JP2005150619A - 微細配線部品の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 渦巻状平面コイル素子のスルーホール91を高精度で大量生産すること。
【解決手段】 同一の金型部材用金型115を用いて成形された第1および第2成形体61,65を、レーザ光62の照射によって加工し、基部43の一表面44から立上ったピン45を有する第1金型部材22と、渦巻状電気配線に対応した凸部52,63が形成された一表面51を有し、ピン45が挿通する取付孔56が形成された第2金型部材23とを組合せて金型21を構成し、トランスファ成形によって部品本体31を得る。この部品本体31に、金属メッキを施して、前記凸部52,63によって形成された部品本体31の凹部36,37、およびピン45によって形成された透孔35に、メッキ金属Cuを埋込んで充填して配線導体38〜41を設ける。スルーホールのための透孔35は、第1金型部材22の基部43に立設されたピン45によって形成されるので、このピン45の軸線89と第2金型部材23の前記一表面51との成す角度θ2を、90°に正確に設定することが容易である。
【選択図】 図1

Description

本発明は、たとえば平面コイル素子およびその他の電子部品などの微細配線部品を製造するための方法に関する。
先行技術の線幅30μm程度の微細配線を有する電子部品の製造にあたっては、電気絶縁性配線基板の一表面上に電気回路、部品デザインを描いた後、その基板に、厚み方向に貫通する透孔を形成し、その透孔に、銅メッキを施して、銅を充填してスルーホールを形成し、基板の他表面に電気的接続のためのバンプなどの接点を形成する。他の先行技術では、電気的機能が異なる複数枚の基板を、上下に重ねて電気的に接続し、積層基板または積層部品と呼ばれる構成を実現する。さらに他の先行技術では、単一枚の基板の他表面に、前記一表面とは異なる配線パターンを描いて、スルーホールによって前記一表面の配線パターンと前記他表面の配線パターンとを電気的につないで希望する機能を達成する。スルーホールのためのたとえば直径50μm以下の透孔を形成するには、レーザ光を用いる。従来のレーザ光としては直径20μmまでは、UV−YAGレーザが用いられ、直径10μmくらいでエキシマレーザが用いられる。
これらの先行技術では、レーザ光はその照射方向の下流になるにつれて外径が小さくなるという焦点角度の特性に起因して、スルーホールのための中空直円柱状の透孔を形成することは困難であり、したがって基板の厚みをできるだけ薄くすることが望まれる。たとえば基板の厚み100μmにスルーホールのための透孔を形成するにあたり、先行技術では、入側の内径20μmφであっても、出側では内径14μmφとなり、入側から出側になるにつれて透孔の内径が小さくなってしまう。基板が厚くなるほど、レーザ光の出側における透孔の内径が小さくなり、さらに基板が厚くなると、厚み方向に貫通する透孔を形成することさえ、困難になる。先行技術では、実務上、内径20μmφであって、透孔の内径に対する透孔の軸線方向の長さのアスペクト比を1以上にすることは困難である。またこのような微細なスルーホールのための透孔を多数個形成するためのレーザ加工設備は多額の投資を必要とし、コストアップは避けられない。
この問題を解決するために本件発明者は図16に示される金型1を、先に提案した。金型1は基本的に、細長い棒状のピン2と、基材とを有し、トランスファ成形によって合成樹脂成形材料を用いてピン2に対応したスルーホールのためのアスペクト比が大きい透孔を有する部品本体を製造し、電気メッキによってその部品本体に配線導体を形成して渦巻状平面コイル素子を製造する。
図17は、図16に示される先行技術の金型1を構成するピン2の斜視図である。ピン2の成形のための棒状部4の長さL1は、たとえば110μmであり、この棒状部4の軸直角断面は正方形などの矩形であり、各辺の長さL2は、たとえば10μmである。棒状部4には、それよりも大きい形状を有する取付けのための基部5が連なる。ピン2は、NiまたはWなどの金属材料を、レーザ光の照射によって加工し、製造される。
図18は、図16に示される先行技術の金型1を構成する基材3を示す断面図である。この基材3は、フォトリソグラフィ法によってフォトレジスト層をコイル素子の配線パターンに対応した部分で選択的に除去し、次に電気メッキを施して、たとえば金属メッキ層から成るスタンパを得、このスタンパの一表面6には、コイル素子の電気配線のパターンに対応した凸部7が得られる。このスタンパの他表面8にはレーザ光9を照射して段階的に前記一表面6に近づくにつれて断面形状が小さくなる凹所11を厚み方向に連ね、これ
によって前記一表面6には、取付孔12が臨み、取付孔12には、厚み方向内方(図18の下方)に取付孔12よりも大きい拡大孔13が連なる。
