JP2005150542A - 照明光学装置、露光装置および露光方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、たとえばエキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導く。
【解決手段】 光源(1)と所定面(5a)との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第1整形光学系(21)と、第1整形光学系と所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第2整形光学系(22)とを備えている。第1整形光学系および第2整形光学系のうちの少なくとも一方は、照明光学装置の光軸を中心として回転可能に構成されている。
【選択図】 図1
【解決手段】 光源(1)と所定面(5a)との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第1整形光学系(21)と、第1整形光学系と所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第2整形光学系(22)とを備えている。第1整形光学系および第2整形光学系のうちの少なくとも一方は、照明光学装置の光軸を中心として回転可能に構成されている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、照明光学装置、露光装置および露光方法に関し、特に半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に関する。
この種の露光装置の本体は、全体的にかなり大きな装置であり、設置のための所要床面積は大きい。また、露光装置の光源として、たとえばKrFエキシマレーザ光源やArFエキシマレーザ光源が用いられるが、エキシマレーザ光源もかなり大きな装置である。したがって、特にエキシマレーザ光源を用いる露光装置では、光源装置を露光装置本体からある程度離間させて配置することが多い。
そこで、エキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導くための整形送光系としての照明光学装置が必要になる。ここで、エキシマレーザ光源から供給される平行光束の断面寸法は、メーカーやモデルにより異なる。一方、露光装置本体の入口(入射位置)において求められる断面寸法(ビームサイズ)は一定である。
この場合、たとえば3つの可動シリンドリカルレンズからなるシリンドリカルズームレンズを照明光学装置の光路中に2つ設け、第1のシリンドリカルズームレンズにより矩形状断面を一方の辺方向に拡大または縮小し、第2のシリンドリカルズームレンズにより矩形状断面を他方の辺方向に拡大または縮小する構成が考えられる。
2つのシリンドリカルズームレンズを用いる構成では、ビームサイズの可変能力が大きく、エキシマレーザ光源から供給される任意サイズの平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形することが可能である。しかしながら、2つのシリンドリカルズームレンズを構成するために必要なレンズ枚数が比較的多く(最低6枚)、その結果として、光量損失が大きく且つ製造コストが大きいという不都合がある。
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、たとえばエキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導くことのできる照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、たとえばエキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導く照明光学装置を用いて、所望の照明に基づいて良好な露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
前記課題を解決するために、本発明の第1形態では、光源から射出されたほぼ平行光束を所望の断面形状に整形して所定面まで導く照明光学装置において、
前記光源と前記所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第1整形光学系と、
前記第1整形光学系と前記所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第2整形光学系とを備え、
前記第1整形光学系および前記第2整形光学系のうちの少なくとも一方は、前記照明光学装置の光軸を中心として回転可能に構成されていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記光源と前記所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第1整形光学系と、
前記第1整形光学系と前記所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第2整形光学系とを備え、
前記第1整形光学系および前記第2整形光学系のうちの少なくとも一方は、前記照明光学装置の光軸を中心として回転可能に構成されていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
第1形態の好ましい態様によれば、前記第1整形光学系および前記第2整形光学系のうちの少なくとも一方は、光路に対して挿脱自在に構成されている。また、前記第1整形光学系および前記第2整形光学系は、正の屈折力を有するシリンドリカルレンズと負の屈折力を有するシリンドリカルレンズとをそれぞれ有することが好ましい。
また、第1形態の好ましい態様によれば、前記光源と前記所定面とを光学的にほぼ共役に配置するためのリレー光学系をさらに備えている。この場合、前記リレー光学系は、前記光源と中間位置とを光学的にほぼ共役に配置するための第1リレー光学系と、前記中間位置と前記所定面とを光学的にほぼ共役に配置するための第2リレー光学系とを有することが好ましい。
また、第1形態の好ましい態様によれば、前記第1整形光学系は、前記光源と前記第1リレー光学系との間の光路中に配置されて拡大倍率を有し、前記第2整形光学系は、前記第1リレー光学系と前記第2リレー光学系との間の光路中に配置されて縮小倍率を有する。あるいは、前記第1整形光学系は、前記光源と前記第1リレー光学系との間の光路中に配置されて拡大倍率を有し、前記第2整形光学系は、前記第1整形光学系と前記第1リレー光学系との間の光路中に配置されて拡大倍率を有することが好ましい。
