒ^２’は、Ｒ^２の定義のうちアルカノイル基、アルケノイル基又はアルキノイル基を示す。）で表される酸クロライドがあげられる。これらのアシル化剤が、水酸基又はオキソ基を有する場合、かかる基は保護されていてもよく、例えば、オキソ基は、アセタール基として保護される。
【００９８】
反応温度は、通常０℃乃至１００℃であり、好適には、１５℃乃至２５℃（室温）である。
【００９９】
反応時間は、通常２０分間乃至２４時間であり、好適には１乃至５時間である。
【０１００】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物をろ過し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１０１】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１０２】
（第Ａａ２工程）
本工程は、化合物（ＩＩＩ）を、アリルアルコール溶媒中、塩酸ガス存在下で加熱することにより化合物（ＩＶ−１）を得る工程である。
【０１０３】
反応温度は、通常０℃乃至溶媒の還流加熱温度で行われるが、好適には、室温乃至８０℃である。
【０１０４】
反応時間は、通常２０分間乃至２４時間であり、好適には、１乃至５時間である。
【０１０５】
（第Ａａ３工程）
本工程は、化合物（ＩＶ−１）の４位及び６位アルコールにイソプロピリデンを架け化合物（ＩＶ−２）を得る工程である。本工程は、化合物（ＩＶ−１）に、不活性溶剤中、酸触媒存在下で２，２−ジメトキシプロパンを作用させることにより達成される。
【０１０６】
使用される溶剤としては、例えば、ジメチルホルムアミドなどのアミド類があげられる。
【０１０７】
使用される酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸などがあげられる。
【０１０８】
反応温度は、通常室温乃至５０℃である。
【０１０９】
反応時間は、通常２０分間乃至２４時間である。
【０１１０】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＩＶ−２）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１１１】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１１２】
（第Ａａ４工程）
本工程は、化合物（ＩＶ−２）の２位のアルコールをアルキル化して化合物（Ｖ）を得る工程であり、第Ａａ１工程と同様の条件で処理することにより達成される。
【０１１３】
（第Ａａ５工程）
本工程は、化合物（Ｖ）の１位アリル基を段階的に酸化して、カルボキシメチル基へと変換したのち、エステル化して化合物（ＶＩ−１）を製造する工程であり、酸化剤およびエステル化剤を処理することによって達成される。
【０１１４】
▲１▼アリル基からカルボキシメチル基への段階的な酸化
本工程は、不活性溶剤中、四酸化ルテニウムにより、化合物（Ｖ）のアリル基をカルボン酸へ変換する工程である。
【０１１５】
使用される溶剤としては、例えば、水−四塩化炭素−シアノメタン（３：２：２）などがあげられる。
【０１１６】
反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には、０℃乃至室温である。
【０１１７】
反応時間は、通常２０分間乃至２４時間である。
【０１１８】
▲２▼エステル化
本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、上記▲１▼で得られたカルボン酸に臭化アリルを反応させて達成される。
【０１１９】
使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミドなどのアミド類；酢酸エチルなどのエステル類があげられる。
【０１２０】
反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には、０℃乃至室温である。
【０１２１】
反応時間は、通常２０分間乃至２４時間である。
【０１２２】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１２３】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１２４】
（第Ａａ６工程）
本工程は、化合物（ＶＩ−１）の４位及び６位の水酸基の保護基を酸処理により脱保護することによって達成される。
【０１２５】
使用される酸としては、例えば、塩酸、硫酸のような無機酸；酢酸、しゅう酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸があげられるが、好適には有機酸であり、更に好適には、水で希釈（２０〜９０％）した酢酸又はメタノール中のｐ−トルエンスルホン酸である。
【０１２６】
使用される溶媒は、水又はメタノールである
反応温度は、通常０℃乃至１００℃である。
【０１２７】
反応時間は、通常２０分間乃至２４時間である。
【０１２８】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１２９】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
（１−２）ｂ法
本方法は、Ｒ^１とＲ^２が同一である化合物（Ｉ）の製造に用いる中間体（ＶＩ−４）の製法である。
（第Ａｂ１工程）
本工程は、化合物（ＩＶ−３）を出発原料とし、その２，３位水酸基がアルキル化された化合物（Ｖ−２）を製造する工程であり、第Ａａ１工程▲１▼と同様の条件で処理することによって達成される。
（第Ａｂ２工程）
本工程は、化合物（Ｖ−２）の１位アリル基を段階的に酸化して、カルボキシメチル基へと変換したのち、エステル化して化合物（ＶＩ−３）を製造する工程であり、第Ａａ５工程と同様の条件で処理することによって達成される。
（第Ａｂ３工程）
本工程は、化合物（ＶＩ−３）の４位及び６位の水酸基の保護基を酸処理により脱保護することにより化合物（ＶＩ−４）を製造する工程であり、第Ａａ６工程と同様の条件で処理することによって達成される。
【０１３０】
（２）Ｂ工程
（２−１）ａ法
本方法は、Ｒ^５が水酸基である化合物（Ｉ）の製造に用いる中間体（ＸＩＩＩ）の製法である。
【０１３１】
（第Ｂａ１工程）
本工程は、化合物（ＩＩ−１）（カルボハイドレート・リサーチ、第２２２巻、５７頁（１９９１年））の３位水酸基がアルキル化された化合物（ＶＩＩ）を製造する工程であり、第Ａａ１工程▲１▼と同様の条件で処理することによって達成される。
【０１３２】
（第Ｂａ２工程）
本工程は、化合物（ＶＩＩ）の２位を脱保護したのち、再び２位アミノ基を保護した化合物（ＶＩＩＩ）を製造する工程である。
【０１３３】
▲１▼脱保護反応
本工程は、不活性溶剤中、アルカリ条件下、化合物（ＶＩＩ）の２位トリフルオロアセトアミドを脱保護する工程である。
【０１３４】
使用される溶剤としては、例えば、メタノール、エタノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類；アセトニトリルのようなニトリル類があげられるが、好適にはアルコール類（エタノール）である。
【０１３５】
使用されるアルカリとしては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような水酸化アルカリ金属；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシドがあげられるが、好適には、水酸化アルカリ金属である。
【０１３６】
反応温度は、通常０℃乃至１００℃であるが、好適には、２５℃乃至８０℃である。
【０１３７】
反応時間は、通常３０分間乃至２４時間であり、好適には、１乃至５時間である。
【０１３８】
▲２▼保護化反応
本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、保護化剤を反応させて達成される。
【０１３９】
使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン系炭化水素類；エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；アセトニトリルのような二トリル類があげられるが、好適にはハロゲン化炭化水素類であり、特に好適にはメチレンクロリドである。
【０１４０】
使用される塩基としては、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類；トリエチルアミン、トリブチルアミンのようなトリアルキルアミン類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類などがあげられるが、好適には、アルカリ金属炭酸水素塩類（炭酸水素ナトリウム）である。
【０１４１】
使用される保護化剤としては、後述する第Ｃ１工程のグリコシル化を妨げないものであればよく、好適には、トリクロロエトキシカルボニルクロリドである。
【０１４２】
反応温度は、通常−２０℃乃至６０℃であり、好適には、０℃乃至２５℃である。
【０１４３】
反応時間は、通常３０分間乃至２４時間であり、好適には、１乃至５時間である。
【０１４４】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＶＩＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を溶剤で希釈し、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１４５】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１４６】
（第Ｂａ３工程）
本工程は、化合物（ＶＩＩＩ）の４位及び６位水酸基の保護基が脱保護された化合物（ＩＸ）を製造する工程であり、前記（第Ａａ６工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０１４７】
（第Ｂａ４工程）
本工程は、所望により化合物（ＩＸ）の１位アリル基を異性化させた後、６位水酸基が選択的に保護された化合物（Ｘ）を製造する工程である。
【０１４８】
Ｒ^１０に不飽和結合が存在する場合は、以下の工程中で保護基を導入する場合は、還元反応を用いないで除去することのできるアリル基又はアリルオキシカルボニル基を使用するため、それらのアリル基と１位アリル基とを差別化するために以下の▲１▼に述べた異性化反応を行う必要があり、Ｒ^１０に不飽和結合が存在しない場合は、直ちに▲２▼の保護化反応を行ってよい。
【０１４９】
▲１▼１位アリル基の異性化反応
本工程は、不活性溶剤中、化合物（ＩＸ）の１位アリル基を金属触媒によって異性化させる反応である。
【０１５０】
使用される溶剤は、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類；アセトニトリルのようなニトリル類が挙げられるが、好適には、エーテル類であり、更に好適にはテトラヒドロフランである。
【０１５１】
使用される金属触媒としては、パラジウム、ロジウム、イリジウムなどの錯体が用いられるが、好適には、（１，５−シクロオクタジエン）ビス（メチルジフェニルホスフィン）イリジウム（Ｉ）ヘキサフルオロホスフェート（［Ｉｒ（ＣＯＤ）（ＰＭｅＰｈ_２）_２］ＰＦ_６）である。
【０１５２】
反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には、５℃乃至３０℃である。
【０１５３】
反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至８時間である。
【０１５４】
▲２▼６位水酸基の保護化反応
本反応は、不活性溶剤中、塩基存在下、保護化剤を処理することによって達成される。
【０１５５】
使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類があげられるが、好適には、メチレンクロリドである。
【０１５６】
使用される塩基としては、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンのような有機塩基類があげられるが、好適には、ピリジンである。
【０１５７】
使用される保護化剤としては、脱保護処理を行うことによって６位水酸基が収率良く回復できるものであればよく、例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルクロリドのようなアルキルオキシカルボニルハライド、ベンジルオキシカルボニルクロリドのようなアラルキルオキシカルボニルハライド、アリルオキシカルボニルクロリドのようなアルケニルオキシカルボニルハライドがあげられるが、Ｒ^１０に不飽和結合が存在しない場合は、好適には、ベンジルオキシカルボニルクロリドであり、Ｒ^１０に不飽和結合が存在する場合は、好適には、アリルオキシカルボニルクロリドである。
【０１５８】
反応温度は、通常−５０℃乃至５０℃であり、好適には、−１０℃乃至３０℃である。
【０１５９】
反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至５時間である。
【０１６０】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｘ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１６１】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１６２】
（第Ｂａ５工程）
本工程は、化合物（Ｘ）の４位水酸基がリン酸化された化合物（ＸＩ）を製造する工程であり、不活性溶剤中、塩基存在下、リン酸化剤で処理することにより達成される。
【０１６３】
使用される溶剤は、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン系炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又は含水エーテル類；酢酸エチルのようなエステル類があげられるが、好適にはハロゲン化炭化水素類（メチレンクロリド）である。
【０１６４】
使用される塩基は、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１Ｈ−テトラゾールのような有機塩基類があげられるが、好適にはジメチルアミノピリジンである。
【０１６５】
リン酸化剤は、式：（Ｒ^１３Ｏ）_２Ｐ（＝Ｏ）Ｘ（式中、Ｒ^１３は前記と同意義を示し、Ｘは塩素、臭素、よう素のようなハロゲン原子を示し、好適には塩素原子である。）で表されるリン酸ハライドが一つの方法として使用される。リン酸ハライドとしては、後述する第Ｃ３工程においてリン酸エステル化合物（ＸＸＩＸ）を脱保護してリン酸化合物（Ｉ）に変換する際、保護基Ｒ^１３が収率良く容易に除去できるようなものであればよく、Ｒ^１０に不飽和結合が存在しない場合は、好適には、フェニルホスホリルクロリド又はベンジルホスホリルクロリドであり、Ｒ^１０に不飽和結合が存在する場合は、別の方法として、好適には、ビス（アリルオキシ）（ジイソプロピルアミノ）ホスフィンとテトラゾールのような塩基でジアリルホスファイトとし、それを更にメタクロル過安息香酸又は過酸化水素水にて酸化するか、オキソンのような無機酸化剤で酸化することにより、ジアリルリン酸エステルとする。
【０１６６】
反応温度は、通常−２０℃乃至５０℃であり、好適には、−１０℃乃至３０℃である。
【０１６７】
反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至５時間である。
【０１６８】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１６９】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１７０】
（第Ｂａ６工程）
本工程は、化合物（ＸＩ）の１位保護基が脱保護された化合物（ＸＩＩ）を製造する工程である。
【０１７１】
Ｒ^１０に不飽和結合が存在しない場合は、前記（第Ｂａ４工程）の▲１▼と同様にして化合物（ＸＩ）の１位アリル基を金属触媒によって異性化させ、その後加水分解を行う。
【０１７２】
Ｒ^１０に不飽和結合が存在する場合は、既に１位アリル基が異性化されているので、加水分解反応のみ行う。
【０１７３】
異性化したビニルエーテルの加水分解は、塩酸、硫酸、フッ化水素酸のような無機酸；ギ酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸を作用させるか、あるいは、水中でヨウ素を作用させて行われるが、好適には、ピリジン−水の混合溶媒中でヨウ素を作用させて行われるか、又は無機酸である。
【０１７４】
反応温度は、通常０℃乃至１００℃であり、好適には、２５℃乃至４５℃である。
【０１７５】
反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至５時間である。
【０１７６】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、ヨウ素を使用した場合は、反応混合物に酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。また、無機酸を使用した場合は、重曹水洗し、通常の操作で得られる。
【０１７７】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１７８】
（第Ｂａ７工程）
本工程は、中間体であるトリクロロアセトイミデート体（ＸＩＩＩ）を製造する工程であり、化合物（ＸＩＩ）の１位水酸基に、不活性溶剤中、塩基存在下、トリクロロアセトニトリルを作用させることにより達成される。
【０１７９】
使用される溶剤は、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類；アセトニトリルのようなニトリル類が挙げられるが、好適には、ハロゲン化炭化水素類（メチレンクロリド）である。
【０１８０】
使用される塩基としては、例えば、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）などの有機塩基；又はナトリウムヒドリド、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基があげられ、好適には、炭酸セシウムである。
【０１８１】
反応温度は、通常−２５℃乃至５０℃であり、好適には、０℃乃至２５℃である。
【０１８２】
反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至２時間である。
【０１８３】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１８４】
（２−２）ｂ法
本方法は、Ｒ^５がアルコキシ基である化合物（Ｉ）の製造に用いる中間体（ＸＩＸ）の製法である。
【０１８５】
（第Ｂｂ１工程）
本工程は、所望により前記（第Ｂａ１乃至Ｂａ３工程）で得られた化合物（ＩＸ）の１位アリル基を異性化させた後、６位水酸基が選択的に保護された化合物（ＸＩＶ）を製造する工程である。
【０１８６】
Ｒ^１０に不飽和結合が存在する場合は、前記（第Ｂａ４工程）の▲１▼と同様にして化合物（ＩＸ）の１位アリル基を異性化させる必要があり、Ｒ^１０に不飽和結合が存在しない場合は、直ちに保護化反応を行う。
【０１８７】
保護化反応は、不活性溶剤中、塩基存在下、シリル化剤を処理させることによって達成される。
【０１８８】
使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；アセトニトリルのようなニトリル類があげられるが、好適には、メチレンクロリドである。
【０１８９】
使用される塩基としては、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類；トリエチルアミン、トリブチルアミンのようなトリアルキルアミン類；アニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンのようなアニリン類；２，６−ルチジンのようなルチジン類があげられるが、好適には、ジメチルアミノピリジンである。
【０１９０】
使用されるシリル化剤は、式：Ｒ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６ＳｉＹ（式中、Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は前記と同意義を示し、Ｙはハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニル基を示す。）で表されるトリアルキルシリルハライド又はトリアルキルシリルトリフルオロメタンスルホナートを用いるが、好適には、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリドである。
【０１９１】
反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には、１５℃乃至２５℃である。
【０１９２】
反応時間は、通常１乃至２４時間であり、好適には、１乃至８時間である。
【０１９３】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＩＶ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１９４】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０１９５】
（第Ｂｂ２工程）
本工程は、化合物（ＸＩＶ）の４位水酸基がリン酸化された化合物（ＸＶ）を製造する工程であり、前記（第Ｂａ５工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０１９６】
（第Ｂｂ３工程）
本工程は、化合物（ＸＶ）の６位保護基を除去して化合物（ＸＶＩ）を製造する工程であり、不活性溶剤中、酸性条件下で加水分解することによって達成される。
【０１９７】
加水分解に使用される酸としては、塩酸、硫酸のような無機酸、酢酸、しゅう酸のような有機酸があげられるが、好適には、塩酸であり、より好適には、３ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液である。
【０１９８】
使用される溶剤は、ジオキサン、テトラヒドロフランのような水溶性のものであり、好適には、テトラヒドロフランである。
【０１９９】
反応温度は、通常２０℃乃至８０℃であり、好適には、２０℃乃至５０℃である。
【０２００】
反応時間は、通常３０分間乃至２４時間であり、好適には、１乃至８時間である。
【０２０１】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＶＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２０２】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０２０３】
（第Ｂｂ４工程）
本工程は、化合物（ＸＶＩ）の６位水酸基がアルキル化された化合物（ＸＶＩＩ）を製造する工程であり、以下の▲１▼の方法で達成される。特に、Ｒ^１７がメチル基の場合には、▲２▼の方法を用いることができる。
【０２０４】
▲１▼Ｒ^１７が、Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基である場合
本工程は、不活性溶剤中、塩基又は酸化銀（ＩＩ）（ＡｇＯ）の存在下、化合物（ＸＶＩ）をアルキル化剤で処理することによって達成される。
【０２０５】
使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度以上溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、エーテル類である。
【０２０６】
使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔ−ブチル）−４−メチルピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類をあげることができる。好適には、有機塩基類であり、更に好適には、ＤＢＮ又はＤＢＵである。
【０２０７】
使用されるアルキル化剤としては、式：Ｒ^１７Ｚ（式中、Ｒ^１７は前記と同意義を示し、Ｚはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、パラトルエンスルホニルオキシ基又はメタンスルホニルオキシ基である。）をあげることができる。
【０２０８】
反応温度は、通常０℃乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至３０℃である。
【０２０９】
反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、１乃至１８時間である。
【０２１０】
▲２▼Ｒ^１７が、メチル基である場合
本工程は、不活性溶剤中、塩基存在下、化合物（ＸＶＩ）をトリメチルオキソニウムテトラフルオロボレートで処理することによって達成される。
【０２１１】
使用される溶剤としては、例えば、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；メチレンクロリド、クルルホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、メチレンクロリドである。
【０２１２】
使用される塩基としては、好適には、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリジンをあげることができる。
【０２１３】
反応温度は、通常−５０℃乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至３０℃である。
【０２１４】
反応時間は、通常１乃至２４時間であり、好適には、２乃至５時間である。
【０２１５】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＶＩＩ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２１６】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２１７】
（第Ｂｂ５工程）
本工程は、化合物（ＸＶＩＩ）の１位保護基が脱保護された化合物（ＸＶＩＩＩ）を製造する工程であり、前記（第Ｂａ６工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２１８】
（第Ｂｂ６工程）
本工程は中間体であるトリクロロアセトイミデート体（ＸＩＸ）を製造する工程であり、前記（第Ｂａ７工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２１９】
（２−３）ｃ法
本方法は、Ｒ^５が水素原子又はハロゲン原子である化合物（Ｉ）の製造に用いる中間体（ＸＸＩＩ）の製法である。
【０２２０】
（第Ｂｃ１工程）
本工程は、前記（第Ｂｂ１乃至Ｂｂ３工程）で得られた化合物（ＸＶＩ）の６位水酸基がハロゲン原子又は水素原子に変換された化合物（ＸＸ）を製造する工程である。
【０２２１】
（第Ｂｃ１−１工程）
本工程は、化合物（ＸＸ）のＲ^１８が、ハロゲン原子である場合の製造方法であり、以下の▲１▼、▲２▼又は▲３▼の方法で行われる。
【０２２２】
▲１▼Ｒ^１８が、フッ素原子である場合
本工程は、不活性溶剤中、化合物（ＸＶＩ）をフッ素化剤で処理することによって達成される。
【０２２３】
使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、フルオロトリクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、１，２−ジメトキシエタンのようなエーテル類をあげることができるが、好適には、メチレンクロリドである。
【０２２４】
使用されるフッ素化剤としては、例えば、（２−クロロエチル）ジエチルアミン、ジエチルアミノサルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）をあげることができるが、好適には、ＤＡＳＴである。
【０２２５】
反応温度は、通常−７８℃乃至２５℃で行われるが、好適には、０℃乃至２５℃である。
【０２２６】
反応時間は、通常１乃至１８時間であるが、好適には、１乃至５時間である。
【０２２７】
▲２▼Ｒ^１８が、塩素原子又は臭素原子である場合
本工程は、不活性溶剤中、化合物（ＸＶＩ）に三塩化リン、三臭化リン、三塩化ホスホリル、三臭化ホスホリル、塩化チオニル又は臭化チオニルを反応させることによって達成される。
【０２２８】
使用される溶剤としては、好適には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類である。
【０２２９】
反応温度は、通常−５０℃乃至５０℃で行われるが、好適には、−１０℃乃至３０℃である。
【０２３０】
反応時間は、通常１乃至１８時間であるが、好適には、１乃至５時間である。
【０２３１】
▲３▼Ｒ^１８が、ヨウ素原子である場合
本工程は、不活性溶剤中、化合物（ＸＶＩ）にヨウ素及びトリフェニルホスフィンを反応させることによって達成される。
【０２３２】
使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度以上溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メタノール、エタノールのようなアルコール類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなアミド類をあげることができるが、好適には、エーテル類である。
【０２３３】
反応温度は、通常−５０乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至３０℃である。
【０２３４】
反応時間は、通常１乃至１８時間であるが、好適には、１乃至５時間である。
【０２３５】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＸ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２３６】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０２３７】
（第Ｂｃ１−２工程）
本工程は、化合物（ＸＸ）のＲ^１８が、水素原子である場合に行われる工程であり、前記（第Ｂｃ１−１工程）の▲２▼で得られたＲ^１８が臭素原子である化合物に、不活性溶剤中、テトラブチル錫ハイドライド又はリチウムアルミニウムハイドライドを反応させて行われる。
【０２３８】
使用される溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類をあげることができるが、好適には、エーテル類である。
【０２３９】
反応温度は、通常−５０℃乃至５０℃で行われるが、好適には、−１０℃乃至３０℃である。
【０２４０】
反応時間は、通常１０分間乃至１６時間であるが、好適には、１乃至８時間である。
【０２４１】
反応終了後、本反応の目的化合物（ＸＸ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２４２】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０２４３】
（第Ｂｃ２工程）
本工程は、化合物（ＸＸ）の１位保護基が脱保護された化合物（ＸＸＩ）を製造する工程であり、前記（第Ｂａ６工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２４４】
（第Ｂｃ３工程）
本工程は中間体であるトリクロロアセトイミデート体（ＸＸＩＩ）を製造する工程であり、前記（第Ｂａ７工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２４５】
（２−４）ｄ法
本方法は、Ｒ^１０が二重結合、三重結合を含む中間体（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＸ）又は（ＸＸＩＩ）を、別途、製造する工程である。
【０２４６】
（第Ｂｄ１工程）
本工程は、化合物（ＸＸＩＩＩ）の１位のアリル基を異性化させる工程であり、前記（第Ｂａ４▲１▼工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２４７】
（第Ｂｄ２工程）
本工程は、化合物（ＸＸＩＶ）の３位の水酸基をアルキル化する工程であり、前記（第Ａａ１▲１▼工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２４８】
（第Ｂｄ３工程）
本工程は、化合物（ＸＸＶ）の２位のアジドを還元してアミンに変換した後、保護する工程である。
【０２４９】
▲１▼アミン合成反応
本工程は、不活性溶剤中、還元剤を作用させることによって達成される。
【０２５０】
使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類であり、好適には、テトラヒドロフランである。
【０２５１】
使用される還元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム等の金属水素化物類等であり、好適には、水素化リチウムアルミニウムである。
【０２５２】
反応温度は、通常−５０℃乃至１００℃で行われるが、好適には、０℃乃至５０℃である。
【０２５３】
反応時間は、通常０．５乃至２４時間であり、好適には、１乃至５時間である。
【０２５４】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２５５】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０２５６】