取付孔12の軸直角断面は、ピン2に対応し、たとえば円形であって、その直径は、10μm、またはそれ以上の値である。取付孔12に連なる拡大孔13は、軸直角断面が正方形であって、各辺は30μmであり、そのほかの3つの凹所も軸線に直角な断面が正方形であり、図18に示されているように、各辺が60μm、120μm、200μmである。こうして図18に示される基材3が製造される。
図19は、図16に示される金型1の組立順序を示す断面図である。図19(1)に示されるようにピン2を基材3の他表面7側から挿入し、ピン4を取付孔12に貫通し、これによってピン2の基部5は拡大孔13内に配置される。
次に図19(2)に示されるように基材3の上下の表面6,7にたとえばレジスト樹脂14,15を形成し、凹所11を選択的に露出した状態とし、表面6,7を金属メッキ層に対して保護する。
その後、図19(3)に示されるように電解メッキによって基材3の凹所11にメッキ金属16を充填して埋め込む。このメッキ金属は、Niである。メッキ金属16によってピン2の基部5が基材3に固定される。最後に不要なメッキ金属を除去し、レジスト樹脂14,15を溶解除去し、金型1が完成する。
図16〜図19に示される先行技術では、ピン2を用いてスルーホールのための透孔を成形するので、高アスペクト比のスルーホールを実現することができる。この反面、図16〜図19に示される先行技術の新たな問題は、ピン2の棒状部4の軸線と基材3の平面状の一表面6との成す角度θ1を正確に90°に設定することが困難である。角度θ1を金属メッキ作業前に90°に設定し、この角度θ1を90°に保持したままで金属メッキを施さなければならない。したがって図16〜図19に示される先行技術では、ピン2の軸線と基材3の一表面6とを、垂直に設定することが困難であり、低精度である。
本発明の目的は、高アスペクト比であって、しかも正確な寸法形状を有するスルーホールを有する微細配線部品の製造方法、そのスルーホールのための透孔を形成する成形用金型、金型の製造方法、さらに微細配線部品、電子機器を提供することである。
本発明は、(a)第1および第2金型部材を含む金型を準備し、
第1金型部材は、基部と、この基部の一表面から立上って設けられるピンとを有し、
第2金型部材は、
板状であり、
一表面には、電気配線に対応した凸部が形成され、
他表面が、第1金型部材の前記一表面に重ねて配置され、
ピンが挿通する取付孔が形成され、
取付孔を挿通する前記ピンは、第2金型部材の前記一表面から突出し、
(b)この金型を用いて電気絶縁性成形材料によって部品本体を成形して、部品本体に、前記凸部によって凹部を形成し、前記ピンによって厚み方向に貫通した透孔または溝を形成し、
(c)部品本体に金属メッキを施して、前記凹部および透孔または溝に、メッキ金属から成る配線導体を設けることを特徴とする微細配線部品の製造方法である。
また本発明は、第1および第2金型部材は、
同一の金型部材用金型を用いて成形材料によって成形された第1および第2成形体を、
レーザ光の照射によって加工して製造されることを特徴とする。
また本発明は、(a)板状基部と、この基部の一表面から立上って設けられるピンとを有する第1金型部材と、
(b)板状であり、
一表面には、電気配線に対応した凸部が形成され、
他表面が、第1金型部材の前記一表面に重ねて配置され、
ピンが挿通する取付孔が形成される第2金型部材とを含み、
(c)取付孔を挿通する前記ピンは、第2金型部材の前記一表面から突出することを特徴とする微細配線部品の成形用金型である。
また本発明は、第1および第2金型部材の厚みd1,d2は、30〜300μmであり、
ピンの径または一辺が5〜30μm、ピンの径に対する長さのアスペクト比5〜10であることを特徴とする。
また本発明は、同一の金型部材用金型を用いて成形材料によって第1および第2成形体を成形し、
第1および第2成形体に、レーザ光を照射して加工し、第1および第2金型部材を製造し、
第1金型部材は、板状基部と、この基部の一表面から立上って設けられるピンとを有し、
第2金型部材は、
板状であり、
一表面には、電気配線に対応した凸部が形成され、
他表面が、第1金型部材の前記一表面に重ねて配置され、
ピンが挿通する取付孔が形成され、
取付孔を挿通する前記ピンは、第2金型部材の前記一表面から突出することを特徴とする金型の製造方法である。
また本発明は、第2金型部材の取付孔が形成される部分の厚みd5は、20〜50μmであることを特徴とする。
本発明に従えば、たとえば渦巻状導体配線を有する平面コイル素子などの電子部品を含む微細配線部品を製造するために用いられる金型は、第1および第2金型部材を含む。第1金型部材の基部の一表面に立設されたピンは、板状第2金型部材の他表面から、その第2金型部材の取付孔に挿通して第2金型部材の一表面から突出する。こうして構成された金型を用いて電気絶縁性成形材料、たとえば合成樹脂などによって部品本体をトランスファ成形、射出成形などによって成形して得、この部品本体に電気メッキを施して、透孔内にメッキ金属、たとえば銅Cuなどから成る配線導体を充填して埋込む。
第1金型部材の前記ピンは、透孔を形成する代わりに、部品本体の外側壁または凹所などの内側壁などに臨む細長い溝を形成するために用いることもできる。
