JP2005184496A - 振動子及びマイクロレゾネータ - Google Patents
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Abstract
【課題】 簡単な構造により、駆動部に印加する駆動用バイアス直流電圧に制限されずに、静電容量検出用バイアス直流電圧を自由に設定することができる振動子及びマイクロレゾネータを提供する。
【解決手段】 振動子10が、基板15と、基板15上に形成された積層部と、積層部上に設けられた支持部46及び複数の固定電極22,32と、固定電極22,32と対向する可動電極24,34を有する第1共振部40及び第2共振部50と、支持部46と第1共振部40とを連結する第1弾性連結部44と、第1共振部40と第2共振部50とを連結する第2弾性連結部54とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】 振動子10が、基板15と、基板15上に形成された積層部と、積層部上に設けられた支持部46及び複数の固定電極22,32と、固定電極22,32と対向する可動電極24,34を有する第1共振部40及び第2共振部50と、支持部46と第1共振部40とを連結する第1弾性連結部44と、第1共振部40と第2共振部50とを連結する第2弾性連結部54とを備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は、本発明は、家電機器、通信機器、電子応用機器等において、基準発振子、フィルタ、遅延回路などに使用される例えばマイクロレゾネータの如き振動子と、そのマイクロレゾネータに関するものである。
近年、この種の振動子は、高性能、小型及び量産性などの優れた特徴を有することから、上述したような機器に多用されている。具体的には、これらの機器においてマイクロレゾネータ(共振子)やマイクロフィルタなどとして使用されている。振動子からなるマイクロレゾネータの構造は、特許文献1、2に開示されるように、シリコン基板上に酸化膜からなる絶縁膜が形成され、その絶縁膜の上に固定電極と可動電極の櫛歯同士が該基板面に平行に噛み合わされるように形成され、また、櫛歯部を有する可動電極がシリコン基板上に支持されたバネ性を有する梁部に結合されており、このような、互いに噛み合う櫛歯状固定電極と櫛歯状可動電極との組を中間の梁部の両側に1組ずつ配置する構成となっている。また、絶縁膜(酸化膜)上には、各固定電極にそれぞれ接続された2つの電極端子と、2つの電極端子に共通の接地電極としての電極端子とが設けられている。櫛歯状の固定電極、可動電極、および梁部並びに電極端子は、前記絶縁膜(酸化膜)上に形成したポリシリコン膜を利用して形成される。
このようなマイクロレゾネータは、一方の櫛歯状の固定電極の電極端子Aと接地電極端子との間に交流電圧を印加することにより、その櫛歯状の固定電極と可動電極との間に静電引力を発生させ、この静電引力により櫛歯状の可動電極を櫛歯の噛み合い方向(櫛歯の長さ方向)に平面的に引き押しすることによって振動させる。この振動は可動電極と一体化されたバネ性を持つ梁部すなわち共振部に伝達され、他方の同様に噛み合い状態にある櫛歯状の可動電極を平面的に振動させる。
入力側である一方の櫛歯状の固定電極と可動電極間で発生した振動が、両側の可動電極を含む共振部(梁部)に伝わることにより、共振部は共振現象を生じ、この共振周波数が出力側である他方の櫛歯状固定電極の電極端子Bから取り出される。
米国特許第5025346号明細書(第3欄第37行−第6欄第2行、第6欄第55行−第7欄第52行、図1−図4)
米国特許第5537083号明細書(第4欄第43行−第10欄第33行、図4−図8)
このようなマイクロレゾネータは、一方の櫛歯状の固定電極の電極端子Aと接地電極端子との間に交流電圧を印加することにより、その櫛歯状の固定電極と可動電極との間に静電引力を発生させ、この静電引力により櫛歯状の可動電極を櫛歯の噛み合い方向(櫛歯の長さ方向)に平面的に引き押しすることによって振動させる。この振動は可動電極と一体化されたバネ性を持つ梁部すなわち共振部に伝達され、他方の同様に噛み合い状態にある櫛歯状の可動電極を平面的に振動させる。
入力側である一方の櫛歯状の固定電極と可動電極間で発生した振動が、両側の可動電極を含む共振部(梁部)に伝わることにより、共振部は共振現象を生じ、この共振周波数が出力側である他方の櫛歯状固定電極の電極端子Bから取り出される。
