JP2005151015A - 表示装置およびその駆動方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】赤外線を用いた光通信システムの場合、時系列デジタルデータでしかデータ通信を行うことができないため、データの転送時間が遅く、通信できるデータ量が少ない。
【解決手段】自発光素子である有機EL素子21を含む画素回路20において、有機EL素子21の表示期間中に、を外部へ伝送するデジタルデータに基づいて生成された変調制御信号MODに応じてTFT24をオン/オフさせ、有機EL素子21の出力光をデジタルデータに応じて変調することにより、表示素子としての有機EL素子21を、デジタルデータを送信する手段としても機能させる。
【選択図】図2

Description

本発明は、表示装置およびその駆動方法に関し、特に表示エレメントとして自発光型の素子(以下、「自発光素子」と呼ぶ)を含む画素が行列状に配置されてなるアクティブマトリクス型表示装置およびその駆動方法に関する。
自発光素子として、例えば、有機薄膜に電界をかけると当該有機薄膜が発光する現象を利用した有機EL(electroluminescence) 素子がある。この有機EL素子を画素の表示エレメントとして用いてなる有機EL表示装置は、当該有機EL素子が10V以下の低い駆動電圧で数100nitの輝度を得ることができるため低消費電力であり、また自発光型の素子であるため液晶表示装置では必須な照明装置を必要とせず、軽量化および薄型化が容易であり、さらには有機EL素子の応答速度が数μs程度と非常に高速であるため、液晶表示装置に代表されるホールド型表示装置に比べて動画表示時に残像の問題が発生しなく、表示性能に優れている等の特長を持っている。
このように、低消費電力で、軽量化および薄型化が容易であり、動画表示時の表示性能に優れている等の特長を持つ有機EL表示装置は、近年、特に低消費電力化、軽量化および薄型化が要求される携帯電話や携帯情報端末(PDA;Personal Digital Assistants)に代表される携帯端末装置の表示装置として用いて好適なフラットパネルディスプレイとして有望視されている。この有機EL表示装置の中でも、とりわけ、画素の駆動素子として、多結晶シリコンを活性層とする薄膜トランジスタ(TFT;Thin Film Transistor)を用いたアクティブマトリクス型有機EL表示装置の開発が盛んである。
一方、有機EL表示装置や液晶表示装置に代表されるフラットパネル型ディスプレイを組み込んだシステム、例えば携帯個人端末やノート型パーソナルコンピュータなどでは、携帯情報端末であるが故に、外部の装置との間でのデータ通信を無線で行えることが必要不可欠となってくる。従来、携帯個人端末やノート型パーソナルコンピュータ等でのデータ通信には、赤外線を用いた光通信システムが広く用いられている(例えば、非特許文献1参照)。
雑誌「エレクトロニクス」オーム社、1995,VOL40,No8,p.25−27
しかしながら、赤外線を用いた光通信システムでは、基本的に、時系列デジタルデータでしかデータ通信を行うことができないため、データの転送時間が遅く、しかも通信できるデータ量が少ないという課題があった。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、外部装置との間で大容量のデータ通信を高速に行うことが可能な表示装置およびその駆動方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明では、自発光素子を含む画素が行列状に配置されてなる表示装置において、前記自発光素子の表示期間中に、当該自発光素子の出力光を外部へ伝送するデジタルデータに応じて変調するようにする。
自発光素子の表示期間中に、当該自発光素子の出力光を変調することで、自発光素子は表示素子としてのみならず、デジタルデータを変調された光によって通信する手段としても機能する。そして、複数の画素の自発光素子を用いてデータの通信を並行して行うことで、二次元でのデータ通信が可能になる。