第2金型部材の前記一表面には、スルーホールに電気的に接続される電気配線のパターンに対応した凸部が形成される。この凸部によって成形される部品本体の凹部にもまた、電気メッキによるメッキ金属、たとえば銅から成る配線導体が充填される。こうして本発
明では、MEMS(Micro Electro Mechanical System)ストラクチャなどの微細配線部
品を実現することができる。
ピンの径5〜30μm、たとえば径20μmであって、径に対する長さのアスペクト比3〜8、たとえばアスペクト比5を得ることができる。ピンの断面は、円形であってもよいが、たとえば後述の実施の形態のようにピンの一辺が5〜30μmである正方形などの矩形であってもよく、さらに六角形、およびそのほかの多角形などの形状であってもよい。前記径と言うのは、ピンの軸線89に垂直な平面内における外形の最大長さであってもよく、あるいはまた軸直角断面が正方形のピンの各辺の長さを言う。第1金型部材の基部は板状であってもよいが、そのほかの形状を有してもよく、板状である場合、厚みd1,d2は、30〜300μmであってもよく、たとえば150〜155μmであってもよく、このことは第2金型部材に関しても同様である。
第1金型部材のピンの切り出しのために、および第2金型部材の取付孔56の形成のために、パルス状の高エネルギを有するいわゆるFS(Femto Second)レーザ光が、好ましく用いられる。FSレーザ光は、フェムト秒(10−15sec)のオーダだけ持続するパルス状のレーザ光である。これによってばりが生じることなしに、細長いピンを、正確に切り出すことができる。
第1および第2金型部材が組合されて構成される金型におけるピンの軸線89(図12(2)参照)と第2金型部材の一表面51との成す角度θ2(後述の図2参照)を正確に90°に設定するために、第1金型部材のピンの軸線89と、そのピンが立設される基部の一表面44との成す角度θ3(図12(2)参照)を90°に設定し、第2金型部材の一表面51と他表面53とを平行に形成することによって達成される。ピンの外面が第2金型部材の取付孔の内面にほぼぴったりと嵌まり込んで挿通する構成では、取付孔の軸線88(図14(3)参照)と第2金型部材の一表面51との成す角度θ4(図14(3)参照)が90°となるように取付孔が形成される。ピンの外面と取付孔の内面とに隙間が存在する構成では、取付孔の軸線88と第2金型部材の一表面51とは、垂直でなくてもよく、ピンの軸線89と第2金型部材の一表面51とを垂直に設定することができる。
透孔35に金属メッキによって導電材料を堆積、充填してスルーホール91を形成する際、スルーホール用めっき液を用いれば透孔内で導電材料が堆積しやすく、透孔の長尺方向両端部に連なる表面では、導電材料のメッキ層の堆積厚さが、薄いという特性がある。またこのメッキ層は、微細な溝内では、厚く堆積して形成され、その溝に連なる外表面上では、メッキ層が薄いという特性がある。本発明では、これらの透孔および溝以外の表面では、金属メッキの際に生じるメッキ層が薄いという特性を利用し、エッチングによって、このような不要な金属メッキ層を、容易に除去することができ、微細配線部品の製造を容易にすることができる。
本発明に従えば、部品本体31の電気配線となるスルーホールのための透孔、溝、バンプなどを、1回の成形で、行うことができ、製造が容易であり、大量生産が容易に可能になる。
本発明に従えば、第1および第2金型部材をたとえばレーザ光の照射によって加工するべき第1および第2成形体は、同一の金型部材用金型を用いて、トランスファ成形または射出成形などの手法で、合成樹脂などの成形材料によって成形される。こうして第1および第2成形体は、同一の寸法形状を有し、かつ同一材料から成る第1および第2成形体を、前述のようにレーザ光の照射によって加工して前述のピンおよび取付孔を形成して第1および第2金型部材を製造するので、第1および第2成形体に形成されている第2金型部材の前記一表面の電気配線に対応した凸部52,63などを基準として、ピンおよび取付
孔が形成されるべき位置を高精度に設定することができる。これによって第1および第2金型部材のレーザ光などによるピンおよび取付孔の加工精度を高くすることができる。
第2金型部材の取付孔が形成される部分の厚みd5(図13(5)参照)を、20〜50μm、好ましくは20〜25μmとし、これによってたとえば前述のFSレーザ光などのレーザ光を用い、取付孔の軸直角断面の形状を、その取付孔の軸線88に沿って一様にし、取付孔の内面を第2金型部材の一表面および他表面にたとえば垂直に形成することができる。こうしてレーザ光の光軸に垂直な断面が照射方向下流になるにつれて先細状である焦点角度Aを有していても、厚みd5が前述のように薄いので、誤差を抑制することができる。
また本発明は、電気絶縁性成形材料から成り、厚み方向に貫通した透孔を有する部品本体と、
透孔内に充填され、径5〜30μm、径に対する長さのアスペクト比5〜10であるスルーホールを形成する配線導体とを含むことを特徴とする微細配線部品である。