本発明の第2形態では、露光光を供給するための光源と、第1形態の照明光学装置とを備え、該照明光学装置を介した光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
本発明の第3形態では、第1形態の照明光学装置を介した光源からの光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法を提供する。
本発明の照明光学装置では、たとえば2つの固定シリンドリカルレンズからなる整形光学系を光路中に2つ設け、少なくとも一方の整形光学系を光軸廻りに回転可能に構成している。したがって、ビームサイズの全く異なる複数のタイプの光源から供給される平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形することができる。また、2つの整形光学系を構成するために必要なレンズ枚数が4枚であり、2つのシリンドリカルズームレンズを用いる従来技術に比して少ないので、光量損失が比較的小さく且つ製造コストが比較的小さくなるという利点がある。
こうして、本発明の照明光学装置では、比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、たとえばエキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導くことができる。また、本発明の露光装置および露光方法では、比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、たとえばエキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導く照明光学装置を用いているので、所望の照明に基づいて良好な露光を行うことができ、ひいては良好なデバイスを製造することができる。
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。また、図2は、図1に示す整形部の内部構成を概略的に示す図である。図1を参照すると、本実施形態の露光装置は、露光光(照明光)を供給するための光源1として、たとえば248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源または193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源を備えている。
図1は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。また、図2は、図1に示す整形部の内部構成を概略的に示す図である。図1を参照すると、本実施形態の露光装置は、露光光(照明光)を供給するための光源1として、たとえば248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源または193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源を備えている。
光源1から−Y方向に沿って射出された矩形状(X方向に沿った一辺およびZ方向に沿った他辺を有する)の断面を有するほぼ平行光束は、この矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形するための整形部2を介した後、第1反射部材M1に入射する。整形部2の内部構成および作用については、図2を参照して後述する。第1反射部材M1により−Z方向に反射(偏向)された平行光束は、第1リレー光学系3を介して、第2反射部材M2に入射する。
また、第2反射部材M2により+X方向に反射された平行光束は、第2リレー光学系4を介して、第3反射部材M3に入射する。さらに、第3反射部材M3により+Z方向に反射された平行光束は、露光装置本体5の入口5aに達する。このように、整形部2、第1反射部材M1、第1リレー光学系3、第2反射部材M2、第2リレー光学系4、および第3反射部材M3は、光源1から射出されたほぼ平行光束を所望の断面形状に整形して露光装置本体5の入口5aまで導くための整形送光系としての照明光学装置を構成している。
なお、第1反射部材M1、第2反射部材M2および第3反射部材M3は、たとえば平面反射鏡または裏面反射鏡としての直角プリズムにより構成されている。また、第2リレー光学系4は、露光装置本体5の入口5aと例えば第2反射部材M2の近傍に位置する中間点P1とを光学的にほぼ共役に配置している。また、第1リレー光学系3は、光源1の出力部(レーザ射出面)1aと中間点P1とを光学的にほぼ共役に配置している。
露光装置本体5の内部へ導かれた光束は、照明光学系5bを介して、マスクMを照明する。照明光学系5bは、たとえば露光光の照度分布を均一化するためのオプティカルインテグレータ、マスクM上の照明領域を規定するための可変視野絞り(マスクブラインド)、オプティカルインテグレータを介して形成された二次光源からの光を集光して可変視野絞りへ導くためのコンデンサレンズ系などにより構成されている。
マスクMのパターンを透過した光束は、投影光学系PLを介して、感光性基板であるウェハW上にマスクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系PLの光軸と直交する平面(XY平面)内においてウェハWを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハWの各露光領域にはマスクMのパターンが逐次露光される。
図2を参照すると、整形部2は、光源側から順に、第1整形光学系21と第2整形光学系22とにより構成されている。第1整形光学系21は、その標準状態において、光源側から順に、XY平面内に負の屈折力を有し且つYZ平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ21aと、XY平面内に正の屈折力を有し且つYZ平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ21bとにより構成されている。
また、第2整形光学系22は、その標準状態において、光源側から順に、YZ平面内に正の屈折力を有し且つXY平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ22aと、YZ平面内に負の屈折力を有し且つXY平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ22bとにより構成されている。これらの4つのシリンドリカルレンズ21a,21b,22aおよび22bは、それぞれ光軸AX方向に固定されている。