本発明によれば、自発光素子の出力光に対してデジタルデータに対応した光変調を施すことにより、二次元のデータ通信によって大容量のデータを高速に通信可能になるため、一次元でしかデータ通信が行えない赤外線を用いた光通信システムに比べて通信時間を大幅に短縮できるとともに、画像−画像データ通信による個人認証などアプリケーションの開発が容易になる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る表示装置、例えば表示エレメントとして自発光素子である有機EL素子を含む画素が行列状に配置されてなるアクティブマトリクス型有機EL表示装置の構成の概略を示すブロック図である。
図1から明らかなように、本実施形態に係るアクティブマトリクス型有機EL表示装置10は、有機EL素子を含む多数の画素11が行列状に配置されてなる画素アレイ部(表示エリア部)12を有するとともに、その周辺駆動回路として走査線駆動回路13およびデータ線駆動回路14を少なくとも有する構成となっている。画素アレイ部12には、m行n列の画素11の配列に対して行ごとに走査線15−1〜15−mが配線されるとともに、列ごとにデータ線16−1〜16−nが配線されている。
走査線15−1〜15−mは、各一端が走査線駆動回路13に接続されている。この走査線駆動回路13は、例えばシフトレジスタなどによって構成されており、走査線15−1〜15−mを所定の走査サイクルにて順に走査しつつ駆動することにより、表示駆動すべき画素11を行単位で順次選択する。データ線16−1〜16−nは、各一端がデータ線駆動回路14に接続されている。このデータ線駆動回路14は、走査線駆動回路13によって選択された行の画素11に対してデータ線16−1〜16−nを通して映像信号Sigを供給する。
上記構成のアクティブマトリクス型有機EL表示装置において、本実施形態では、画素11の各々の表示期間中に、これら画素11から発せられる出力光を、外部へ(外部の装置に)伝送するデジタルデータに応じて変調(光変調)することにより、表示素子としての画素11の各々を、デジタルデータを外部装置に対して送信する手段として兼用し、大容量のデータ通信を高速に実行可能にしたことを特徴としている。以下に、光変調が可能な画素11の具体的な回路(画素回路)の構成および動作について説明する。
(実施例1)
図2は、光変調が可能な画素11の実施例1に係る画素回路の回路構成を示す回路図である。本実施例に係る画素回路20は、自発光素子である有機EL素子21に加えて、駆動素子として薄膜トランジスタ22〜24、さらに保持容量25を有する構成となっている。因みに、薄膜トランジスタ(以下、「TFT」と記す)は、多結晶シリコンを活性層としており、駆動能力の高さから画素ごとの素子サイズを小さく形成できるため、有機EL表示装置の高精細化に有利である。
有機EL素子21は、カソードが例えばグランドに接続されている。TFT22は、映像信号サンプリング用トランジスタであり、例えばNチャネル型トランジスタからなり、ゲートが走査線15(図1の走査線15−1〜15−mに相当)に、ソースがデータ線16(図1のデータ線16−1〜16−nに相当)にそれぞれ接続されている。TFT23は、有機EL素子21の駆動用トランジスタであり、例えばPチャネル型トランジスタからなり、ゲートがTFT22のドレインに、ソースが例えば正電源VDDにそれぞれ接続されている。TFT24は、変調制御用トランジスタであり、例えばNチャネル型トランジスタからなり、ドレインがTFT23のドレインに、ゲートが変調制御信号線26に、ソースが有機EL素子21のアノードにそれぞれ接続されている。保持容量25は、TFT23のゲート−ソース間に接続されている。
上記構成の実施例1に係る画素回路20において、TFT22は、図1の走査線駆動回路13から走査線15を通して書込み走査パルスWSがゲートに与えられることで、図1のデータ線駆動回路14からデータ線16を通して供給される映像信号Sigをサンプリングする。TFT22でサンプリングされた映像信号Sigは、TFT23のゲートに与えられるとともに、保持容量25によって1フレーム期間に亘って保持される。TFT23は、ゲートに与えられる映像信号Sigの信号レベルに応じた駆動電流をTFT24を介して有機EL素子21に供給し、当該有機EL素子21を映像信号Sigの信号レベルに対応した輝度で発光させる。これにより、画表示が行われる。