上記のような従来の振動子では、振動子を駆動する駆動部(入力部)と静電容量検出する検出部(出力部)とが同一の共振部に形成され、所謂1自由度振動系を構成するため、駆動部に印加する駆動用バイアス直流電圧と、静電容量検出用バイアス直流電圧を同じ値に設定しなければならないという制限があった。このため、得られる静電容量検出用バイアス直流電圧を自由に設定することができないという問題があった。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、簡単な構造により、駆動部に印加する駆動用バイアス直流電圧に制限されずに、静電容量検出用バイアス直流電圧を自由に設定することができる振動子及びマイクロレゾネータを提供することを目的とする。
本発明に係る振動子及びマイクロレゾネータでは、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第1の発明は、振動子が、基板と、基板上に形成された積層部と、積層部上に設けられた支持部及び複数の固定電極と、固定電極と対向する可動電極を有する第1共振部及び第2共振部と、支持部と第1共振部とを連結する第1弾性連結部と、第1共振部と第2共振部とを連結する第2弾性連結部とを備えるようにした。この発明によれば、第1共振部の印加電圧に関わらず、第2共振部から大きな検出電圧を得ることができる。
第1の発明は、振動子が、基板と、基板上に形成された積層部と、積層部上に設けられた支持部及び複数の固定電極と、固定電極と対向する可動電極を有する第1共振部及び第2共振部と、支持部と第1共振部とを連結する第1弾性連結部と、第1共振部と第2共振部とを連結する第2弾性連結部とを備えるようにした。この発明によれば、第1共振部の印加電圧に関わらず、第2共振部から大きな検出電圧を得ることができる。
また、第1共振部における可動電極と固定電極との間に交流電圧を印加することによって、第1共振部が振動し、それに伴い第2共振部が振動するものであって、交流電圧の周波数が第1共振部と第2共振部とが共振する2自由度振動系の共振周波数のうち低いものとほぼ等しくなるように設定されたものでは、第1共振部の振幅を抑制しつつ、第2共振部の振幅を大きくすることができる。
例えば、固定電極と第1共振部における可動電極との間に生じる静電気力によって、第1共振部を駆動させることができる。
また、第1弾性連結部のばね定数をk1、第2弾性連結部のばね定数をk2としたとき、k1とk2とが、k1>k2の関係を満足するものでは、第1共振部の振幅を抑制しつつ、第2共振部の振幅をより大きくすることができる。
また、第共振部の質量をm1、前記第2共振部の質量をm2としたとき、m1とm2とが、m1≦m2の関係を満足するものでは、第1共振部の振幅を抑制しつつ、第2共振部の振幅をより大きくすることができる。
また、更に第1共振部と第1弾性連結部と第2弾性連結部を備え、第2共振部が、第2弾性連結部と第1共振部と第1弾性連結部を介して両持ち支持されるものでは、振動子の第1共振部及び第2共振部が両持ち構造となるので、片持ち構造の振動子に比べて安定した構造体となり、安定した振動を得ることができる。
例えば、固定電極と第1共振部における可動電極との間に生じる静電気力によって、第1共振部を駆動させることができる。
また、第1弾性連結部のばね定数をk1、第2弾性連結部のばね定数をk2としたとき、k1とk2とが、k1>k2の関係を満足するものでは、第1共振部の振幅を抑制しつつ、第2共振部の振幅をより大きくすることができる。
また、第共振部の質量をm1、前記第2共振部の質量をm2としたとき、m1とm2とが、m1≦m2の関係を満足するものでは、第1共振部の振幅を抑制しつつ、第2共振部の振幅をより大きくすることができる。
また、更に第1共振部と第1弾性連結部と第2弾性連結部を備え、第2共振部が、第2弾性連結部と第1共振部と第1弾性連結部を介して両持ち支持されるものでは、振動子の第1共振部及び第2共振部が両持ち構造となるので、片持ち構造の振動子に比べて安定した構造体となり、安定した振動を得ることができる。
第2の発明は、マイクロレゾネータが第1の発明の振動子からなるようにした。
この発明によれば、振動子の特性を十分に生かすことのできるマイクロレゾネータを得ることができる。