また、第1整形光学系21は、光軸AXを中心として回転可能に構成され、図2に示す標準状態と、この標準状態から光軸AXを中心として90度だけ回転された回転状態との間で切換え可能に構成されている。したがって、第1整形光学系21の回転状態では、シリンドリカルレンズ21aはYZ平面内に負の屈折力を有し且つXY平面内に無屈折力になり、シリンドリカルレンズ21bはYZ平面内に正の屈折力を有し且つXY平面内に無屈折力になる。
一方、第2整形光学系22は、光路に対して挿脱自在に構成され、図2に示すように光路中に設定された標準状態と、光路から退避した退避状態との間で切換え可能に構成されている。こうして、第1整形光学系21は、その標準状態または回転状態において、拡大倍率を有するアフォーカルレンズ系を構成している。一方、第2整形光学系22は、その標準状態において、縮小倍率を有するアフォーカルレンズ系を構成している。
以下、具体的な数値例にしたがって、整形部2の作用を具体的に説明する。数値例において、第1タイプのエキシマレーザ光源1A(不図示)から射出される矩形状の平行光束のX方向に沿った断面寸法Dxが18mmであり、Z方向に沿った断面寸法Dzが3mmであるものとする。また、第2タイプのエキシマレーザ光源1B(不図示)から射出される矩形状の平行光束のX方向に沿った断面寸法DxおよびZ方向に沿った断面寸法Dzがともに12mmであるものとする。また、第1リレー光学系3および第2リレー光学系4は、ともに等倍系であるものとする。
さらに、露光装置本体5の入口5aのX方向に沿った断面寸法dxが18mmであり、Y方向に沿った断面寸法dyが5mmであるものとする。ここで、エキシマレーザ光源1Aまたは1Bから射出される矩形状の平行光束のX方向が露光装置本体5の入口5aのX方向に光学的に対応し、エキシマレーザ光源1Aまたは1Bから射出される矩形状の平行光束のZ方向が露光装置本体5の入口5aのY方向に光学的に対応している。さらに、第1整形光学系21は1.5の拡大倍率を有し、第2整形光学系22は1/(2.4)の縮小倍率を有するものとする。
数値例では、光源1として第1タイプのエキシマレーザ光源1Aを用いる場合、第1整形光学系21を回転状態(図2に示す標準状態から光軸AXを中心として90度だけ回転させた状態)に設定し、第2整形光学系22を光路から退避させた退避状態に設定する。その結果、整形部2を介して整形された平行光束のX方向に沿った断面寸法D’xおよびZ方向に沿った断面寸法D’zは、それぞれ次の式(1)および(2)で表わされる。
D’x=Dx=18mm (1)
D’z=Dz×1.5=3×1.5=4.5mm (2)
D’x=Dx=18mm (1)
D’z=Dz×1.5=3×1.5=4.5mm (2)
また、光源1として第2タイプのエキシマレーザ光源1Bを用いる場合、第1整形光学系21を図2に示す標準状態に設定し、第2整形光学系22を図2に示すように光路中に設定された標準状態に設定する。その結果、整形部2を介して整形された平行光束のX方向に沿った断面寸法D’xおよびZ方向に沿った断面寸法D’zは、それぞれ次の式(3)および(4)で表わされる。
D’x=Dx×1.5=12×1.5=18mm (3)
D’z=Dz×1/(2.4)=12×1/(2.4)=5mm (4)
D’x=Dx×1.5=12×1.5=18mm (3)
D’z=Dz×1/(2.4)=12×1/(2.4)=5mm (4)
上述したように、第1リレー光学系3および第2リレー光学系4はともに等倍系であり、エキシマレーザ光源1Aまたは1Bから射出される矩形状の平行光束のX方向およびZ方向が露光装置本体5の入口5aのX方向およびY方向にそれぞれ光学的に対応している。したがって、光源1として第1タイプのエキシマレーザ光源1Aを用いる場合、露光装置本体5の入口5aに達する平行光束のX方向に沿った断面寸法D”xおよびY方向に沿った断面寸法D”yは、それぞれ次の式(5)および(6)で表わされる。
D”x=D’x=18mm (5)
D”y=D’z=4.5mm (6)
D”x=D’x=18mm (5)
D”y=D’z=4.5mm (6)
同様に、光源1として第2タイプのエキシマレーザ光源1Bを用いる場合、露光装置本体5の入口5aに達する平行光束のX方向に沿った断面寸法D”xおよびY方向に沿った断面寸法D”yは、それぞれ次の式(7)および(8)で表わされる。
D”x=D’x=18mm (7)
D”y=D’z=5mm (8)
D”x=D’x=18mm (7)
D”y=D’z=5mm (8)
なお、露光装置本体5の入口5aに達する平行光束のX方向に沿った断面寸法D”xまたはY方向に沿った断面寸法D”yが露光装置本体5の入口5aのX方向に沿った断面寸法dx(=18mm)またはY方向に沿った断面寸法dy(=5mm)よりも大きくなると、露光装置本体5の入口5aにおいて光量損失が発生することになる。また、露光装置本体5の入口5aに達する平行光束のX方向に沿った断面寸法D”xおよびY方向に沿った断面寸法D”yが露光装置本体5の入口5aのX方向に沿った断面寸法dxおよびY方向に沿った断面寸法dyよりも小さくなり過ぎると、光束のエネルギ密度が大きくなって光学部材がレーザ照射を受けて損傷し易くなる。
したがって、露光装置本体5の入口5aに達する平行光束の断面寸法D”xおよびD”yは、露光装置本体5の入口5aの断面寸法dxおよびdyとほぼ一致するか、あるいは断面寸法dxおよびdyよりも僅かに小さいことが望ましい。上述の数値例では、第1タイプのエキシマレーザ光源1Aを用いる場合、光束の断面寸法D”xが入口5aの断面寸法dxと一致し、光束の断面寸法D”yが入口5aの断面寸法dyよりも僅かに小さくなっている。また、第2タイプのエキシマレーザ光源1Bを用いる場合、光束の断面寸法D”xおよびD”yが入口5aの断面寸法dxおよびdyと一致している。
このように、本実施形態では、2つの固定シリンドリカルレンズ21a,21bからなる第1整形光学系21を光軸AX廻りに回転させたり、2つの固定シリンドリカルレンズ22a,22bからなる第2整形光学系22を光路に対して挿脱させたりするだけで、ビームサイズの全く異なる2つのタイプのエキシマレーザ光源1A,1Bから供給される矩形状の平行光束をほぼ所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体5の入口5aまで導くことができる。