この有機EL素子21の表示期間において、TFT24は変調制御信号線26を通してゲートに与えられる変調制御信号MODに応じてオン/オフ動作を行うことにより、有機EL素子21の出力光を変調する。ここで、変調制御信号MODは、本有機EL表示装置10から外部装置に伝送すべきデジタルデータに基づいて生成された信号である。したがって、有機EL素子21の表示期間において、その出力光に対して当該デジタルデータに応じた変調がかけられることになる。その結果、発光変調が可能な画素11の各々は、本来の表示素子としての機能のみならず、デジタルデータを送信する手段としての機能をも併せ持つことになる。
図3は、図2に示した画素回路の1フレーム期間における動作を示すタイミングチャートである。先ず、フレーム前半の映像信号サンプリング期間において、走査線駆動回路13による走査によって順に発生される書込み走査パルスWS−1,WS−2,……を、対応する行の走査線15−1,15−2,……を通して各行の画素回路20のTFT22のゲートに与えることにより、当該TFT22によるサンプリングによって1フレーム分の映像信号、即ちm行分の映像信号を取り込み、各画素回路20の保持容量25にホールドする。その後、映像信号サンプリング期間に続く表示期間において、外部装置に伝送するデジタルデータに応じた変調制御信号MOD−1,MOD−2,……を、データ線16−1,16−2,……を通して各画素回路20のTFT24のゲートに与え、当該TFT24によって有機EL素子21の出力光を変調する。
図3では、表示期間内における発光期間と非発光期間の比を1:1に設定した場合を例に挙げて示している。ただし、この比は一例に過ぎず、これに限られるものではなく、例えば、発光期間と非発光期間の比を9:13など、画素回路20を構成する素子の特性などに応じて任意の比に設定可能である。
発光期間と非発光期間の比については、画表示時のホワイトバランスを崩さないようにするために、いずれのフレームにおいても各画素間で等しくなるように設定する。また、発光期間と非発光期間を切り替える速度、即ち変調レートについては、有機EL素子21の応答速度、即ち立ち上がりおよび立ち下がり時間(1〜2μs程度)よりも大きな値、通常は、水平サンプリング期間に等しくなるように設定する。
図3に示すタイミングチャートの例では、先ず1フレーム分の映像信号をサンプリングして画素回路20の保持容量25にホールドし、しかる後全画素について一斉に発光駆動を行う形式を採っている。このような形式を採る場合には、通常、水平サンプリング期間は短く設定される。具体的には、画素数(解像度)によっても異なるが、水平サンプリング期間は約10μs程度に設定される。
なお、変調レートについては、有機EL素子21の応答速度(動作速度)の上限まで上げることが可能である。変調レートを有機EL素子21の応答速度の上限まで上げることで、伝送可能なデータ量を増大できる。
ここで、本実施形態に係る有機EL表示装置10によって伝送可能なデジタルデータ量について考える。m行n列の画素数(解像度)の有機EL表示装置10において、表示期間がYビット(図3では、36ビット)相当の期間、発光期間がXビット(図3では、18ビット)相当の期間だとすると、1フレーム当たりに伝送可能なデジタルデータ量Vdは、次式で表すことができる。
Vd=X・m・n [ビット/フレーム] …(1)
具体例を挙げると、VGA(Video Graphics Array)のグラフィクス表示規格に準拠した有機EL表示装置、即ち480行、640列の画素配列の有機EL表示装置において、表示期間が24ビット相当の期間、発光期間が8ビット相当の期間とすると、1フレーム当たりに伝送可能なデジタルデータ量Vdは、(1)式より、Vd≒2.46×106[ビット/フレーム]となる。1フレーム=1/60[秒]であるとすると、1秒当たりに伝送可能なデータ量は147.6M[ビット/秒]となる。
因みに、赤外線を用いた従来の光通信手段、例えばIrDA(Infrared Data Association)では最大4M[ビット/秒]である。したがって、本実施形態に係る有機EL表示装置10の画素11の全てを用いてデータ伝送を二次元で行うことにより、一次元でしかデータ伝送を行うことができない赤外線を用いた光通信手段と比較すると、桁違いに高速に大容量のデータ伝送を行うことが可能になる。
また、有機EL素子21の出力光に対して変調を行うことで懸念されるフリッカについては、フレーム周波数が60Hz以上の場合には、変調による輝度変化は人間の目には平均化した輝度として認識され、60Hz以上の時間変化には人間の目が対応できないために、視覚上問題になることはない。
