JP2005202345A - カラーフィルタ用の着色層の形成方法および該方法に用いられる露光用マスク、カラーフィルタ基板及び液晶表示素子 - Google Patents
カラーフィルタ用の着色層の形成方法および該方法に用いられる露光用マスク、カラーフィルタ基板及び液晶表示素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005202345A JP2005202345A JP2004121473A JP2004121473A JP2005202345A JP 2005202345 A JP2005202345 A JP 2005202345A JP 2004121473 A JP2004121473 A JP 2004121473A JP 2004121473 A JP2004121473 A JP 2004121473A JP 2005202345 A JP2005202345 A JP 2005202345A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- forming
- colored layer
- color filter
- exposure
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】着色層形成用のネガ型の感光性組成物をカラーフィルタ形成用基板に配設した後、所定の着色層形成用のパターンを有する露光用マスクを用いて着色層形成用の露光を行い、更に、現像して、円形状の開口を設けた着色層を得るものであり、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、着色層に1つの円形状の開口を設けるための単位の遮光パターンとして、露光光を透過させる開口領域中に露光光を遮光する単位の非円形状の遮光部を配設したもので、前記露光用マスクを用いて露光を行うもので、前記着色層開口用パターン部が露光された領域に、現像後に円形状の開口が形成されるものである。
【選択図】図1
Description
最近では、液晶表示装置の液晶表示素子として、視認性向上の面から、カラーフィルタ基板の着色層の一部を開口してパターニングする形態のものが盛んに開発されるようになってきた。
特に、近年、例えば、特開2002−287130号公報に記載のような、環境等の状況によりユーザが反射型と透過型を使い分けることが可能な透過型兼反射型(半透過半反射型とも言う)の液晶表示装置が、携帯電話用等に種々開発されているが、透過型兼反射型の液晶表示装置の液晶表示素子の場合でも、着色層の一部を開口してのパターニングが行われることがある。
尚、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板としては、通常、図9に示すように、透明基板51上に、ブラックストライプ52と各着色層53a、53b、53cを形成し、オーバーコート層54で覆い平坦化した表面に透明電極55を配した構造のものが多く、このような、カラーフィルタ基板(図9の50)を用いた液晶表示素子は、例えば、図10に示すように、カラーフィルタ基板50と多数の画素電極72を備えるTFT側基板70を対向させ、この間に液晶74を封入した構造になっている。
これに対し、例えば、特開2002−287130号公報に記載の透過型兼反射型(半透過半反射型とも言う)の液晶表示装置の液晶表示素子の場合は、図11に示すように、開口87aを有する反射層87を設け、且つ、反射用のフィルタとしての着色層84R、84G、84Bと透過用のフィルタとしての着色層84Ra、84Ga、84Baとを配設している。
染色法は、感光性のあるレジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングした後、染色を行うものであり、顔料分散法は、顔料が分散された感光性レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングするものである。
電着法は、透明導電膜をフォトエッチング法によりパターニングした後、電着法により各透明導電膜に着色層を形成するものであり、また印刷法では顔料を含むインクを凹版法、凸版法あるいはシルクスクリーン法等により印刷するものである。
染色法、顔料分散法、電着法を用いる場合は、1乃至3回のフォトリソグラフィプロセスが必要であり、歩留りやコストの面で問題があり、また、印刷法を用いる場合は、フォトリソグラフィプロセスがなくなるものの、高精度パターンが得にくくまた表面の平坦性が損なわれるという問題がある。
このフォトリソグラフィー法においては、従来、その生産性、品質の面から、カラーフィルタ用の着色層をカラーフィルタ形成用基板に形成する際に、近接露光(プロキシミティー露光とも言う)を用い、着色層形成用の感光性組成物を、カラーフィルタ形成用基板に塗布し、例えば、図3に示すような露光装置にてマスクのパターンを近接露光し、現像して、目的とする絵柄に形成していた。
そして、マスクのパターンとしては、目的とする着色層の形状と同じ形状のパターンを用い、寸法シフト量を小さくする方向で、着色層形成用の感光性組成物やプロセスを最適化してきた。
微小な円形状を得るため、プロセス条件としては、シフト量を小さくするために露光量を低く抑え、露光ギャップを小さくし、現像時間を長くしていた。