本実施形態では、2つの固定シリンドリカルレンズからなる整形光学系(21,22)を照明光学装置の光路中に2つ設け、第1整形光学系21を光軸AX廻りに回転可能に構成し、第2整形光学系22を光路に対して挿脱可能に構成している。したがって、2つのシリンドリカルズームレンズを用いる従来技術に比してビームサイズの可変能力は小さく、エキシマレーザ光源から供給される任意サイズの平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形することはできないが、ビームサイズの全く異なる少なくとも2つのタイプ(理論的には最大で4つのタイプ)のエキシマレーザ光源から供給される平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形することは可能である。また、2つの整形光学系(21,22)を構成するために必要なレンズ枚数が4枚であり、2つのシリンドリカルズームレンズを用いる従来技術に比して少ないので、光量損失が比較的小さく且つ製造コストが比較的小さくなるという利点がある。
以上のように、本実施形態の照明光学装置では、比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、エキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導くことができる。また、本実施形態の露光装置では、比較的簡素で光量損失および製造コストの小さい構成に基づいて、エキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導く照明光学装置を用いているので、所望の照明に基づいて良好な露光を行うことができる。
なお、上述の実施形態では、第1整形光学系21を光軸AX廻りに回転可能に構成し、第2整形光学系22を光路に対して挿脱可能に構成している。しかしながら、本発明では、2つの整形光学系のうち、少なくとも一方が光軸を中心として回転可能に構成されていることが必要条件である。そして、ビームサイズの可変能力を高めるには、双方の整形光学系が光軸を中心として回転可能に構成されていること、少なくとも一方が光路に対して挿脱自在に構成されていることが好ましい。
また、上述の実施形態では、第1整形光学系21が拡大倍率を有し、第2整形光学系22が縮小倍率を有する。しかしながら、これに限定されることなく、各整形光学系の倍率の大きさについては様々な変形例が可能である。ただし、第1整形光学系21が拡大倍率を有し、第2整形光学系22が縮小倍率を有する本実施形態の場合には、図3の変形例に示すように、第1整形光学系21を光源1と第1リレー光学系3との間の光路中に配置し、第2整形光学系22を第1リレー光学系3と第2リレー光学系4との間の光路中に配置することが好ましい。この構成により、第1リレー光学系3を通過する光束のエネルギ密度を緩和して第1リレー光学系3中の光学部材のレーザ照射による損傷を抑えることができる。なお、2つの整形光学系がともに拡大倍率を有する場合には、図1に示すように2つの整形光学系を分離することなく、光源1と第1リレー光学系3との間の光路中に整形部として配置することが好ましい。
また、上述の実施形態では、光源1と露光装置本体5の入口5aとの間の光路中に2つのリレー光学系(3,4)を配置しているが、これに限定されることなく、これらのリレー光学系(3,4)の配置を省略することもできる。ただし、光源1から射出される光束の光軸に対する角度や反射部材M1〜M3の反射面の向きなどが経時的に変動する場合があるので、光源1と露光装置本体5の入口5aとの間の光路中に少なくとも1つのリレー光学系を設けて光源1と露光装置本体5の入口5aとを光学的にほぼ共役に配置することが好ましい。この構成により、光源1からの射出光束の角度や反射面の向きなどが経時的に変動しても、リレー光学系の作用により、露光装置本体5の入口5aに達する平行光束の中心位置と入口5aの中心位置とを常にほぼ一致させることができる。
上述の実施形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスク(レチクル)を照明し(照明工程)、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する(露光工程)ことにより、マイクロデバイス(半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等)を製造することができる。以下、上述の実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図4のフローチャートを参照して説明する。
先ず、図4のステップ301において、1ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ302において、そのlロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ303において、上述の実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その1ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ304において、その1ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ305において、その1ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
また、上述の実施形態の露光装置では、プレート(ガラス基板)上に所定のパターン(回路パターン、電極パターン等)を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図5のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図5において、パターン形成工程401では、上述の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板(レジストが塗布されたガラス基板等)に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程402へ移行する。