なお、上記実施形態では、画素アレイ部12の画素11の全てを使って、各画素11の有機EL素子21の出力光をそれぞれ別々のデジタルデータで変調することによってデータ伝送を行う場合を例に挙げて説明したが、伝送できるデータ量は減少するものの、任意の複数の画素位置における画素11のみを部分的に使ってデータ伝送を行うようにすることも可能である。
また、図4に示すように、任意の複数の画素列、例えば3列の画素列A,B,Cの画素11のみを使うとともに、画素列A,B,Cの各一列分の画素についてはその有機EL素子21の出力光を同じデジタルデータで変調することによってデータ伝送を行うようにすることも可能である。
このように、デジタルデータを画素列単位で伝送することにより、画素単位で伝送する場合に比較してデータ伝送量は減少するものの、垂直画素数分だけ同じデジタルデータを伝送できるためS/Nを向上できる利点がある。図4の場合は、m行n列の画素数(解像度)の有機EL表示装置10において、表示期間がYビット相当の期間、発光期間がXビット相当の期間だとすると、1フレーム当たりに伝送可能なデジタルデータ量Vhは、次式で表すことができる。
Vh=X・m [ビット/フレーム] ……(2)
さらに、図5に示すように、任意の複数の画素行、例えば3行の画素行a,b,cの画素11のみを使うとともに、画素行a,b,cの各一行分の画素についてはその有機EL素子21の出力光を同じデジタルデータで変調することによってデータ伝送を行うようにすることも可能である。
このように、デジタルデータを画素行単位で伝送することにより、画素列単位で伝送する場合と同様に、画素単位で伝送する場合に比較してデータ伝送量は減少するものの、水平画素数分だけ同じデジタルデータを伝送できるためS/Nを向上できる利点がある。図5の場合は、m行n列の画素数(解像度)の有機EL表示装置10において、表示期間がYビット相当の期間、発光期間がXビット相当の期間だとすると、1フレーム当たりに伝送可能なデジタルデータ量Vvは、次式で表すことができる。
Vv=X・n [ビット/フレーム] ……(3)
また、1画素列単位、あるいは1画素行単位での変調のみならず、複数画素列単位あるいは複数画素行単位で有機EL素子21の出力光を同じデジタルデータで変調したり、あるいは画素アレイ部12の全画素について有機EL素子21の出力光を同じデジタルデータで変調したりすることも可能である。このような構成を採ることにより、データ伝送量はさらに減るものの、S/Nをより向上できる。
[応用例]
図6は、本実施形態に係るアクティブマトリクス型有機EL表示装置10を用いたデータ通信システムの構成の一例を示すブロック図である。図6に示すように、本例に係るデータ通信システムは、上記構成のデータ通信可能なアクティブマトリクス型有機EL表示装置10に加えて、バーコードリーダ等の二次元光検出装置30および携帯用個人端末40を有する構成となっている。
上記構成のデータ通信システムでは、アクティブマトリクス型有機EL表示装置10において、例えばスケジュールや画像などのデジタルデータが、有機EL素子の出力光に対する光変調によって画素アレイ部12から出力される。その際に、アクティブマトリクス型有機EL表示装置10を二次元光検出装置30の受光面側に向ける。これにより、画素アレイ部12から出射された変調光が二次元光検出装置30によって受光され、デジタルデータに復調されて携帯用個人端末40に入力される。このようにして、アクティブマトリクス型有機EL表示装置10と携帯用個人端末40との間でデジタルデータの通信が行われる。
なお、本応用例に係るデータ通信システムでは、携帯用個人端末40が別体の二次元光検出装置30を備える構成の場合を例に挙げた説明したが、携帯用個人端末40と二次元光検出装置30を一体化した構成を採ることも可能であり、この場合には、携帯用個人端末40の受光面をアクティブマトリクス型有機EL表示装置10の画素アレイ部12に近づけることにより、両者間でのデータ通信が可能になる。
また、アクティブマトリクス型有機EL表示装置10の各画素に受光機能をも持たせるようにすることも可能である。画素に受光機能を持たせるには、自発光素子である例えば有機EL素子を逆バイアス状態にすることによって当該有機EL素子を受光素子として用いることで実現できる。この場合の画素回路の具体的な構成について実施例2として以下に説明する。
(実施例2)