また、これまで、プロセス条件と感光性材料の特性とのバランスにより、微細化を達成してきたが、露光量を下げることによって硬化性不足が生じたり、狭ギャップにすることにより、マスクに異物が付着し、共通欠陥を発生させたりしていた。
更にまた、硬化性不足と長い現像時間により、密着性不足や狭マージンとなっていた。
図7、図8中、600は露光装置、610はステージ、611はX駆動部、612はY駆動部、613はZ駆動部、614はθ駆動部、615は基板保持部、615Aは3点アオリ調整部、615Bは基板リフトアップ部、616はマスク保持部、616Aはマスクの落下防止、620はガラス基板供給ロボット、620Aはハンド部、621はガラス基板排用ロボット、621Aはハンド部、630はガラス基板(ワーク)、640はマスク(原版)、650は光源部、650Aは光源、670はギヤップセンサー、680はスコープ、690はエッジセンサー、m1、m2、m3は反射鏡、sはシヤッター、lはフライアイレンズである。
尚、全体を分かり易くするため、図7(a)、図7(b)においては光学系を簡略ないし省略して示している。
また、図7に示す露光装置は、Y方向に平行にその開口境界を設け、それぞれ、独立してX方向移動できる1対のX方向移動マスキングアパーチャを備えたシャッターである。
尚、被露光基板とマスクとを近接させ、間隔を所定のギヤップに保ちながら露光を行い、マスクのパターンの開口が、該開口の形状、方向に忠実に転写される露光方法を、一般的には近接露光(プロキシミティー露光)と言う。
また、光源部としては、通常、高圧水銀灯が用いられ、マスク(原版)640へは、露光光は垂直入射される。
本発明は、これに対応するもので、上記従来の、近接露光(プロキシミティー露光)法を用いたフォトリソグラフィー法により、カラーフィルタ用の着色層をカラーフィルタ形成用基板に形成する方法における、露光装置や着色層形成用の感光性材料、プロセスを使用して、近年の液晶表示装置の視認性改善に伴う、カラーフィルタとして着色層への12μmΦ以下の微細開口形成に、対応できるカラーフィルタ用の着色層の形成方法を提供しようとするものである。
そして、上記のカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、着色層形成用パターンの単位の非円形状の遮光部は、矩形を重ねた形状のものであることを特徴とするものであり、矩形を重ねた形状が、2つの矩形を互いに90度あるいは45度ずらした状態で重ねた形状のものであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記のいずれかのカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、着色層の円形状の開口の円形の径が3μmΦ〜12μmΦであることを特徴とするものである。 また、上記のいずれかのカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、露光光を透過させる開口領域中に、前記単位の非円形状の遮光部を複数、各単位の非円形状の遮光部が互いに、実質的に影響されないように、配列して配設したものであることを特徴とするものであり、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、異なる形状およびまたは異なるサイズの単位の非円形状の遮光部を、2種以上配設していることを特徴とするものである。
また、上記のいずれかのカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、各単位の非円形状の遮光部を、所定ピッチで1次元方向にあるいは2次元方向に配列したものであることを特徴とするものである。
尚、着色層の感光性組成物に対し、露光用マスクの開口パターンの形状、方向が忠実に転写されるように、カラーフィルタ形成用基板とマスク(原版)とを近接させ、間隔を所定のギヤップに保ちながら露光を行う、一般に近接露光と言われている露光方式を、ここでは特に正規の近接露光といい、本発明のように、正規の近接露光におけるギャップを更に広げて、回折効果により、露光用マスクの開口パターンの形状、方向が忠実に転写されない転写条件での露光方式をも、ここでは近接露光法と言っている。
尚、上記本発明のような近接露光法を擬似近接露光法と言う場合もある。
そして、上記に記載の露光用マスクであって、着色層形成用パターンの単位の非円形状の遮光部は、矩形を重ねた形状のものであることを特徴とするものであり、矩形を重ねた形状が、2つの矩形を互いに90度あるいは45度ずらした状態で重ねた形状のものであることを特徴とするものである。
本発明の液晶表示素子は、上記カラーフィルタ基板の着色層を覆う透明共通電極を有するカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板に対向する、多数の画素電極を備える対向基板と、前記カラーフィルタ基板と対向基板との間に封入された液晶を備えていることを特徴とするものである。