この発明によれば、振動子の特性を十分に生かすことのできるマイクロレゾネータを得ることができる。
以下、本発明の振動子及びマイクロレゾネータの第1実施形態について図を参照して説明する。図1は、本発明のマイクロレゾネータの一実施形態を示す平面図、図2は、図1のA−A断面図である。
マイクロレゾネータ10は、トランスバーサル型のSAW(Surface Acoustic Wave:弾性表面波素子)フィルタと同様な働きをするフィルタとして構成されており、シリコン基板15の表面に形成された酸化膜からなる絶縁膜16上において、両側に送信側IDT(Inter digital Transducer)20を配置した駆動部60と、両側に受信側IDT30を配置した検出部70とが、第1共振部40、第2共振部50を介して連結、固定されるように配置される。
なお、送信側IDT20、受信側IDT30および第1共振部40、第2共振部50は、シリコン基板15上に形成されたポリシリコン(p−SiO)膜を利用して形成される。
マイクロレゾネータ10は、トランスバーサル型のSAW(Surface Acoustic Wave:弾性表面波素子)フィルタと同様な働きをするフィルタとして構成されており、シリコン基板15の表面に形成された酸化膜からなる絶縁膜16上において、両側に送信側IDT(Inter digital Transducer)20を配置した駆動部60と、両側に受信側IDT30を配置した検出部70とが、第1共振部40、第2共振部50を介して連結、固定されるように配置される。
なお、送信側IDT20、受信側IDT30および第1共振部40、第2共振部50は、シリコン基板15上に形成されたポリシリコン(p−SiO)膜を利用して形成される。
駆動部60は、2組の一対の櫛歯状電極(送信側IDT20)及び第1共振部40により構成される。
駆動部60の両側に形成される2つの送信側IDT20はいずれも、それぞれ櫛歯部を有する固定電極22と可動電極24とから構成される。送信側IDT20の固定電極22は、複数の櫛歯からなる櫛歯部21を有し、リード部25を介して入力電極端子26に接続される。
そして、駆動部本体61は、連結ビーム43と、この連結ビーム43の両側に櫛歯が外向きになるように一体的に形成され、固定電極22の櫛歯部21とそれぞれ噛み合うように設けられた櫛歯部23を有する可動電極24とから構成される。なお、固定電極22の櫛歯部21と可動電極24の櫛歯部23とは、それぞれ複数の櫛歯が所定の平面上の隙間でもってシリコン基板15の表面に平行に噛み合っている。
また、第1共振部40は、駆動部本体61と、駆動部本体61の連結ビーム43に結合された梁44とから構成される。そして、駆動部本体61は梁44を介して支持部46に連結され、この支持部46がシリコン基板15上に固定される構造となっている。
駆動部60の両側に形成される2つの送信側IDT20はいずれも、それぞれ櫛歯部を有する固定電極22と可動電極24とから構成される。送信側IDT20の固定電極22は、複数の櫛歯からなる櫛歯部21を有し、リード部25を介して入力電極端子26に接続される。
そして、駆動部本体61は、連結ビーム43と、この連結ビーム43の両側に櫛歯が外向きになるように一体的に形成され、固定電極22の櫛歯部21とそれぞれ噛み合うように設けられた櫛歯部23を有する可動電極24とから構成される。なお、固定電極22の櫛歯部21と可動電極24の櫛歯部23とは、それぞれ複数の櫛歯が所定の平面上の隙間でもってシリコン基板15の表面に平行に噛み合っている。
また、第1共振部40は、駆動部本体61と、駆動部本体61の連結ビーム43に結合された梁44とから構成される。そして、駆動部本体61は梁44を介して支持部46に連結され、この支持部46がシリコン基板15上に固定される構造となっている。
検出部70は、駆動部60と略同一の構成を備える。
すなわち、検出部70は、2組の一対の櫛歯状電極(受信側IDT30)及び第2共振部50により構成される。
検出部70は、の両側に形成される2つの受信側IDT30はいずれも、それぞれ櫛歯部を有する固定電極32と可動電極34とから構成される。受信側IDT30の固定電極32は、それぞれ複数の櫛歯からなる櫛歯部31を有し、リード部35を介して出力電極端子36に接続される。