図4は、実施例2に係る画素回路の回路構成を示す回路図である。本実施例に係る画素回路50では、有機EL素子51に加えて、発光回路52および受光回路53を有しており、発光素子である有機EL素子51が、逆バイアス状態では受光素子として機能することに着目し、当該有機EL素子51を受光回路53の受光素子として兼用するようにしている。
発光回路52は、図2と同じ回路構成となっている。すなわち、図2のTFT22〜24および保持容量25が、発光回路52のTFT521〜524および保持容量525にそれぞれ対応している。また、発光回路52の回路動作についても、図2の画素回路20のそれと全く同じである。
受光回路53は、例えばNチャネル型の5つのTFT531〜535、保持容量536および反転増幅器537を有し、受光期間では有機EL素子51を逆バイアス状態にすることによって当該有機EL素子51を受光素子として用いる構成となっている。なお、反転増幅器537に代えて、増幅度=1のインバータを用いることも可能である。
TFT531は、発光リセット用トランジスタであり、例えばNチャネル型トランジスタからなり、ドレインが有機EL素子51のアノードに、ソースがバイアス電源Vbにそれぞれ接続され、ゲートにリセット信号RESETが与えられる。ここで、バイアス電源Vbは、受光時に有機EL素子51が逆バイアス状態になるように、即ちアノード電圧がカソード電圧よりも低くなるように設定されている。本例の場合には、カソード電位がグランドレベル(0[V])であるために、バイアス電源Vbは負電源となる。TFT532は、受光信号電流制御用トランジスタであり、ソースが有機EL素子51のアノードに接続され、ゲートに読み出し信号READが与えられる。
TFT533は、基準電圧制御用トランジスタであり、ドレインがTFT532のソースに接続され、ゲートに読み出し信号READの反転信号である非読み出し信号xREADが与えられ、ソースに基準電圧Vrefが与えられる。保持容量536は、一端がTFT532のソースとTFT533のドレインの共通接続点(ノードN11)に接続されている。反転増幅器537は、入力端が保持容量536の他端(ノードN12)に接続されている。TFT534は、ドレインが反転増幅器537の入力端に、ソースが反転増幅器537の出力端(ノードN13)にそれぞれ接続され、ゲートに非読み出し信号xREADが与えられる。TFT535は、ドレインが反転増幅器537の出力端に、ソースが受光信号線54にそれぞれ接続され、ゲートに読み出し信号READが与えられる。なお、受光信号線54は、画素アレイ部12の画素列ごとに配線されている。
この受光回路53の回路構成において、TFT532〜534、保持容量536および反転増幅器537は、比較回路構成のA/D(アナログ−デジタル)変換回路538を構成している。すなわち、受光回路53は、画素ごとにA/D変換回路538を内蔵し、有機EL素子51を受光素子として用いたときに、当該有機EL素子51で受光して得られるアナログ受光信号をデジタル受光信号に変換して受光信号線54に出力する構成となっている。
続いて、上記構成の実施例2に係る画素回路50を有するアクティブマトリクス型有機EL表示装置10の動作について説明する。図8は、画素回路50の1フレーム期間の動作を示すタイミングチャートである。1フレーム期間は、発光回路52による発光動作が行われる発光期間と、受光回路53による受光動作が行われる受光期間に分けられる。ただし、発光期間と受光期間の順番を逆にすることも可能である。なお、発光回路52の回路動作については、図2の画素回路20のそれと全く同じであるため、ここでは、その説明を省略するものとする。
発光回路52での発光動作が行われる発光期間が終了し、受光回路53での受光動作が行われる受光期間に入ると最初に、全画素に対して“H”レベル(略VDDレベル)のリセット信号RESET#1〜#mが与えられる。リセット信号RESET#1〜#mが“H”レベル状態にあるリセット期間では、全画素のTFT531がオン状態となり、有機EL素子51のアノードにバイアス電圧Vbを印加する。ここで、バイアス電圧Vbが負電圧であるため、有機EL素子51は逆バイアス状態となり、当該有機EL素子51の端子間容量には、カソード電位をVc(本例では、グランドレベル)とすると、Vb−Vc<0なる電位が充電される。