本発明のカラーフィルタ用の着色層の形成方法は、このような構成にすることにより、従来の、近接露光(プロキシミティー露光)法を用いたフォトリソグラフィー法により、カラーフィルタ用の着色層をカラーフィルタ形成用基板に形成する方法における、露光装置や着色層形成用の感光性材料、プロセスを使用して、近年の液晶表示装置の視認性改善に伴う、カラーフィルタとしての着色層への12μmΦ以下の微細開口形成に、対応できるカラーフィルタ用の着色層の形成方法の提供を可能にしている。
具体的には、着色層形成用のネガ型の感光性組成物をカラーフィルタ形成用基板に配設した後、露光用マスクの絵柄が忠実に転写される正規の近接露光位置から露光ギャップを更に広げ、前記着色層形成用のネガ型の感光性組成物に対し、所定の着色層形成用のパターンを有する露光用マスクを用いて着色層形成用の露光を行い、更に、現像して、円形状の開口を設けた着色層を得るものであり、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、着色層に1つの円形状の開口を設けるための単位の遮光パターンとして、露光光を透過させる開口領域中に露光光を遮光する単位の非円形状の遮光部を配設したもので、且つ、前記着色層形成用のネガ型の感光性組成物に対し、前記露光用マスクを用いて露光を行うもので、前記着色層開口用パターン部が露光された領域に、現像後に円形状の開口が形成されるものであることにより、これを達成している。
詳しくは、正規の近接露光位置から露光ギャップを更に広げ、回折効果の影響を利用した露光により、正規の近接露光位置による露光の場合の露光量よりも大きくして、且つ、所定の寸法の円形状の開口を設けた着色層を形成することを可能としている。
したがって、正規の近接露光位置による露光の場合のようにシフト量を小さくする必要はなく、プリベーク温度を高くでき、露光量を増やすことができ、着色層形成用の感光性組成物から形成された着色層部を密着性、硬化性を確保を容易にできるものとしている。 また、露光ギャップを正規の近接露光位置による露光の場合よりも広げて行うため、マスクに付着する異物による共通欠陥不良の発生を減らすことができる。
形成する円形上の開口の径が3μm〜12μmである場合には、有効である。
そしてこの場合で、露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンが、異なる形状およびまたは異なるサイズの単位の非円形状の遮光部を、2種以上用いて配設することにより、着色層に形成する複数の円形状の開口を所望の種々ピッチ間隔で、所望の種々のサイズに形成することを可能としている。
即ち、形成する前記ピッチの自由度を大きなものとでき、設計上で有利となる。
特に、密着性、硬化性が良い、着色層への12μm以下レベルの微細円形状開口の形成方法の提供を、その設計自由度を大きくして、可能とした。
図1は本発明のカラーフィルタ用の着色層の形成方法の実施の形態の1例の特徴部を説明するための図で、図1(a)は使用される露光用マスクのパターンを示した図で、図1(b)は図1(a)に示す露光用マスクのパターンにより露光されて現像された後の着色層の状態を示した図で、図2は使用される露光用マスクの単位の非円形状の遮光部の他の例を示した図で、図3(a)は単位の非円形状の遮光部の配列状態を示した図で、図3(b)は図3(a)の単位の非円形状の遮光部の配列状態に対応する円形状の開口の形成状態を示した図で、図4(a)は単位の非円形状の遮光部の配列状態を示した図で、図4(b)は図4(a)の単位の非円形状の遮光部の配列状態に対応する円形状の開口の形成状態を示した図で、図5(a)は単位の非円形状の遮光部の配列状態を示した図で、図5(b)は図5(a)の単位の非円形状の遮光部の配列状態に対応する円形状の開口の形成状態を示した図で、図6(a)は単位の非円形状の遮光部の配列状態を示した図で、図6(b)は図6(a)の単位の非円形状の遮光部の配列状態に対応する円形状の開口の形成状態を示した図である。
図1〜図2において、110は露光用マスクのパターン(単にパターンとも言う)、111は開口部、112、112aは遮光部、115、115a、115b、115c、115d、115e、115fは単位の非円形状の遮光部(単に遮光部とも言う)、120は着色層パターン、121は着色層、125、125a、125b、125c、125d、125e、125fは円形状の開口(単に開口とも言う)である。
また、これを以って、本発明の露光用マスクの説明に代える。
本例は、視認性を改善するために着色層に開口を設けた液晶表示素子用のカラーフィルタ形成用基板における着色層の形成方法であって、近接露光(プロキシミティー露光)法を用いたフォトリソグラフィー法により、カラーフィルタ用の着色層をカラーフィルタ形成用基板に形成する方法で、線幅が30μm〜80μm程度の線幅の細い着色層を、径が12μmΦ以下のレベル(3μmΦ〜12μmΦ)の円形状の開口カラーフィルタ形成用基板に形成する方法である。
そして、着色層形成用の感光性の樹脂組成物をカラーフィルタ形成用基板に配設した後に、露光用マスクの絵柄が忠実に転写される正規の近接露光位置から露光ギャップを更に広げ、前記着色層形成用のネガ型の感光性組成物に対し、所定の着色層形成用のパターンを有する露光用マスクを用いて、回折効果の影響を利用して、着色層形成用の露光を行い、更に、現像して、円形状の開口を設けた着色層を得るものである。
露光装置としては、従来の図7、図8に示す構造のものが適用できる。