そして、検出部本体71は、連結ビーム53と、この連結ビーム53の両側に櫛歯が外向きになるように一体的に形成され、固定電極32の櫛歯部31とそれぞれ噛み合うように設けられた櫛歯部33を有する可動電極34とから構成される。なお、固定電極32の櫛歯部31と可動電極34の櫛歯部33とは、それぞれ複数の櫛歯が、所定の平面上の隙間でもってシリコン基板15の表面に平行に噛み合っている。
また、第2共振部50は、検出部本体71と、検出部本体71の連結ビーム53に結合された梁54とから構成される。そして、検出部本体71は梁54を介して第1共振部40の連結ビーム43に連結される構造となっている。
なお、電極端子18は出力電極端子36及び入力電極端子26に対して共通の接地電極に設定された電極端子である。
すなわち、検出部70は、2組の一対の櫛歯状電極(受信側IDT30)及び第2共振部50により構成される。
検出部70は、の両側に形成される2つの受信側IDT30はいずれも、それぞれ櫛歯部を有する固定電極32と可動電極34とから構成される。受信側IDT30の固定電極32は、それぞれ複数の櫛歯からなる櫛歯部31を有し、リード部35を介して出力電極端子36に接続される。
そして、検出部本体71は、連結ビーム53と、この連結ビーム53の両側に櫛歯が外向きになるように一体的に形成され、固定電極32の櫛歯部31とそれぞれ噛み合うように設けられた櫛歯部33を有する可動電極34とから構成される。なお、固定電極32の櫛歯部31と可動電極34の櫛歯部33とは、それぞれ複数の櫛歯が、所定の平面上の隙間でもってシリコン基板15の表面に平行に噛み合っている。
また、第2共振部50は、検出部本体71と、検出部本体71の連結ビーム53に結合された梁54とから構成される。そして、検出部本体71は梁54を介して第1共振部40の連結ビーム43に連結される構造となっている。
なお、電極端子18は出力電極端子36及び入力電極端子26に対して共通の接地電極に設定された電極端子である。
そして、図2に示すように、駆動部60及び検出部70はシリコン基板15の絶縁膜(酸化膜)16上より基板面に平行に浮き上がった状態で支持されており、したがって、櫛歯状の固定電極22,32と可動電極24,34も同様に基板面に平行に浮き上がった状態で噛み合っている。櫛歯状電極の浮上高さ、すなわち基板の絶縁膜16との電極ギャップは2〜3μm程度である。なお、図2において、ポリシリコンで形成された入力電極端子26,36、リード部25,35と絶縁膜16との間の層17は、固定電極22,32と可動電極24,34との櫛歯部21,23,31,33を基板面に平行に浮き上がった構成に形成する際の製造工程において設けられた犠牲層である。
そして、以下に詳述するが、2つの入力電極端子26と接地電極の電極端子18との間に交流電圧を印加することにより、駆動部60の第1共振部40が振動し、更に第1共振部40の振動に伴って検出部70の第2共振部50が振動するようになっている。すなわち、所謂2自由度振動系が形成される。
このように構成されたマイクロレゾネータ10を例えば共振子として使用する場合には、2つの固定電極22の入力電極端子26と接地電極の電極端子18との間に交流電圧を印加する。(なお、図1の上側と下側の固定電極22に印加する交流電圧は、位相が反転するように調整される。)
これにより、固定電極22と可動電極24との櫛歯相互間に静電引力が発生し、駆動部60の第1共振部40が、櫛歯の噛み合い方向(櫛歯の長さ方向、すなわち図1の上下方向)に引き押しされて振動する。
この振動は、梁54を介して検出部70の伝達され、第2共振部50を櫛歯の噛み合い方向に振動させる。
これにより、固定電極22と可動電極24との櫛歯相互間に静電引力が発生し、駆動部60の第1共振部40が、櫛歯の噛み合い方向(櫛歯の長さ方向、すなわち図1の上下方向)に引き押しされて振動する。
この振動は、梁54を介して検出部70の伝達され、第2共振部50を櫛歯の噛み合い方向に振動させる。
入力側である櫛歯状の固定電極22と可動電極24との間に入力した電圧が第1共振部40の固有振動数に達すると、第1共振部40は共振現象を生じ、第2共振部50の固定電極32の出力電極端子36から共振周波数の電圧が出力される。
同様に、入力側である櫛歯状の固定電極22と可動電極24との間に入力した電圧が第2共振部50の固有振動数に達すると、第2共振部50は共振現象を生じ、第2共振部50の固定電極32の出力電極端子36から共振周波数の電圧が出力される。