また本発明は、部品本体の一表面には、透孔の一端部に連なる渦巻状凹部が形成され、この凹部には、前記スルーホールを形成する配線導体に連なる配線導体が形成されることを特徴とする。
また本発明は、前述の微細配線部品を搭載したことを特徴とする電子機器である。
本発明に従えば、たとえば平面状コイル素子、電気ヒータおよびそのほかの電子部品などの微細配線部品を高精度に大量生産することが容易に可能になる。このような微細配線部品を含む電子機器、たとえば携帯電話装置、半導体装置、センサなどを実現することができる。
本発明によれば、微細電子部品などの高密度微細配線回路の市場において、今まで望むべくも無かった高アスペクト比のスルーホールが、径20μm以下または20μm角以下で、アスペクト比5以上のピンを持つ金型を用いて、成形によってスルーホールを容易に形成可能である。成形することで、スルーホールが透孔という精密転写形状で保証され、金型のピンが破損しない限り、高アスペクト比のスルーホールを持つ高密度微細回路や微細電子部品が大量に成形の手法で生産することができる。
また、本発明は、同じパターンデザインを持つ金型またはスタンパを2枚用意し、1枚はピンと呼ばれる突起状に加工して第1金型部材を得、もう1枚のスタンパは突起を通すための透孔のみの加工を施して第2金型部材を得、これを重ね合わせて、1枚のピン付きスタンパと称することができる金型とするので、前述の図16〜図19のような、微細高アスペクト比のスルーホール用ピンをスタンパに取り付ける際の、ピン単体を加工してスタンパに埋め込み、埋め込み部にニッケルなどのメッキを施して埋めるような工程が必要なく、工程が容易となる。金型、金型部材を、スタンパと称することがある。
また、加工するスタンパの厚みをコントロールすれば、金型のスタンパ取り付けキャビティ内のクリアランスを損なうことなく、設置できるので、新規に取り付け金型を製作する必要がない。
また、本発明にはFSレーザを用いて加工している。このFSレーザは、熱履歴が発生しないので、ばりや形状変形がなく、微細な金属加工を容易にしてくれるので、コストが高いいわゆるLIGA(Lithographie Galvanoformung Abformung)技術のようにシンク
ロトロンを用いて高アスペクト比のピンを作らなくてもよく、非常に低コストで微細加工
用金型が製作できる。
また、本発明は、掘削したスタンパのピンを通す部分に、FSレーザまたはUV−YAGレーザにて径50μm以下の透孔だけあけるが、このとき、透孔をあける部分の肉厚を50μm以下、アスペクト比で1以下とすることで、レーザ光の照射角の影響を小さくし、孔の側壁を垂直にすることを可能とする。
こうすることで、透孔をあけたスタンパである第2金型部材に上記加工掘削したピンスタンパ、すなわち第1金型部材を下から挿入しても、レーザ光の入射角を気にせず、2枚1つでピンの付いたスタンパ(金型)が完成し、下から挿入した垂直なピン付きのスタンパが容易に製作できる。
本発明は、このような多数のスルーホール形成用のピンが必要な場合は、使用している第2金型部材にあたるスタンパの一表面に、回路や部品などのデザインが施され、その同一のデザインが何個も複製で取得することが得意という第1および第2成形体であるスタンパを用いている。スルーホールが必要な個所は、スタンパ上で予め定められているので、複製を取ったスタンパの中の1枚をFSレーザを用いてピンとなる加工を施して第1金型部材を得、スタンパの中の第2金型部材をピンが通る透孔を貫通してあけて第2金型部材を得、第1および第2金型部材を重ねれば、図16〜図19のように1つ1つピンを建てる必要がなく、ピンを立設した後の孔埋めメッキは必要ないので、多数のピンが必要でも工程が煩雑にならない。
また、ピン付きと称する薄膜金型もしくはスタンパである第1金型部材だけをスルーホールが必要な個所のピンを一括加工して、各々のピン単体を検査しておけば、後は同じパターンを持った透孔あり薄膜金型もしくはスタンパである第2金型部材に、第1金型部材を重ねればよいだけなので、完成したピンを持つ金型は、スルーホール用ピンの位置が同じ位置であり、ピンの軸線89の不所望な傾きを気にしなくてよくなる。よって、ピン付きと称する薄膜金型もしくはスタンパである第1金型部材だけを管理して、交換するだけで、容易に大量の高アスペクト比のスルーホールを持つ高密度微細回路や微細電子部品が大量に成形の手法で生産することができる。
図1は、本発明の実施の一形態の金型21の斜視図であり、図2は、図1に示される金型21の切断面線II−IIから見た断面図である。図3は、金型21の図1における仮想線25で示される一部分の拡大平面図である。金型21は基本的に、第1金型部材22と第2金型部材23とを含む。
図4は、図1〜図3に示される金型21を含む金型装置26の拡大断面図である。金型21と、もう1つの金型27とともに、トランスファ成形のための金型キャビティ28を形成する。この金型キャビティ28に、電気絶縁性成形材料、たとえば熱可塑性または熱硬化性合成樹脂が供給され、トランスファ成形作業が行われる。金型キャビティ28に充填される成形材料は、たとえば三井化学製商品名エポックスRであり、150℃、成形時間4分で成形処理することができる。