リセット期間が終了すると撮像期間に入る。この撮像期間では、有機EL素子51に入射する光量によってリーク電流が変化することで、有機EL素子51の端子間電圧が変化する。リーク電流は、ほぼ入射光エネルギーに対して線形に増加する。したがって、撮像期間終了時の各画素の有機EL素子51のアノード電圧は、光強度に応じた電位となる。すなわち、高エネルギー光が入射された画素では、アノード電圧はカソード電位Vcに近づき、逆に、低エネルギー光が入射された画素では、リセット時のアノード電圧に近い電位となる。
撮像期間が終了するとデータ読み出し期間に入る。このデータ読み出し期間の受光回路53の動作について、図9のタイミングチャートを用いて詳細に説明する。なお、図9において、図7と対応させると、AはノードN11の電位を、BはノードN12の電位を、CはノードN13の電位をそれぞれ示している。
データ読み出し期間において、読み出し信号READが“L”レベル(略グランドレベル)のときは、TFT532,535がオフ状態にある。このとき、非読み出し信号xREADが“H”レベルの状態にあるため、TFT533,534はオン状態にある。TFT533がオン状態にあることで、当該TFT533を通して基準電圧VrefがノードN11に与えられ、当該ノードN11の電位Aが基準電圧Vrefになる。
そして、反転増幅器537の入出力端間がTFT534によって短絡されているため、ノードN12の電位BとノードN13の電位Cが等しくなり、この電位は反転増幅器537の動作点電圧Vinvとなる。このとき、保持容量536の端子間電圧Vc2がVc2=Vinv−Vrefとなり、保持容量536はこの電位差を保持する。
次に、読み出し信号READが“H”レベルに、非読み出し信号xREADが“L”レベルになると、TFT532,535がオン状態に、TFT533,534がオフ状態になる。すると、ノードN11の電位Aは入力電位Vinに等しくなる。このとき、ノードN12の電位Bは、保持容量536によってその端子間電圧が保持されているため、Vinv+(Vin−Vref)なる電位となる。この例では、ノードN12の電位Bが反転増幅器537の動作点電圧Vinvよりも大きくなるため、ノードN13の電位C、即ち反転増幅器537の出力電位は“L”レベルとなり、TFT535を介して出力電圧Voutとして受光信号線54に出力される。
このように、TFT532〜534、保持容量536および反転増幅器537からなる比較回路構成のA/D変換回路538では、入力電位Vinと基準電圧Vrefの大小関係により、反転増幅器537の出力電位は“L”レベルか“H”レベルのどちらかに落ち着くので、基準電圧Vrefに対する入力電位Vinの比較動作が可能となる。本実施例に係る受光回路53では、このA/D変換回路538により、受光時の有機EL素子51の端子電位を1ビットのデジタルデータに変換し、画素11の受光信号として受光信号線54を経由して外部へ出力する。
以上が、1回の受光動作時における受光回路53の基本的な動作である。この基本的な動作を繰り返すことによって階調データをすることができる。すなわち、受光動作を複数回行って各受光動作に対応した異なるタイミングで受光信号をTFT532によって取り込む一方、当該取り込みのタイミングごとに基準電圧Vrefの電圧値を変化させ、比較動作を行うことによって多ビットのデジタルデータに変換することにより、画素11の情報として受光量に応じたデータ、即ち階調データを得ることができる。
上述したように、アクティブマトリクス型有機EL表示装置10の各画素に受光機能をも持たせる一方、図6に示す携帯用個人端末40にも実施例1に係る光変調機能、さらには実施例2に係る受光機能を有する有機EL表示装置を搭載することにより、双方向による画像−画像通信が可能になり、顔画像あるいは指紋などを用いた個人認証機能を用いたアプリケーションの開発が可能になる。
なお、実施例2に係る画素回路50では、A/D変換回路538として、入力電圧Vinを基準電圧Vrefと比較する比較回路構成のものを用いた場合を例に挙げて説明したが、これに限られるものではなく、画素アレイ部12の画素ごとに配置可能な回路構成のものであれば、どのような回路方式のものであっても良い。また、A/D変換回路を画素ごとに内蔵せずに、画素アレイ部12の画素列ごとに配置して受光信号をデジタル信号に変換する構成を採ることも可能である。ただし、受光信号をデジタル化して出力することは必須ではなく、アナログ信号のまま出力することも可能である。