共振周波数あるいは発振周波数は、可動電極24,34を含む第1共振部40,第2共振部50の質量と梁44,54のバネ定数で定まる変位に対する復元力(梁44,54の弾性力)によって定まる。発振周波数は、例えば、16kHz、32kHz、72kHzなどが設計目標値としてあげられる。
同様に、入力側である櫛歯状の固定電極22と可動電極24との間に入力した電圧が第2共振部50の固有振動数に達すると、第2共振部50は共振現象を生じ、第2共振部50の固定電極32の出力電極端子36から共振周波数の電圧が出力される。
共振周波数あるいは発振周波数は、可動電極24,34を含む第1共振部40,第2共振部50の質量と梁44,54のバネ定数で定まる変位に対する復元力(梁44,54の弾性力)によって定まる。発振周波数は、例えば、16kHz、32kHz、72kHzなどが設計目標値としてあげられる。
このような2自由度振動系のマイクロレゾネータ10では、第1共振部40及び第2共振部50の振幅と、印加する交流電圧の周波数との間に、図3に示すような周波数特性が存在する。
すなわち、第1共振部40と第2共振部50とからなる2自由度振動系は、第1共振部40及び第2共振部50の振幅が共に大きくなる2つの共振周波数fm1[kHz]、fm3[kHz](ただし、fm1<fm3)と、第1共振部40の振幅がほぼ0となる、1つの反共振周波数fm2[kHz]とを有する。
すなわち、第1共振部40と第2共振部50とからなる2自由度振動系は、第1共振部40及び第2共振部50の振幅が共に大きくなる2つの共振周波数fm1[kHz]、fm3[kHz](ただし、fm1<fm3)と、第1共振部40の振幅がほぼ0となる、1つの反共振周波数fm2[kHz]とを有する。
そして、マイクロレゾネータ10においては、駆動部60の固定電極22と電極端子18との間に印加する交流電圧の周波数Fが、2つの共振周波数のうち低いもの、すなわちfm1とほぼ等しくなるように設定する。
これにより、印加する交流電圧の周波数F[kHz]をfm1[kHz]とほぼ等しいものに設定することにより、第1共振部40の振幅を抑制しつつ、第2共振部50の振幅を大きくすることができる。
なお、F[kHz]とfm1[kHz]とがほぼ等しいとは、(fm1−1)≦F≦(fm1+1)の条件を満足することを意味する。
これにより、印加する交流電圧の周波数F[kHz]をfm1[kHz]とほぼ等しいものに設定することにより、第1共振部40の振幅を抑制しつつ、第2共振部50の振幅を大きくすることができる。
なお、F[kHz]とfm1[kHz]とがほぼ等しいとは、(fm1−1)≦F≦(fm1+1)の条件を満足することを意味する。
ところで、第1共振部40の固有振動数ω1は、第1共振部40の質量(すなわち駆動部本体61の質量)をm1、梁44のばね定数をk1としたとき、ω1=(k1/m1)1/2によって与えられ、また第2共振部50の固有振動数ω2は、第2共振部50の質量(すなわち検出部本体71の質量)をm2、梁54のばね定数をk2としたとき、ω2=(k2/m2)1/2によって与えられる。
したがって、上記のようにして求められる第1共振部40の固有振動数ω1と第2共振部50の固有振動数ω2とは、ω1>ω2の関係を満足するように設定する必要がある。これにより、第1共振部40の振幅を抑制しつつ、第2共振部50の振幅をより大きくすることができる。
したがって、上記のようにして求められる第1共振部40の固有振動数ω1と第2共振部50の固有振動数ω2とは、ω1>ω2の関係を満足するように設定する必要がある。これにより、第1共振部40の振幅を抑制しつつ、第2共振部50の振幅をより大きくすることができる。
例えば、梁44のばね定数をk1、梁54のばね定数をk2としたとき、k1とk2とが、k1>k2の関係を満足させることが望ましい。これにより、上述したω1>ω2の関係を満足するので、第1共振部40の振幅を抑制しつつ、第2共振部50の振幅をより大きくすることができる。
また、第1共振部40の質量m1、第2共振部の質量m2とが、m1≦m2の関係を満足させることが望ましい。これにより、上述したω1>ω2の関係を満足するので、第1共振部40の振幅を抑制しつつ、第2共振部50の振幅をより大きくすることができる。