▲２▼保護化反応
本工程は、前記（第Ｂａ２▲２▼工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２５７】
（第Ｂｄ４工程）
本工程は、化合物（ＸＸＶＩ）の４位及び６位の水酸基の保護基を酸処理により脱保護する工程であり、前記（第Ａａ６工程）と同様の条件によって達成されるが、好適には、酸としてｐ−トルエンスルホン酸を用いて行われる。
【０２５８】
（第Ｂｄ５工程）
本工程は、化合物（ＸＸＶＩＩ）の６位の水酸基を保護する工程であり、前記（第Ｂａ４▲２▼工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２５９】
本工程により得られた化合物（Ｘ）を用いて、第Ｂａ５工程以降を行うことにより、中間体（ＸＩＩＩ）を得ることができる。
【０２６０】
（第Ｂｄ６工程）
本工程は、化合物（ＸＸＶＩＩ）の６位の水酸基を保護する工程であり、前記（第Ｂｂ１工程）と同様の条件で処理することによって達成される。
【０２６１】
本工程により得られた化合物（ＸＩＶ）を用いて、第Ｂｂ２工程以降を行うことにより、中間体（ＸＩＸ）又は（ＸＸＩＩ）を得ることができる。
【０２６２】
（３）Ｃ工程
（第Ｃ１工程）
本工程は、中間体イミデート（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＸ）、又は（ＸＸＩＩ）と中間体ジオール（ＶＩ−２）又は（ＶＩ−４）との反応により、リピッドＡ構造を有する化合物（ＸＸＶＩＩＩ）を製造する工程であり、化合物（ＸＩＩＩ）、（ＸＩＸ）又は（ＸＸＩＩ）と化合物（ＶＩ−２）又は（ＶＩ−４）を不活性溶剤中、酸触媒存在下でグリコシル化させることによって達成される。
【０２６３】
使用される溶剤としては、例えば、メチレンクロリド、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトニトリルなどのニトリル類；トルエン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類があげられるが、好適には、ハロゲン化炭化水素類であり、特に好適には、メチレンクロリドである。
【０２６４】
使用される触媒としては、四塩化スズ、トリフルオロボロン／エーテラート、塩化アルミニウム、塩化第二鉄、トリメチルシリルトリフレート等のルイス酸があげられるが、好適には、トリメチルシリルトリフレートである。
【０２６５】
反応温度は、通常−７８℃乃至３０℃で行われるが、好適には、−４０℃乃至０℃である。
【０２６６】
反応時間は、通常１０分間乃至２４時間であり、好適には、３０分間乃至４時間である。
【０２６７】
反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２６８】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０２６９】
（第Ｃ２工程）
本工程は、化合物（ＸＸＶＩＩＩ）のトリクロロエトキシカルボニル基を除去し、アシル基Ｒ^３で変換した化合物（ＸＸＩＸ）を製造する工程であり、不活性溶剤中、化合物（ＸＸＶＩＩＩ）に脱保護剤を作用させた後、アシル化剤を処理することによって達成される。
【０２７０】
脱保護工程に使用される溶剤は、酢酸であり、トリクロロエトキシカルボニル基の脱保護剤は亜鉛である。
【０２７１】
反応温度は、通常０℃乃至８０℃で行われるが、好適には、１０℃乃至３０℃である。
【０２７２】
反応時間は、通常１乃至２４時間であり、好適には、１乃至８時間である。
【０２７３】
アシル化剤としては、式：Ｒ^３ＯＨで表されるカルボン酸、又は、式：（Ｒ^３）_２Ｏで表される酸無水物が使用され、前記第Ａａ１工程▲２▼と同様の条件でアシル化を行うことができる。式中、Ｒ^３は前記と同意義である。
【０２７４】
（第Ｃ３工程）
本工程は、目的化合物（Ｉ）を製造する工程であり、化合物（ＸＸＩＸ）の１位保護基、及び、Ｒ^１０及びＲ^１９中の水酸基の保護基並びにリン酸基中の保護基Ｒ^１３を脱保護する工程であり、文献（例えば、Ｔ．　Ｗ．　Ｇｒｅｅｎｅ，　Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）に記載の方法に従って、又は、以下の方法を用いて達成される。また、化合物（ＸＸＩＸ）に数種類の保護基が存在する場合は、保護基に応じた方法を組み合わせて順次行うことができる。
【０２７５】
▲１▼保護基がアラルキル基である場合
保護基がアラルキル基である場合は、不活性溶剤中、触媒存在下、水素雰囲気下の接触還元によって脱保護することができる。
【０２７６】
使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどのエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類；メタノール、エタノールのようなアルコール類；ぎ酸、酢酸のような有機酸類があげられるが、好適には、エタノールである。
【０２７７】
使用される触媒としては、例えば、パラジウム／カーボン、水酸化パラジウム、水酸化パラジウム／カーボン、パラジウムブラックがあげられるが、好適には、水酸化パラジウム／カーボンである。
【０２７８】
反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には、１５℃乃至２５℃である。
【０２７９】
反応時間は、通常１乃至４８時間であり、好適には、３乃至２４時間である。
【０２８０】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物より触媒類を濾別し、得られた濾液を濃縮することによって得られる。
【０２８１】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０２８２】
▲２▼保護基がジフェニルメチル基である場合
保護基がジフェニルメチル基である場合は、上記▲１▼と同様に水素雰囲気下の接触還元を行うか、または、不活性溶剤中、酸で処理することにより達成される。
【０２８３】
酸で処理する場合の使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロインのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソアミルアルコールのようなアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン類；水、又は、これらの混合溶剤が好適であり、更に好適には、ハロゲン化炭化水素類、エステル類又はエーテル類である。
【０２８４】
使用される酸としては、通常、ブレンステッド酸又はルイス酸として使用されるものであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸；又は酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸である。
【０２８５】
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶剤及び使用される酸の種類、濃度等により異なるが、通常は、−１０℃乃至１００℃（好適には、−５℃乃至５０℃）で、５分間乃至４８時間（好適には、３０分間乃至１０時間）である。
【０２８６】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和した後、濃縮し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０２８７】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、セルロースクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０２８８】
▲３▼保護基がフェニル基である場合
保護基がフェニル基である場合は、不活性溶剤中、触媒存在下、接触還元することにより、脱保護することができる。
【０２８９】
使用される溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどのエーテル類；酢酸エチルのようなエステル類；メタノール、エタノールのようなアルコール類；ぎ酸、酢酸のような有機酸類があげられるが、好適には、テトラヒドロフランである。
【０２９０】
使用される触媒は、好適には、酸化白金である。
【０２９１】
反応温度は、通常０℃乃至５０℃であり、好適には、１５℃乃至２５℃である。
【０２９２】
反応時間は、通常１乃至４８時間であり、好適には、１乃至２４時間である。
【０２９３】
反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物より触媒類を濾別し、得られた濾液を濃縮することによって得られる。
【０２９４】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、セルロースクロマトグラフィー等により、精製することもできる。
【０２９５】
▲４▼保護基がアリル基である場合
保護基がアリル基である場合は、不活性溶剤中、パラジウム触媒下、ギ酸−トリエチルアミン混合物で加水素分解することにより、化合物（ＸＸＩＸ）のアリル基を脱保護することができる。
【０２９６】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、セルロースクロマトグラフィー等により、精製することもできる。　本発明である、化合物（Ｉ）のエステルは、エステルを形成する基により、通常の方法により製造することができる。必要に応じて、水酸基の保護、脱保護をエステル化の前後でおこなう。
【０２９７】
例えば、（１）所望のエステルを形成する基に対応するアルキルハライドを使用する方法、（２）所望のエステルを形成する基に対応するアルコールを使用する方法等があげられる。
【０２９８】
（１）の方法において、使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げることができる。
【０２９９】
（１）の方法では、通常、塩基触媒を用い、その塩基触媒としては、通常の反応において、塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類；弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウム　ｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプタンアルカリ金属類；Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム　ビス（トリメチルシリル）アミドのような有機金属塩基類を挙げることができる。
【０３００】
（１）の方法においては、反応温度は、通常−２０℃乃至１２０℃であり、好適には、０℃乃至８０℃であり、反応時間は、通常０．５乃至１０時間である。
【０３０１】
（２）の方法では、通常、縮合剤を用い、その「縮合剤」としては、
（ａ）ジエチルホスホリルシアニド、ジフェニルホスホリルアジド、シアノ燐酸ジエチルのような燐酸エステル類と下記塩基の組合せ；
（ｂ）１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１，３−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド等のカルボジイミド類；前記カルボジイミド類と下記塩基の組合せ；前記カルボジイミド類とＮ−ヒドロキシスクシンイミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミドのようなＮ−ヒドロキシ類の組合せ；
（ｃ）２，２’−ジピリジル　ジサルファイド、２，２’−ジベンゾチアゾリル　ジサルファイドのようなジサルファイド類とトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンのようなホスフィン類の組合せ；
（ｄ）Ｎ，Ｎ’−ジスクシンイミジルカ−ボネート、ジ−２−ピリジル　カーボネート、Ｓ、Ｓ’−ビス（１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ジチオカーボネートのようなカーボネート類；
（ｅ）Ｎ，Ｎ’−ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）ホスフィニッククロライドのようなホスフィニッククロライド類；
（ｆ）Ｎ，Ｎ’−ジスクシンイミジルオキザレート、Ｎ，Ｎ’−ジフタルイミドオキザレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミジル）オキザレート、１，１’−ビス（ベンゾトリアゾリル）オキザレート、１，１’−ビス（６−クロロベンゾトリアゾリル）オキザレート、１，１’−ビス（６−トリフルオロメチルベンゾトリアゾリル）オキザレートのようなオキザレート類；
（ｇ）前記ホスフィン類とアゾジカルボン酸ジエチル、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジンのようなアゾジカルボン酸エステル又はアゾジカルボキシアミド類の組合せ；前記ホスフィン類と下記塩基の組合せ；
（ｈ）Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキサゾリウム−３’−スルホナートのようなＮ−低級アルキル−５−アリールイソオキサゾリウム−３’−スルホナート類；
（ｉ）ジ−２−ピリジルジセレニドのようなジヘテロアリールジセレニド類；
（ｊ）ｐ−ニトロベンゼンスルホニルトリアゾリドのようなアリールスルホニルトリアゾリド類；
（ｋ）２−クロル−１−メチルピリジニウム　ヨーダイドのような２−ハロ−１−低級アルキルピリジニウム　ハライド類；
（ｌ）１，１’−オキザリルジイミダゾ−ル、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾ−ルのようなイミダゾール類；
（ｍ）３−エチル−２−クロロ−ベンゾチアゾリウム　フルオロボレートのような３−低級アルキル−２−ハロゲン−ベンゾチアゾリウム　フルオロボレート類；
（ｎ）３−メチル−ベンゾチアゾール−２−セロンのような３−低級アルキル−ベンゾチアゾール−２−セロン類；
（ｏ）フェニルジクロロホスフェート、ポリホスフェートエステルのようなホスフェート類；
（ｐ）クロロスルホニルイソシアネートのようなハロゲノスルホニルイソシアネート類；
（ｑ）トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリドのようなハロゲノシラン類；
（ｒ）メタンスルホニルクロリドのような低級アルカンスルホニルハライドと下記塩基の組合せ；
（ｓ）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルクロロホルマミジウムクロリドのようなＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ低級アルキルハロゲノホルマミジウムクロリド類を挙げることができるが、好適には、カルボジイミド類、及び、ホスフィン類とアゾジカルボン酸エステル又はアゾジカルボキシアミド類の組合せである。
【０３０２】
（２）の方法において、使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げることができる。
【０３０３】
（２）の方法では、塩基触媒を使用することもでき、その塩基触媒としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような有機塩基類を挙げることができる。
【０３０４】
尚、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、４−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合わせて、触媒量を用いることもでき、又、反応を効果的に行わせるために、モレキュラー・シーブのような脱水剤、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリドのような第４級アンモニウム塩類、ジベンゾ−１８−クラウン−６のようなクラウンエーテル類、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−２−オンのような酸補足剤等を添加することもできる。
【０３０５】
反応温度は、通常−２０℃乃至８０℃であり、好適には、０℃乃至室温である。
【０３０６】
反応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常１０分間乃至３日間であり、好適には、３０分間乃至１日間である。
【０３０７】
特に、エステルを形成する基が、低級アルキル基の場合には、溶媒中（反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、試薬と同一のアルコール；ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げることができ、好適には、試薬と同一のアルコールである。）、酸触媒の存在下（通常の反応において酸触媒として使用されるものであれば特に限定はないが、好適には、塩化水素、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンステッド酸或いはボロントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのようなルイス酸又は、酸性イオン交換樹脂を挙げることができる。）、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールのような対応するアルコールと、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至６０℃）で、１乃至２４時間反応させる方法である。
【０３０８】
反応終了後、本反応の化合物（Ｉ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。
【０３０９】
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成社製）ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適には、高速液体クロマトグラフィーである。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製することができる。
【０３１０】
本発明の前記一般式（Ｉ）を有するリピッドＡ類縁体、その薬理上許容される塩又はそのエステルを投与する際には、経口投与のための固体組成物、液体組成物及びその他の組成物並びに非経口投与のための注射剤、外用剤又は坐剤等として用いられる。
【０３１１】
経口投与のための固体組成物には、錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤又は散剤等が含まれる。
【０３１２】
カプセル剤には、ハードカプセル及びソフトカプセルが含まれる。
【０３１３】
このような固体組成物においては、ひとつまたはそれ以上の活性物質が、少なくともひとつの不活性な希釈剤、例えばラクトース、マンニトール、グルコース、ヒドロキシプロピルセルロース、微結晶セルロース、デンプン、ポリビニルピロリドン又はメタケイ酸アルミン酸マグネシウムと混合される。組成物は、常法に従って、不活性な希釈剤以外の添加剤、例えばステアリン酸マグネシウムのような潤滑剤、繊維素グリコール酸カルシウムのような崩壊剤、ラクトースのような安定化剤、グルタミン酸又はアスパラギン酸のような溶解補助剤を含有していてもよい。
【０３１４】
錠剤又は丸剤は必要により白糖、ゼラチン、ヒドロキシプロピルセルロース又はヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートなどの胃溶性あるいは腸溶性物質のフィルムで被覆していてもよいし、また２以上の層で被覆していてもよい。さらにゼラチンのような吸収されうる物質のカプセルも包含される。
【０３１５】
経口投与のための液体組成物は、薬剤的に許容される乳濁剤、溶液剤、シロップ剤又はエリキシル剤等を含む。このような液体組成物においては、ひとつまたはそれ以上の活性物質が、一般的に用いられる不活性な希釈剤（例えば精製水、エタノール）に含有される。この組成物は、不活性な希釈剤以外に湿潤剤、懸濁剤のような補助剤、甘味剤、風味剤、芳香剤又は防腐剤を含有していてもよい。
【０３１６】
経口投与のためのその他の組成物としては、ひとつまたはそれ以上の活性物質を含み、それ自体公知の方法により処方されるスプレー剤が含まれる。この組成物は不活性な希釈剤以外に亜硫酸水素ナトリウムのような安定剤と等張性を与えるような緩衝剤、例えば塩化ナトリウム、クエン酸ナトリウムあるいはクエン酸のような等張剤を含有していてもよい。
【０３１７】
本発明による非経口投与のための注射剤としては、無菌の水性及び／又は非水性の溶液剤、懸濁剤、乳濁剤を包含する。水性の溶液剤、懸濁剤としては、例えば注射用蒸留水及び生理食塩水が含まれる。非水性の溶液剤、懸濁剤としては、例えばプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、オリーブ油のような植物油、エタノールのようなアルコール類、ポリソルベート８０（登録商標）等がある。また、無菌の水性と非水性の溶液剤、懸濁剤及び乳濁剤を混合して使用してもよい。このような組成物は、さらに、防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化剤（例えば、ラクトース）、溶解補助剤（例えば、グルタミン酸、アスパラギン酸）のような補助剤を含んでいてもよい。これらはバクテリア保留フィルターを通すろ過、殺菌剤の配合または照射によって無菌化される。これらはまた無菌の固体組成物を製造し、例えば凍結乾燥の使用前に、無菌化又は無菌の注射用蒸留水又は他の溶媒に溶解して使用することもできる。
【０３１８】
非経口投与のためのその他の組成物としては、ひとつまたはそれ以上の活性物質を含み、常法により処方される外溶液剤、軟膏、塗布剤、直腸内投与のための坐剤及び膣内投与のためのペッサリー等が含まれる。
【０３１９】
その使用量は、症状、年齢等により異なるが、注射剤として用いられる場合、１日０．０１乃至１０ｍｇ／ｋｇ体重を、通常成人に対して、１日１回又は数回に分けて投与することができる。
【０３２０】
以下、実施例、参考例及び試験例をあげて、本発明を、さらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０３２１】
【実施例】
【０３２２】
【実施例１】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−フォルミルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号１０２）
参考例１２で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−フォルミルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（８８　ｍｇ，　０．０５９　ｍｍｏｌ）　の　ＴＨＦ（５　ｍｌ）　溶液にＰＰｈ_３（８　ｍｇ，　０．０３０　ｍｍｏｌ），　Ｅｔ_３Ｎ（３０　ｍｇ，０．２９７　ｍｍｏｌ），　ＨＣＯＯＨ（２８　ｍｇ，　０．６０９　ｍｍｏｌ）及び（ＰＰｈ_３）_４Ｐｄ（４　ｍｇ，　０．０２６　ｍｍｏｌ）を順次加え、４．５時間、５０℃で窒素気流中攪拌した。反応物は減圧濃縮し、残さをＤＥＡＥ−セルロース（イオン交換セルロース，湿重量９ｇ）でカラムクロマトグラムをおこなった。２：１　ＣＨＣｌ_３−ＭｅＯＨ，　その後０．０５　ｍｏｌ／Ｌ　ＡｃＯＮＨ_４（２：３：１　ＣＨＣｌ_３−ＭｅＯＨ−Ｈ_２Ｏ溶液）それぞれ　５ｍｌずつ溶出した。目的物を含む部分を集めここにＣＨＣｌ_３（１０ｍｌ）及び０．１　ｍｏｌ／Ｌ　ＨＣｌ（１５　ｍｌ）を加え分液フラスコ中激しく攪拌した。下層のクロロホルム層を再度　０．１Ｍ濃度希塩酸と水で洗浄し減圧濃縮すると蝋状の目的化合物（６５　ｍｇ，　８６％）が得られた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３５００−３０００，　２９２４，　２８５３，　１７５０　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ），　１６７３　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（７０Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．３９−１．７５　（１０Ｈ，　ｍ），　１．９７−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　３．３２−４．７０　（２５Ｈ，　ｍ），　５．１１　（１Ｈ，ｂｓ），　５．２９−５．３８　（２Ｈ，　ｍ），　７．９５　（０．１２Ｈ，　ｓ，　ＮＨＣＨＯ　ｇｅｏｍｅｔｒｉｃａｌ　ｉｓｏｍｅｒ），　８．１５（０．８８Ｈ，　ｓ，　ＮＨＣＨＯ　ｇｅｏｍｅｔｒｉｃａｌ　ｉｓｏｍｅｒ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１３１６　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_６９Ｈ_１３２ＮＯ_１８ＰＮａ：　１３１６．９０８０．　Ｆｏｕｎｄ：　１３１６．９１０８．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_６９Ｈ_１３２ＮＯ_１８Ｐ：　Ｃ，　６４．０１；　Ｈ，　１０．２８；　Ｎ，　１．０８；　Ｐ，　２．３９．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６３．９８；　Ｈ，　１０．３５；　Ｎ，　１．２０；　Ｐ，　２．２７．
【０３２３】
【実施例２】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−アセチルアミノ−２−デオキシ−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号１０８）
参考例１３で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−アセチルアミノ−６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ）テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（８０　ｍｇ，　０．０５３　ｍｍｏｌ）を実施例１と同様に処理し標記目的化合物（４７　ｍｇ，　６８％）を蝋状物質として得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３３３６　（ｂｒｏａｄ），　２９２４，　２８５３，　１７２９，　１６５９，　１６４０　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋ＣＤ_３ＯＤ，　４：１）　δ　０．８６−０．９０　（１２Ｈ，　ｍ），１．２０−１．７５　（７０Ｈ，　ｂｓ），　１．４０−１．８０　（１０Ｈ，　ｍ），　１．９７−２．０２　（７Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　２．００　ｐｐｍ），　３．２７−４．２７　（２４Ｈ，　ｍ），　４．６２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　５．０８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．３１−５．３９　（２Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１３０６　［Ｍ−Ｈ］⁻．ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３３ＮＯ_１８ＰＮａ：　１３０６．９２６０．　Ｆｏｕｎｄ：　１３０６．９３１５．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３４ＮＯ_１８Ｐ：　Ｃ，　６４．２４；　Ｈ，　１０．３２；　Ｎ，　１．０７；　Ｐ，　２．３７．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６３．７２；　Ｈ，　１０．０４；　Ｎ，　１．４２；　Ｐ，　２．１２．
【０３２４】
【実施例３】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−フォルミルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号６６）
参考例１４で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−フォルミルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（９０　ｍｇ，　０．０６１　ｍｍｏｌ）を、実施例１と同様に処理し標記目的化合物（６７　ｍｇ，　８６％）を蝋状物質として得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３４２０−３２９０，　２９２３，　２８５３，　１７３５，　１６６６　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（７４Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０−１．６４　（６Ｈ，　ｍ），　１．７０−１．８０　（２Ｈ，　ｍ），　１．９６−２．０６　（４Ｈ，　ｍ），　３．２６−４．７１　（２４Ｈ，　ｍ），　４．９４　（１Ｈ，　ｍ），　５．３０−５．３８　（２Ｈ，　ｍ），．　７．９５　（０．３Ｈ，　ｓ），　８．１７　（０．７Ｈ，　ｓ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１３００　（Ｍ＋Ｈ）^＋．ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_６９Ｈ_１３２ＮＯ_１７ＰＮａ：　１３００．９０２３１．　Ｆｏｕｎｄ：　１３００．９０９２．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_６９Ｈ_１３２ＮＯ_１７Ｐ：　Ｃ，　６４．８１；　Ｈ，　１０．４０；　Ｎ，　１．１０；　Ｐ，　２．４２．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６４．９４；　Ｈ，　１０．００；　Ｎ，　１．０３；　Ｐ，　２．１６．
【０３２５】
【実施例４】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−アセチルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号７２）
参考例１５で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−アセチルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１２０　ｍｇ，　０．０８０　ｍｍｏｌ）を、実施例１と同様に処理して標記目的化合物（９６　ｍｇ，　９３％）　を蝋状物質として得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３５００−３１００，　２９２４，　２８５３，　１７３６，　１６３５，　１５５３，　１４６６，　１３７７　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋ＣＤ_３ＯＤ，　３：２）　δ　０．９０　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２８−１．４５　（７４Ｈ，　ｍ），　１．４５−１．６４　（６Ｈ，　ｍ），　１．７１−１．７７　（２Ｈ，　ｍ），　２．０１−２．０４　（７Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　２．０２　ｐｐｍ），　３．２４−４．２８　（２３Ｈ，　ｍ），　４．５３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　５．０６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．３３−５．３８　（２Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１３１４　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３４ＮＯ_１７ＰＮａ：　１３１４．９２８４．　Ｆｏｕｎｄ：　１３１４．９２７４．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３４ＮＯ_１７Ｐ：　Ｃ，　６４．８１；　Ｈ，　１０．４０；　Ｎ，　１．１０；　Ｐ，　２．４２．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６４．７７；　Ｈ，　１０．０２；　Ｎ，　１．３１；　Ｐ，　２．０３．
【０３２６】
【実施例５】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号８５）