また、実施例2に係る画素回路50では、受光回路53が有機EL素子51を受光素子として兼用する場合を例に挙げて説明したが、受光回路53が専用の受光素子を持つ構成を採ることも可能である。この際、受光素子としては、非晶質シリコンあるいは多結晶シリコンTFTのドレインとゲートを接続した所謂ダイオード接続構成のフォトダイオードや、PIN(positive intrinsic negative)ダイオードなどを用いることができる。
本発明の一実施形態に係るアクティブマトリクス型有機EL表示装置の構成の概略を示すブロック図である。 実施例1に係る画素回路の回路構成を示す回路図である。 実施例1に係る画素回路の1フレーム期間における動作を示すタイミングチャートである。 本発明の変形例を示す概略構成図である。 本発明の他の変形例を示す概略構成図である。 本発明の応用例に係るデータ通信システムの構成の一例を示すブロック図である。 実施例2に係る画素回路の回路構成を示す回路図である。 実施例2に係る画素回路の1フレーム期間の動作を示すタイミングチャートである。 データ読み出し期間の受光回路の動作説明に供するタイミングチャートである。
符号の説明
10…アクティブマトリクス型有機EL表示装置、11…画素、12…画素アレイ部、13…走査線駆動回路、14…データ線駆動回路、15(15−1〜15−m)…走査線、16(16−1〜16−n)…データ線、20,50…画素回路、21,51…有機EL素子、22〜24…TFT(薄膜トランジスタ)、25…保持容量、30…二次元光検出装置、40…携帯用個人端末

Claims (12)

  1. 自発光素子を含む画素が行列状に配置されてなる画素アレイ部と、
    前記自発光素子の表示期間中に、当該自発光素子の出力光を外部へ伝送するデジタルデータに応じて変調する変調手段と
    を備えたことを特徴とする表示装置。
  2. 前記変調手段は、前記自発光素子の出力光を変調した際の当該自発光素子の発光期間と非発光期間の比を前記画素アレイ部の各画素間で等しくなるように設定する
    ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  3. 前記変調手段は、前記自発光素子の出力光の変調を前記画素アレイ部の画素単位で行う
    ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  4. 前記変調手段は、前記自発光素子の出力光の変調を前記画素アレイ部の行単位で行う
    ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  5. 前記変調手段は、前記自発光素子の出力光の変調を前記画素アレイ部の列単位で行う
    ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  6. 前記画素は、受光機能を持つ
    ことを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  7. 前記自発光素子が有機EL素子であり、
    前記画素は、前記有機EL素子を逆バイアス状態にすることによって当該有機EL素子を受光素子として用いる
    ことを特徴とする請求項6記載の表示装置。
  8. 自発光素子を含む画素が行列状に配置されてなる表示装置の駆動方法であって、
    前記自発光素子の表示期間中に、当該自発光素子の出力光を外部へ伝送するデジタルデータに応じて変調する
    ことを特徴とする表示装置の駆動方法。
  9. 前記自発光素子の出力光を変調した際の当該自発光素子の発光期間と非発光期間の比を前記画素アレイ部の各画素間で等しくなるように設定する
    ことを特徴とする請求項8記載の表示装置の駆動方法。
  10. 前記自発光素子の出力光の変調を前記行列状の画素配列の画素単位で行う
    ことを特徴とする請求項8記載の表示装置の駆動方法。
  11. 前記自発光素子の出力光の変調を前記行列状の画素配列の行単位で行う
    ことを特徴とする請求項8記載の表示装置の駆動方法。
  12. 前記自発光素子の出力光の変調を前記行列状の画素配列の列単位で行う
    ことを特徴とする請求項8記載の表示装置の駆動方法。
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