図5は、金型装置26によって成形された部品本体31を用いて製造された渦巻状平面コイル素子32の拡大断面図である。部品本体31には、一表面33と他表面34とにわたって厚み方向(図5の上下方向)に貫通した透孔35が形成される。一表面33にはまた、透孔35を中心とする渦巻状凹部36が形成される。さらに一表面33に臨んで透孔35に連なる凹部37が形成される。透孔35、凹部36,37にはメッキ金属、たとえば銅から成る配線導体38〜41が埋め込まれて充填され、さらに部品本体31の他表面
34にも同様に配線導体41が形成される。透孔35に配線用導体38が充填されて、スルーホール91が構成される。これらの配線導体38〜41は、連なって電気的に接続され、こうしてインダクタンスを有する平面コイル素子32が製造される。
再び図1〜図4を参照して、第1金型部材22は、平板状の基部43と、この基部43の一表面44から図1、図2および図4の上方に立上って設けられるピン45とを有する。ピン45は基部43の一表面44から図4の上方になるにつれて軸直角断面が矩形(たとえばこの実施の形態では正方形)である第1段部46、第2段部47および棒状部48がこの順序で図4の上方になるにつれて細くなるように順次的に形成される。基部43は、板状以外の形状であってもよく、他表面49は、一表面44と平行であってもよいが、平行でなくてもよい。
第2金型部材23は全体の形状が板状であり、その一表面51には、電気配線のパターンに対応した前述の凹部36,37を形成する凸部52,63が形成される。第2金型部材23の他表面53には、第1金型部材22の一表面44が当接されて重ねて配置される。第2金型部材23の各表面51,53は平行である。
第2金型部材23には、その他表面53に臨む拡大孔55と、この拡大孔55に連なり一表面51に臨む取付孔56とが同軸に連なって形成される。これらの拡大孔55と取付孔56とは、ピン45の第1および第2段部46,47に対応した寸法形状を有し、これらの第1および第2段部46,47の外面が、拡大孔55および取付孔56の内面に対応して嵌合する。ピン45の第2段部47の一部分と、それに連なる棒状部48とは、図5の凹部37および透孔35に対応して第2金型部材23の一表面51から図4の上方に突出する。
図1には、第1金型部材22に複数、たとえば4つのピン45が形成されている金型21が示される。第1および第2金型部材22,23の位置決めのために、第1金型部材22の一表面44に連なる側壁の一部である第1位置決め部58が形成され、第2金型部材23の周縁部には、第1位置決め部58が嵌合する第2位置決め部59が形成される。これらの第1および第2位置決め部58,59は、ピン45と取付孔56とによる位置決めが達成されるので、省略されてもよい。
図6は、第1金型部材22の製造方法を簡略化して示す斜視図である。第1金型部材22のために、第1成形体61が準備される。第1成形体61の一表面には、凸部52が形成され、また前述の取付孔56および配線導体40に対応した位置には、凸部63が形成される。図6(1)に示される第1成形体61には、図6(2)に示されるレーザ光62が照射されて、一表面44およびピン45が形成される。ピン45は凸部52とその付近のレーザ光62の照射によって加工して得られるレーザ光62は、たとえばFSレーザ光であって、その照射によって第1成形体61は蒸散されて除去される。こうして図6(3)に示される第1金型部材22が製造される。図6に示される第1金型部材22のさらに詳細な製造方法は、図8〜図12を参照して後述される。
図7は、第2金型部材23の製造方法を簡略化して示す斜視図である。図7(1)に示される第2成形体65が準備される。この第2成形体65は、前述の第1成形体61と同一構成を有し、トランスファ成形または射出成形によって得られる。第1および第2成形体61,65の厚みd3は、たとえば280〜285μmであってもよい。第1および第2成形体61,65は、部品本体31と同様な前述の成形材料から成ってもよい。図7(1)に示される第2成形体65に、FSレーザ光62が照射されて加工される。これによって図7(1)に示されるように凸部63の位置に、取付孔56および拡大孔55が形成され、第2金型部材23が製造される。第2金型部材23のさらに詳細な製造方法は、図
13および図14を参照して後述される。
FSレーザ光62は、パワー0.2Wであり、用いられる焦点レンズの焦点距離f=60mmであり、そのレンズのアパチャーは、5mmφである。レーザ光62の光軸73は、Z軸方向に延びる。本発明の実施の他の形態では、FSレーザ光に代えて、UV−YAGレーザ光を用いてもよく、そのほかのレーザ光を用いてもよい。