参考例１８で得られた（アリルオキシカルボニルメチル　６−Ｏ−［２−デオキシー４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシテトラデシル−６−Ｏ−メチル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（１１０　ｍｇ，　０．０７７　ｍｍｏｌ）を実施例１と同様に処理して、蝋状の標記目的化合物　（５５　ｍｇ，　５５％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３２９２　（ｂｒｏａｄ），　２９２５，　２８５４，　１７３７，　１６５４，　１６３１，　１５５２，　１４６６　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８９　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２７　（７０Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０−１．８０　（８Ｈ，　ｍ），　２．００−２．０３　（４Ｈ，　ｍ），　２．１５−２．２３　（２Ｈ，　ｍ），　３．２６−４．２６　（２８Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．３１　ｐｐｍ　ａｎｄ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．４１　ｐｐｍ　），　４．６５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．５　Ｈｚ），　５．０８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．３５　（２Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１３０６　［Ｍ−Ｈ］⁻，　１３２８（Ｍ−２Ｈ＋Ｎａ）⁻．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３４ＮＯ_１７Ｐ：１３０６．９２６０．　Ｆｏｕｎｄ：　１３０６．９２８８．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３４ＮＯ_１８Ｐ：　Ｃ，６４．２４　；　Ｈ，１０．３２　；　Ｎ，１．０７　；　Ｐ，２．３７　．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，６３．４６　；　Ｈ，１０．４６　；　Ｎ，１．２７　；　Ｐ，２．２９．
【０３２７】
【実施例６】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル｝−６−Ｏ−メチル−２−｛（Ｚ）−１１−（オクタデセノイルアミノ）｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号４９）
参考例１９で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル−６−Ｏ−メチル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１０４　ｍｇ，　０．０７４　ｍｍｏｌ）を実施例１と同様に処理して、蝋状の標記目的化合物（８３　ｍｇ，　９５％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３０００−３５００，　２９２４，　２８５３，　１７３５，　１６５５，　１６３０，　１５４９，　１４６６　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（７２Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０−１．８０　（８Ｈ，　ｍ），　１．９９−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　２．２０−２．４０　（２Ｈ，　ｍ），　３．１０−５．１０（２９Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２５　ｐｐｍ　ａｎｄ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．３８　ｐｐｍ　），　５．３１−５．３８
（２Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１２９１　［Ｍ−Ｈ］⁻．　ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｎｅｇａｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３３ＮＯ_１７Ｐ：　１２９０．９３１７．　Ｆｏｕｎｄ：　１２９０．９３３６．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_７０Ｈ_１３４ＮＯ_１７Ｐ：　Ｃ，　６５．０３；　Ｈ，　１０．４５；　Ｎ，　１．０８；　Ｐ，　２．４０．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６４．８４；　Ｈ，　１０．４９；　Ｎ，　１．７０；　Ｐ，　２．１６．
【０３２８】
【実施例７】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号５０）
参考例２７で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（５２ｍｇ、０．０３５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液にトリフェニルホスフィン（５ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２５μＬ、０．１７９ｍｍｏｌ）、ギ酸（１４μＬ、０．３７１ｍｍｏｌ）およびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（２ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下５０℃で３時間撹拌した。この反応液を減圧下濃縮し、得られた反応混合物をＤＥＡＥ−セルロールを用いたイオン交換カラムクロマトグラフィーにて精製し、クロロホルム−メタノール（２：１）、０．０５ｍｏｌ／Ｌ　酢酸アンモニウム（クロロホルム−メタノール−水（２：３：１）　溶液）で順次溶出した。目的物を含むフラクションを分液ロートに集め、ここに０．５ｍｏｌ／Ｌ　塩酸水溶液をｐＨ３程度になるまで加えた。この溶液にクロロホルム（１０ｍＬ）を加えて分液操作を行い、クロロホルム層を集めて減圧下溶媒を留去して、標記目的化合物（３６ｍｇ、収率８１％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３２８９，　３０７４，　３００５，　２９５５，　２９２４，　２８５３，　１７３４，　１６５５，　１６３２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ_３ＯＤ＋ＣＤＣｌ_３）δ：０．８９　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．９　Ｈｚ），　１．２９−１．７４　（８０Ｈ，　ｍ），　２．００−２．０３　（４Ｈ，　ｍ），　２．２０−２．２７　（２Ｈ，　ｍ），　３．２２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３０　（３Ｈ，　ｓ），　３．３５　（１Ｈ，　ｍ），　３．４０　（１Ｈ，　ｍ），　３．４９−３．５７　（３Ｈ，　ｍ），　３．６０−３．８８　（１１Ｈ，　ｍ），　４．０５−４．２６　（４Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ，　ａｔ　４．１６，　４．２３　ｐｐｍ），　４．５２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　５．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．３１−５．３７　（２Ｈ，ｍ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１２７６　（Ｍ−Ｈ）⁻．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６９Ｈ_１３１ＮＯ_１７Ｐ：　１２７６．９１５９；　ｆｏｕｎｄ：　１２７６．９１７８．
【０３２９】
【実施例８】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号５２）
参考例３９で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１１３ｍｇ、０．０７７ｍｍｏｌ）について、実施例７に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（８６ｍｇ、収率８９％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３１８８，　３００７，　２９２３，　２８５３，　１７２８，　１６５６，　１６３５　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ_３ＯＤ＋ＣＤＣｌ_３）δ：０．９０　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．９　Ｈｚ），　１．２９−１．７５　（８０Ｈ，　ｍ），　２．００−２．０３　（４Ｈ，　ｍ），　２．２２−２．２７　（２Ｈ，　ｍ），　３．２３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３３−３．３８　（２Ｈ，　ｍ），　３．４９−３．５３　（３Ｈ，　ｍ），　３．６４−３．８２　（９Ｈ，　ｍ），　３．９４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．９，　１２．７　Ｈｚ），　３．９９　（１Ｈ，　ｍ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　４．１５　（１Ｈ，　ｍ），　４．１７，　４．２４　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．４９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　５．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．３１−５．３７　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１２６２　（Ｍ−Ｈ）⁻．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６８Ｈ_１２９ＮＯ_１７Ｐ：　１２６２．９００５；　ｆｏｕｎｄ：　１２６２．９０３０．
【０３３０】
【実施例９】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号５１）
参考例４８で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（９９ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ）について、実施例７に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（８３ｍｇ、収率９２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３２８５，　３０６９，　３００５，　２９５５，　２９２４，　２８５３，　１７３７，　１６３１　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ_３ＯＤ＋ＣＤＣｌ_３）δ：０．９０　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．９　Ｈｚ），　１．２８−１．７５　（８０Ｈ，　ｍ），　２．０１−２．０５　（４Ｈ，　ｍ），　２．２２−２．２７　（２Ｈ，　ｍ），　３．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３５−３．３９　（２Ｈ，　ｍ），　３．４０　（３Ｈ，　ｓ），　３．５０−３．８２　（１３Ｈ，　ｍ），　３．８８　（１Ｈ，　ｍ），　４．０５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．１４　（１Ｈ，　ｍ），　４．１６，　４．２３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．３１−５．３７　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１２７６　（Ｍ−Ｈ）⁻．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６９Ｈ_１３１ＮＯ_１７Ｐ：　１２７６．９１５３；　ｆｏｕｎｄ：　１２７６．９１５０．
【０３３１】
【実施例１０】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号１３）
参考例５３で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１６０ｍｇ、０．１１５ｍｍｏｌ）について、実施例７に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（８４．１ｍｇ、収率５８％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３２９１，　１７４３，　１６３０，　１５５２，　１４６６，　１３７７，　１０７９，　１０６１　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ_３ＯＤ＋ＣＤＣｌ_３）δ：０．９０　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２９−１．４７　（６８Ｈ，　ｍ），　１．５９−１．６６　（６Ｈ，　ｍ），　１．７２−１．７６　（２Ｈ，　ｍ），　２．０１−２．０５　（４Ｈ，　ｍ），　２．２１−２．２８　（２Ｈ，　ｍ），　３．２３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３０　（３Ｈ，　ｓ），　３．３０−３．３６　（４Ｈ，　ｍ），　３．３９　（３Ｈ，　ｓ），　３．４８−３．６１　（４Ｈ，　ｍ），３．６２−３．８４　（８Ｈ，　ｍ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．０９　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．１６，　４．２３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１７．１　Ｈｚ），　４．５１　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．３４　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝４．９　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１２６２　（Ｍ−Ｈ）⁻．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６８Ｈ_１２９ＮＯ_１７Ｐ：　１２６２．８９９８；　ｆｏｕｎｄ：　１２６２．８９８４．
【０３３２】
【実施例１１】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号１９）
参考例５４で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（３９ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ）について、実施例７に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（２２．２ｍｇ、収率６２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３２９３，　１７３９，　１６３１，　１４６６，　１０６２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ_３ＯＤ＋ＣＤＣｌ_３）δ：０．９０　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２９−１．４８　（６８Ｈ，　ｍ），　１．５７−１．６６　（６Ｈ．　ｍ），　１．７４　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．９６−１．９８　（４Ｈ，　ｍ），　２．２０−２．３０　（２Ｈ，　ｍ），　３．２２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．４，　９．３　Ｈｚ），　３．３０　（３Ｈ，　ｓ），　３．３１−３．３６　（４Ｈ，　ｍ），　３．３９　（３Ｈ，　ｓ），　３．４７−３．６０　（４Ｈ，　ｍ），　３．６４−３．８４　（８Ｈ，　ｍ），　４．０３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　４．０８　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　４．１６，　４．２３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．０３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．３８　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝３．４　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１２６２　（Ｍ−Ｈ）⁻．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６８Ｈ_１２９ＮＯ_１７Ｐ：　１２６２．８９９８；　ｆｏｕｎｄ：　１２６２．９０４５．
【０３３３】
【実施例１２】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号７）
参考例５５で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（７９．７ｍｇ、０．０５７５ｍｍｏｌ）について、実施例７に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（４８．４ｍｇ、収率６７％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３２９０，　１７４２，　１６３１，　１５５１，　１４６６，　１３７７，　１０６３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ_３ＯＤ＋ＣＤＣｌ_３）δ：０．９０　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２８−１．４９　（６８Ｈ，　ｍ），　１．５８−１．６５　（６Ｈ，　ｍ），　１．７３−１．７６　（２Ｈ，　ｍ），　２．００−２．０５　（４Ｈ，　ｍ），　２．２２−２．２７　（２Ｈ，　ｍ），　３．２３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．５，　９．８　Ｈｚ），　３．３０　（３Ｈ，　ｓ），　３．３１−３．３７　（４Ｈ，　ｍ），　３．３９　（３Ｈ，　ｓ），　３．４８−３．６１　（４Ｈ，　ｍ），　３．６４−３．８３　（８Ｈ，　ｍ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　４．０８　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．１６，　４．２３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．３４　（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝４．９　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１２６２　（Ｍ−Ｈ）⁻．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６８Ｈ_１２９ＮＯ_１７Ｐ：　１２６２．８９９８；　ｆｏｕｎｄ：　１２６２．９０１９．
【０３３４】
【実施例１３】
カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（例示化合物番号１）
参考例５６で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（９９．９ｍｇ、０．０７２２ｍｍｏｌ）の５％含水エタノール（５ｍＬ）溶液に、Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ錯体（ＲｈＣｌ（ＰＰｈ_３）_３、１３．４ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１５μＬ、０．０８８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下９０℃加熱還流下２時間撹拌した。この反応液を減圧下濃縮し、得られた反応混合物をＤＥＡＥ−セルロールを用いたイオン交換カラムクロマトグラフィーにて精製し、クロロホルム−メタノール（２：１）、０．０３ｍｏｌ／ｌ　酢酸アンモニウム（クロロホルム−メタノール−水（２：３：１）　溶液）で順次溶出した。目的物を含むフラクションを分液ロートに集め、ここに０．５ｍｏｌ／ｌ　塩酸水溶液をｐＨ３程度になるまで加えた。この溶液にクロロホルム（１０ｍＬ）を加えて分液操作を行い、クロロホルム層を集めて減圧下溶媒を留去して、標記目的化合物（３８ｍｇ、収率４２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３２９１，　１６３１，　１４６６，　１０６２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤ_３ＯＤ＋ＣＤＣｌ_３）δ：０．９０　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．３　Ｈｚ），　１．２８−１．４９　（６８Ｈ，　ｍ），　１．５７−１．６６　（６Ｈ，　ｍ），　１．７３−１．７７　（２Ｈ，　ｍ），　２．１１−２．１３　（４Ｈ，　ｍ），　２．２０−２．２９　（２Ｈ，　ｍ），　３．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．４，　９．３　Ｈｚ），　３．３１　（３Ｈ，　ｓ），　３．３２−３．３５　（４Ｈ，　ｍ），　３．４０　（３Ｈ，　ｓ），　３．４８−３．８４　（８Ｈ，　ｍ），　４．０５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　４．０９　（１Ｈ，　ｑ，Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　４．１６，　４．２３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１２６０　（Ｍ−Ｈ）⁻．ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｎｅｇａｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６８Ｈ_１２７ＮＯ_１７Ｐ：　１２６０．８８４２；　ｆｏｕｎｄ：　１２６０．８８３４．
【０３３５】
【参考例１】
１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコフラノース
１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース（１３．０ｇ，５０ミリモル）とドデシルメタンスルホナート（１３．２　ｇ，　５０　ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５０　ｍｌ）溶液に水素化ナトリウム（５５％分散油，　２．２８ｍｇ，　６０ｍｍｏｌ）を氷冷下加えた。０℃で１５分間攪拌した後、室温で一夜攪拌した。氷冷下メタノールを加え水素化ナトリウムを分解した後、酢酸エチルを加えて希釈した。この溶液を水と飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、濃縮後、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（９：１，更に４：１）で溶出すると油状の標記目的化合物（１５．５　ｇ，　７５％）がえられた。
^１Ｈ　ＮＭＲ　（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（１８Ｈ，　ｂｓ），　１．３２　（３Ｈ，　ｓ），　１．３５　（３Ｈ，　ｓ），　１．４３　（３Ｈ，　ｓ），　１．５０　（３Ｈ，　ｓ），　１．５２−１．５７　（２Ｈ，　ｍ），　３．５１　（１Ｈ，　ｍ），　３．５９　（１Ｈ，　ｍ），　３．８５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　３．９８　（１Ｈ，　ｍ），　４．０６−４．１４　（３Ｈ，　ｍ），　４．３１　（１Ｈ，　ｍ），　４．５２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ−３．７　Ｈｚ）．
【０３３６】
【参考例２】
アリル　３−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例１で得られた１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコフラノース（９００　ｍｇ，　２．１６０　ｍｍｏｌ）に２％塩酸を含むアリルアルコール（２　ｍｌ）を加え１５分間還流加熱した。反応液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（１：１−１：３）で溶出すると油状の標記目的物化合物（６７４　ｍｇ，　８０％）とこのβ−アノマーがえられた。
ｍｐ　７２−７３．５　℃．
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３３０６，　２９２０，　２８５２　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．０　Ｈｚ），　１．２６　（１８Ｈ，　ｂｓ），　１．５９−１．６４　（２Ｈ，　ｍ），　２．１９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．５　Ｈｚ，　ＯＨ），　２．２４　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．３　Ｈｚ，　ＯＨ），　２．７９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．４５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　３．５０−３．６１　（２Ｈ，　ｍ），　３．６４−３．７１　（２Ｈ，　ｍ），　３．８０−３．８６　（２Ｈ，　ｍ），　３．９３　（１Ｈ，　ｍ），　４．０４　（１Ｈ，　ｍ），　４．２３　（１Ｈ，　ｍ），　４．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ，　ａｎｏｍｅｒｉｃ），　５．２２−５．３４　（２Ｈ，　ｍ），　５．９２　（１Ｈ，　ｍ）．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_２１Ｈ_４０Ｏ_６：　Ｃ，　６４．９２；　Ｈ，　１０．３８．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６４．９６；　Ｈ，　１０．１７．
βアノマー：　４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３　＋　Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．０　Ｈｚ），　１．２６（１８Ｈ，　ｂｓ），　１．５０−１．６１　（２Ｈ，　ｍ），　３．４６−４．５３　（１０Ｈ，　ｍ），　５．０７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．１　Ｈｚ，　ａｎｏｍｅｒｉｃ），　５．２１−５．４２　（２Ｈ，　ｍ），　５．９３　（１Ｈ，　ｍ）．
【０３３７】
【参考例３】
アリル　３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例２で得られたアリル　３−Ｏ−ドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（４．７０　ｇ，　１２．１　ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１０　ｍｌ）と２，２−ジメトキシプロパン（１０　ｍｌ）溶液に溶解した後、ｐ−ＴｓＯＨ・Ｈ_２Ｏ　（２００　ｍｇ）を加え、室温で１６時間攪拌した。反応溶液は酢酸エチルで希釈した後、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーにより、シクロヘキサン−酢酸エチル（４：１−２：１）で溶出して、油状の標記目的化合物（４．２０　ｇ，　８１％）を得た。
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（１８Ｈ，　ｂｓ），　１．４１　（３Ｈ，　ｓ），　１．４９　（３Ｈ，　ｓ），　１．５３−１．６０　（２Ｈ，　ｍ），　２．３１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．３　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．４６−３．８５　（８Ｈ，　ｍ），　４．０４　（１Ｈ，　ｍ），　４．２１　（１Ｈ，　ｍ），　４．９２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２２−５．３４　（２Ｈ，　ｍ），　５．９３　（１Ｈ，　ｍ）．
【０３３８】
【参考例４】
アリル　２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例３で得られたアリル　３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（３５８　ｍｇ，　０．８３５　ｍｍｏｌ）と（Ｒ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）テトラデシルメタンスルホナート（３９２　ｍｇ，　０．９２７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３　ｍｌ）溶液に水素化ナトリウム（５５％分散油，　６６　ｍｇ，　１．５１３　ｍｍｏｌ）を加える。室温一夜攪拌し氷冷下メタノールを加え水素化ナトリウムを分解した。酢酸エチルで希釈した。この溶液を水と飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥した。ろ過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（９：１）で溶出すると油状の標記目的化合物（５１０　ｍｇ，　８１％）がえられた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ｆｉｌｍ）　２９２５，　２８５６，　１４６４　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．０４　（６Ｈ，　ｓ），　０．８６−０．８９　（１５Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　９Ｈ，　ｓ，　ａｔ　０．８８　ｐｐｍ），　１．２６　（３８Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０　（３Ｈ，　ｓ），　１．４８　（３Ｈ，　ｓ），　１．４８−１．５５　（２Ｈ，　ｍ），　１．７０−１．７７　（２Ｈ，　ｍ），　３．２９　（１Ｈ，　ｍ），　３．４７−３．７８　（９Ｈ，　ｍ），　３．８４　（１Ｈ，　ｍ），　４．０４　（１Ｈ，　ｍ），　４．１７　（１Ｈ，　ｍ），　４．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２０−５．３４　（２Ｈ，　ｍ），　５．９２　（１Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　７５５　［Ｍ＋Ｈ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_４４Ｈ_８６Ｏ_７ＳｉＮａ：　７７７．６０４０．　Ｆｏｕｎｄ：　７７７．５９９４．
【０３３９】
【参考例５】
アリル　３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３で得られたアリル　３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（２．８４　ｇ，　６．６３　ｍｍｏｌ）とテトラデシルメタンスルホナート（２．３３　ｇ，　７．９５　ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０　ｍｌ）溶液に水素化ナトリウム（５５％分散油，３４７　ｍｇ，　７．５９　ｍｍｏｌ）を加える。室温一夜攪拌し氷冷下メタノールを加え水素化ナトリウムを分解した。酢酸エチルで希釈した。この溶液を水，と飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウム乾燥した。ろ過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（９：１）で溶出すると油状の標記目的化合物（３．１０　ｇ，　７５％）がえられた。
