JP2005191434A - トランジスタ、トランジスタの特性変動モデル式特定方法、及びトランジスタの良否判定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 トランジスタ12は、N型シリコン層22、P型シリコン層20を備えており、P型シリコン層20には、ベース電極12B、エミッター電極12Eが配置され、N型シリコン層22には、コレクター電極12Cが設けられている。ベース電極12B、エミッター電極12E、およびコレクター電極12Cは、層間絶縁膜18を介して離間して配置されている。電極16は、少なくともベース電極12Bとエミッター電極12Eとの間のP型シリコン層20内を電流が流れる経路を少なくとも層感絶縁膜18を介して覆うように配置されている。この電極16に電圧を印加することにより、層間絶縁膜18中に電荷を積極的に移動させる。よって、電極16に電圧を印加しない状態のときに判定するのに必要であた時間より短い時間で、トランジスタの良否を判定することができる。
【選択図】 図2
Description
ここで、特性変動モデル式を説明する。特性変動モデル式は以下の式により与えられる。
14 第2のトランジスタ
12B ベース電極
12E エミッター電極
12C コレクター電極
16 電極
20 P型シリコン層
22 N型シリコン層
18 層間絶縁膜
26 電流計
28 ヒーター
30 計算装置
32 表示装置
150 フィールドMOSFET
152 電極
154 ドレイン電極
156 ソース電極
158 層間絶縁膜
160 P型シリコン層
Claims (4)
- 電圧が印加されかつ絶縁膜を介して離間する第1の電極から第2の電極に向って所定シリコン層内を電流が流れるトランジスタであって、
前記電流の流れを制御する第3の電極を有し、
前記所定シリコン層内の電流が流れる経路を少なくとも前記絶縁膜を介して覆うように配置された第4の電極を更に備えたことを特徴とするトランジスタ。 - 複数の雰囲気温度各々の状態で、請求項1に記載のトランジスタの前記第4の電極に複数の電圧各々を印加しかつ前記トランジスタを稼動させながら、所定時間毎に、前記トランジスタ内の第1の電極及び第2の電極間の前記絶縁膜中の電荷移動状態を表す物理量を測定し、
前記電荷移動状態を表す予め定められた特性変動モデル式と、前記測定された物理量と、に基づいて、該特性変動モデル式を規定する係数を特定することにより、トランジスタの特性変動モデル式を特定する、
トランジスタの特性変動モデル式特定方法。 - 前記係数は、前記第4の電極に印加する電圧に対する電界加速係数、前記温度に対する活性化エネルギー、及び前記時間に依存する特徴パラメータであることを特徴とする請求項2記載のトランジスタの特性変動モデル式特定方法。
- 請求項2又は請求項3記載のトランジスタの特性変動モデル式特定方法により特定された特性変動モデル式に基づいて定まりかつ前記第4の電極に電圧を印加せずに、所定の雰囲気温度で第1の時間稼動させる基準状態のときの前記トランジスタが良好と判断される電荷移動状態を表す良好物理量に基づいて、前記前記第4の電極に電圧を印加した場合の前記物理量が該良好物理量になるまでの第1の時間より短い第2の時間を求め、
前記トランジスタを前記求めた第2の時間稼動させ、
前記良好物理量と、前記トランジスタを前記第2の時間稼動させた後の前記物理量と、に基づいて、前記トランジスタの良否を判定する、
トランジスタ良否判定方法。
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