また、マイクロレゾネータ10をフィルタとして用いる場合には、図4に示すように、第2共振部50の固有振動数を中心とした共振幅Wを通過帯域幅としたフィルタとして用いられる。
その動作は、まず、固定電極22の入力電極端子26と、接地電極の電極端子18との間に交流電圧が印加され、この印加された交流電圧の周波数が、帯域幅Wに該当する周波数であれば、検出部70の第2共振部50が上述したように静電力によって振動し、その周波数が出力電極端子36から出力される。一方、帯域幅Wに含まれない周波数の交流電圧が入力された場合には、共振が生じず、結果としてその周波数は除去される。このような動作によりマイクロレゾネータ10がフィルタとして用いられる。
その動作は、まず、固定電極22の入力電極端子26と、接地電極の電極端子18との間に交流電圧が印加され、この印加された交流電圧の周波数が、帯域幅Wに該当する周波数であれば、検出部70の第2共振部50が上述したように静電力によって振動し、その周波数が出力電極端子36から出力される。一方、帯域幅Wに含まれない周波数の交流電圧が入力された場合には、共振が生じず、結果としてその周波数は除去される。このような動作によりマイクロレゾネータ10がフィルタとして用いられる。
以上説明したように、第1実施形態のマイクロレゾネータ10によれば、駆動部60への印加電圧に関わらず、検出部70から大きな検出電圧を得ることができる。すなわち、第1共振部40の振幅を抑制しつつ、第2共振部50の振幅を大きくすることができる。これにより、検出部70から得られる静電容量検出用バイアス直流電圧を、駆動部60に印加する駆動用バイアス直流電圧に関わらず、自由に設定すること可能となる。
なお、第1実施形態では、振動子として、櫛歯型のマイクロレゾネータを例示して説明したが、図5から図7に示す平行平板型のマイクロレゾネータにおいても同様に本発明を適用することができる。なお、図5から図7において、本実施形態1のマイクロレゾネータ10と同一の構成要素については、図を省略或いは同一の符号を付し、説明を省略する。
図5は、マイクロレゾネータの第2実施形態を示す平面図である。マイクロレゾネータ110は、図5に示すように、櫛歯形の固定電極及び可動電極に替えて、平行平板形の固定電極122及び可動電極124と第1共振部140とを有する駆動部160、平行平板形の固定電極132及び可動電極134と第2共振部150とを有する検出部170を備える。
マイクロレゾネータ110では、駆動部160の固定電極122と可動電極124との隙間D1を小さくすることができる。これにより、小さな電圧でも大きな静電引力を発生できる。すなわち、得られる静電引力は、F=εS(V/D1)2/2によって与えられるので、例えば、距離が半分になると4倍の静電引力を得ることができる。なお、εは誘電率、Sは電極面積、Vは電圧を示す。
一方、検出部170の固定電極132と可動電極134との隙間D2を大きくすることができる。これにより、検出部170の第2共振部150を大きく振幅させるスペースを確保できるので、第2共振部150を大きく振幅させて、大きな出力電圧を得ることができる。なお、検出部の共振部を大きくするためには、梁54のバネ係数k2を小さくすればよい(振幅はバネ係数k2に比例)。
このように、マイクロレゾネータ110によれば、駆動部160及び検出部170毎に、その特性に合わせて、固定電極122,132と可動電極124,134との隙間D1,D2を設定することが可能となる。これにより、駆動部160への印加電圧に関わらず、検出部170から大きな検出電圧を得ることができる。
マイクロレゾネータ110では、駆動部160の固定電極122と可動電極124との隙間D1を小さくすることができる。これにより、小さな電圧でも大きな静電引力を発生できる。すなわち、得られる静電引力は、F=εS(V/D1)2/2によって与えられるので、例えば、距離が半分になると4倍の静電引力を得ることができる。なお、εは誘電率、Sは電極面積、Vは電圧を示す。
一方、検出部170の固定電極132と可動電極134との隙間D2を大きくすることができる。これにより、検出部170の第2共振部150を大きく振幅させるスペースを確保できるので、第2共振部150を大きく振幅させて、大きな出力電圧を得ることができる。なお、検出部の共振部を大きくするためには、梁54のバネ係数k2を小さくすればよい(振幅はバネ係数k2に比例)。