図8〜図12を参照して前述の図6に示される第1金型部材22の製造方法をさらに詳しく述べる。図8〜図14では、図面の簡略化のために、凸部52,63は、図6および図7の構成とは異なって示されることがある。図8は、第1成形体61にレーザ光62を照射して加工する第1金型部材22の製造方法の一部を示す断面図である。図8(1)に示されるように第1成形体61を、前述の図6(1)と同様に先ず、準備し、レーザ光62を照射する。レーザ光62は、前述のようにFSレーザ光であり、そのパルス数を計数することによって、第1成形体61のレーザ光照射による掘削量を設定することができる。この第1成形体61は、移動装置69の定盤ステージ71に固定し、直交座標系における水平面内のX軸およびY軸に変位するとともに、水平軸線、たとえばX軸まわりに角変位することができ、鉛直なZ軸まわりに角変位することができる。
第1成形体61にレーザ光62を照射することによって、図8(2)に示されるように光軸73に対して円錐状のくぼみ74が形成され、その光軸73に対するくぼみ74の焦点角度Aは、たとえば41°である。第1成形体61に加工が施されたとき、参照符61にアルファベットの添え字a〜oを付して示す。図8(2)に示されるように第1成形体61にレーザ光62を照射することによって、その焦点角度Aを調べることができ、これによってレーザ光62による第1成形体61の切削加工を点検することができる。そこで次に、図8(3)に示されるようにステージ71、したがって第1成形体61aを、前記角度Aだけ傾斜させ、くぼみ74の加工された一部の内面に、再度レーザ光62を照射する。こうして図8(4)に示されるようにピン45の棒状部48の外面を形成する相互に垂直な加工面75,76を形成する。
図9は、図8の第1成形体61cをさらにレーザ光62によって加工する製造方法の一部を示す断面図である。図9(1)に示されるようにレーザ光62をもう1つのくぼみ74の内面の一部に、ステージ71を、前述の図8(4)とは逆方向に、同一の前記角度Aだけ角変位して、加工する。これによって図9(2)に示されるように、棒状部48に対応する相互に垂直な面77,78を形成して第1成形体61eを得る。さらにステージ71を鉛直なZ軸まわりに90°角変位して図8(3)〜図9(2)に示されるレーザ光62による加工を繰返し、こうして図9(3)に示される棒状部48を得る。この棒状部48が形成された第1成形体61fに、レーザ光62を照射し、棒状部48の軸線に垂直な面76,78が延びて広がるように、加工する。こうして図9(4)に示されるように棒状部48が第1成形体61gに形成される。このような加工は、第1成形体61に形成された4つの各凸部63に関連して行われる。棒状部48は、その軸線に垂直な断面が前述のように正方形であり、各辺の長さ20μm、アスペクト比6であり、高さL3=120μmである。
図10は、第1金型部材22の図9に後続する製造方法の一部を示す断面図である。図10(1)は、前述の図9(4)の第1成形体61gを示し、この図10(1)では、複数の棒状部48が示される。第1成形体61g,61hの厚みd4は、たとえば310〜315μmであり、d3=L3+d4である。バンプの配線導体40を形成するために、図10(1)に示されるように第1成形体61hにはレーザ光62がさらに照射される。第1成形体61hは、ステージ71によって前記角度Aだけ傾斜される。
こうして図10(2)に示されるように棒状部48の基端部に連なる第2段部47の外面81,82を、棒状部48の軸線に平行に、レーザ光62の照射によって形成する。レーザ光62が照射されて加工される棒状部48の基端部付近に隣接する他の棒状部48に、レーザ光62が不所望に照射されないように、ステージ71がXY平面内で変位される。第2段部47の加工のために、レーザ光62のパワーは、棒状部48の加工時と同一値とし、ステージ71の送り速度を、棒状部48の加工値の送り速度の1/3またはそれ以下に加工する。こうして各棒状部48に連なる第2段部47を図10(3)に示されるようにそれぞれ形成し、図10(4)に示される第1成形体61kを得る。図10(4)に示される第2段部47は、棒状部48と同軸であって、その軸線に垂直な断面は正方形であり、一辺が50〜55μm、たとえば50μmとし、高さL4(図4参照)は、30μmである。
図11は、第1金型部材22を図10に後続して製造する方法を部分的に示す断面図である。図10(4)に示される第1成形体61kにさらに図11(1)に示されるようにレーザ光62を、第1段部46のために照射する。
図11(2)に示されるように第1段部46を形成するための外面83,84を、図11(3)に示される相互に垂直な面83,84を形成する。こうして各棒状部48毎に、第1段部46を形成して第1成形体61nを得る。
図12は、第1金型部材22の図11に後続する製造方法の一部を示す断面図である。第1段部46の図12(1)に示される外面84の基端部にレーザ光62を照射して第1成形体61oを部分的に除去し、これによって図12(2)に示される第1金型部材22の一表面44を得る。こうして第1段部46の高さL5(図4参照)は、第2段部47と同様な高さL4=L5であってもよい。