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（６Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（４０Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４１　（３Ｈ，　ｓ），　１．４８　（３Ｈ，　ｓ），　１．５０−１．６１　（４Ｈ，　ｍ），　３．３０　（１Ｈ，　ｍ），　３．５０−３．７４　（８Ｈ，　ｍ），　３．８４　（１Ｈ，　ｍ），　４．０７　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝６．６，　１３．２　Ｈｚ），　４．１８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝５．１，１３．２　Ｈｚ），　４．９１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２２　（１Ｈ，　ｍ），　５．３２　（１Ｈ，　ｍ），　５．９２　（１Ｈ，ｍ）．
Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_３８Ｈ_７２Ｏ_６：　Ｃ，　７３．０３；　Ｈ，　１１．６１．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　７３．０２；　Ｈ，　１１．５４．
【０３４０】
【参考例６】
（アリルオキシカルボニル）メチル　２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例４で得られたアリル　２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（４８９　ｍｇ，　０．６４７　ｍｍｏｌ）のＭｅＣＮ−ＣＣｌ_４−Ｈ_２Ｏ　（２：２：３，　４２　ｍｌ）　溶液にＮａＩＯ_４（５．０　ｇ）とＲｕＯ_２・ｘＨ_２Ｏ（２０　ｍｇ）を加えた。室温３時間攪拌し、酢酸エチルで希釈した。この溶液を水と飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過、濃縮しカルボン酸を得た。このカルボン酸をＤＭＦ（５　ｍｌ）に溶解し塩基としてＥｔ_３Ｎ（０．５０　ｍｌ，　３．５９　ｍｍｏｌ）を使用し臭化アリル（０．６０　ｍｌ，　６．９３　ｍｍｏｌ）と一夜室温で反応させ、酢酸エチルで希釈した。この溶液を水と飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させた。ろ過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラムをシクロヘキサン−酢酸エチル（７：１）を溶出液として溶出すると油状の標記目的化合物（３７７　ｍｇ，　７２％）がえられた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ｆｉｌｍ）　２９２６，　２８５６，　１７５９，　１７４５　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．０４　（３Ｈ，　ｓ），　０．０５　（３Ｈ，　ｓ），　０．８８　（１５Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　９Ｈ，　ｓ），　１．２６　（３８Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０　（３Ｈ，　ｓ），　１．４０　（３Ｈ，　ｓ），　１．４８　（３Ｈ，　ｓ），　１．４８−１．５５　（２Ｈ，　ｍ），　１．７４−１．７９　（２Ｈ，　ｍ），　３．３３　（１Ｈ，　ｍ），　３．５０−３．８６　（１０Ｈ，　ｍ），　３．８４　（１Ｈ，　ｍ），　４．１７，　４．３０　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１２．８　Ｈｚ），　４．６４−４．６５　（２Ｈ，　ｍ），５．０７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２４−５．３６　（２Ｈ，　ｍ），　５．９２　（１Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　８１３　［Ｍ＋Ｈ］^＋，　８３５　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_４６Ｈ_８８Ｏ_９ＳｉＮａ：　８３５．６０９５．　Ｆｏｕｎｄ：　８３５．６０８４．
【０３４１】
【参考例７】
（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例５で得られたアリル　３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（６２５　ｍｇ，　１．０００　ｍｍｏｌ）を参考例６と同様に反応させることにより油状の標記目的化合物（４９０　ｍｇ，　７２％）が得られた。
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（６Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２５　（４０Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０　（３Ｈ，　ｓ），　１．４８　（３Ｈ，　ｓ），　１．４８−１．６５　（４Ｈ，　ｍ），　３．１８　（１Ｈ，　ｍ），　３．３３　（１Ｈ，　ｍ），　３．５０−３．８９　（８Ｈ，　ｍ），　４．１８，　４．３４　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．２　Ｈｚ），　４．６２−４．６７　（２Ｈ，　ｍ），　５．０８　（１Ｈ，　ｍ），　５．２４−５．３６　（２Ｈ，　ｍ），　５．９１　（１Ｈ，　ｍ）．　Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_４０Ｈ_７４Ｏ_８：　Ｃ，　７０．３４；　Ｈ，　１０．９２．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　７０．２３；　Ｈ，　１１．０４．
【０３４２】
【参考例８】
（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例６で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）テトラデシル］−３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（４００　ｍｇ，　０．４９２ｍｍｏｌ）とｐ−ＴｓＯＨ・Ｈ_２Ｏ　（２５　ｍｇ，　０．１４５　ｍｍｏｌ）　のＭｅＯＨ　（２０ｍｌ）　溶液を室温１時間攪拌した後、１／４に濃縮した。この濃縮液を酢酸エチルで希釈し、重曹水と飽和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過、濃縮し、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（１：１）で溶出すると標記目的化合物（２３１　ｍｇ，　７１％）が結晶としてえられた。
ｍｐ　５５−５６　℃　（ｆｒｏｍ　１：４　ＥｔＯＡｃ−ｈｅｘａｎｅ）．
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３４２６，　２９１９，　２８５０，　１７５３，　１４６８　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（６Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（３６Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０−１．７８　（８Ｈ，　ｍ），　２．０５　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ，　ＯＨ），　２．５７　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ，　ＯＨ），　２．８６　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ，　ＯＨ），　３．３４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．７，　９．５　Ｈｚ），　３．４９−４．００　（１０Ｈ，　ｍ），　４．２０，　４．３４（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．８　Ｈｚ），　４．６２−４．６６　（２Ｈ，　ｍ），　５．２１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．２５−５．３６　（２Ｈ，　ｍ），　５．９１　（１Ｈ，　ｍ）．
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_３７Ｈ_７０Ｏ_９：　Ｃ，　６７．４４；　Ｈ，　１０．７１．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６７．４１；　Ｈ，　１０．７０．
【０３４３】
【参考例９】
（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例７で得られた化合物（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（４８０　ｍｇ，　０．７０３　ｍｍｏｌ）の８０％酢酸水溶液を３時間６０℃で攪拌した後、濃縮し、残さをシリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（１：１）で溶出すると標記目的化合物（３１９　ｍｇ，　７１％）が粉状としてえられた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３４１０，　２９２３，　２８５２，　１７５８，　１４６６　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（６Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（４０Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．５４−１．６８　（４Ｈ，　ｍ），　３．１９　（１Ｈ，　ｍ），　３．３３　（１Ｈ，　ｍ），　３．４７　（１Ｈ，　ｍ），　３．５１−３．６７　（２Ｈ，　ｍ），　３．７２−３．８８　（４Ｈ，　ｍ），　３．９１−３．９８　（２Ｈ，　ｍ），　４．２１，　４．３３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．８　Ｈｚ），　４．６２−４．６７　（２Ｈ，　ｍ），　５．１２　（１Ｈ，　ｍ），　５．２５−５．３７　（２Ｈ，　ｍ），　５．９１　（１Ｈ，　ｍ）．Ａｎａｌ．　Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_３７Ｈ_７０Ｏ_８：　Ｃ，　６９．１２；　Ｈ，　１０．９７．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　６９．０１；　Ｈ，　１０．９０．
【０３４４】
【参考例１０】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド
６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−Ｄ−グルコピラノ−ス（６４０　ｍｇ，　０．６３７　ｍｍｏｌ）とＣｌ_３ＣＣＮ（０．６４　ｍｌ，　６．３８　ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（１０ｍｌ）　溶液にＣｓ_２ＣＯ_３（１１０　ｍｇ，　０．３３７　ｍｍｏｌ）を加え室温１時間攪拌した。酢酸エチルで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥した。ろ過し、濃縮した後、イミデートを得た。このイミデートを塩化メチレン（１８　ｍｌ）に溶解し、ここに上記参考例８で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（３５０　ｍｇ，　０．５３１　ｍｍｏｌ）　とモレキュラーラーシーブ４Ａ（１　ｇ）を加え，窒素気流中室温１時間攪拌した。反応液を−４０℃に冷却しＴＭＳＯＴｆ（３０　ｍｇ，　０．ｌ１３５　ｍｍｏｌ）　を加える。２．５時間、−４０℃で反応させた後、酢酸エチルで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥した。ろ過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（３：２、その後１：１）で溶出すると目的化合物（２９２　ｍｇ，　５１％）がガム状物質として得られた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３５００−３２５０，　２９２６，　２８５５，　１７５１，　１６５０　（ｗ）　ｃｍ^−１．
^１Ｈ　ＮＭＲ　（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３＋Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（７０Ｈ，　ｂｒｏａｄｓ），　１．３８−１．６０　（６Ｈ，　ｍ），　１．７０−１．８０　（４Ｈ，　ｍ），　１．９５−２．０５　（４Ｈ，　ｍ），　３．２７−４．３５　（２４Ｈ，　ｍ），　４．５３−４．７６　（１２Ｈ，　ｍ），　５．１５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２４−５．３９　（９Ｈ，　ｍ），５．８６−５．９８　（４Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１６６８，　１６６６　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_８４Ｈ_１４９ ^３５Ｃｌ_３ＮＯ_２１ＰＮａ：　１６６６．９３１３．　Ｆｏｕｎｄ：　１６６６．９２９７．
【０３４５】
【参考例１１】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノ−ス（６４０ｍｇ，　０．６３７ｍｍｏｌ）を上記参考例１０と同様にして、上記参考例９で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシドと処理することにより標記目的化合物が４３％の収率で得られた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ｆｉｌｍ）　３４５６，　３３０４，　２９２５，　２８５５，　１７４７，　１４６５　ｃｍ^−１．
^１Ｈ　ＮＭＲ　（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８６−０．９０　（１２Ｈ，　ｍ），　１．２１−１．６２　（８０Ｈ，　ｍ），　１．７２−１．７７　（２Ｈ，　ｍ），　１．９７−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　２．５４　（１Ｈ，　ｂｓ，　ＯＨ），　３．１４−３．９４　（１８Ｈ，　ｍ），　４．０４−４．３８　（４Ｈ，　ｍ），　４．５４−４．８８　（１１Ｈ，　ｍ），　５．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２４−５．４０（１０Ｈ，　ｍ），　５．５６　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ，　ＮＨ），　５．８７−５．９８　（４Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１６５２　［Ｍ＋Ｎａ］^＋，　１６５０　［Ｍ＋Ｎａ，　^３５Ｃｌ］^＋，　１６２８　［Ｍ＋Ｈ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）：　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_８７Ｈ_１４９ ^３５Ｃｌ_３ＮＯ_２０ＰＮａ：　１６５０．９３７３．　Ｆｏｕｎｄ：　１６５０．９３６６．
【０３４６】
【参考例１２】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−フォルミルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例１０で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（１４７　ｍｇ，　０．０８９　ｍｍｏｌ）のＡｃＯＨ−ＴＨＦ（１：１，　６　ｍｌ）　溶液にＺｎ　粉末（２２０　ｍｇ，　３．３７　ｍｍｏｌ）を加え３．５　時間　室温で激しく攪拌した。混合物を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム乾燥した。ろ過し、濃縮した後、得られたアミンを塩化メチレン（４　ｍｌ）に溶解し、蟻酸（２０　ｍｇ，　０．４３４　ｍｍｏｌ）　と１−エチル−３−（３−ジメチル−アミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１００　ｍｇ，　０．５２２　ｍｍｏｌ）を加え２４℃、１６時間反応させる。酢酸エチルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥した。ろ過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（２：３）で溶出すると標記目的化合物（９７　ｍｇ，　７２％）がガム状物質として得られた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３５１１，　２９２５，　２８５４，　１７５２，　１６６７　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（７０Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．３０−１．６０　（６Ｈ，　ｍ），　１．７０−１．８０　（４Ｈ，　ｍ），　１．９７−２．０５　（４Ｈ，　ｍ），　２．８５−２．９３　（２Ｈ，　ｍ，　ＯＨ　ｘ　２），　３．２５−４．３６　（２２Ｈ，　ｍ），　４．５３−４．６４　（１０Ｈ，　ｍ），　５．１３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１　Ｈｚ），　５．１７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２４−５．３９　（８Ｈ，　ｍ），　５．８５−５．９８　（４Ｈ，　ｍ），　６．３５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．９　Ｈｚ，　ＮＨ），　８．０４　（０．３Ｈ，　ｓ，　ｏｎ　ａｄｄｉｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｄ_２Ｏ，　ＮＨＣＨＯ　ｇｅｏｍｅｔｒｉｃａｌ　ｉｓｏｍｅｒ），　８．１３　（０．７Ｈ，　ｓ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１５２０　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．　ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_８２Ｈ_１４８ＮＯ_２０Ｐ：　１５２１．０２３０；　Ｆｏｕｎｄ：　１５２１．０２３．
【０３４７】
【参考例１３】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−アセチルアミノ−６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例１０で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（１４６　ｍｇ，　０．０８９　ｍｍｏｌ）のＡｃＯＨ−ＴＨＦ（１：１，　６　ｍｌ）溶液に亜鉛粉末（２２０　ｍｇ，　３．３７　ｍｍｏｌ）を加え激しく３．５時間室温で攪拌した。反応混合物をろ過し、減圧濃縮した。残るアミンをＴＨＦ−Ｈ_２Ｏ（３：１，　８　ｍｌ）に溶解し、ピリジン（１００　ｍｇ）と無水酢酸（４５　ｍｇ，　０．４４１　ｍｍｏｌ）を加え激しく５０分間攪拌した。酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥した。濾過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（１：２）で溶出すると標記目的化合物（８６　ｍｇ，　６３％）がガム状物質として得られた。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３６００−３３００，　３６８６　（ｗ），　２９２５，　２８５５，　１７５３，　１６５０，　１６２９　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２０−１．７５　（８０Ｈ，　ｍ），　１．９７−２．０５　（７Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　２．０１　ｐｐｍ），　２．９５　（１Ｈ，　ｂｓ，　ＯＨ），　３．１１（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．２９−４．３２　（２２Ｈ，　ｍ），　４．５５−４．６４　（１０Ｈ，　ｍ），　５．１６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．１９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．３　Ｈｚ），　５．２４−５．３８　（１０Ｈ，　ｍ），　５．８６−５．９６　（４Ｈ，　ｍ），　６．１３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１５３４　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_８３Ｈ_１５０ＮＯ_２０ＰＮａ：　１５３５．０３９１；　Ｆｏｕｎｄ：　１５３５．０４００．
【０３４８】
【参考例１４】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−２−フォルミルアミノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例１１で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１６８　ｍｇ，　０．１０３　ｍｍｏｌ）を、参考例１２と同様に処理し、標記目的化合物（９７　ｍｇ，　６３％）をガム状物質として得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ｆｉｌｍ）　３３０６，　２９２５，　２８５４，　１７４６，　１６９５，　１６６０　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２０−１．７８　（８３Ｈ，　ｍ），　２．００−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　２．８１　（１Ｈ，　ｂｓ，　ＯＨ），　３．３５−３．９２　（１８Ｈ，　ｍ），　４．０７−４．４０　（４Ｈ，　ｍ），　４．５７−４．６５　（９Ｈ，　ｍ），　５．１０　（１Ｈ，　ｍ），　５．２３−５．３９　（１０Ｈ，　ｍ），　５．８９−５．９８　（４Ｈ，　ｍ），　６．３４　（１Ｈ，　ｂｓ，　ＮＨ），　８．０５　（０．３Ｈ，　ｍ），　８．１４　（０．７Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１５０４　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）：　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_８２Ｈ_１４８ＮＯ_１９ＰＮａ：　１５０５．０２８１．　Ｆｏｕｎｄ：　１５０５．０２６９．
【０３４９】
【参考例１５】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−アセチルアミノ−６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例１１で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（２１９　ｍｇ，　０．１３４　ｍｍｏｌ）を、参考例１３と同様に処理し、標記目的化合物（１２８　ｍｇ，　６４％）を蝋状物質として得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ｆｉｌｍ）　３４２２，　３３４２，　３０８５　（ｗ），　２９２５，　２８５４，　１７４６，　１６８２　１６５０　（ｗ），　１６３１　（ｗ，　ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２０−１．４０　（７２Ｈ，　ｍ），　１．４０−１．６０　（６Ｈ，　ｍ），　１．６０−１．８０　（４Ｈ，　ｍ），　２．０１　（７Ｈ，　ｂｓ，　ＣＨ_２ｘ２，　ＣＨ_３ＣＯ），　２．９７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．２７−４．３７　（２１Ｈ，　ｍ），　４．５２−４．６６　（９Ｈ，　ｍ），　５．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．１７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．１　Ｈｚ），　５．２４−５．３８　（９Ｈ，　ｍ），　５．８８−５．９８　（４Ｈ，　ｍ），　６．０８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１５１８　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ），　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_８３Ｈ_１５０ＮＯ_１９ＰＮａ：　１５１９．０４３７．　Ｆｏｕｎｄ：　１５１９．０４３８．
【０３５０】
【参考例１６】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル−６−Ｏ−メチル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド
トリクロロイミドイル　２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−Ｄ−グルコピラノシド（２５０ｍｇ，　０．２９６ｍｍｏｌ）（米国特許第５，９３５，９３８号公報記載の方法により合成）の塩化メチレン（４０ｍｌ）溶液に、参考例８で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（１２９ｍｇ，　０．２９３ｍｍｏｌ）とモレキュラーラーシーブ４Ａ（６００　ｍｇ）を加え，窒素気流中室温１時間攪拌した。その後−４０℃に冷却しＴＭＳＯＴｆ（３０ｍｇ，　０．ｌ３５ｍｍｏｌ）を加える。２時間、−４０℃で反応させた後、塩化メチレンで希釈し、重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥した。ろ過し、濃縮した後、シリカゲルクロマトグラムを行なった。シクロヘキサン−酢酸エチル（２：３）、更に酢酸エチルで溶出して標記目的化合物（１７８　ｍｇ，　４５％）がガム状物質として得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３４５７　（ｂｒｏａｄ），　３３２５，　（ｂｒｏａｄ），　３０８５　（ｗ），　２９２６，　２８５５，　１７４８，　１６５０　（ｗ），　１５４５　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８８　（９Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（４６Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．３６−１．８０　（１０Ｈ，　ｍ），　３．２２−３．９０（３７Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２７　ｐｐｍ　ａｎｄ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．３９　ｐｐｍ），　４．０５−４．１９　（１Ｈ，　ｍ），　５．０７−５．４０　（７Ｈ，　ｍ），　５．８７−５．９９　（３Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１３６０　［Ｍ＋Ｎａ，　^３５Ｃｌ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_６４Ｈ_１１５ ^３５Ｃｌ_３ＮＯ_１９ＰＮａ：　１３６０．６７６４．　Ｆｏｕｎｄ：
１３６０．６７６４．
【０３５１】
【参考例１７】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル−６−Ｏ−メチル｝−２−｛２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ｝−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
トリクロロイミドイル　２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−Ｄ−グルコピラノシド（２４０　ｍｇ，　０．２９６　ｍｍｏｌ）（米国特許第５，９３５，９３８号公報記載の方法により合成）と　上記参考例９で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１９０　ｍｇ，　０．２９６　ｍｍｏｌ）を、上記参考例１６と同様に処理することにより　ガム状の標記目的化合物（１６９　ｍｇ，　４３％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３４４８，　３２９１，　３０８４，　２９２５，　２８５５，　１７５１，　１６５０　（ｗ）　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８９　（９Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（５０Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．４０−１．６０　（８Ｈ，　ｍ），　３．２５−３．９１（２３Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ　ａｎｄ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．３９　ｐｐｍ），　４．０５−４．１９　（１Ｈ，　ｍ），　４．２８−４．３５　（３Ｈ，　ｍ），　４．５５−４．８１　（８Ｈ，　ｍ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２４−５．３９　（６Ｈ，　ｍ），　５．９０−５．９９　（３Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１３４４　（Ｍ＋Ｎａ，　^３５Ｃｌ）^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_６４Ｈ_１１５ ^３５ＣｌＮＯ_１８ＰＮａ：　１３４４．６８１８．　Ｆｏｕｎｄ：　１３４４．６８２６．
【０３５２】
【参考例１８】
