JP2005165300A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005165300A5
JP2005165300A5 JP2004327383A JP2004327383A JP2005165300A5 JP 2005165300 A5 JP2005165300 A5 JP 2005165300A5 JP 2004327383 A JP2004327383 A JP 2004327383A JP 2004327383 A JP2004327383 A JP 2004327383A JP 2005165300 A5 JP2005165300 A5 JP 2005165300A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
semiconductor layer
forming
insulating film
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004327383A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2005165300A (ja
JP4671665B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004327383A priority Critical patent/JP4671665B2/ja
Priority claimed from JP2004327383A external-priority patent/JP4671665B2/ja
Publication of JP2005165300A publication Critical patent/JP2005165300A/ja
Publication of JP2005165300A5 publication Critical patent/JP2005165300A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4671665B2 publication Critical patent/JP4671665B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2004327383A 2003-11-14 2004-11-11 表示装置の作製方法 Expired - Fee Related JP4671665B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004327383A JP4671665B2 (ja) 2003-11-14 2004-11-11 表示装置の作製方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003385999 2003-11-14
JP2004327383A JP4671665B2 (ja) 2003-11-14 2004-11-11 表示装置の作製方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005165300A JP2005165300A (ja) 2005-06-23
JP2005165300A5 true JP2005165300A5 (enExample) 2007-11-29
JP4671665B2 JP4671665B2 (ja) 2011-04-20

Family

ID=34741814

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004327383A Expired - Fee Related JP4671665B2 (ja) 2003-11-14 2004-11-11 表示装置の作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4671665B2 (enExample)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4565572B2 (ja) * 2006-09-05 2010-10-20 株式会社フューチャービジョン 液晶表示パネルの製造方法
JP4565573B2 (ja) * 2006-09-07 2010-10-20 株式会社フューチャービジョン 液晶表示パネルの製造方法
KR102195170B1 (ko) 2009-03-12 2020-12-24 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치
KR101730347B1 (ko) 2009-09-16 2017-04-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 그 제작 방법
JP5683179B2 (ja) * 2009-09-24 2015-03-11 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置の作製方法
KR102317763B1 (ko) 2009-11-06 2021-10-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법
JP5601822B2 (ja) * 2009-11-11 2014-10-08 三菱電機株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0334465A (ja) * 1989-06-30 1991-02-14 Hitachi Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法並びに液晶ディスプレイ装置
JPH04372934A (ja) * 1991-06-24 1992-12-25 Toshiba Corp 液晶表示装置用アレイ基板の製造方法
JP3571198B2 (ja) * 1997-10-30 2004-09-29 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置の作製方法
JPH11160734A (ja) * 1997-11-28 1999-06-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶電気光学装置
JP2003058077A (ja) * 2001-08-08 2003-02-28 Fuji Photo Film Co Ltd ミクロファブリケーション用基板、その製造方法および像状薄膜形成方法
JP2003318401A (ja) * 2002-04-22 2003-11-07 Seiko Epson Corp デバイスの製造方法、デバイス、表示装置、および電子機器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI515910B (zh) 薄膜電晶體基板與其製作方法、顯示器
CN111430566A (zh) Oled显示面板及显示装置
CN110350017A (zh) 显示装置和制造显示装置的方法
TW201721857A (zh) 有機發光顯示設備及其製造方法
TW201716601A (zh) 蒸鍍遮罩之製造方法、蒸鍍遮罩準備體、有機半導體元件之製造方法、有機電致發光顯示器之製造方法及蒸鍍遮罩
JP2009157354A5 (enExample)
WO2016206236A1 (zh) 低温多晶硅背板及其制造方法和发光器件
TWI485858B (zh) 主動元件陣列基板及其製造方法
JP2008129314A5 (enExample)
JP2008311633A5 (enExample)
JP2014102500A5 (enExample)
CN104952934B (zh) 薄膜晶体管及制造方法、阵列基板、显示面板
JP2010271487A5 (enExample)
CN106098701A (zh) 一种阵列基板及其制备方法和显示装置
CN102651322A (zh) 一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示器件
TWI512840B (zh) 薄膜電晶體及其製作方法及顯示器
JP2005165300A5 (enExample)
JP2006100808A5 (enExample)
JP2005013985A5 (enExample)
CN107068692B (zh) 显示装置、阵列基板及其制造方法
JP2005311325A5 (enExample)
WO2015096309A1 (zh) 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置
JP2005165309A5 (enExample)
JP2008085313A5 (enExample)
JP2009198853A5 (enExample)