本例は、着色層形成のための絵柄が図1(a)に示す絵柄である石英材質の露光用マスクを用い、高圧水銀灯を用いた露光での回折効果の影響を利用して、更に、現像して、図1(b)に示す円形状の開口125を設けた着色層121を得るものである。
図1(a)に示すように、露光用マスクの所定の着色層形成用のパターン110は、着色層に1つの円形状の開口を設けるための単位の遮光パターンとして、露光光を透過させる開口領域中に露光光を遮光する単位の非円形状の遮光部115を配設したものである。 本例においては、着色層形成用のネガ型の感光性組成物に対し、露光用マスクを用い、回折効果の影響を利用した露光を行うもので、前記単位の非円形状の遮光部115が露光された領域に、回折効果の影響により、現像後に円形状の開口が形成される。
但し、100μm〜300μm好ましくは、150μm〜250μmの露光ギャップで、露光量、現像条件等の処理条件は、適宜調整する。
本例の場合、着色層開口用パターン部115の非円形状の遮光部112aは、2つの矩形を互いに90度ずらした状態で重ねた形状のものである。
尚、着色層開口用パターン部115の非円形状の遮光部112aを、図2(a)に示すような、2つの矩形を互いに45度ずらした状態で重ねた形状のものとしても良いが、これに合わせて、露光ギャップ、露光量、現像条件等の処理条件は、適宜調整する必要がある。
露光に際しては、マスクの絵柄が忠実に転写される正規の近接露光位置から露光ギャップを更に広げ、回折効果の影響により、図1(a)に示す着色層開口用パターン部115に対応する位置に、露光、現像後に、円形状の開口(図1(b)の125に相当)が形成されるように、露光ギャップを広げて調整した、転写条件を予め設定しておく。
これは、種々の露光ギャップにて露光、現像を行い、形成される遮光パターンに対応する位置の絵柄形状をみて判断することができる。
尚、図1(a)のように単位の非円形状の遮光部115が十字形状で、幅2μm長さ20μmの矩形を2つを互いに90度ずらして重ねた形状の場合、露光ギャップを100μm〜300μmの間で調整して、現像後、3μmΦの円形状の開口を設けた着色層を形成することができた。
尚、このような、転写条件をシミュレーションにて、近似的に求めることもできる。
本例の場合、正規の近接露光位置による露光の場合のように寸法シフト量を小さくする必要はなく、プリベーク温度を高くでき、露光量を増やすことができ、ブラックストライプ形成用の感光性の樹脂組成物から形成されたブラックストライプ部の密着性、硬化性を確保が容易にできる。
また、露光ギャップを正規の近接露光位置による露光の場合よりも広げて行うため、マスクに付着する異物による共通欠陥不良の発生を減らすことができる。
また、必要に応じて、その上に着色層との密着性を向上させるためにアンカーコートを施してもよい。
着色層形成用の感光性組成物は、顔料または染料及び感光性材料を含むものである。
感光性組成物としては、UVレジスト、DEEP−UVレジスト、紫外線硬化型樹脂等が挙げらるが、本発明のように微細な開口をカラーフィルタ基板上に形成する場合には、紫外線硬化型樹脂が好ましい。
また、DEEP−UVレジストとしては、ポリビニルフェノール−3,3' −アジドフェニルスルホン及びポリメタクリル酸グリシジル等のネガ型レジストを挙げることができる。
本発明においては、これらの光重合開始剤を1種又は2種以上使用することができる。
低融点溶剤としては、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられ、また、高沸点溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルセルソルブ、3−メトキシブチルアセテート等が挙げられる。
また、低融点溶剤と高沸点溶剤の混合溶媒として、高沸点溶剤が50%以上を占める割合で含まれる混合溶媒を用いることができる。
尚、塗布した着色層形成用の感光性の樹脂組成物を、例えば、ホットプレート等を用いて仮硬化後に、該樹脂組成物上に、所定の露光ギャップを介して、露光用マスクを配置し、露光を行う。
図3(a)のように、十字形状の単位の非円形状の遮光部115aと×形状の単位の非円形状の遮光部115bとを、それぞれ、所定ピッチで一次元方向(X方向)に配置した場合、図3(b)に示すように、各単位の非円形状の遮光部115a、115b、それぞれに対応した位置に円形状の開口125a、125bが形成される。
この場合は、円形状の開口125aと開口125bとは同じサイズとなるように、単位の非円形状の遮光部115a、115bは形成されており、同じサイズの開口を十字の単位の非円形状の遮光部115aだけを用いた場合よりも、隣接して形成される開口のピッチ間隔を狭くすることができる。
また、図4(a)に示すように、十字形状の単位の非円形状の遮光部115cを、ジグザグに二次元方向(X、Y方向)に配置した場合、図4(b)に示すように、十字形状の単位の非円形状の遮光部115cを二次元方向(X、Y方向)に所定ピッチ間隔で配列させる場合よりも、隣接して形成される開口のピッチ間隔を狭くすることができる。
また、図5(a)のように、十字形状の単位の非円形状の遮光部115dと×形状の着色層開口用単位パターン部115eとを、それぞれ、所定ピッチで一次元方向(X方向)に配置した場合、図5(b)に示すように、各単位の非円形状の遮光部115d、115e、それぞれに対応した位置、サイズに円形状の開口125d、125eが形成される。 また、図6(a)のような、十字形状の単位の非円形状の遮光部115fを近接させ、対応するサイズの開口125fを形成することもできる。