このように、マイクロレゾネータ110によれば、駆動部160及び検出部170毎に、その特性に合わせて、固定電極122,132と可動電極124,134との隙間D1,D2を設定することが可能となる。これにより、駆動部160への印加電圧に関わらず、検出部170から大きな検出電圧を得ることができる。
図6は、マイクロレゾネータの第3実施形態を示す平面図である。マイクロレゾネータ210は、図6に示すように、2つの駆動部160(第1共振部140)と1つの検出部170(第2共振部150)を備える。そして、検出部270の両側にそれぞれ梁54を介して駆動部160が連結され、更に2つの駆動部160が梁44を介してそれぞれ支持部46に連結される、所謂両持ち型となっている。
このように、マイクロレゾネータ210を両持ち型に形成することにより、構造的に安定したマイクロレゾネータを得ることができる。また、駆動部160及び検出部170における電極の隙間を第1実施形態と同様に調整することにより、駆動部160への印加電圧に関わらず、検出部170から大きな検出電圧を得ることができる。
このように、マイクロレゾネータ210を両持ち型に形成することにより、構造的に安定したマイクロレゾネータを得ることができる。また、駆動部160及び検出部170における電極の隙間を第1実施形態と同様に調整することにより、駆動部160への印加電圧に関わらず、検出部170から大きな検出電圧を得ることができる。
図7は、マイクロレゾネータの第4実施形態を示す断面図である。マイクロレゾネータ310は、図7に示すように、片側にのみ固定電極322,332及び可動電極324,334が配置された駆動部360、検出部370から構成される。そして、駆動部360、検出部370は、梁344,354を介して支持部46に連結される。
このように、片側にのみ電極を配置した場合であっても、駆動部360、検出部370の共振部340,350を振動させることが可能である。図7に示すように、基板15に対して、共振部340,350を垂直方向に振動させることも可能となる。また、駆動部360及び検出部370における電極の隙間を第1実施形態と同様に調整することにより、駆動部360への印加電圧に関わらず、検出部370から大きな検出電圧を得ることができる。
なお、マイクロレゾネータ310は片側に電極を配置したものであればよく、所謂片持ち型に限らず、両持ち型であってもよい。また、電極は平行平板形に限らず、櫛歯形の電極であってもよい。
このように、片側にのみ電極を配置した場合であっても、駆動部360、検出部370の共振部340,350を振動させることが可能である。図7に示すように、基板15に対して、共振部340,350を垂直方向に振動させることも可能となる。また、駆動部360及び検出部370における電極の隙間を第1実施形態と同様に調整することにより、駆動部360への印加電圧に関わらず、検出部370から大きな検出電圧を得ることができる。
なお、マイクロレゾネータ310は片側に電極を配置したものであればよく、所謂片持ち型に限らず、両持ち型であってもよい。また、電極は平行平板形に限らず、櫛歯形の電極であってもよい。
以上説明したように、第2から第4実施形態のマイクロレゾネータ110,210,310においても、第1実施形態のマイクロレゾネータ10と同様に、駆動部への印加電圧に関わらず、検出部から大きな検出電圧を得ることができる。これにより、検出部から得られる静電容量検出用バイアス直流電圧を、駆動部に印加する駆動用バイアス直流電圧に関わらず、自由に設定すること可能となる。
10,110,210,310…マイクロレゾネータ(振動子)、 15…シリコン基板(基板)、 16…絶縁膜(積層部)、 22,122,322…固定電極、 24,124,324…可動電極、 32,132,332…固定電極、 34,134,334…可動電極、 40,140,340…第1共振部、 44,344…梁(第1弾性連結部)、 46…支持部、 50,150,350…第2共振部、 54,354…梁(第2弾性連結部)、 60,160,360…駆動部、 70,170,370…検出部
Claims (7)
- 基板と、前記基板上に形成された積層部と、
前記積層部上に設けられた支持部及び複数の固定電極と、
前記固定電極と対向する可動電極を有する第1共振部及び第2共振部と、
前記支持部と前記第1共振部とを連結する第1弾性連結部と、