第2段部47は、凸部63よりもさらに図4の上方に突出する長さに選ばれ、これによってバンプの配線導体40のための凹部37を形成することができる。第1金型部材22のピン45の形成のために、ステージ71は、XY平面内で変位可能であり、前述のように水平なたとえばX軸まわりに角変位して角度Aを有する傾斜が可能であり、こうしてレーザ光62は、その光軸73がZ軸に一致するように定められ、ピン45のレーザ光62による加工が可能である。
第1金型部材22の厚みを調整するために、他表面49をレーザ光62によってさらに除去して加工してもよい。
前述の図7に示される第2金型部材23の製造方法は、図13および図14にさらに詳しく示される。図13は、第2金型部材23の製造方法の一部を示す断面図である。前述の第1成形体61と同一構造を有する第2成形体65が、図13(1)に示されるように準備される。図13(2)に示されるようにレーザ光62を、凸部52,63が形成された一表面とは反対側の他表面53に照射して加工し、その厚みを、図13(3)の第2成形体65aとして示されるように、厚み150〜155μmとする。第2成形体65aの厚みd2は、前述のように150〜155μmとする。
次に図13(4)に示されるようにレーザ光62の照射によって、拡大孔55を形成する。この拡大孔55は、図13(5)に示されるように各凸部63毎に形成され、こうして第2成形体65cを得る。
こうして図13(5)では、拡大孔55の底面86と第2成形体65cの一表面51との厚みd5は、20〜50μm、好ましくは20〜25μmである。
図14は、第2金型部材23の製造方法の図13に後続する一部を示す断面図である。前述の図13(5)で得られた第2成形体65cを、図14(1)の参照符65dで示されるように、その一表面51側からレーザ光62を照射して、取付孔56を図14(2)に示されるように、拡大孔55と同軸に連通するように形成する。この取付孔56が形成される部分の厚みd5は、前述のように薄いので、レーザ光の照射角度Aが比較的大きくても、その取付孔56の内面は、第2成形体65eの一表面51に垂直に形成することができ、取付孔56の一表面51と他表面53との寸法誤差をほとんどなくすことができる。取付孔56の軸線88と一表面51との成す角度θ4は、図14(3)に示されるように、90°とする。
図15は、第1および第2成形体61,65を製造するための金型部材用金型の製造方法を示す断面図である。まず図15(1)において、フォトマスク112を準備し、図15(2)において平面度および平行度のよいガラス基板110の上にフォトレジスト111を塗布した後、微細な凸部52,63のパターンが描写されたフォトマスク112をガラス基板110の上方に配置して、UV(紫外線)ランプ113を用いて露光する。そうすると、フォトレジスト111の紫外線照射部分111aが硬化して、パターンが焼き付けられる。
次にフォトレジスト111を現像すると、図15(3)に示すように、紫外線照射部分111aが除去され、パターンに対応した部分が残る。次に図15(4)において、現像された表面にスパッタまたは無電解メッキ等によってNiメッキ膜114を形成し、図15(5)のように厚くし、その後、次に図15(6)に示すように、Niメッキ膜114をガラス基板110から剥離し、残存したフォトレジスト111を除去することで、パターンに応じた凸凹形状を有するNiメッキ膜114が得られ、このNiメッキ膜114を金型取付用に外観加工を施すと、金型部材用金型115であるスタンパが得られる。
金型部材用金型115の凹部151によって第1および第2成形体61,65の各凸部52,63を、トランスファ成形または射出成形によって、形成することができ、図15(6)の凸部150は、第1および第2成形体61,65の凹所に対応して形成される。前述の図4に示される金型装置26の金型キャビティ28に成形材料を供給してトランスファ成形または射出成形を行い、部品本体31を得る。部品本体31は、前述のように第1および第2金型部材22,23と同様な成形材料から成ってもよい。
部品本体31の凹部36は、溝幅がたとえば10〜30μmであり、深さ10μmであってもよい。この部品本体31を電解メッキして銅であるメッキ金属によって配線導体38〜41を形成する。部品本体31の一表面33上の不要なメッキ層は薄いので、たとえば塩化第2鉄などを用いたエッチングによって容易に除去することができる。またメッキ金属の余分なメッキ金属は、たとえば研磨などによって除去することができる。こうして微細配線部品である平面コイル素子32が完成する。