111 開口部
112、112a 遮光部
115 単位の非円形状の遮光部(単に遮光部とも言う)
115a〜115f 単位の非円形状の遮光部(単に遮光部とも言う)
120 着色層パターン
121 着色層
125、125a、125b、125c 円形状の開口(単に開口とも言う)
125d、125e、125f 円形状の開口(単に開口とも言う)
210 露光用マスクのパターン
211 開口部
212 遮光部
215 遮光パターン
50 カラーフィルタ基板
51 透明基板
52 ブラックストライプ
53a 赤着色層(Rフィルターとも言う)
53b 緑着色層(Gフィルターとも言う)
53c 青着色層(Bフィルターとも言う)
54 オーバーコート層
55 透明電極(共通透明電極とも言う)
70 TFT基板
71 透明基板
72 画素電極
73a、73b 配向膜
74 液晶
75a,75b 偏光板
76 バックライト
80 カラーフィルタ基板
81、82 透明基板
83 偏光板
84R、84G、84B 着色層(反射用のフィルタとも言う)
84Ra、84Ga、84Ba 着色層(透過用のフィルタとも言う)
85、86 透明対向電極(マトリックス電極とも言う)
87 反射層
87a 開口
88 バックライト
89a 外光
89b 反射光
90 透過光
Claims (12)
- 近接露光法を用いたフォトリソグラフィー法により、カラーフィルタ用の着色層を、円形状の開口を設けた状態で、カラーフィルタ形成用基板に形成する方法であって、着色層形成用のネガ型の感光性組成物をカラーフィルタ形成用基板に配設した後、露光用マスクの絵柄が忠実に転写される正規の近接露光位置から露光ギャップを更に広げ、前記着色層形成用のネガ型の感光性組成物に対し、所定の着色層形成用のパターンを有する露光用マスクを用いて着色層形成用の露光を行い、更に、現像して、円形状の開口を設けた着色層を得るものであり、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、着色層に1つの円形状の開口を設けるための単位の遮光パターンとして、露光光を透過させる開口領域中に露光光を遮光する単位の非円形状の遮光部を配設したもので、且つ、前記着色層形成用のネガ型の感光性組成物に対し、前記露光用マスクを用いて露光を行うもので、前記着色層開口用パターン部が露光された領域に、現像後に円形状の開口が形成されるものであることを特徴とするカラーフィルタ用の着色層の形成方法。
- 請求項1に記載のカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、着色層形成用パターンの単位の非円形状の遮光部は、矩形を重ねた形状のものであることを特徴とするカラーフィルタ用の着色層の形成方法。
- 請求項2に記載のカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、矩形を重ねた形状が、2つの矩形を互いに90度あるいは45度ずらした状態で重ねた形状のものであることを特徴とするカラーフィルタ用の着色層の形成方法。
- 請求項1ないし3のいずれか1に記載のカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、着色層の円形状の開口の円形の径が3μmΦ〜12μmΦであることを特徴とするカラーフィルタ用の着色層の形成方法。
- 請求項1ないし4のいずれか1に記載のカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、露光光を透過させる開口領域中に、前記単位の非円形状の遮光部を複数、各単位の非円形状の遮光部が互いに、実質的に影響されないように、配列して配設したものであることを特徴とするカラーフィルタ用の着色層の形成方法。
- 請求項5に記載のカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、異なる形状およびまたは異なるサイズの単位の非円形状の遮光部を、2種以上配設していることを特徴とするカラーフィルタ用の着色層の形成方法。
- 請求項5ないし6のいずれか1に記載のカラーフィルタ用の着色層の形成方法であって、前記露光用マスクの所定の着色層形成用のパターンは、各単位の非円形状の遮光部を、所定ピッチで1次元方向にあるいは2次元方向に配列したものであることを特徴とするカラーフィルタ用の着色層の形成方法。
- 近接露光法を用いたフォトリソグラフィー法により、カラーフィルタ用の着色層をカラーフィルタ形成用基板に形成する方法において用いられる露光用マスクで、且つ、着色層に円形状の開口を設けた状態で着色層絵柄を形成するための露光用マスクであって、前記露光用マスクの、着色層形成用のパターンは、着色層に1つの円形状の開口を設けるための単位の遮光パターンとして、露光光を透過させる開口領域中に露光光を遮光する単位の非円形状の遮光部を配設したものであることを特徴とする露光用マスク。
- 請求項8に記載の露光用マスクであって、着色層形成用パターンの単位の非円形状の遮光部は、矩形を重ねた形状のものであることを特徴とする露光用マスク。