（アリルオキシカルボニルメチル　６−Ｏ−［２−デオキシー４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例１６で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル−６−Ｏ−メチル］−２−［２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−［（Ｒ）−３−（ヒドロキシ）テトラデシル］−α−Ｄ−グルコピラノシド（２７０　ｍｇ，　０．１０２　ｍｍｏｌ）のＴＨＦ−ＡｃＯＨ（１：１，　１０　ｍｌ）溶液にＺｎ粉末（２６０　ｍｇ，　３．９７７　ａｔｏｍ）を加え、４時間室温で激しく攪拌した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下（１２　ｍｍＨｇ）室温で濃縮した。濃縮液を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄し、減圧濃縮してアミン化合物を得た。このアミン化合物を、重曹（６０　ｍｇ，　０．７１４　ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（２．０　ｍｌ）−Ｈ_２Ｏ（０．６　ｍｌ）溶媒に加えて溶解し、シス−１１−オクタデセノイル　クロライド［このシス−１１−オクタデセノイル　クロライドは、シス−１１−オクタデセニル酸（６８　ｍｇ，　０．２４２　ｍｍｏｌ，　１．２当量）をベンゼン（２　ｍｌ）に溶解し、室温でオキサリルクロリド（１２０　ｍｇ，　０．９４５　ｍｍｏｌ）と３時間反応させた後、減圧濃縮させて得られた。］のＴＨＦ（１　ｍｌ）溶液を加え室温で３０分間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。乾燥後、ろ過し、ろ液を減圧下濃縮して得た残査をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液　シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で精製し、標記目的化合物を得た（１９２　ｍｇ，　６７％）。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３５００−３０００　（ｂｒｏａｄ），　２９２６，　２８５５，　１７５２，　１６５２，　１５４９，　１４６６　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６　（７２Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．３７−１．８５　（６Ｈ，　ｍ），　１．９７−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　２．１２−２．２４　（２Ｈ，　ｍ），　２．９７−４．３２　（３０Ｈ，ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ　ａｎｄ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．３８　ｐｐｍ　），　４．５３−４．６６　（６Ｈ，　ｍ），　５．０２−５．４０　（１０Ｈ，　ｍ），　５．８５−５．９８　（３Ｈ，　ｍ），　６．０８−６．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１４５０　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_７９Ｈ_１４６ＮＯ_１８ＰＮａ：１４５１．０１７４．　Ｆｏｕｎｄ：　１４５１．０１７１．
【０３５３】
【参考例１９】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル−６−Ｏ−メチル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例１７で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル−６−Ｏ−メチル｝−２−｛２，２，２−（トリクロロエトキシカルボニル）アミノ｝−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１５４　ｍｇ，　０．１１６　ｍｍｏｌ）を、上記参考例１８と同じ方法で処理することにより、ガム状の標記目的化合物（１２５　ｍｇ，　７７％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ（ＫＢｒ）　３３０６，　３０８２，　２９２５，　２８５４，　１７６０，　１６５９，　１６３４，　１５４５　ｃｍ^−１．
４００　ＭＨｚ　^１Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３＋Ｄ_２Ｏ）　δ　０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．４　Ｈｚ），　１．２５　（６２Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　１．３５−１．８０　（１４Ｈ，　ｍ），　２．００−２．０２　（６Ｈ，　ｍ），　２．１０−２．２５　（４Ｈ，　ｍ），　３．１０−４．４０　（２９Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ　ａｎｄ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．３８　ｐｐｍ　），　４．５４−４．６６　（６Ｈ，　ｍ），　５．０９−５．３９　（１０Ｈ，　ｍ），　５．８７−５．９８　（３Ｈ，　ｍ）．
ＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　ｍ／ｚ，　１４３４　［Ｍ＋Ｎａ］^＋．
ＨＲＦＡＢＭＳ　（ｐｏｓｉｔｉｖｅ−ｉｏｎ）　Ｃａｌｃｄ．　ｆｏｒ　Ｃ_７９Ｈ_１４６ＮＯ_１７ＰＮａ：　１４３５．０２２６．　Ｆｏｕｎｄ：　１４３５．０２３４．
【０３５４】
【参考例２０】
アリル　２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシド
アリル　２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセチルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシド（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，２２２，５７−６８（１９９１）、公知化合物）（１７．８ｇ、５０．１ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（２５０ｍＬ）溶液に、０℃で水素化ナトリウム（４．０５ｇ、６０％油性、１０１ｍｍｏｌ）を加えて１５分間撹拌した。この溶液に、（Ｒ）−３−メトキシデシル　ｐ−トルエンスルホナート（Ｐａｔｅｎｔ，ＵＳ５９３５９３８、公知化合物）（１８．９ｇ、５５．２ｍｍｏｌ）を加えて、室温で５時間撹拌した。水を加えて反応を止め、酢酸エチルで３回抽出し、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄したのち、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、４：１）にて精製を行い、標記目的化合物（２０．２ｇ、収率７７％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３３０４，　３１１４，２９９５，　２９３０，２８７７，　２８５８，　２８２５，　１７０５，　１６７４　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２７−１．４７　（１２Ｈ，　ｍ），　１．４１　（３Ｈ，　ｓ），　１．５０　（３Ｈ，　ｓ），　１．６３−１．６７　（２Ｈ，　ｍ），　３．２５　（１Ｈ，　ｍ），　３．２８　（３Ｈ，　ｓ），　３．３２　（１Ｈ，　ｔｄ，　Ｊ＝９．８，　４．９　Ｈｚ），　３．４３　（１Ｈ，　ｍ），　３．５８−３．６４　（２Ｈ，　ｍ），　３．７７−３．８７　（３Ｈ，　ｍ），　３．９３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝４．９，　１０．７　Ｈｚ），　４．０６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝５．９，　１２．７　Ｈｚ），　４．３１　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝４．９，　１２．７　Ｈｚ），　４．８８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．１９−５．２８　（２Ｈ，ｍ），　５．８３　（１Ｈ，　ｍ），　６．５６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　５４８　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　５２６　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_２５Ｈ_４２Ｆ_３ＮＯ_７Ｎａ：　５４８．２８０８；　ｆｏｕｎｄ：　５４８．２８１５．
【０３５５】
【参考例２１】
アリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例２０で得られたアリル　２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシド（１９．４ｇ、３６．９ｍｍｏｌ）をメタノール（１５０ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸（３８９ｍｇ、２．０４ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、３：７）にて精製を行い、標記目的化合物（１６．５ｇ、収率９２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３５４８，　３３７５，　３２６５，　３１１６，　２９２７，　２８７４，　２８５８，　１７０２，　１６７２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２７−１．７７　（１４Ｈ，　ｍ），　３．０１　（２Ｈ，　ｂｒｓ，　ＯＨ），　３．２９　（３Ｈ，　ｓ），　３．３４−３．５３　（３Ｈ，　ｍ），　３．５９　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．５，８．８　Ｈｚ），　３．６７　（１Ｈ，　ｍ），　３．７５−３．８５　（３Ｈ，　ｍ），　３．９２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．７，　１１．７　Ｈｚ），　４．０７　（１Ｈ，　ｍ），　４．３１　（１Ｈ，　ｍ），　４．８４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　５．１９−５．２９　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　５０８　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　４８６　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_２２Ｈ_３８Ｆ_３ＮＯ_７Ｎａ：　５０８．２４９４；　ｆｏｕｎｄ：　５０８．２５０３．
【０３５６】
【参考例２２】
（１−プロペニル）　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド
参考例２１で得られたアリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−β−Ｄ−グルコピラノシド（５．３４ｇ、１１．０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（３０ｍＬ）に溶解し、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（３．１０ｇ、２７．６ｍｍｏｌ）を加えて窒素雰囲気下８５℃で２時間撹拌した。この反応液に水（１０ｍＬ）を加えて、８５℃でさらに６時間撹拌したのち、室温まで冷却し、塩化メチレンで３回抽出操作を行った。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して得られた残さをテトラヒドラフラン（４０ｍＬ）に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）、クロロギ酸２、２、２−トリクロロエチルエステル（２．５８ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）を加えて、０℃で３０分間撹拌した。この溶液に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、塩化メチレンで抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、２：３）にて精製を行い、標記目的化合物（４．７０ｇ、収率７６％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３３２３，　３０５４，　２９２７，　２８７３，　２８５７，　１７１６，　１６７２，　１６４２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２８−１．６２　（１５Ｈ，　ｍ），　１．７４−１．７９　（２Ｈ，　ｍ），　２．３６　（１Ｈ，　ｓ，　ＯＨ），　３．３０　（３Ｈ，　ｓ），　３．３６−３．４６　（３Ｈ，　ｍ），　３．５８−３．７１　（３Ｈ，　ｍ），　３．８１　（１Ｈ，　ｍ），　３．９０−３．９４　（２Ｈ，　ｍ），　４．０６　（１Ｈ，　ｓ，　ＯＨ），　４．５７１Ｈ，　ｍ），　４．７４　（２Ｈ，　ｓ），　４．８６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　５．３７　（１Ｈ，　ｂｒｓ，　ＮＨ），　６．１５　（１Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　５８６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　５６４　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_２３Ｈ_４０Ｃｌ_３ＮＯ_８Ｎａ：　５８６．１７２６；　ｆｏｕｎｄ：　５８６．１７０３．
【０３５７】
【参考例２３】
（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド
参考例２２で得られた（１−プロペニル）　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（４．６０ｇ、８．１４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３０ｍＬ）溶液に、ピリジン（１．４ｍＬ、１７．３ｍｍｏｌ）、クロロギ酸アリルエステル（１．１ｍＬ、１０．４ｍｍｏｌ）を加えて、０℃で１時間撹拌した。この溶液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで３回抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、３：２）で精製を行い、標記目的化合物（４．９５ｇ、収率９４％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３５１８，　３３１０，　３０８６，　３０５９，　２９３２，　２８８５，　２８５７，　１７２８，　１７０９，　１６７４，　１６５２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．６２　（１５Ｈ，　ｍ），　１．７０−１．７９　（２Ｈ，　ｍ），　３．３０　（３Ｈ，　ｓ），　３．３６−３．４４　（２Ｈ，　ｍ），　３．５０−３．７１　（４Ｈ，　ｍ），　３．９１−３．９４　（２Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＯＨ），　４．３８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝４．９，　１１．７　Ｈｚ），　４．５０　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０，　１１．７　Ｈｚ），　４．５６　（１Ｈ，　ｍ），　４．６３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．９　Ｈｚ），　４．７４　（２Ｈ，　ｓ），　４，８５　（１Ｈ，　ｍ），　５．２６−５．３８　（３Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５，９３　（１Ｈ，　ｍ），　６．１６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０，　５．９　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　６７０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　６４８　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_２７Ｈ_４４Ｃｌ_３ＮＯ_１０Ｎａ：　６７０．１９１４；　ｆｏｕｎｄ：　６７０．１９５９．
【０３５８】
【参考例２４】
（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド
参考例２３で得られた（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（４．８０ｇ、７．４０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液に、１Ｈ−テトラゾール（８３０ｍｇ、１１．８ｍｍｏｌ）、ビス（アリルオキシ）（ジイソプロピルアミノ）ホスフィン（２．５０ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）を加えて、窒素雰囲気下、室温で２時間撹拌した。この反応液を０℃に冷却し、３０％過酸化水素水（１０ｍＬ）を加えて１時間撹拌したのち、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて、酢酸エチルで３回抽出操作を行った。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、３：２）で精製を行い、標記目的化合物（５．１７ｇ、収率８６％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３４５０，　３０８９，　２９５５，　２８７３，　２８５９，　２８２９，　１７４６，　１６７４，　１６５０　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２７−１．５６　（１５Ｈ，　ｍ），　１．６８−１．８１　（２Ｈ，　ｍ），　３．２９　（３Ｈ，　ｓ），　３．３１　（１Ｈ，　ｍ），　３．４７　（１Ｈ，　ｍ），　３．７２−３．８２　（３Ｈ，　ｍ），　３．９０　（１Ｈ，　ｍ），　４．３２−４．３８　（２Ｈ，　ｍ），　４．５２−４．６３　（８Ｈ，　ｍ），　４．７３　（２Ｈ，　ｓ），　４．９９　（１Ｈ，　ｍ），　５．１９−５．３８　（６Ｈ，　ｍ），　５．５６　（１Ｈ，　ｍ，　ＮＨ），　５．８９−５．９９　（３Ｈ，　ｍ），　６．１３　（１Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　８３０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　８０８　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３３Ｈ_５３Ｃｌ_３ＮＯ_１３ＰＮａ：　８３０．２２１５；　ｆｏｕｎｄ：　８３０．２２３１．
【０３５９】
【参考例２５】
６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−Ｄ−グルコピラノ−ス
参考例２４で得られた（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシド（４．８０ｇ、５．９３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液に、ヨウ素（３．０８ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）、水（６ｍＬ）を加えて室温で３０分間撹拌した。この溶液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで３回抽出操作を行った。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、１：１）で精製を行い、標記目的化合物（４．３０ｇ、収率９４％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３５９８，　３４３５，　３３１７，　３０８９，　２９５５，　２９３１，　２８７３，　２８５８，　１７４６，　１６５１　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２６−１．５０　（１２Ｈ，　ｍ），　１．６７−１．７８　（２Ｈ，　ｍ），　３．２６　（３Ｈ，　ｓ），　３．３２　（１Ｈ，　ｍ），　３，６３−３．７３　（２Ｈ，　ｍ），　３．８６−３．９４　（２Ｈ，　ｍ），　４．１８　（１Ｈ，　ｍ），　４．３０−４．３８　（３Ｈ，　ｍ），　４．５１−４．６３　（７Ｈ，　ｍ），　４．６７，　４．７４　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　５．２４−５．４０　（７Ｈ，　ｍ），　５．８１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ，　ＮＨ），　５．８９−５．９８　（３Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　７９０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　７６８　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３０Ｈ_５０Ｃｌ_３ＮＯ_１３Ｐ：　７６８．２０８５；　ｆｏｕｎｄ：　７６８．２０８９．
【０３６０】
【参考例２６】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例２５で得られた６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−Ｄ−グルコピラノ−ス（３６５ｍｇ、０．４７５ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍＬ）溶液に、トリクロロアセトニトリル（０．２３ｍＬ、２．２９ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（２１ｍｇ、０．０６３ｍｍｏｌ）を加えて室温で３時間撹拌した。この溶液を塩化メチレンで希釈して、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗イミデート体を塩化メチレン（５ｍＬ）に溶解し、参考例９で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（２３０ｍｇ、０．３５８ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ（４００ｍｇ）を加えて、窒素雰囲気下室温で３０分間撹拌した。反応液を０℃に冷却し、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート（９μＬ、０．０５０ｍｍｏｌ）を加えて、１時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を止め、塩化メチレンで抽出操作を行った。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、５：４）で２回精製を行い、標記目的化合物（１５０ｍｇ、収率３０％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３５９５，　３４５０，　３０８９，　２９２８，　２８５６，　１７４８，　１６５０　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（９Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．８０　（５８Ｈ，　ｍ），　２．５７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．２４−３．３１　（６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ），　３．４０−３．４８　（２Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８，　８．８　Ｈｚ），　３．６０−３．９３　（９Ｈ，　ｍ），４．０６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　４．１７　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．２６　（１Ｈ，　ｍ），　４．３２　（１Ｈ，　ｍ），　４．３３　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５３−４．７８　（１１Ｈ，　ｍ），　４．９２　（１Ｈ，　ｍ），　５．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．２４−５．３８　（８Ｈ，　ｍ），　５．６９　（１Ｈ，　ｂｒｓ，　ＮＨ），　５．８６−５．９７　（４Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１４１４　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６７Ｈ_１１７Ｃｌ_３ＮＯ_２０ＰＮａ：　１４１４．６８７３；　ｆｏｕｎｄ：　１４１４．６８７９．
【０３６１】
【参考例２７】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例２６で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１０５ｍｇ、０．０７６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液に、亜鉛粉末（１０１ｍｇ、１．５４ｍｍｏｌ）、酢酸（０．５ｍＬ）を加えて、室温で３時間撹拌した。亜鉛粉末を濾別後、減圧下濃縮して得られた残さを酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過したのち、減圧下溶媒を留去して得られた粗アミンを塩化メチレン（３ｍＬ）に溶解し、（Ｚ）−１１−オクタデセン酸（２６ｍｇ、０．０９２ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチル−アミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２３ｍｇ、０．１２０ｍｍｏｌ）を加えて室温で１８時間撹拌した。この溶液を塩化メチレンで希釈し、水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、１：１）で精製を行い、標記目的化合物（５５ｍｇ、収率４９％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３３２０，　３０８３，　２９５４，　２９２４，　２８５３，　１７５０，　１６５０，　１６３５　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．８１　（８０Ｈ，　ｍ），１．９９−２．０３　（４Ｈ，　ｍ），　２．１４−２．２７　（２Ｈ，　ｍ），　３．０２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．１６　（１Ｈ，　ｍ），　３．２４−３．３４　（５Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ），　３．４０−３．４９　（２Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．８，　９．８　Ｈｚ），　３．６４−３．８１　（７Ｈ，　ｍ），　３．８５　（１Ｈ，　ｍ），　３．９６（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８，　８．８　Ｈｚ），　４．０５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　４．１５　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６Ｈｚ），　４．２２　（１Ｈ，　ｍ），　４．３１　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．３２　（１Ｈ，　ｍ），　４．５２−４．６７　（９Ｈ，　ｍ），　５．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．２２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．２４−５．３９　（１０Ｈ，ｍ），　５．８６−５．９７　（４Ｈ，　ｍ），　６．１２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１５０４　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_８２Ｈ_１４８ＮＯ_１９ＰＮａ：　１５０５．０２８１；　ｆｏｕｎｄ：　１５０５．０２８３．
【０３６２】
【参考例２８】
２−（４−メトキシフェニル）−（Ｒ）−４−ヘプチル−［１，３］ジオキサン（Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−デカノール（Ｐａｔｅｎｔ，ＵＳ５９３５９３８、公知化合物）（１７．４ｇ、９９．８ｍｍｏｌ）のトルエン（２５０ｍＬ）溶液に、ｐ−アニスアルデヒドジメチルアセタール（２０．０ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸（１．８０ｇ、９．４６ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、酢酸エチルで希釈して、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、９：１）で精製を行い、標記目的化合物（２５．８ｇ、収率８８％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３４５０，　２９２７，　２８５５，　１７４８，　１６５０　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２７−１．５４　（１２Ｈ，　ｍ），　１．６４−１．８２　（２Ｈ，　ｍ），　３．７６−３．８４　（４Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．８０　ｐｐｍ），　３．９３　（１Ｈ，　ｔｄ，　Ｊ＝２．０，　１１．７　Ｈｚ），　４．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝４．９，　１１．７　Ｈｚ），　５．４６　（１Ｈ，　ｓ），６．８８　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．４２　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＥＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　２９２　（Ｍ^＋・）．
ＨＲＭＳ　（ＥＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_１８Ｈ_２８Ｏ_３：　２９２．２０２８；　ｆｏｕｎｄ：　２９２．２０４３．
【０３６３】
【参考例２９】
（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）−１−デカノール
参考例２８で得られた２−（４−メトキシフェニル）−（Ｒ）−４−ヘプチル−［１，３］ジオキサン（２５．６ｇ、８７．５ｍｍｏｌ）のトルエン（２００ｍＬ）溶液に、１．０Ｍ水素化ジイソブチルアルミニウム／トルエン溶液（１３５ｍＬ、１３５ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で５時間撹拌した。反応液を０℃に冷却し、飽和塩化アンモニウム水溶液をゆっくり加えて反応を止め、０．５Ｍロッシェル塩水溶液を加えて室温で３０分間撹拌した。この溶液を酢酸エチルで３回抽出し、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、７：３）で精製を行い、標記目的化合物（２３．８ｇ、収率９２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３６２５，　３５００，　２９５６，　２９３１，　２８５８，　１６１３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２８−１．３５　（１０Ｈ，　ｍ），　１．４８−１．８５　（４Ｈ，　ｍ），　２．４６　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝５．８　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．６２　（１Ｈ，　ｍ），　３．６８−３．８３　（５Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．８０　ｐｐｍ），　４．４１，　４．５３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），６．８６−６．９０　（２Ｈ，　ｍ），　７．２４−７．２８　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　３１７　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　２９５　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_１８Ｈ_３０Ｏ_３Ｎａ：　３１７．２０９８；　ｆｏｕｎｄ：　３１７．２０９０．
【０３６４】
【参考例３０】
（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル　メタンスルホナート