次に、カラーフィルター形成工程402では、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応した3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程402の後に、セル組み立て工程403が実行される。セル組み立て工程403では、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。
セル組み立て工程403では、例えば、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル(液晶セル)を製造する。その後、モジュール組み立て工程404にて、組み立てられた液晶パネル(液晶セル)の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
なお、上述の実施形態では、光源としてKrFエキシマレーザ光源やArFエキシマレーザ光源を用いているが、これに限定されることなく、平行光束を供給する他の適当な光源に対して本発明を適用することもできる。また、上述の実施形態では、光源から供給される平行光束を所望の断面寸法の平行光束に整形して露光装置本体の入口まで導く照明光学装置を例にとって本発明を説明したが、光源から射出されたほぼ平行光束を所望の断面形状に整形して所定面まで導くための一般的な照明光学装置に本発明を適用することができることは明らかである。
1 光源
2 整形部
21 第1整形光学系
22 第2整形光学系
3 第1リレー光学系
4 第2リレー光学系
5 露光装置本体
5a 露光装置本体の入口
5b 照明光学系
M1〜M3 反射部材
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
2 整形部
21 第1整形光学系
22 第2整形光学系
3 第1リレー光学系
4 第2リレー光学系
5 露光装置本体
5a 露光装置本体の入口
5b 照明光学系
M1〜M3 反射部材
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (9)
- 光源から射出されたほぼ平行光束を所望の断面形状に整形して所定面まで導く照明光学装置において、
前記光源と前記所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第1整形光学系と、
前記第1整形光学系と前記所定面との間の光路中に配置されて、入射したほぼ平行光束の断面を一方向に拡大または縮小してほぼ平行光束の状態で射出するための第2整形光学系とを備え、
前記第1整形光学系および前記第2整形光学系のうちの少なくとも一方は、前記照明光学装置の光軸を中心として回転可能に構成されていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記第1整形光学系および前記第2整形光学系のうちの少なくとも一方は、光路に対して挿脱自在に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。
- 前記第1整形光学系および前記第2整形光学系は、正の屈折力を有するシリンドリカルレンズと負の屈折力を有するシリンドリカルレンズとをそれぞれ有することを特徴とする請求項1または2に記載の照明光学装置。
- 前記光源と前記所定面とを光学的にほぼ共役に配置するためのリレー光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 前記リレー光学系は、前記光源と中間位置とを光学的にほぼ共役に配置するための第1リレー光学系と、前記中間位置と前記所定面とを光学的にほぼ共役に配置するための第2リレー光学系とを有することを特徴とする請求項4に記載の照明光学装置。
- 前記第1整形光学系は、前記光源と前記第1リレー光学系との間の光路中に配置されて拡大倍率を有し、
前記第2整形光学系は、前記第1リレー光学系と前記第2リレー光学系との間の光路中に配置されて縮小倍率を有することを特徴とする請求項5に記載の照明光学装置。 - 前記第1整形光学系は、前記光源と前記第1リレー光学系との間の光路中に配置されて拡大倍率を有し、
前記第2整形光学系は、前記第1整形光学系と前記第1リレー光学系との間の光路中に配置されて拡大倍率を有することを特徴とする請求項5に記載の照明光学装置。 - 露光光を供給するための光源と、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学装置とを備え、該照明光学装置を介した光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の照明光学装置を介した光源からの光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003388305A JP2005150542A (ja) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003388305A JP2005150542A (ja) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
Publications (1)
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JP2005150542A true JP2005150542A (ja) | 2005-06-09 |
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ID=34695423
Family Applications (1)
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JP2003388305A Pending JP2005150542A (ja) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005150542A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008270571A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Canon Inc | 照明光学装置、引き回し光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2003
- 2003-11-18 JP JP2003388305A patent/JP2005150542A/ja active Pending
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