- 請求項9に記載の露光用マスクであって、矩形を重ねた形状が、2つの矩形を互いに90度あるいは45度ずらした状態で重ねた形状のものであることを特徴とする露光用マスク。
- 請求項1ないし7のいずれか1に記載のカラーフィルタ用の着色層の形成方法により、カラーフィルタ用の着色層を形成されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項11に記載のカラーフィルタ基板の着色層を覆う透明共通電極を有するカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板に対向する、多数の画素電極を備える対向基板と、前記カラーフィルタ基板と対向基板との間に封入された液晶を備えていることを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004121473A JP4459695B2 (ja) | 2003-12-17 | 2004-04-16 | カラーフィルタ用の着色層の形成方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003419445 | 2003-12-17 | ||
JP2004121473A JP4459695B2 (ja) | 2003-12-17 | 2004-04-16 | カラーフィルタ用の着色層の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005202345A true JP2005202345A (ja) | 2005-07-28 |
JP4459695B2 JP4459695B2 (ja) | 2010-04-28 |
Family
ID=34829215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004121473A Expired - Fee Related JP4459695B2 (ja) | 2003-12-17 | 2004-04-16 | カラーフィルタ用の着色層の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4459695B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007171332A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2007171333A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2008076724A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2009058899A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、このフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2009069388A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Dainippon Printing Co Ltd | プロキシミティ露光用フォトマスクおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP2009122491A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用基板の製造方法及びそれに用いるフォトマスク及び液晶表示装置 |
CN101162313B (zh) * | 2006-10-09 | 2010-05-12 | 久正光电股份有限公司 | 胆固醇液晶显示元件的制法及其制成物 |
CN113394238A (zh) * | 2020-02-26 | 2021-09-14 | 株式会社日本显示器 | 光传感器装置 |
-
2004
- 2004-04-16 JP JP2004121473A patent/JP4459695B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007171332A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2007171333A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2008076724A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
CN101162313B (zh) * | 2006-10-09 | 2010-05-12 | 久正光电股份有限公司 | 胆固醇液晶显示元件的制法及其制成物 |
JP2009058899A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ用フォトマスク、このフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2009069388A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Dainippon Printing Co Ltd | プロキシミティ露光用フォトマスクおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP2009122491A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶表示装置用基板の製造方法及びそれに用いるフォトマスク及び液晶表示装置 |