参考例２９で得られた（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）−１−デカノール（２３．５ｇ、７９．８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３００ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（１６．７ｍＬ、１２０ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロリド（７．４ｍＬ、９６ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、１時間撹拌した。この反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで抽出して、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、７：３）で精製を行い、標記目的化合物（２７．８ｇ、収率９４％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　２９５７，　２９３１，　２８５８，　１６１３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ０．８９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．９　Ｈｚ），　１．２４−１．３７　（１０Ｈ，　ｍ），　１．４７−１．６６　（２Ｈ，　ｍ），　１．８３−１．９９　（２Ｈ，　ｍ），　２．９５　（３Ｈ，　ｓ），　３．５５　（１Ｈ，　ｍ），　３．８０　（３Ｈ，　ｓ），　４．２７−４．３６　（２Ｈ，　ｍ），　４．３８，　４．５１　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），　６．８６−６．９０　（２Ｈ，　ｍ），　７．２４−７．２８　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　３９５　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_１９Ｈ_３２Ｏ_５ＳＮａ：　３９５．１８５２；　ｆｏｕｎｄ：　３９５．１８７８．
【０３６５】
【参考例３１】
アリル　２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド
アリル　２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，２２２，５７−６８（１９９１）、公知化合物）（１７．２ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（１５０ｍＬ）に溶解し、０℃で水素化ナトリウム（３．８８ｇ、６０％油性、９７ｍｍｏｌ）を加えて１５分間撹拌した。この溶液に、参考例３０で得られた（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシルメタンスルホナート（１５．１ｇ、４０．５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で５時間撹拌した。水を加えて反応を止め、酢酸エチルで３回抽出し、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄したのち、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、４：１）にて精製を行い、標記目的化合物（２１．３ｇ、収率８３％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３４３０，　２９３１，　２８５９，　１７３４，　１６１２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２４−１．５２　（１８Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　１．４０　ｐｐｍ，　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　１．４９　ｐｐｍ），　１．６４−１．７６　（２Ｈ，　ｍ），　３．４２−３．４９　（２Ｈ，　ｍ），　３．５８　（１Ｈ，　ｍ），　３．６６−３．７８　（３Ｈ，　ｍ），　３．８０　（３Ｈ，　ｓ），　３．８４−３．８９　（２Ｈ，　ｍ），　３．９９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝６．６，　１２．５　Ｈｚ），　４．１４−４．２０　（２Ｈ，　ｍ），　４．３６，　４．４２　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２４−５．３０　（２Ｈ，　ｍ），　５．８６　（１Ｈ，　ｍ），　６．４２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．５　Ｈｚ，　ＮＨ），　６．８５−６．８９　（２Ｈ，　ｍ），　７．２３−７．２７　（ｍ，　２Ｈ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　６５４　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　６３２　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３２Ｈ_４８Ｆ_３ＮＯ_８Ｎａ：　６５４．３２２９；　ｆｏｕｎｄ：　６５４．３２３２．
【０３６６】
【参考例３２】
アリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３１で得られたアリル　２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（２１．０ｇ、３３．２ｍｍｏｌ）について、参考例２１に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（１７．９ｇ、収率９１％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３４２５，　３３１５，　３０９５，　２９６１，　２９２８，　２８５８，　１６９９，　１６６６，　１６４７　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６−１．８２　（１４Ｈ，　ｍ），　２．３２　（２Ｈ，　ｂｒｓ，　ＯＨ），　３．４７−３．５８　（３Ｈ，　ｍ），　３．６４−３．７０　（２Ｈ，　ｍ），　３．７３−３．７９　（３Ｈ，ｍ），　３．８１　（３Ｈ，　ｓ），　４．００　（１Ｈ，　ｍ），　４．１２−４．２１　（２Ｈ，　ｍ），　４．３８，　４．４３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．８５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２４−５．３１　（２Ｈ，　ｍ），　５．８７　（１Ｈ，　ｍ），　６．４２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．５　Ｈｚ），　６．８６−６．９０　（２Ｈ，　ｍ），　７．２５　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　６１４　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　５９２　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_２９Ｈ_４４Ｆ_３ＮＯ_８Ｎａ：　６１４．２９０１；　ｆｏｕｎｄ：　６１４．２９４３．
【０３６７】
【参考例３３】
アリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３２で得られたアリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（５．６１ｇ、９．４８ｍｍｏｌ）のエタノール（４０ｍＬ）溶液に、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）を加えて８０℃で５時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、酢酸エチルで希釈して、水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去して得られた粗アミンをテトラヒドロフラン（２５ｍＬ）に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍＬ）、クロロギ酸２，２，２−トリクロロエチルエステル（２．２０ｇ、１０．４ｍｍｏｌ）を０℃で加えて３０分間撹拌した。この反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、酢酸エチルで３回抽出を行い、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、２：３）で精製を行い、標記目的化合物（６．０１ｇ、収率９５％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３３４９，　３０６５，　２９５５，　２９２７，　２８５６，　１７１３，　１６４６，　１６１４　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６−１．８０　（１４Ｈ，　ｍ），　２．０４　（１Ｈ，　ｔ，　ＯＨ），　３．４２−３．９０　（１３Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．８０　ｐｐｍ），　３．９９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝６．６，　１２．４　Ｈｚ），　４．１９　（１Ｈ，　ｍ），　４．３９，　４．４４　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），　４．６９，　４．７４　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１２．１　Ｈｚ），　４．８５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．１９−５．３２　（３Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．８４−５．９４　（１Ｈ，　ｍ），　６．８６−６．８９　（２Ｈ，　ｍ），　７．２４−７．２７　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　６９２　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３０Ｈ_４６Ｃｌ_３ＮＯ_９Ｎａ：　６９２．２１４１；　ｆｏｕｎｄ：　６９２．２１２３．
【０３６８】
【参考例３４】
（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド
（１，５−シクロオクタジエン）ビス（メチルジフェニルホスフィン）イリジウム　ヘキサフルオロホスフェート（３６５ｍｇ、０．４３２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解し、水素置換を行いイリジウム錯体を活性化して、赤色溶液が透明になったのち、反応系を完全に窒素置換した。この溶液に参考例３３で得られたアリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（５．７８ｇ、８．６１ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２時間撹拌した。この溶液を減圧下濃縮し、得られた混合物を塩化メチレン（４５ｍＬ）に溶解し、０℃でピリジン（１．２ｍＬ、１４．８ｍｍｏｌ）、クロロギ酸アリルエステル（１．４ｍＬ、１３．２ｍｍｏｌ）を加えて、１時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、塩化メチレンで抽出を行い、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、７：３）で精製を行い、標記目的化合物（５．８５ｇ、収率９０％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３６０５，　３４３６，　２９５６，　２９３０，　２８５９，　１７４５，　１６７８　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６−１．６４　（１５Ｈ，　ｍ），　１．７８−１．８１　（２Ｈ，　ｍ），　３．３４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．２　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．４２−３．５６　（３Ｈ，　ｍ），　３．７２−３．９８　（７Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．８０　ｐｐｍ），　４．３３−４．４６　（４Ｈ，　ｍ），　４．６３−４．７７（４Ｈ，　ｍ），　５．０３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．１２−５．２１　（２Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．２６−５．４０　（２Ｈ，　ｍ），　５．９５　（１Ｈ，　ｍ），　６．１４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５，　１２．５　Ｈｚ），　６．８８　（２Ｈ，　ｄ，Ｊ＝８．１　Ｈｚ），　７．２５−７．２７　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　７７６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　７５４　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３４Ｈ_５０Ｃｌ_３ＮＯ_１１Ｎａ：　７７６．２３５５；　ｆｏｕｎｄ：　７７６．２３１８．
【０３６９】
【参考例３５】
（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３４で得られた（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（５．７０ｇ、７．５５ｍｍｏｌ）について、参考例２４に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（５．６０ｇ、収率８１％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３４３５，　２９５６，　２９３１，　２８５９，　１７４６，　１６７８，　１６６１，　１６５１，　１６１３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２２−１．６４　（１５Ｈ，　ｍ），　１．７７−１．８４　（２Ｈ，　ｍ），　３．４６　（１Ｈ，　ｍ），　３．５８−３．７５　（２Ｈ，　ｍ），　３．７９　（３Ｈ，　ｓ），　３．８７−４．０１　（３Ｈ，　ｍ），　４．３４−４．５０　（５Ｈ，　ｍ），　４．５５−４．７４　（８Ｈ，　ｍ），　５．０５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．１４−５．３８　（８Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．８７−５．９８　（３Ｈ，　ｍ），　６．１３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．２，　１２．５　Ｈｚ），　６．８６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２５　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　９３６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　９１４　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_４０Ｈ_５９Ｃｌ_３ＮＯ_１４ＰＮａ：　９３６．２６３６；　ｆｏｕｎｄ：　９３６．２６３９．
【０３７０】
【参考例３６】
６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−Ｄ−グルコピラノース
参考例３５で得られた（１−プロペニル）　６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（５．５５ｇ、５．７１ｍｍｏｌ）について、参考例２５に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（４．６０ｇ、収率９２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３６９１，　３６００，　３４３５，　２９５５，　２９３２，　２８５８，　１７４７，　１６１１　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２６−１．５５　（１２Ｈ，　ｍ），　１．７７−１．８１　（２Ｈ，　ｍ），　３．４５　（１Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｂｒｓ，　ＯＨ），　３．６２−３．７１　（２Ｈ，　ｍ），　３．７９　（３Ｈ，　ｓ），　３．８６−３．９１　（２Ｈ，　ｍ），　４．１６　（１Ｈ，　ｍ），　４．２９−４．４３　（４Ｈ，　ｍ），　４．５１−４．６３　（８Ｈ，　ｍ），　４．７２　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　５．２２−５．３８　（８Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．８８−５．９７　（３Ｈ，　ｍ），　６．８６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　７．２５　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　８９６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　８７４　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３７Ｈ_５５Ｃｌ_３ＮＯ_１４ＰＮａ：　８９６．２３２０；　ｆｏｕｎｄ：　８９６．２３４９．
【０３７１】
【参考例３７】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３６で得られた６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−Ｄ−グルコピラノース（６００ｍｇ、０．６８６ｍｍｏｌ）について、参考例２６に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（４６５ｍｇ、収率５９％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　３４５７，　３３０３，　３０８３，　３０２１，　２９５３，　２９２５，　２８５５，　１７４６，　１６５１　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（９Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．６４　（５６Ｈ，　ｍ），　１．７４−１．８２　（２Ｈ，　ｍ），　２．５２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．２５　（１Ｈ，　ｍ），　３．３０　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３９−３．４７　（３Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８，　８．８　Ｈｚ），　３．６０−３．７８　（７Ｈ，　ｍ），　３．８０　（３Ｈ，　ｓ），　３．８３−３．９３　（２Ｈ，　ｍ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．２５　（１Ｈ，　ｍ），　４．３２　（１Ｈ，　ｍ），　４．１７，　４．３２　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．３７，　４．４３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．５４−４．６６　（１１Ｈ，　ｍ），　４．７８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝５．９　Ｈｚ），　５．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．２２−５．３８　（９Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．８６−５．９７　（４Ｈ，　ｍ），　６．８８　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１５２０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_７４Ｈ_１２３Ｃｌ_３ＮＯ_２１ＰＮａ：　１５２０．７２９１；　ｆｏｕｎｄ：　１５２０．７２９７．
【０３７２】
【参考例３８】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３７で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（４００ｍｇ、０．２６７ｍｍｏｌ）について、参考例２７に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（１７６ｍｇ、収率４２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　３４３０，　３３３１，　３０８５，　３０００，　２９２２，　２８５４，　１７４６，　１６８０，　１６５０　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．８６　（８０Ｈ，　ｍ），１．９９−２．１２　（６Ｈ，　ｍ），　２．９０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．１２　（１Ｈ，　ｍ），　３．２８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３７−３．５４　（４Ｈ，　ｍ），　３．６４−３．８８　（１１Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，ｓ，　ａｔ　３．７９　ｐｐｍ），　３．９４−４．０３　（２Ｈ，　ｍ），　４．２３　（１Ｈ，　ｍ），　４．１５，　４．３１　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．３２　（１Ｈ，　ｍ），　４．３９，　４．４３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．５３−４．６７　（９Ｈ，　ｍ），　５．１０　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．１６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．２１−５．３７　（１０Ｈ，　ｍ），　５．８６−５．９７　（５Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　６．８７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２４　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１６１０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_８９Ｈ_１５４ＮＯ_２０ＰＮａ：　１６１１．０７１８；　ｆｏｕｎｄ：　１６１１．０７４７．
【０３７３】
【参考例３９】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３８で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１７０ｍｇ、０．１０７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（５ｍＬ）溶液に、水（０．５ｍＬ）、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（２９ｍｇ、０．１２９ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２時間撹拌した。この反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、５：４）で精製を行い、標記目的化合物（１２１ｍｇ、収率７７％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　３４７３，　３３５４，　３０８５，　３００６，　２９５５，　２９２２，　２８５２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．７４　（８０Ｈ，　ｍ），１．９９−２．０３　（４Ｈ，　ｍ），　２．１５−２．２５　（２Ｈ，　ｍ），　２．８５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　２．９６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．２９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３４−３．４９　（３Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．８，　９．８　Ｈｚ），　３．６３−３．８９　（９Ｈ，　ｍ），　３．９７−４．０４　（２Ｈ，　ｍ），　４．２６−４．３２　（２Ｈ，　ｍ），　４．１５，　４．３１　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５１−４．６７　（９Ｈ，　ｍ），　５．０７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．２４−５．３８　（１０Ｈ，　ｍ），　５．８６−５．９７（４Ｈ，　ｍ），　６．０１　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１４９０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_８１Ｈ_１４６ＮＯ_１９ＰＮａ：　１４９１．０１１１；　ｆｏｕｎｄ：　１４９１．００８４．
【０３７４】
【参考例４０】
アリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例３２で得られたアリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（７．１０ｇ、１２．０ｍｍｏｌ）をピリジン（６０ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（２．７５ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１５０ｍｇ、１．２３ｍｍｏｌ）を加えて、室温で５時間撹拌した。この反応液に１Ｍ塩酸水溶液を加えて、塩化メチレンで抽出操作を５回行い、有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、７：３）で精製を行い、標記目的化合物（８．４１ｇ、収率９４％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３５５９，　３３３４，　３０９７，　３０５６，　３００９，　２９５８，　２９３１，　２８６０，　１７０４　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６−１．７９　（１４Ｈ，　ｍ），　３．３５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．４０　（３Ｈ，　ｓ），　３．４６−３．５５　（２Ｈ，　ｍ），　３．５７−３．６４　（３Ｈ，　ｍ），　３．７１−３．７６　（３Ｈ，　ｍ），　３．８０　（３Ｈ，　ｓ），　４．００　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝６．６，　１３．２　Ｈｚ），　４．１５−４．２２　（２Ｈ，　ｍ），　４．３８，　４．４３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），　４．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．４　Ｈｚ），　５．２３−５．３１　（２Ｈ，　ｍ），　５．８７　（１Ｈ，　ｍ），　６．４２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ，　ＮＨ），　６．８５−６．８９　（２Ｈ，　ｍ），　７．２３−７．２６　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　７６８　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３６Ｈ_５０Ｆ_３ＮＯ_１０ＳＮａ：　７６８．３００５；　ｆｏｕｎｄ：　７６８．３００６．
【０３７５】
【参考例４１】
アリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例４０で得られたアリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（８．３５ｇ、１１．２ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（４０ｍＬ）に溶解し、２５％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液（７．５ｍＬ、３４．７ｍｍｏｌ）を加えて、８５℃で１時間撹拌した。この反応液を０℃まで冷却して、１Ｍ塩酸水溶液を加えて３０分間撹拌したのち、酢酸エチルで３回抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、３：２）で精製を行い、標記目的化合物５．８８ｇ、収率８７％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３４５７，　３３０６，　３０９３，　３０３７，　２９３０，　２８７８，　２８５８，　１７０２，　１６６９，　１６４７　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６−１．７９　（１４Ｈ，　ｍ），　３．３５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．４０　（３Ｈ，　ｓ），　３．４６−３．５５　（２Ｈ，　ｍ），　３．５７−３．６４　（３Ｈ，　ｍ），　３．７１−３．７６　（３Ｈ，　ｍ），　３．８０　（３Ｈ，　ｓ），　４．００　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝６．６，　１３．２　Ｈｚ），　４．１５−４．２２　（２Ｈ，　ｍ），　４．３８，　４．４３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），　４．８７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．４　Ｈｚ），　５．２３−５．３１　（２Ｈ，　ｍ），　５．８７　（１Ｈ，　ｍ），　６．４２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ，　ＮＨ），　６．８５−６．８９　（２Ｈ，　ｍ），　７．２３−７．２６　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　６２８　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　６０６　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３０Ｈ_４６Ｆ_３ＮＯ_８Ｎａ：　６２８．３０７５；　ｆｏｕｎｄ：　６２８．３０６９．
【０３７６】
【参考例４２】
アリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例４１で得られたアリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−トリフルオロアセチルアミノ−α−Ｄ−グルコピラノシド（５．８０ｇ、９．５８ｍｍｏｌ）について、参考例３３に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（６．１５ｇ、収率９４％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３６０８，　３４３６，　２９５４，　２９３０，　２８７３，　２８５９，　１７４２，　１６４８，　１６１３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２６−１．６０　（１２Ｈ，　ｍ），　１．７０−１．８０　（２Ｈ，　ｍ），　３．２３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．４０　（３Ｈ，　ｓ），　３．４４　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８，　８．８　Ｈｚ），　３．４９−３．６１　（４Ｈ，　ｍ），　３．７０−３．７４　（２Ｈ，　ｍ），　３．８０　（３Ｈ，　ｓ），　３．８２　（１Ｈ，　ｍ），　３．９０　（１Ｈ，　ｔｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．９９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝６．８，　１２．７　Ｈｚ），４．１９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝４．９，　１２．７　Ｈｚ），　４．４０，　４．４４　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．６８，　４．７３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．８６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．１８−５．３１　（３Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．９０　（１Ｈ，　ｍ），　６．８７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　７０６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３１Ｈ_４８Ｃｌ_３ＮＯ_９Ｎａ：　７０６．２２８９；　ｆｏｕｎｄ：　７０６．２２９９．
【０３７７】
【参考例４３】
（１−プロペニル）　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド
（１，５−シクロオクタジエン）ビス（メチルジフェニルホスフィン）イリジウム　ヘキサフルオロホスフェート（３８１ｍｇ、０．４５０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し、水素置換を行いイリジウム錯体を活性化して、赤色溶液が透明になったのち、反応系を完全に窒素置換した。この溶液に参考例４２で得られたアリル　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（６．１２ｇ、８．９３ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２時間撹拌した。この反応液を減圧下濃縮し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、３：２）で精製して、標記目的化合物（５．７０ｇ、収率９３％）を得た。ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３６０８，　３４３６，　２９５４，　２９２９，　２８７２，　２８５９，　１７４１，　１６７９，　１６６１　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２４−１．６４　（１５Ｈ，　ｍ），　１．７１−１．８２　（２Ｈ，　ｍ），　３．２８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．０　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．３９　（３Ｈ，　ｓ），　３．４５　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　３．４９−３．６５　（４Ｈ，　ｍ），　３．６９−３．８６　（６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．８０　ｐｐｍ），　３．９１　（１Ｈ，　ｔｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　４．４０，　４．４５　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．６５，　４．７５　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１２．７　Ｈｚ），　５．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．１４−５．２０　（２Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　６．１６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０，　１２．７　Ｈｚ），　６．８８　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　７０６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３１Ｈ_４８Ｃｌ_３ＮＯ_９Ｎａ：　７０６．２２８７；　ｆｏｕｎｄ：　７０６．２３０７．
【０３７８】
【参考例４４】
（１−プロペニル）　２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例４３で得られた（１−プロペニル）　２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（５．５７ｇ、８．１３ｍｍｏｌ）について、参考例２４に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（６．１０ｇ、収率８９％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３４３５，　３０８８，　２９５４，　２９３１，　２８７３，　２８５９，　１７４４，　１６７８，　１６６１，　１６１３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２３−１．６４　（１５Ｈ，　ｍ），　１．７８−１．８２　（２Ｈ，　ｍ），　３．４０　（３Ｈ，　ｓ），　３．４５　（１Ｈ，　ｍ），　３．５９−３．７４　（４Ｈ，　ｍ），　３．７９　（３Ｈ，　ｓ），　３．８１　（１Ｈ，　ｍ），　３．８７　（１Ｈ，　ｍ），　３．９７　（１Ｈ，　ｔｄ，　Ｊ＝９．８，　３．９　Ｈｚ），　４．３８，　４．４１　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　４．４４　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．５４−４．６２　（５Ｈ，　ｍ），　４．６９　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１２．７　Ｈｚ），　５．０８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．１５−５．３９　（６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．８９−５．９９　（２Ｈ，　ｍ），　６．１６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　６．８６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），
７．２５　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　８６６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３７Ｈ_５７Ｃｌ_３ＮＯ_１２ＰＮａ：　８６６．２５８５；　ｆｏｕｎｄ：　８６６．２５６３．
【０３７９】
【参考例４５】
２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−Ｄ−グルコピラノース
参考例４４で得られた（１−プロペニル）　２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノシド（６．０５ｇ、７．１６ｍｍｏｌ）について、参考例２５に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（５．２８ｇ、収率９２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３５９９，　３４３５，　３０８８，　２９５４，　２９３２，　２８７３，　２８５８，　１７４３，　１６５１，　１６１３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２６−１．５３　（１２Ｈ，　ｍ），　１．７６−１．８１　（２Ｈ，　ｍ），　３．４０　（３Ｈ，　ｓ），　３．４４　（１Ｈ，　ｍ），　３．５４−３．７３　（５Ｈ，　ｍ），　３．８０　（３Ｈ，　ｓ），　３．８６−３．９２　（２Ｈ，　ｍ），　４．１０　（１Ｈ，　ｍ），　４．２９　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝９．５　Ｈｚ），　４．３７，　４．４１　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），　４．５４−４．５９　（５Ｈ，　ｍ），　４．７１　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１２．５　Ｈｚ），　５．２２−５．３９　（６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．８８−５．９８　（２Ｈ，　ｍ），　６．８６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２５　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　８２６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　８０４　（Ｍ＋Ｈ）^＋．ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３４Ｈ_５３Ｃｌ_３ＮＯ_１２ＰＮａ：　８２６．２２３８；　ｆｏｕｎｄ：　８２６．２２５５．
【０３８０】
【参考例４６】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例４５で得られた２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジルオキシ）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−Ｄ−グルコピラノース（５６０ｍｇ、０．６９６ｍｍｏｌ）について、参考例２６に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（３７６ｍｇ、収率５８％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３４４９，　２９２８，　２８５５，　１７４８，　１６１２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（９Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．６３　（５６Ｈ，　ｍ），　１．７６−１．８１　（２Ｈ，　ｍ），　２．６６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．２９　（１Ｈ，　ｍ），　３．３０　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３９　（３Ｈ，　ｓ），　３．４０−３．４８　（３Ｈ，　ｍ），　３．５１−３．５６　（２Ｈ，　ｍ），　３．６１−３．６６　（２Ｈ，　ｍ），　３．６８−３．９２　（９Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．８０　ｐｐｍ），　４．０４（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．２８　（１Ｈ，　ｍ），　４．１７，　４．３２　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．３７，　４．４３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．５４−４．６７　（８Ｈ，　ｍ），　４．７５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．２２−５．３８　（７Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ），　５．８６−５．９６　（３Ｈ，　ｍ），　６．８７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１４５０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_７１Ｈ_１２１Ｃｌ_３ＮＯ_１９ＰＮａ：　１４５０．７２４８；　ｆｏｕｎｄ：　１４５０．７２７９．
【０３８１】
【参考例４７】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例４６で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（３５０ｍｇ、０．２４５ｍｍｏｌ）について、参考例２７に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（１６２ｍｇ、収率４４％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＣＨＣｌ_３）　３４５３，　２９２８，　２８５５，　１７５３，　１６７０，　１６１２　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．９　Ｈｚ），　１．２５−１．８４　（８０Ｈ，　ｍ），１．９９−２．１３　（６Ｈ，　ｍ），　３．０５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．１７　（１Ｈ，　ｍ），　３．２８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３２−３．７８　（１６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．３８　ｐｐｍ），　３．７９　（３Ｈ，　ｓ），　３．８５　（１Ｈ，　ｍ），　３．９５　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８，　８．８　Ｈｚ），　４．０２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０，　１１．７　Ｈｚ），　４．２６　（１Ｈ，　ｍ），　４．１５，　４．３１　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．３９，　４．４３　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．５４−４．６７　（６Ｈ，　ｍ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．１１（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．２２−５．３９　（８Ｈ，　ｍ），　５．８２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ，　ＮＨ），　５．８６−５．９６　（３Ｈ，　ｍ），　６．８６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　７．２４　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１５４０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　１５１８　（Ｍ＋Ｈ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_８６Ｈ_１５２Ｃｌ_３ＮＯ_１８ＰＮａ：　１５４１．０６５０；　ｆｏｕｎｄ：　１５４１．０６５９．
【０３８２】
【参考例４８】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例４７で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−（４−メトキシベンジル）デシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１５０ｍｇ、０．０９９ｍｍｏｌ）について、参考例３９に記載した方法と同様の操作を行い、標記目的化合物（１００ｍｇ、収率７２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　３４２４，　３３２４，　３０８８，　２９２４，　２８５４，　１７５７，　１６８３，　１６３３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．９　Ｈｚ），　１．２５−１．７３　（８０Ｈ，　ｍ），１．９９−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　２．１５−２．２６　（２Ｈ，　ｍ），　２．９９　（１Ｈ，　ｓ，　ＯＨ），　３．０２　（１Ｈ，　ｂｒｓ，　ＯＨ），　３．２８　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．９，　９．８　Ｈｚ），　３．３８　（３Ｈ，　ｓ），　３．４０−３．９１　（１５Ｈ，　ｍ），　３．９５　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８，　８．８　Ｈｚ），　４．０２　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝２．０，　１０．７　Ｈｚ），　４．１５，　４．３２　（２Ｈ，ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．３４　（１Ｈ，　ｍ），　４．５４−４．６８　（６Ｈ，　ｍ），　５．０２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．２４−５．３９　（８Ｈ，　ｍ），　５．８６−５．９８　（４Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１４２０　（Ｍ＋Ｎａ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_７８Ｈ_１４４Ｃｌ_３ＮＯ_１７ＰＮａ：　１４２１．００７２；　ｆｏｕｎｄ：　１４２１．００７９．
【０３８３】
【参考例４９】
アリル　４，６−Ｏ−ベンジリデン−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
水素化ナトリウム（０．３９ｇ、６０％油性、９．７５ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）溶液に、アリル　４，６−Ｏ−ベンジリデン−α−Ｄ−グルコピラノシド（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，２５４，４３−６０（１９９４）、公知化合物）（０．９９ｇ、３．２１ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）溶液を加えて３０分間撹拌した。この溶液に、ブロモドデカン（１．７ｍＬ、７．０９ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で４時間撹拌した。水を加えて反応を止め、ジエチルエーテルで２回抽出し、有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄したのち、硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、１０：１）にて精製を行い、標記目的化合物（１．１４ｇ、収率５５％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　１４６７，　１３６８，　１０９６　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（６Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．０　Ｈｚ），　１．２２−１．２７　（３６Ｈ，　ｍ），　１．５２−１．６２　（４Ｈ，　ｍ），　３．３６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝３．７，　９．５　Ｈｚ），　３．５０　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．２　Ｈｚ），３．６０−３．６６　（２Ｈ，　ｍ），　３．６８−３．８９　（５Ｈ，　ｍ），　４．０９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝７．０，　１２．８　Ｈｚ），　４．２１　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝４．８，　１２．８　Ｈｚ），　４．２６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝５．１，　１０．３　Ｈｚ），　４．９６　（１Ｈ，　ｄ，Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．３　Ｈｚ），　５．３３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５，　１６．８　Ｈｚ），　５．５４（１Ｈ，　ｓ），　５．９０−５．９５　（１Ｈ，　ｍ），　７．３４−７．３９　（３Ｈ，　ｍ），　７．４８−７．５０　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　６４５　（Ｍ＋Ｈ）^＋，　６８３　（Ｍ＋Ｋ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_４０Ｈ_６８Ｏ_６Ｎａ：　６６７．４９１４；　ｆｏｕｎｄ：　６６７．４９０２．
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_４０Ｈ_６８Ｏ_６：　Ｃ，　７４．４９；　Ｈ，　１０．６３．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　７４．２８；　Ｈ，　１０．８８．
【０３８４】
【参考例５０】
アリルオキシカルボニルメチル　４，６−Ｏ−ベンジリデン−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例４９で得られたアリル　４，６−Ｏ−ベンジリデン−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１．２３ｇ、１．９１ｍｍｏｌ）のＭｅＣＮ−ＣＣｌ_４−Ｈ_２Ｏ（２：２：３，　３５ｍｌ）溶液に、ＮａＩＯ_４（２．０ｇ）とＲｕＣｌ_３・ｘＨ_２Ｏ（２０ｍｇ）を加えた。室温で１８時間攪拌した後、セライトでろ過した。ろ液に、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液、１Ｍ塩酸を順次加え攪拌し、クロロホルムで抽出した。飽和食塩水で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥させた。ろ過し濃縮してカルボン酸を得た。このカルボン酸をジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）に溶解し、塩基としてトリエチルアミン（１．３ｍｌ、９．３２ｍｍｏｌ）を使用し臭化アリル（０．８ｍｌ、９．４６ｍｍｏｌ）と１３時間室温で反応させた。０℃にして水を加えて反応を止め、ジエチルエーテルで２回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄したのち、硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、５：１）にて精製を行い、標記目的化合物（７５３ｍｇ、収率５６％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　１７３６，　１０９７　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（６Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７．０　Ｈｚ），　１．２０−１．４０　（３６Ｈ，　ｍ），　１．５２−１．６６　（４Ｈ，　ｍ），　３．３９　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝５．９，　９．５　Ｈｚ），　３．５１　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．２　Ｈｚ），３．５６−３．６２　（２Ｈ，　ｍ），　３．６７−３．８２　（５Ｈ，　ｍ），　３．８６−３．９２　（１Ｈ，　ｍ），　４．２１，　４．３５　（２Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．８　Ｈｚ），　４．２４　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝５．１，　１０．３　Ｈｚ），　４．６３−４．６７　（２Ｈ，　ｍ），　５．１３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５，　１０．３　Ｈｚ），　５．３３　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５，　１７．６　Ｈｚ），　５．５３　（１Ｈ，　ｓ），　５．８８−５．９５　（１Ｈ，　ｍ），　７．３３−７．３９　（３Ｈ，　ｍ），　７．４７−７．５０　（２Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　７０３　（Ｍ＋Ｈ）^＋，　７２５　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　７４１　（Ｍ＋Ｋ）^＋．ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_４２Ｈ_７０Ｏ_８Ｎａ：　７２５．４９６８；　ｆｏｕｎｄ：　７２５．４９５４．
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_４２Ｈ_７０Ｏ_８：　Ｃ，　７１．７６；　Ｈ，　１０．０４．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　７１．４７；　Ｈ，　９．８８．
【０３８５】
【参考例５１】
アリルオキシカルボニルメチル　２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
上記参考例５０で得られたアリルオキシカルボニルメチル　４，６−Ｏ−ベンジリデン−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（７４６ｍｇ、１．０６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ−ＭｅＯＨ（１：１，　３０ｍｌ）溶液に、ｐ−ＴｓＯＨ・Ｈ_２Ｏ（２０ｍｇ）を加え５０℃で１時間攪拌した。ｐＨ７リン酸緩衝液で反応を停止し、溶液を酢酸エチルで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄したのち、硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下溶媒を留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、２：１）にて精製を行い、標記目的化合物（５４４ｍｇ、収率８３％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ＫＢｒ）　３４４７，　１７５２，　１４６７，　１０８６　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（６Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．２　Ｈｚ），　１．２１−１．４０　（３６Ｈ，　ｍ），　１．５４−１．７７　（４Ｈ，　ｍ），　２．０８　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ，　ＯＨ），　２．６３　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ，　ＯＨ），　３．３３　（１Ｈ，　ｄｄｄ，　Ｊ＝１．５，　３．７，　９．５　Ｈｚ），　３．４５−３．５４　（２Ｈ，　ｍ），　３．５７−３．６６　（２Ｈ，　ｍ），　３．７２−３．８５　（４Ｈ，　ｍ），　３．９２−３．９８　（１Ｈ，　ｍ），　４．２１　（１Ｈ，　ｄＡＢ−ｑ，　Ｊ_ｄ＝１．５，　Ｊ_ＡＢ−ｑ＝１６．８　Ｈｚ），　４．３５　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．８　Ｈｚ），　４．６０−４．６９　（２Ｈ，　ｍ），　５．１４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．７　Ｈｚ），　５．２６　（１Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ＝１．５，　１０．２　Ｈｚ），　５．３３　（１Ｈ，　ｄｔ，　Ｊ_ｔ＝１．５，　Ｊ_ｄ＝１６．８　Ｈｚ），　５．８６−５．９６　（１Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　６３７　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　６５３　（Ｍ＋Ｋ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_３５Ｈ_６６Ｏ_８Ｎａ：　６３７．４６５５；　ｆｏｕｎｄ：　６３７．４６４２．
【０３８６】
【参考例５２】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
トリクロロイミドイル　２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−Ｄ−グルコピラノシド（３６３ｍｇ、０．５１９ｍｍｏｌ）（米国特許第５，９３５，９３８号公報記載の方法により合成）の塩化メチレン（５ｍｌ）溶液に、参考例５１で得られたアリルオキシカルボニルメチル　２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（２２３ｍｇ、０．３６３ｍｍｏｌ）とモレキュラーシーブ４Ａ（３７０ｍｇ）を加え、０℃に冷却した後ＴＭＳＯＴｆ（１０ｕｌ、０．００５５３ｍｍｏｌ）を加える。１時間後、ｐＨ７リン酸緩衝液で反応を停止させ、溶液をセライトを用いてろ過した。ろ液を塩化メチレンで抽出し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過し濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、３：２〜１：１）で精製を行い、標記目的化合物（２６８ｍｇ、収率４０％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　１７４９，　１５４７，　１４６５，　１０９４，　１０２３　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（９Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．６　Ｈｚ），　１．２４−１．４２　（４６Ｈ，　ｍ），　１．５２−１．６２　（６Ｈ，　ｍ），　１．６５−１．７９　（２Ｈ，　ｍ），　２．６９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ，　ＯＨ），　３．２８　（３Ｈ，　ｓ），　３．２８−３．３２　（３Ｈ，　ｍ），　３．３９　（３Ｈ，　ｓ），　３．４０−３．４７　（２Ｈ，　ｍ），　３．４８−３．６７　（４Ｈ，　ｍ），　３．６８−３．８４　（７Ｈ，　ｍ），　３．８７−３．９３　（１Ｈ，　ｍ），　４．０７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．５　Ｈｚ），　４．１７　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．８　Ｈｚ），　４．２９　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝９．５　Ｈｚ），　４．３２　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．８　Ｈｚ），　４．５５−４．６０　（４Ｈ，　ｍ），　４．６１−４．６６　（２Ｈ，　ｍ），　４．７４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），　４．７７（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．０　Ｈｚ），　４．８９　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．２３−５．３９　（６Ｈ，　ｍ），　５．６４　（１Ｈ，　ｂｒｏａｄ　ｓ，　ＮＨ），　５．８７−５．９８　（３Ｈ，　ｍ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１３１６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　１３３２　（Ｍ＋Ｋ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_６２Ｈ_１１１Ｃｌ_３ＮＯ_１８ＰＮａ：　１３１６．６５０２；　ｆｏｕｎｄ：　１３１６．６５０２．
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　Ｃ_６２Ｈ_１１１Ｃｌ_３ＮＯ_１８Ｐ：　Ｃ，　５７．４６；　Ｈ，　８．６３；　Ｎ，　１．０８；　Ｐ，　２．３９；　Ｃｌ，８．２１．　Ｆｏｕｎｄ：　Ｃ，　５７．２６；　Ｈ，　８．２２；　Ｎ，　１．１７；　Ｐ，　２．１６；　Ｃｌ，　８．３５．
【０３８７】
【参考例５３】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例５２で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（２４８ｍｇ、０．１９２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（９ｍＬ）溶液に、亜鉛粉末（２５２ｍｇ、３．８５ｍｍｏｌ）、酢酸（１ｍＬ）を加えて、室温で１８時間撹拌した。亜鉛粉末を濾別後、減圧下濃縮して得られた残さを酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過したのち、減圧下溶媒を留去して得られた粗アミンを塩化メチレン（５ｍＬ）に溶解し、（Ｚ）−１１−オクタデセン酸（６６．０ｍｇ、０．２３４ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチル−アミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（５９．０ｍｇ、０．３０８ｍｍｏｌ）を加えて室温で１８時間撹拌した。この溶液を塩化メチレンで希釈し、水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、１：１）で精製を行い、標記目的化合物（１６３ｍｇ、収率６１％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　１７４８，　１６６５，　１５６１，　１４６５，　１０９５，　１０２６　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．３　Ｈｚ），　１．２５−１．４０　（６８Ｈ，　ｍ），１．４７−１．７０　（７Ｈ，　ｍ），　１．７２−１．８１　（１Ｈ，　ｍ），　１．９９−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　２．１４−２．２７　（２Ｈ，ｍ），　２．３０−２．３４　（１Ｈ，　ｍ），　３．２０−３．３１　（６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ），　３．３８　（３Ｈ，　ｓ），　３．４２−３．４９　（２Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　３．５８−３．８７　（１０Ｈ，　ｍ），　３．９３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．３　Ｈｚ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．７　Ｈｚ），　４．１５　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．２６　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　４．３１　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５４−４．６７　（６Ｈ，　ｍ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．１６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．２４−５．２７　（３Ｈ，　ｍ），　５．３０−５．３９　（５Ｈ，　ｍ），　５．８６−５．９８　（３Ｈ，　ｍ），　６．０７　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１４０６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　１４２２　（Ｍ＋Ｋ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_７７Ｈ_１４２ＮＯ_１７ＰＮａ：　１４０６．９９１３；　ｆｏｕｎｄ：　１４０６．９９３８．
【０３８８】
【参考例５４】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例５２で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１２０ｍｇ、０．０９２９ｍｍｏｌ）を、上記参考例５３と同様に処理することによって、粗アミンを調製した。一方、（Ｅ）−１１−オクタデセン酸（４０．８ｍｇ、０．１４４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１ｍＬ）に溶解し、オギザリルクロリド（１６ｕｌ、０．１８３ｍｍｏｌ）とジメチルホルムアミド（１滴）を加えて、室温で３０分間撹拌した。溶媒を減圧下留去して酸クロリドを調製した。先に得た粗アミンをＴＨＦ（２ｍｌ）と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、これに調整した酸クロリドのＴＨＦ（１ｍｌ）溶液を加えた。４時間室温で攪拌後、ｐＨ７リン酸緩衝液を加え反応を停止した。得られた溶液を酢酸エチルで２回抽出し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、１：１〜１：２）で精製を行い、標記目的化合物（３９．０ｍｇ、収率３０％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　３２９２，　１７５６，　１７３０，　１７１３，　１４７０，　１０９４，　１０２５　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２３−１．４２　（６８Ｈ，　ｍ），１．４７−１．８０　（８Ｈ，　ｍ），　１．９４−１．９７　（４Ｈ，　ｍ），　２．１４−２．２７　（２Ｈ，　ｍ），　２．３４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．３　Ｈｚ），　３．２１−３．３０　（６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ），　３．３８　（３Ｈ，　ｍ），　３．４３−３．４９　（２Ｈ，　ｍ），　３．５４　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　３．５８−３．８７　（１０Ｈ，　ｍ），　３．９６　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．３　Ｈｚ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１１．５　Ｈｚ），　４．１５　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．２３−４．３０　（１Ｈ，　ｍ），　４．３０　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５４−４．５９　（４Ｈ，　ｍ），　４．６１−４．６５　（２Ｈ，　ｍ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝２．９　Ｈｚ），　５．１４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．２３−５．２７　（３Ｈ，　ｍ），　５．３０−５．３５　（２Ｈ，　ｍ），　５．３７−５．３９　（３Ｈ，　ｍ），　５．８９−５．９５　（３Ｈ，　ｍ），　６．１４　（１Ｈ，ｄ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１４０６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　１４２２　（Ｍ＋Ｋ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_７７Ｈ_１４２ＮＯ_１７ＰＮａ：　１４０６．９９１３；　ｆｏｕｎｄ：　１４０６．９９３５．
【０３８９】
【参考例５５】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例５２で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（２０１ｍｇ、０．１５５ｍｍｏｌ）を、上記参考例５３と同様に処理することによって、粗アミンを調製した。一方、（Ｚ）−９−オクタデセン酸（６６．５ｍｇ、０．２３５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２ｍＬ）に溶解し、オギザリルクロリド（２７ｕｌ、０．３１０ｍｍｏｌ）とジメチルホルムアミド（１滴）を加えて、室温で３０分間撹拌した。溶媒を減圧下留去して酸クロリドを調製した。先に得た粗アミンをＴＨＦ（３ｍｌ）と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、これに調整した酸クロリドのＴＨＦ（１ｍｌ）溶液を加えた。２時間室温で攪拌後、溶液を酢酸エチルで希釈し、水を加えた。得られた溶液を酢酸エチルで２回抽出し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、３：２〜１：１）で精製を行い、標記目的化合物（９０．０ｍｇ、収率４２％）を得た。
ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　３２９７，　１７４８，　１６６５，　１５５８，　１４６５，　１０９５，　１０２４　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．４１　（６８Ｈ，　ｍ），１．４６−１．８１　（８Ｈ，　ｍ），　１．９８−２．０２　（４Ｈ，　ｍ），　２．１４−２．２６　（２Ｈ，　ｍ），　３．２１−３．３０　（６Ｈ，ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ），　３．３８　（３Ｈ，　ｓ），　３．４３−３．４８　（２Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．３　Ｈｚ），　３．５８−３．８６　（１０Ｈ，　ｍ），　３．９３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．３　Ｈｚ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９．８　Ｈｚ），　４．１５　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．２６　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　４．３０　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１６．６　Ｈｚ），　４．５４−４．６０　（４Ｈ，　ｍ），　４．６１−４．６４　（２Ｈ，　ｍ），　５．０９　（１Ｈ，ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．１５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．２３−５．２７　（３Ｈ，　ｍ），　５．３０−５．３８　（５Ｈ，ｍ），　５．８６−５．９７　（３Ｈ，　ｍ），　６．０６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１３８４　（Ｍ＋Ｈ）^＋，　１４０６　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　１４２２　（Ｍ＋Ｋ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_７７Ｈ_１４２ＮＯ_１７ＰＮａ：　１４０６．９９１３；　ｆｏｕｎｄ：　１４０６．９９２６．
【０３９０】
【参考例５６】
（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
参考例５２で得られた（アリルオキシカルボニル）メチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−４−Ｏ−ジアリルホスホノ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ）−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド（１９９ｍｇ、０．１５３ｍｍｏｌ）を、上記参考例５３と同様に処理することによって、粗アミンを調製した。一方、９−オクタデシン酸（６４．３ｍｇ、０．２２９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２ｍＬ）に溶解し、オギザリルクロリド（２７ｕｌ、０．３１０ｍｍｏｌ）とジメチルホルムアミド（１滴）を加えて、室温で３０分間撹拌した。溶媒を減圧下留去して酸クロリドを調製した。先に得た粗アミンをＴＨＦ（３ｍｌ）と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、これに調整した酸クロリドのＴＨＦ（１ｍｌ）溶液を加えた。２時間室温で攪拌後、溶液を酢酸エチルで希釈し、水を加えた。得られた溶液を酢酸エチルで２回抽出し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル、１：１）で精製を行い、標記目的化合物（１１２ｍｇ、収率５３％）を得た。ＩＲ　ν_ｍａｘ　（ｆｉｌｍ）　３３００，　１７５３，　１６５９，　１５４９，　１４６５，　１０９４，　１０２４　ｃｍ^−１．
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００　ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８　（１２Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝６．８　Ｈｚ），　１．２５−１．３６　（６４Ｈ，　ｍ），１．４１−１．８０　（１２Ｈ，　ｍ），　２．１０−２．１５　（４Ｈ，　ｍ），　２．１７−２．２６　（２Ｈ，　ｍ），　３．２２−３．３０　（６Ｈ，　ｍ，　ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　３Ｈ，　ｓ，　ａｔ　３．２８　ｐｐｍ），　３．３８　（３Ｈ，　ｓ），　３．４２−３．５０　（２Ｈ，　ｍ），　３．５３　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝９．３　Ｈｚ），　３．５９−３．８７　（１０Ｈ，　ｍ），　３．９４　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　４．０４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　４．１５　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１７．１　Ｈｚ），　４．２６　（１Ｈ，　ｑ，　Ｊ＝８．８　Ｈｚ），　４．３１　（１Ｈ，　ＡＢ−ｑ，　Ｊ＝１７．１　Ｈｚ），　４．５５−４．６０　（４Ｈ，　ｍ），　４．６１−４．６５　（２Ｈ，　ｍ），　５．０９　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．９　Ｈｚ），　５．１４　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝７．８　Ｈｚ），　５．２５　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　５．２６　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１０．７　Ｈｚ），　５．３２　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１８．６　Ｈｚ），　５．３７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝１８．６　Ｈｚ），　５．８６−５．９８　（３Ｈ，　ｍ），　５．９６　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝４．９　Ｈｚ，　ＮＨ）．
ＭＳ　（ＦＡＢ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ）　ｍ／ｚ，　１３８２　（Ｍ＋Ｈ）^＋，　１４０４　（Ｍ＋Ｎａ）^＋，　１４２０　（Ｍ＋Ｋ）^＋．
ＨＲＭＳ　（ＥＳＩ，　ｐｏｓｉｔｉｖｅ），　ｃａｌｃｄ．ｆｏｒ　Ｃ_７７Ｈ_１４０ＮＯ_１７ＰＮａ：　１４０４．９７５７；　ｆｏｕｎｄ：　１４０４．９７４１．
【０３９１】
【試験例１】
ヒト全血ＴＮＦα産生に対する抑制試験（ｉｎ　ｖｉｔｒｏ）
本試験は、Ｈａｒｔｍａｎらの方法（Ｄ．Ａ．Ｈａｒｔｍａｎ，　Ｓ．Ｊ．Ｏｃｈａｌｓｋｉ　ａｎｄ　Ｒ．Ｐ．Ｃａｒｌｓｏｎ；　Ｔｈｅ　ｅｆｆｅｃｔｓ　ｏｆ　ａｎｔｉｉｎｆｌａｍｍａｔｏｒｙ　ａｎｄ　ａｎｔｉａｌｌｅｒｇｉｃ　ｄｒｕｇｓ　ｏｎ　ｃｙｔｏｋｉｎｅ　ｒｅｌｅａｓｅ　ａｆｔｅｒ　ｓｔｉｍｕｌａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｈｕｍａｎ　ｗｈｏｌｅ　ｂｌｏｏｄ　ｂｙ　ｌｉｐｏｐｏｌｙｓａｃｃｈａｒｉｄｅ　ａｎｄ　ｚｙｍｏｓａｎ　Ａ：　Ｉｎｆｌａｍｍ．　Ｒｅｓ．，　４４，　２６９　（１９９５））に準じて行なった。
【０３９２】
健常人のボランティアよりへパリン存在下末梢血を採取した。全血３６０μｌを、被検化合物のジメチルスルホキシド溶液２０μｌを予め添加した９６−ｗｅｌｌブロックに加え、更に刺激剤としてリポ多糖（ＬＰＳ）（Ｅ．ｃｏｌｉ　Ｏ２６：Ｂ６由来、Ｄｉｆｃｏ社）（終濃度１０ｎｇ／ｍｌ）２０μｌを添加後よく混和し、３７℃、５％ＣＯ_２の条件下で６時間培養を行なった。培養終了後、４℃に冷却して反応を止め、直ちに２０００ｒｐｍの条件で１５分間遠心し、上清の血漿を分離回収した。血漿中に産生、放出されたＴＮＦαは酵素免疫測定（ＥＬＩＳＡ）キット（Ｂｉｏｓｏｕｒｃｅ社）で測定した。被検化合物存在下および非存在下のサイトカイン産生量より抑制率を求めた。これら平均抑制率に基づいて、最小二乗法によりＩＣ_５０値を求めた。結果を表２に示す。
【０３９３】
【表２】
――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物　　　　　　　　　　　ＩＣ_５０（ｎＭ）
――――――――――――――――――――――――――――
実施例４の化合物　　　　　　　　　　２３
実施例５の化合物　　　　　　　　　　２４
実施例６の化合物　　　　　　　　　　　４．８
――――――――――――――――――――――――――――
試験例２
ヒト全血ＴＮＦα産生に対する抑制試験（ｉｎ　ｖｉｔｒｏ）
試験例１と同様にして、試験化合物についてＩＣ_５０値を求めた。結果を表３に示す。
【０３９４】
【表３】
――――――――――――――――――――――――――――
試験化合物　　　　　　　　　　　ＩＣ_５０（ｐＭ）
――――――――――――――――――――――――――――
実施例６の化合物　　　　　　　　　　７０
実施例９の化合物　　　　　　　　　６１１
実施例７の化合物　　　　　　　　　１３９
実施例８の化合物　　　　　　　　　２５１
実施例１０の化合物　　　　　　　　２３２
実施例１１の化合物　　　　　　　　　６６
実施例１２の化合物　　　　　　　　　６１
実施例１３の化合物　　　　　　　　　１８
――――――――――――――――――――――――――――
上記結果より、本発明の化合物は優れたヒト全血ＴＮＦα産生に対する抑制作用を有することが明らかである。
【０３９５】
【発明の効果】
本発明のグリコシルリピッドＡ１位カルボキシメチル類縁体は、優れたマクロファ−ジ活性抑制作用を示し、免疫抑制剤又は炎症性疾患、自己免疫疾患若しくは敗血症の予防剤及び／又は治療剤として有用である。

Claims (30)

1. 下記一般式
   

   

   ［式中、Ｒ^１は、水素原子、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルキル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニル基を示し、
   Ｒ^２及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルキル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニル基を示し、
   Ｒ^３は、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルカノイル基、下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルケノイル基又は下記置換基群Ａから選択された一種又は二種以上の基で置換されていてもよいＣ_３−Ｃ_２０アルキノイル基を示し、
   Ｒ^５は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_６アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルケニルオキシ基又はオキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_６アルキニルオキシ基を示し、
   置換基群Ａは、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基、オキソ基を有していてもよいＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルケニルオキシ基、オキソ基を有していてもよいＣ_２−Ｃ_２０アルキニルオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基及びＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基からなる群である。］で表される化合物、その薬理上許容しうる塩又はそのエステル。
2. 請求項１において、Ｒ^１が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
3. 請求項１において、Ｒ^１が、無置換又は水酸基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
4. 請求項１において、Ｒ^１が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
5. 請求項１において、Ｒ^１が、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
6. 請求項１乃至請求項５からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^２が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
7. 請求項１乃至請求項５からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^２が、無置換又は水酸基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルコキシ基を置換基として有するＣ_２−Ｃ_１８アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
8. 請求項１乃至請求項５からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^２が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
9. 請求項１乃至請求項５からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^２が、ドデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
10. 請求項１乃至請求項９からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^３が、Ｃ_１−Ｃ_２０アルカノイル基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルケノイル基又はＣ_３−Ｃ_２０アルキノイル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
11. 請求項１乃至請求項９からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^３が、ホルミル基、アセチル基、Ｃ_１１−Ｃ_２０アルケノイル基又はＣ_１１−Ｃ_２０アルキノイル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
12. 請求項１乃至請求項９からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基、９−オクタデシノイル基、ホルミル基又はアセチル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
13. 請求項１乃至請求項９からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基又は９−オクタデシノイル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
14. 請求項１乃至請求項１３からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^４が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基、Ｃ_３−Ｃ_２０アルケニルオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_２１アルキルカルボニル基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルキルスルホニル基若しくはＣ_１−Ｃ_２０アルキルスルフィニル基を置換基として有するＣ_１−Ｃ_２０アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
15. 請求項１乃至請求項１３からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^４が、無置換又は水酸基、Ｃ_１−Ｃ_２０アルコキシ基若しくはＣ_１１−Ｃ_２０アルケニルオキシ基を置換基として有するＣ_１−Ｃ_２０アルキル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
16. 請求項１乃至請求項１３からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^４が、３位に水酸基、メトキシ基又はＣ_１１−Ｃ_２０アルケニルオキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
17. 請求項１乃至請求項１３からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基、３−メトキシデシル基又は（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
18. 請求項１乃至請求項１３からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基又は３−メトキシデシル基である化合物又はその薬理上許容される塩。
19. 請求項１乃至請求項１８からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^５が、ハロゲン原子、水酸基又はＣ_１−Ｃ_４アルコキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩。
20. 請求項１乃至請求項１８からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^５が、フッ素原子、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩。
21. 請求項１乃至請求項１８からなる群から選択されるいずれか一項において、Ｒ^５が、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩。
22. 請求項１において、Ｒ^１が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、ドデシル基又はテトラデシル基であり、Ｒ^２が、無置換又は３位に水酸基若しくはメトキシ基を置換基として有する、デシル基、ドデシル基又はテトラデシル基であり、Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基、９−オクタデシノイル基、ホルミル基又はアセチル基であり、Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基、３−メトキシデシル基又は（Ｒ）−３−｛（Ｚ）−テトラ−７−デセニルオキシ｝テトラデシル基であり、Ｒ^５が、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩。
23. 請求項１において、Ｒ^１が、ドデシル基又はテトラデシル基であり、Ｒ^２が、ドデシル基であり、Ｒ^３が、（Ｚ）−９−オクタデセノイル基、（Ｚ）−１１−オクタデセノイル基、（Ｅ）−１１−オクタデセノイル基又は９−オクタデシノイル基であり、Ｒ^４が、３−ヒドロキシデシル基又は３−メトキシデシル基であり、Ｒ^５が、水酸基又はメトキシ基である化合物又はその薬理上許容される塩。
24. 請求項１において、
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−｛（Ｒ）−３−メトキシデシル｝−６−Ｏ−メチル−２−｛（Ｚ）−１１−（オクタデセノイルアミノ）｝−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［６−Ｏ−アリルオキシカルボニル−２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−ヒドロキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−３−Ｏ−ドデシル−２−Ｏ−テトラデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｅ）−１１−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド、
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［（Ｚ）−９−オクタデセノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド及び
    カルボキシメチル　６−Ｏ−［２−デオキシ−３−Ｏ−［（Ｒ）−３−メトキシデシル］−６−Ｏ−メチル−２−［９−オクタデシノイルアミノ］−４−Ｏ−ホスホノ−β−Ｄ−グルコピラノシル］−２，３−Ｏ−ジドデシル−α−Ｄ−グルコピラノシド
    からなる群から選択される化合物又はその薬理上許容される塩。
25. 請求項１乃至請求項２４からなる群から選択されるいずれか一項に記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有する医薬組成物。
26. 請求項１乃至請求項２４からなる群から選択されるいずれか一項に記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有するマクロファージ活性を抑制する医薬。
27. 請求項１乃至請求項２４からなる群から選択されるいずれか一項に記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有する炎症の予防剤又は治療剤。
28. 請求項１乃至請求項２４からなる群から選択されるいずれか一項に記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有する自己免疫疾患の予防剤又は治療剤。
29. 請求項１乃至請求項２４からなる群から選択されるいずれか一項に記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有する敗血症の予防剤又は治療剤。
30. 請求項１乃至請求項２４からなる群から選択されるいずれか一項に記載された化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステルを有効成分として含有する免疫抑制剤。