本発明の実施の一形態の金型21の斜視図である。 図1に示される金型21の切断面線II−IIから見た断面図である。 金型21の図1における仮想線25で示される一部分の拡大平面図である。 図1〜図3に示される金型21を含む金型装置26の拡大断面図である。 金型装置26によって成形された部品本体31を用いて製造された渦巻状平面コイル素子32の拡大断面図である。 第1金型部材22の製造工程を簡略化して示す斜視図である。 第2金型部材23の製造方法を簡略化して示す斜視図である。 第1成形体61にレーザ光62を照射して加工する第1金型部材22の製造方法の一部を示す断面図である。 図8の第1成形体61cをさらにレーザ光62によって加工する製造方法の一部を示す断面図である。 第1金型部材22の図9に後続する製造方法の一部を示す断面図である。 第1金型部材22を図10に後続して製造する方法を部分的に示す断面図である。 第1金型部材22の図11に後続する製造方法の一部を示す断面図である。 第2金型部材23の製造方法の一部を示す断面図である。 第2金型部材23の製造方法の図13に後続する一部を示す断面図である。 第1および第2成形体61,65を製造するための金型部材用金型の製造方法を示す断面図である。 本件発明者によって先に提案された先行技術の金型1の斜視図である。 図16に示される先行技術の金型1を構成するピン2の斜視図である。 図16に示される先行技術の金型1を構成する基材3を示す断面図である。 図16に示される金型1の組立順序を示す断面図である。
符号の説明
21 金型
22 第1金型部材
23 第2金型部材
31 部品本体
32 渦巻状平面コイル素子
33 一表面
34 他表面
35 透孔
36,37 凹部
38〜41 配線導体
43 基部
44 一表面
45 ピン
46 第1段部
47 第2段部
48 棒状部
49 他表面
51 一表面
52,63 凸部
53 他表面
55 拡大孔
56 取付孔
61 第1成形体
62 FSレーザ光
65 第2成形体
88,89 軸線
91 スルーホール
115 金型部材用金型

Claims (9)

  1. (a)第1および第2金型部材を含む金型を準備し、
    第1金型部材は、基部と、この基部の一表面から立上って設けられるピンとを有し、
    第2金型部材は、
    板状であり、
    一表面には、電気配線に対応した凸部が形成され、
    他表面が、第1金型部材の前記一表面に重ねて配置され、
    ピンが挿通する取付孔が形成され、
    取付孔を挿通する前記ピンは、第2金型部材の前記一表面から突出し、
    (b)この金型を用いて電気絶縁性成形材料によって部品本体を成形して、部品本体に、前記凸部によって凹部を形成し、前記ピンによって厚み方向に貫通した透孔または溝を形成し、
    (c)部品本体に金属メッキを施して、前記凹部および透孔または溝に、メッキ金属から成る配線導体を設けることを特徴とする微細配線部品の製造方法。
  2. 第1および第2金型部材は、
    同一の金型部材用金型を用いて成形材料によって成形された第1および第2成形体を、
    レーザ光の照射によって加工して製造されることを特徴とする請求項1記載の微細配線部品の製造方法。
  3. (a)板状基部と、この基部の一表面から立上って設けられるピンとを有する第1金型部材と、
    (b)板状であり、
    一表面には、電気配線に対応した凸部が形成され、
    他表面が、第1金型部材の前記一表面に重ねて配置され、
    ピンが挿通する取付孔が形成される第2金型部材とを含み、
    (c)取付孔を挿通する前記ピンは、第2金型部材の前記一表面から突出することを特徴とする微細配線部品の成形用金型。
  4. 第1および第2金型部材の厚みd1,d2は、30〜300μmであり、
    ピンの径または一辺が5〜30μm、ピンの径に対する長さのアスペクト比5〜10であることを特徴とする請求項3記載の微細配線部品の成形用金型。
  5. 同一の金型部材用金型を用いて成形材料によって第1および第2成形体を成形し、
    第1および第2成形体に、レーザ光を照射して加工し、第1および第2金型部材を製造し、
    第1金型部材は、板状基部と、この基部の一表面から立上って設けられるピンとを有し、
    第2金型部材は、
    板状であり、
    一表面には、電気配線に対応した凸部が形成され、
    他表面が、第1金型部材の前記一表面に重ねて配置され、
    ピンが挿通する取付孔が形成され、
    取付孔を挿通する前記ピンは、第2金型部材の前記一表面から突出することを特徴とする金型の製造方法。
  6. 第2金型部材の取付孔が形成される部分の厚みd5は、20〜50μmであることを特徴とする請求項5記載の金型の製造方法。
  7. 電気絶縁性成形材料から成り、厚み方向に貫通した透孔を有する部品本体と、
    透孔内に充填され、径5〜30μm、径に対する長さのアスペクト比5〜10であるスルーホールを形成する配線導体とを含むことを特徴とする微細配線部品。
  8. 部品本体の一表面には、透孔の一端部に連なる渦巻状凹部が形成され、この凹部には、前記スルーホールを形成する配線導体に連なる配線導体が形成されることを特徴とする請求項7記載の微細配線部品。
  9. 請求項7または8の微細配線部品を搭載したことを特徴とする電子機器。
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