前記第1共振部と前記第2共振部とを連結する第2弾性連結部と、
を備えることを特徴とする振動子。 - 前記第1共振部における前記可動電極と前記固定電極との間に交流電圧を印加することによって、前記第1共振部が振動し、それに伴い前記第2共振部が振動するものであって、
前記交流電圧の周波数が、前記第1共振部と前記第2共振部とが共振する2自由度振動系の共振周波数のうち低いものとほぼ等しくなるように設定されたことを特徴とする請求項1に記載の振動子。 - 前記固定電極と前記第1共振部における前記可動電極との間に生じる静電気力によって、前記第1共振部が駆動することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の振動子。
- 前記第1弾性連結部のばね定数をk1、前記第2弾性連結部のばね定数をk2としたとき、k1とk2とが、k1>k2の関係を満足することを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の振動子。
- 前記第1共振部の質量をm1、前記第2共振部の質量をm2としたとき、m1とm2とが、m1≦m2の関係を満足することを特徴とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の振動子。
- 更に前記第1共振部と前記第1弾性連結部と前記第2弾性連結部を備え、
前記第2共振部は、前記第2弾性連結部と前記第1共振部と前記第1弾性連結部を介して両持ち支持されることを特徴とする請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載の振動子。 - 請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の振動子からなることを特徴とするマイクロレゾネータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003422802A JP2005184496A (ja) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | 振動子及びマイクロレゾネータ |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2003422802A JP2005184496A (ja) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | 振動子及びマイクロレゾネータ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005184496A true JP2005184496A (ja) | 2005-07-07 |
Family
ID=34783559
Family Applications (1)
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JP2003422802A Withdrawn JP2005184496A (ja) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | 振動子及びマイクロレゾネータ |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2005184496A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008103777A (ja) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Ritsumeikan | マイクロメカニカル共振器 |
US8823941B2 (en) | 2011-04-12 | 2014-09-02 | Seiko Epson Corporation | Detection device |
-
2003
- 2003-12-19 JP JP2003422802A patent/JP2005184496A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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