CN113394238A (zh) * | 2020-02-26 | 2021-09-14 | 株式会社日本显示器 | 光传感器装置 |
JP7460392B2 (ja) | 2020-02-26 | 2024-04-02 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 光センサ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4459695B2 (ja) | 2010-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5094010B2 (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ基板及びその製造方法 | |
JP2008158138A (ja) | カラーフィルタ基板および液晶表示装置 | |
US20140098332A1 (en) | Displays With Logos and Alignment Marks | |
CN101246285A (zh) | 制作感光间隙子的方法 | |
JP4459695B2 (ja) | カラーフィルタ用の着色層の形成方法 | |
KR20100099663A (ko) | 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 차광막 | |
KR101409696B1 (ko) | 액정표시장치 및 그의 제조방법 | |
JP2003149429A (ja) | 突起構造付きカラーフィルターの形成方法及び突起構造付きカラーフィルター | |
JP2006201234A (ja) | スペーサーと配向制御用突起を有する基板及びそれを用いた液晶表示装置 | |
JP2009204839A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
JP4882830B2 (ja) | カラーフィルタ基板および液晶表示装置 | |
JP4459607B2 (ja) | カラーフィルタ用の樹脂製のブラックストライプの形成方法と該方法に用いられる露光用マスク | |
JP5228594B2 (ja) | カラーフィルタ形成用基板およびカラーフィルタの製造方法 | |
JP2009210926A (ja) | 横電界液晶駆動方式用カラーフィルタ | |
JP4287166B2 (ja) | 樹脂ブラックマトリックスの製造方法及びそれに用いるフォトマスク、樹脂ブラックマトリックス、カラーフィルタ及び液晶表示素子 | |
JP4852848B2 (ja) | スペーサ形成方法とこれに用いられる露光用マスク | |
JP5478157B2 (ja) | 液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 | |
JP4617821B2 (ja) | 液晶表示装置用基板、液晶表示装置用基板の製造方法及びそれに用いるフォトマスク | |
JP2007256790A (ja) | 酸素遮断膜、基板、パターン形成方法及びカラーフィルタ製造方法 | |
JP2004240136A (ja) | 高低パターン層形成体の製造方法 | |
JP5163602B2 (ja) | 高低パターン層形成体の製造方法 | |
KR20040104799A (ko) | 컬러필터 기판의 제조공정이 개선된 액정표시장치 및 그제조방법 | |
JP2010243810A (ja) | カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
JP2005084492A (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法 | |
JP2008268512A (ja) | 横電界駆動式液晶表示装置用カラーフィルタおよび横電界駆動式液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070330 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091118 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100210 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4459695 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130219 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130219 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |