JP2005219489A - インクジェット記録材料 - Google Patents
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Abstract
【課題】写真印画紙並の光沢と画質を有し、かつ塗布故障のないインクジェット記録材料を提供することである。
【解決手段】湿式法シリカを水中で二次粒子径が1μm未満になるように粉砕処理して作製されたシリカ分散液とバインダーとを少なくとも含有するインク受容層の塗布液を支持体上に塗設してなるインクジェット記録材料において、該湿式法シリカが予め水洗処理されたものであることを特徴とするインクジェット記録材料。
【選択図】 なし
【解決手段】湿式法シリカを水中で二次粒子径が1μm未満になるように粉砕処理して作製されたシリカ分散液とバインダーとを少なくとも含有するインク受容層の塗布液を支持体上に塗設してなるインクジェット記録材料において、該湿式法シリカが予め水洗処理されたものであることを特徴とするインクジェット記録材料。
【選択図】 なし
Description
本発明は、インクジェット記録材料に関するものである。詳しくは塗布故障等がなくかつ高光沢なインクジェット記録材料に関する。
インクジェット記録は、騒音がなく、高速印字が可能であり、端末プリンターなどに採用され近年急速に普及している。また、複数個のインクノズルを使用することにより、多色記録を行うことも容易であり、各種のインクジェット記録方式による多色インクジェット記録が行われている。特にコンピューターにより作成した文字や各種図形及び写真等の画像情報のハードコピー作成装置として、複雑な画像を迅速で正確に形成する事ができるインクジェットプリンターの利用が注目されている。更に、これらコンピューターで作成した画像情報をインクジェットプリンターにより透明な記録材料に記録し、これをOHP(オーバーヘッドプロジェクター)等の原稿としても利用されている。また、続いて発展したインクジェットプリンターの利用分野としては、写真に近い画質が要求される印刷分野におけるカラー版下の用途やデザイン部門でのデザインイメージのアウトプットと大型のインクジェットプロッターを用いて簡便に作成することができる大判のポスター、ディスプレー、旗等である。さらに、近年デジタルカメラの急速な普及により、デジタル写真画像が身近になりこれらの画像を安価なインクジェットプリンターで出力する写真専用のモードやインクを具備したインクジェットプリンターも同様に急速に普及している。
インクジェット記録方式に使用される記録材料として当初は、通常の紙やインクジェット記録用紙と称される支持体上に非晶質シリカ等の顔料をポリビニルアルコール等の水溶性バインダーからなる多孔質のインク吸収層を設けてなる記録材料が使用されてきた。
近年、写真印画紙並みの光沢と画質が要求されるており、極微細な無機微粒子を用いた多孔質なインク受容層を支持体上に塗設したインクジェット記録材料が多数提案されている。これらの中で、粒子径が数μm〜数十μmの湿式法シリカを水分散媒中で微細に粉砕したシリカ微粒子をインク受容層に用いることが知られている。例えば、特開平9−286165号公報(特許文献1)、特開平10−181190号公報(特許文献2)等に記載されている。
上記のように微細粉砕したシリカ微粒子は、分散液中あるいはインク受容層の塗布液中で凝集が起こりやすく、この凝集物は塗布故障(ポイント故障)の要因となっていた。特に、支持体としてポリオレフィン樹脂被覆紙やプラスチック樹脂フィルムのような耐水性支持体上に塗布した場合に前記塗布故障は発生しやすくなった。
濾液電気伝導度が50μS/cm未満のシリカをインクジェット記録材料の塗工層に用いることが、特開2001−105725号公報(特許文献3)、特開2002−87811号公報(特許文献4)に開示されている。しかしながら、これらのシリカを1μm未満に粉砕して使用することは記載されていない。
また、シリカを重合開始剤由来の硫酸イオンの少ないカチオンポリマー(硫酸イオン含有量対カチオンポリマー1.5質量%以下)を用いることが特開2003−292794号公報(特許文献5)に開示されている。また、インクジェット用塗布液に塩を含有させることが特開2003−226073号公報(特許文献6)に開示されている。
しかしながら、上述した従来技術では、予め水洗処理された湿式法シリカを1μm未満になるまで微粉砕することは記載されてなく、また該シリカを用いたときの塗布安定性(凝集物によるポイント故障)についても記載されていない。
特開平9−286165号公報
特開平10−181190号公報
特開2001−105725号公報
特開2002−87811号公報
特開2003−292794号公報
特開2003−226073号公報
従って、本発明の目的は、写真印画紙並の光沢と画質を有し、かつ塗布故障のないインクジェット記録材料を提供することである。
1)湿式法シリカを水中で二次粒子径が1μm未満になるように粉砕処理して作製されたシリカ分散液とバインダーとを少なくとも含有するインク受容層の塗布液を支持体上に塗設してなるインクジェット記録材料において、該湿式法シリカが予め水洗処理されたものであることを特徴とするインクジェット記録材料。
2)前記水洗処理がフィルタープレス、分離膜を用いた濾過洗浄またはイオン交換膜を用いた電気透析である上記1)に記載のインクジェット記録材料。
3)前記粉砕処理がカチオン樹脂の存在下で行われたものである上記1)に記載のインクジェット記録材料。
4)前記インク受容層の塗布液が更にカチオン性化合物を含有する上記1)に記載のインクジェット記録材料。
2)前記水洗処理がフィルタープレス、分離膜を用いた濾過洗浄またはイオン交換膜を用いた電気透析である上記1)に記載のインクジェット記録材料。
3)前記粉砕処理がカチオン樹脂の存在下で行われたものである上記1)に記載のインクジェット記録材料。
4)前記インク受容層の塗布液が更にカチオン性化合物を含有する上記1)に記載のインクジェット記録材料。
本発明によれば、光沢が高く画質が良好で、且つ塗布面質の良好なインクジェット記録材料が得られる。
本発明者らは鋭意検討の結果、二次粒子径が1μm未満まで微細粉砕されたシリカ分散液を用いたインク受容層の塗布液を支持体上に塗布した際の塗布故障は、前述の先行文献に記載されているようなシリカ製造過程で残留する、水溶性アルカリイオン、酸性イオン、塩類等の総量を示す電気伝導度が影響するのではなく、硫酸イオンが特異的に影響することを見いだし本発明に至った。即ち、湿式法シリカを予め水洗処理して残存する硫酸イオンを除去することによって塗布故障の発生が改善することを見いだした。
本発明は、湿式法シリカを粉砕処理してシリカ分散液を製造するに先立って、予め湿式法シリカの粉末を水洗処理して、残留する硫酸イオンを除去する。水洗処理の方法としては、デカンテーション、濾過洗浄、電気透析が有る。濾過洗浄にはフィルタープレス、精密濾過膜、限外濾過膜を用いるが、粉砕前の二次凝集体の濾過洗浄であるので普通は精密濾過膜で十分であり、必要ならば定期的または随時逆洗を行って目詰まりを防げば良い。
デカンテーションは遠心式のデンカンターを利用しても、排出側へのシリカ漏出を完全にゼロには出来ない点が欠点である。
フィルタープレスは折りたたんだ濾布の間にスラリーを貯留し、圧縮して脱水する装置であり、その圧縮した状態で洗浄水を圧入することにより、置換洗浄が可能な装置である。希釈洗浄ではイオン濃度は指数関数的に減少するのに対し、置換洗浄では100%置換の時点で原理的にはイオン濃度を0に出来る。実際には圧縮した状態の固形分層を理想的な均質性に保てないため原理通りの性能には出来ないものの、多くの場合比較的効率良く洗浄出来る。
濾過膜にはポリオレフィン、ポリスルホン、ポリイミド、フッ素樹脂等の各種高分子及びセラミックを材料にしたものが、高分子を用いるものではスパイラル型、チューブラー型、キャピラリー型が、セラミックを用いるものではチューブラー型及び焼結体の中に何本ものチューブラーが形成されているものが知られている。
電気透析装置は陽イオン交換膜と陰イオン交換膜を交互に配置し、膜で区切られた空間に液体を満たし、膜に垂直に電場をかけ、区切られた空間は一つおきに処理対象液用とイオン排出用とに当てられる。
水洗の終点は電気伝導度で管理すればよく、4質量%水懸濁液の濾液の電気伝導度が70μS/cm以下が目安であるが、50μS/cm以下がより好ましい。70μS/cmを超えると塗布安定性が充分に得られない。
4質量%分散液の濾液電気伝導度は、非晶質シリカ(通常105℃で2時間乾燥した時の加熱減量が6%以下)4.0gに蒸留水50mlを加えて数分間煮沸し、冷却後さらに蒸留水を加えて全体を100mlとした後、該分散液を濾過した濾液の電気伝導度(25℃)を言う。
本発明に用いられる湿式法シリカは湿式法で製造されたものであり、沈降法あるいはゲル法で製造されたシリカが挙げられる。沈降法シリカとしては、例えば東ソー・シリカ(株)(商品名ニップシール)、(株)トクヤマ(商品名トクシール、ファインシール)、水澤化学工業(株)(商品名ミズカシル)、DSL.ジャパン(株)(商品名SIPERNAT、カープレックス)、イネオスシリカ社(商品名ガシル)等より市販されている。ゲル法シリカとしては、例えば、水澤化学工業(株)(商品名ミズカシル)、グレースジャパン(株)(商品名サイロイド、サイロジェット)、東ソー・シリカ(株)(商品名ニップジェル)、富士シリシア化学(株)(商品名サイリシア)等より市販さている。これらの湿式法シリカのBET比表面積は150〜250m2/gであることが望ましい。
本発明に用いるシリカを規定する指標の一つBET比表面積は、カンターソープ(米国 Quantachrome社製)を用いて1点法により測定した値である。
本発明の分散液に用いられる湿式法シリカは、数nm〜数十nmの一次粒子が二次凝集してミクロンオーダーの二次粒子に成長したものであり、その平均二次粒子径は1〜50μmのものが好ましく、特に5〜30μmのものが好ましい。その平均一次粒子径としては3〜40nmであるものが好ましい。
本発明のシリカ分散液は、上記の湿式法シリカを二次粒子径が1μm未満になるように微細粉砕して作製されたものであるが、 粉砕後の到達二次粒子径としては0.05μm以上1.0μm未満が好ましく、より好ましくは0.08μm以上0.5μm未満の範囲である。このように微細粉砕したシリカをインク受容層に用いることによって、光沢、画質、透明性、及びインク吸収性が向上する。
本発明でいうシリカの二次粒子径は、レーザー散乱式粒度分布計で測定した体積基準の中央粒子径である。かかる測定装置としては、例えば堀場製作所(株)製のLA920型を用いることができる。
以下に、水中で粉砕処理してシリカ分散液を作製する方法を説明する。シリカ分散液に用いられる分散媒は水であるが、少量の有機溶剤を含有してもよい。例えば沸点が100℃以下のアルコール系溶剤を水に対して10質量%以下で含んでもよい。
シリカ分散液の製造において、粉砕処理に先立ってシリカ粉体を水分散媒中に混合し分散するための予備分散(一次分散)が行われる。予備分散のための手段としては、インペラーミキサー等撹拌能力が有る分散機が用いられるが、中でも鋸刃状の撹拌羽根を二軸で用いる一般的にディスパー或いはディゾルバーと呼ばれるタイプの分散機が有利である。
予備分散に続いて粉砕処理(二次分散)が施される。粉砕する手段としては高圧式ホモジナイザー、ボールミル及びサンドミル等メディアを充填した高速アジテーターミルをはじめとして各種の装置が知られている中で、本発明に於いては到達二次粒子径の観点から、粒子径0.1〜0.65mmのビーズをメディアとする高速アジテーターミルを用いることが好ましい。
高速アジテーターミルはビーズ、ビーズを充填するベッセル、ビーズを撹拌する撹拌羽根(ディスク)及びビーズと粉砕処理後のスラリーを分離する機構を必須構成要素とする粉砕機である。ビーズの粒子径としては0.1〜0.65mm、好ましくは0.2〜0.4mmの範囲が望ましい。
ビーズの材質としては硬度が十分高いことが求められ、代表的には純度90%以上のZrO2やAl2O3が挙げられる。その充填率は嵩高で50〜95%、好ましくは70〜90%が良い。ディスクの周速としては8〜15m/sが好ましい。
高速アジテーターミルでは発熱が有り、そのままではスラリー温度が上昇し、剪断力低下等で粉砕効率が悪くなる。従って冷却しながら運転することになる。そのため、ベッセルは熱伝導率の良いものが望まれる。また、ベッセルは摩擦等にも耐えなければならない。そのような要求からジルコニア強化アルミナが素材として有利である。
粉砕後の到達二次粒子径を所望の範囲にするためには、高速アジテーターミルのビーズの材質、粒子径、充填率、ミルを通過するスラリーの流速(見方を変えるとミル通過時間)及びディスクの周速を適宜選ぶことで調整出来る。周速10〜18m/sでミル通過時間1分以内、15〜45秒が好適である。
本発明において、シリカ分散液のシリカの固形分濃度は、25〜35質量%になるよう調整するのが好ましく、27〜35質量%がより好ましい。このように、高濃度のシリカ分散液をインク受容層の塗布液に用いることによって、塗布液中の固形分濃度が高くなるので、少ない湿分塗布量で多くのシリカを塗布することが可能になり、乾燥負荷等が軽減され、その結果生産効率が向上する。しかし、一方では、前述したように二次粒子径が1μm未満の微細なシリカ分散液の濃度を高くすると、経時で増粘しやく取り扱い性が低下するが、本発明のシリカ分散液は、高濃度であっても粘度を安定に保つことができる。
本発明において、シリカを水中で粉砕処理する際にカチオン樹脂の存在下で行うことができる。カチオン樹脂の存在下で粉砕処理することによって表面がカチオン化されたシリカ微粒子が得られ、それをインク受容層に適用した場合、染料インクの定着性が向上し画像の耐水性が一段と向上するので好ましい。カチオン樹脂の存在下で粉砕処理する対応としては、予め水分散媒中にカチオン樹脂を添加しておいてもよいし、予備分散の途中、あるいは終了後にカチオン樹脂を添加してもよいし、または粉砕処理中に添加してもよい。好ましくは、水分散媒中に予め添加することである。
本発明でに用いられるカチオン樹脂とは、アミン、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリン等カチオンサイトを持つポリマーであり、重合成分として少なくともカチオンサイトとビニル性不飽和結合基を有するモノマーを含むポリマーであっても良いし、ポリマーに付加反応でカチオンサイトを結合させたポリマ−であっても良い。カチオンポリマーのカチオン価当たりの分子量としては50〜300程度が良い。
カチオンポリマーの質量平均分子量は、3000〜50000の範囲が好ましく、特に12000未満が好ましく、更に3000〜10000の範囲が好ましい。
上記カチオンポリマーの中でも、特にポリジアリルアミン誘導体の構成単位を有するカチオン性ポリマーが好ましく、下記一般式(1)、(2)、(3)又は(4)で表される構造を構成単位とするカチオンポリマーである。これらのカチオン樹脂は、シャロールDC902P(第一工業製薬)、ジェットフィックス30(里田化工)、PAS(日東紡績社)として市販されている。
一般式(1)、(2)、(3)及び(4)において、R1及びR2は各々、水素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基、またはヒドロキシエチル基等の置換アルキル基を表し、Yはラジカル重合可能なモノマー(例えば、スルホニル、アクリルアミド及びその誘導体、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等)を表す。また、一般式(3)及び(4)において、n/m=9/1〜2/8、l=5〜85である。Xはアニオンを表す。
一般式(3)又は(4)で示されるポリジアリルアミンの誘導体の具体的な例としては、特開昭60−83882号公報記載のSO2基を繰り返し単位に含むもの、特開平1−9776号公報に記載されているアクリルアミドとの共重合体等が挙げられる。
カチオンポリマーの添加量としては、対シリカ1〜10質量%の範囲が好ましく、特に2〜6質量%の範囲が好ましい。
次に、本発明のインクジェット記録材料について説明する。本発明のインクジェット記録材料は、上述したシリカ分散液とバインダーを主成分として含有するインク受容層の塗布液が支持体上に塗布されて製造されたものである。バインダーとしては、親水性ポリマーが好ましく、特にはポリビニルアルコールが好ましく用いられる。
本発明のインク受容層に使用されるポリビニルアルコールは完全または部分ケン化のポリビニルアルコールまたはカチオン変性ポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコールの中でも特に好ましいのは、ケン化度が80%以上の部分または完全ケン化したもので、皮膜形成性及び皮膜脆弱性を改良する観点から平均重合度200〜5000、好ましくは500〜4000のものが用いられる。また、カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば特開昭61−10483号に記載されているような、第1〜3級アミノ基や第4級アンモニウム基をポリビニルアルコールの主鎖あるいは側鎖中に有するポリビニルアルコールである。
塗布液中におけるポリビニルアルコールの含有量は、湿式法シリカに対して10〜35質量%が好ましく、10〜30質量%がより好ましい。また、他の親水性バインダーも併用することができるが、ポリビニルアルコールに対して20質量%以下であることが好ましい。
ポリビニルアルコール以外に補助的バインダーを加えることが出来るが、その補助的バインダーとしては澱粉誘導体、セルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、大豆蛋白またはその誘導体;ポリビニルピロリドン、無水マレイン酸樹脂、各種重合体ラテックス或いは各種重合体のカルボキシ基等の官能基含有単量体による官能基変性重合体ラテックス;或いは各種重合体にカチオン基を用いてカチオン化したもの等各種のバインダー等を挙げることができる。補助的に加えるバインダーの添加量は、ポリビニルアルコールに対して20質量%以下であることが好ましい。
インク受容層の塗布液には他にインク定着剤、バインダ−の架橋剤、画像保存剤、着色剤、増粘剤、界面活性剤等適宜加えることが出来る。
塗布液中の湿式法シリカの濃度は、9質量%以上、更には10質量%以上にするのが好ましい。濃度の上限は20質量%程度である。塗布液中のシリカ濃度を高濃度にすることによって、塗布液の湿潤塗布量をあまり増大させずに湿式法シリカの固形分塗布量を増大させることが可能となり、インク吸収性の高いインクジェット記録材料が効率よく製造できる。即ち、本発明はインク吸収性の優れたインクジェット記録材料を目指しており、そのためには湿式シリカの固形分塗布量は、16g/m2以上、好ましくは18g/m2以上必要であり、このように塗布量を多くすることは、支持体に塗布された塗布液の乾燥負荷が増大し、乾燥工程の肥大化を招き、また塗布速度の増速化の障害となる。従って、本発明の粘度が安定した高濃度のシリカ分散液は、インク受容層に適用する上で極めて有意義である。
本発明のインク受容層には、カチオン性樹脂や水溶性多価金属化合物等のカチオン性化合物を含有することが好ましい。これによって高湿下での画像部の滲みや耐水性が向上する。カチオン性樹脂は、前述したようにシリカ分散液の作製時に添加することに加えて、塗布液の作製時に添加することが好ましい。カチオン性樹脂と水溶性多価金属化合物を併用することが更に好ましい。水溶性多価金属化合物は、塗布液作製時に添加する方が好ましい。
カチオン樹脂としては、前述したカチオン性ポリマーの他に、ポリエチレンイミン、ポリジアリルアミン、ポリアルキルアミン・エピクロルヒドリン、ポリアミド・エピクロルヒドリン等の化合物やそれらの誘導体、特開昭59−20696号、同59−33176号、同59−33177号、同59−155088号、同60−11389号、同60−49990号、同60−83882号、同60−109894号、同62−198493号、同63−49478号、同63−115780号、同63−280681号、特開平1−40371号、同6−234268号、同7−125411号、同10−193776号公報等に記載されている1〜3級アミノ基、4級アンモニウム塩基を有するカチオン性ポリマーが用いられる。質量平均分子量は1000〜10万程度のポリマーが好ましい。塗布液作製時に添加するときのカチオン性ポリマーの添加量は、シリカ微粒子に対して0.5〜10質量%の範囲が好ましく、特に1〜6質量%の範囲が好ましい。
水溶性多価金属化合物としては、例えば水溶性の多価金属塩が挙げられ、好ましくはジルコニウム化合物及びアルミニウム化合物である。ジルコニウム化合物としては、酢酸ジルコニウム、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、乳酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム化合物等が挙げられる。
水溶性アルミニウム化合物としては、塩化アルミニウムまたはその水和物、あるいは塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物が好ましく用いられる。
前記の塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物とは、主成分が下記の一般式1、2、または3で示され、例えば[Al6(OH)15]3+、[Al8(OH)20]4+、[Al13(OH)34]5+、[Al21(OH)60]3+、等のような塩基性で高分子の多核縮合イオンを安定に含んでいる水溶性のポリ水酸化アルミニウムである。
[Al2(OH)nCl6-n]m 一般式1
[Al(OH)3]nAlCl3 一般式2
Aln(OH)mCl(3n-m) 0<m<3n 一般式3
[Al(OH)3]nAlCl3 一般式2
Aln(OH)mCl(3n-m) 0<m<3n 一般式3
これらのものは多木化学(株)よりポリ塩化アルミニウム(PAC)の名で水処理剤として、浅田化学(株)よりポリ水酸化アルミニウム(Paho)の名で、また、(株)理研グリーンよりピュラケムWTの名で、また他のメーカーからも同様の目的を持って上市されており、各種グレードの物が容易に入手できる。
上記の水溶性多価金属化合物の添加量としては、シリカ微粒子に対して0.5〜10質量%の範囲が好ましく、特に1〜6質量%の範囲が好ましい。
本発明のインクジェット記録材料は、1μm未満のシリカ微粒子を用いて高光沢でインク吸収性の優れた記録材料を目的としており、インク受容層表面の塗布故障は微細なものであっても問題となる。シリカ分散液中の硫酸イオンは、インク受容層の塗布液を支持体上に塗布する際に、凝集物によるポイント故障の原因となり、更に前述したカチオン性化合物を塗布液中に含有すると助長した。従って、画像部の滲みや耐水性を改良するために、塗布液中にカチオン性化合物を添加する場合において、本発明のシリカ分散液は極めて有意義である。
本発明において、インク受容層の塗布方法は、特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スライドリップ方式、カーテン方式、エクストルージョン方式、エアナイフ方式、ロールコーティング方式、ロッドバーコーティング方式等がある。
本発明の実施に於いて支持体は特に制限は無いが、本発明の特徴を活かすという意味で耐水性の写真用支持体と同様のものが好ましい。具体的には透明フィルム、白色フィルム、紙の両面を樹脂被覆した樹脂被覆紙等が挙げられる。これらの耐水性支持体の中でも、特に樹脂被覆紙が好ましい。樹脂被覆紙は、基紙の両面にポリエチレン樹脂等のポリオレフィン樹脂を被覆したものである。上記したような耐水性支持体は、表面が平滑であり、高光沢を付与する上で好ましいが、一方では塗布故障が目立ちやすくなり、従って、塗布故障の発生を防止することが重要である。
湿式法シリカとして、東ソー・シリカ(株)製の沈降法シリカ(ニップシールLP;平均一次粒子径15nm、平均二次粒子径15μm、BET比表面積は203m2/g)を用いた。比較的伝導度の高いLotのものを選び試験に供した。このものの4質量%の懸濁液の濾液電気伝導度は98μS/cmであった。
<水洗処理>
シリカ粉体1.2kg分取し、水1.8lを加えて40質量%の粘稠なスラリーとした。このスラリーにさらに水1200mlを加えよく混合してから、330mmの径を有する5Cの濾紙を敷いたブフナー型ロートに敷き詰めて吸引濾過し、乾燥した。
シリカ粉体1.2kg分取し、水1.8lを加えて40質量%の粘稠なスラリーとした。このスラリーにさらに水1200mlを加えよく混合してから、330mmの径を有する5Cの濾紙を敷いたブフナー型ロートに敷き詰めて吸引濾過し、乾燥した。
得られた乾燥ケーキは実験室用クラッシュミルで各数回に分け粉砕し、得られた粉体は同一濾過毎に20lポリエチレン容器に回収しよく振って均質化を図った。このものの4質量%の懸濁液の濾液電気伝導度は32μS/cmであった。
<シリカ分散液1の作製>
得られたシリカの粉体試料を1080g計量し、水分散媒2520gに混合して予備分散液を得た。予備分散は、ロボミックス(特殊機化工業製)にディスパータイプの撹拌子を装着し周速10m/sで撹拌しながら加え30分間分散して約3.6kg、容積にして約3.1lの予備分散液を得た。この予備分散液は、ダイノミルKDL−PILOT型アジテーターミル(Willy A.Bachofen AG Maschinenfabrik製;内容積1.4l、0.3mmのジルコニアビーズを見かけの嵩容積率で76.5%充填)をディスクの周速12.5m/s、液の流速300ml/分の運転条件で湿式粉砕してシリカ分散液を得た。
得られたシリカの粉体試料を1080g計量し、水分散媒2520gに混合して予備分散液を得た。予備分散は、ロボミックス(特殊機化工業製)にディスパータイプの撹拌子を装着し周速10m/sで撹拌しながら加え30分間分散して約3.6kg、容積にして約3.1lの予備分散液を得た。この予備分散液は、ダイノミルKDL−PILOT型アジテーターミル(Willy A.Bachofen AG Maschinenfabrik製;内容積1.4l、0.3mmのジルコニアビーズを見かけの嵩容積率で76.5%充填)をディスクの周速12.5m/s、液の流速300ml/分の運転条件で湿式粉砕してシリカ分散液を得た。
<シリカ分散液2の作製>
水洗処理しない以外は、シリカ分散液1と同様にして作製した。
水洗処理しない以外は、シリカ分散液1と同様にして作製した。
上記のようにして作製したそれぞれのシリカ分散液について、シリカ微粒子の二次粒子径を測定したところ、どちらのシリカ分散液も0.35〜0.38μmの範囲に入っていた。
次に、シリカ分散液1、2を用いて、下記組成のインク受容層の塗布液をそれぞれ作製した。
<インク受容層の塗布液>
シリカ分散液(シリカ固形分として) 100質量部
ポリビニルアルコール 15質量部
(PVA235、(株)クラレ製、ケン化度88%、平均重合度3500)
硼酸 3質量部
カチオン性ポリマー 2質量部
(ポリアミド・エピクロルヒドリン、昭和高分子(株)のポリフィックス301、質量 平均分子量約3000)
塩基性ポリ水酸化アルミニウム 2質量部
((株)理研グリーン製のピュラケムWT)
両性界面活性剤 0.3質量部
(SWAM AM−2150、日本サーファクタント工業(株)製)
水でシリカの固形分濃度が10質量%になるように調整した。
<インク受容層の塗布液>
シリカ分散液(シリカ固形分として) 100質量部
ポリビニルアルコール 15質量部
(PVA235、(株)クラレ製、ケン化度88%、平均重合度3500)
硼酸 3質量部
カチオン性ポリマー 2質量部
(ポリアミド・エピクロルヒドリン、昭和高分子(株)のポリフィックス301、質量 平均分子量約3000)
塩基性ポリ水酸化アルミニウム 2質量部
((株)理研グリーン製のピュラケムWT)
両性界面活性剤 0.3質量部
(SWAM AM−2150、日本サーファクタント工業(株)製)
水でシリカの固形分濃度が10質量%になるように調整した。
それぞれの塗布液をポリオレフィン樹脂被覆紙支持体上に、シリカ微粒子の固形分塗布量が18g/m2になるようにスライドホッパーコーターで塗布した。塗布幅50cmで100m塗布したときの凝集物による塗布故障(ポイント故障)の発生を観察した。その結果、シリカ分散液1を用いて作製した塗布液は、塗布故障の発生は5個以内であったが、シリカ分散液2を用いて作製した塗布液は、30個以上の発生があった。
得られたインクジェット記録材料について、インク吸収性、光沢性、高湿下での画像の滲みを定法に従って評価したところ、本発明のシリカ分散液1を用いたインクジェット記録材料はいずれも良好であったが、一方比較例のシリカ分散液2を用いたインクジェット記録材料は塗布故障が多く実用に供することができなかった。
<シリカ分散液3の作製>
水分散媒にカチオン樹脂としてシャロールDC902P(第一工業製薬(株)のポリジアリルジメチルアンポニウムクロライド、質量平均分子量約9000)を38.5g添加した以外は、シリカ分散液1と同様にして作製した。
水分散媒にカチオン樹脂としてシャロールDC902P(第一工業製薬(株)のポリジアリルジメチルアンポニウムクロライド、質量平均分子量約9000)を38.5g添加した以外は、シリカ分散液1と同様にして作製した。
<シリカ分散液4の作製>
シリカ粉体の水洗処理を施さない以外は、シリカ分散液3と同様にして作製した。
シリカ粉体の水洗処理を施さない以外は、シリカ分散液3と同様にして作製した。
上記のようにして作製したそれぞれのシリカ分散液について、シリカ微粒子の二次粒子径を測定したところ、どちらのシリカ分散液も0.35〜0.38μmの範囲に入っていた。
次に、シリカ分散液3、4を用いて、下記組成のインク受容層の塗布液をそれぞれ作製した。
<インク受容層の塗布液>
シリカ分散液(シリカ固形分として) 100質量部
ポリビニルアルコール 15質量部
(PVA235、(株)クラレ製、ケン化度88%、平均重合度3500)
硼酸 2質量部
(ポリアミド・エピクロルヒドリン、昭和高分子(株)のポリフィックス301、質量 平均分子量約3000)
酢酸ジルコニウム 2質量部
両性界面活性剤 0.3質量部
(SWAM AM−2150、日本サーファクタント工業(株)製)
水でシリカの固形分濃度が10質量%になるように調整した。
<インク受容層の塗布液>
シリカ分散液(シリカ固形分として) 100質量部
ポリビニルアルコール 15質量部
(PVA235、(株)クラレ製、ケン化度88%、平均重合度3500)
硼酸 2質量部
(ポリアミド・エピクロルヒドリン、昭和高分子(株)のポリフィックス301、質量 平均分子量約3000)
酢酸ジルコニウム 2質量部
両性界面活性剤 0.3質量部
(SWAM AM−2150、日本サーファクタント工業(株)製)
水でシリカの固形分濃度が10質量%になるように調整した。
それぞれの塗布液をポリオレフィン樹脂被覆紙支持体上に、シリカ微粒子の固形分塗布量が18g/m2になるようにスライドホッパーコーターで塗布した。塗布幅50cmで100m塗布したときの凝集物による塗布故障(ポイント故障)の発生を観察した。その結果、シリカ分散液3を用いて作製した塗布液は、塗布故障の発生は5個以内であったが、シリカ分散液4を用いて作製した塗布液は、50個以上の発生があった。
得られたインクジェット記録材料について、インク吸収性、光沢性、高湿下での画像の滲みを定法に従って評価したところ、本発明のシリカ分散液3を用いたインクジェット記録材料はいずれも良好であったが、一方比較例のシリカ分散液4を用いたインクジェット記録材料は塗布故障が多く実用に供することができなかった。
Claims (4)
- 湿式法シリカを水中で二次粒子径が1μm未満になるように粉砕処理して作製されたシリカ分散液とバインダーとを少なくとも含有するインク受容層の塗布液を支持体上に塗設してなるインクジェット記録材料において、該湿式法シリカが予め水洗処理されたものであることを特徴とするインクジェット記録材料。
- 前記水洗処理がフィルタープレス、分離膜を用いた濾過洗浄またはイオン交換膜を用いた電気透析である請求項1に記載のインクジェット記録材料。
- 前記粉砕処理がカチオン樹脂の存在下で行われたものである請求項1に記載のインクジェット記録材料。
- 前記インク受容層の塗布液が更にカチオン性化合物を含有する請求項1に記載のインクジェット記録材料。
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JP2005001230A JP2005219489A (ja) | 2004-01-07 | 2005-01-06 | インクジェット記録材料 |
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JP2004002435 | 2004-01-07 | ||
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010234779A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | インクジェット記録方法 |
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- 2005-01-06 JP JP2005001230A patent/JP2005219489A/ja active Pending
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